JP2002014308A - 基板製造装置および基板洗浄装置および基板エッチング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶ディスプレイ基板の薬液を用いた洗浄処
理またはエッチング処理等の製造工程において、基板表
面に水滴の跡が残る。 【解決手段】 薬液を用いた洗浄処理またはエッチング
処理を行う製造装置乾燥室のエアナイフ上流部の基板上
部にアクアナイフとダムローラーを用いることにより、
洗浄室から乾燥室に液晶ディスプレイ基板が搬送された
際に、基板表面に水滴の跡が残ることなく乾燥できる製
造装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の液
晶ディスプレイ基板の基板製造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ基板の生産において、
薬液を用いた洗浄工程の洗浄後の乾燥室でエアナイフ等
の圧縮気体噴射部によって液切りする際、基板表面に水
滴の跡が残り、工程処理後も基板表面に残り、液晶ディ
スプレイの画像品質を悪化する原因となる。従来の液晶
ディスプレイ基板の薬液を用いた工程における製造装置
では、図３に示すように液晶ディスプレイ基板はニュー
トラル室１から１枚ずつ薬液処理室２，３に搬送され薬
液による洗浄処理またはエッチング処理される。エッチ
ング処理した液晶ディスプレイ基板は洗浄室４，５で洗
浄され、乾燥室６でエアーナイフ等の圧縮気体噴射部の
気体の噴射で乾燥することにより処理が終了し次工程に
搬送される。従来の製造装置においては、乾燥室のエア
ナイフ等の圧縮気体噴射部からの気体の噴射で液切りす
るだけでは水滴が基板表面を走るため、水滴の跡（又は
液体の小滴の乾燥痕）が基板表面に残ってしまう。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板製造装置、基板洗浄装置、エッチング装置におい
て、乾燥室で付着した水滴の跡はその後何も処理されず
に、表面に残った状態で処理が終了し次工程に搬送され
る。液晶ディスプレイ基板の製造工程はマザーガラス上
に薄膜を成膜し、フォト工程においてレジストを塗布し
レジストパターンを形成し、薄膜をエッチング処理して
薄膜パターンを形成し、レジストを剥離し次の薄膜層を
成膜するという工程を数回繰り返す。

【０００４】このような製造工程途中において、例えば
液晶ディスプレイ基板表面に水滴の跡が残ると、液晶デ
ィスプレイ基板を構成する薄膜の層間にシミ汚れとして
残りディスプレイとして表示した際に付着した水滴の跡
が画像ムラとなって表示されたり、トランジスター部の
動作不良を発生したりする。

【０００５】本発明は上記課題に対して、液晶ディスプ
レイ基板の薬液を用いた洗浄処理及びエッチング処理の
製造工程において乾燥室での基板に水滴の跡（又は液体
の小滴の乾燥痕）が残るのを防ぐのに有効な液晶ディス
プレイ基板の基板製造装置や、基板洗浄装置や、エッチ
ング装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶ディスプレ
イ基板の基板製造装置は、 液晶ディスプレイ基板の搬
送入口と、上記液晶ディスプレイ基板の搬送出口とを有
する装置筐体の内部に、上記液晶ディスプレイ基板を搬
送させる搬送部と、上記液晶ディスプレイ基板に液体を
噴射する液体噴射部と、円柱状でその軸対象の位置に回
転軸を有するローラー部と、上記基板に圧縮された気体
を噴射する圧縮気体噴射部と備え、上記搬送部の搬送の
方向に対して、上記液体噴射部の長辺方向と、上記ロー
ラー部の回転軸方向と、上記圧縮気体噴射部の長辺方向
とが略垂直方向で、かつ上記搬送部の搬送面に略平行な
位置に備えられ、上記ローラー部が上記搬送部で搬送さ
れる液晶ディスプレイ基板の上側に備えられ、上記液体
噴射部が上記ローラー部と上記搬送入口の間で搬送され
る上記液晶ディスプレイ基板の上側に備えられ、上記圧
縮気体噴射部が上記ローラー部と上記搬送出口の間で搬
送される上記液晶ディスプレイ基板の上側に備えられ、
上記ローラー部が上記液体を上記搬送入口側に溜めて上
記圧縮気体噴射部の気体の噴射で液切りすることで、上
記液晶ディスプレイ基板に付着する上記液体の小滴を乾
燥させ、上記小滴が乾燥する際に上記液晶ディスプレイ
基板の表面に上記小滴の乾燥痕が生じないようにするこ
とを特徴とする。

【０００７】また、本発明の基板洗浄装置が、基板洗浄
装置の基板の搬送入口と、上記基板洗浄装置の基板のの
搬送出口とを有する装置筐体の内部に、上記基板を搬送
させる搬送部と、上記基板に液体を噴射する液体噴射部
と、上記基板に圧縮された気体を噴射する圧縮気体噴射
部と、円柱状でその軸対象の位置に回転軸を有するロー
ラー部とを備え、上記搬送部の搬送の方向に対して、上
記液体噴射部の長辺方向と、上記ローラー部の回転軸方
向と、上記圧縮気体噴射部の長辺方向とが略垂直方向
で、かつ上記搬送部の搬送面に略平行な位置に備えら
れ、上記ローラー部が上記搬送部で搬送される基板の上
側に備えられ、上記液体噴射部が上記ローラー部と上記
搬送入口の間で搬送される上記基板の上側に備えられ、
上記圧縮気体噴射部が上記ローラー部と上記搬送出口の
間で搬送される上記基板の上側に備えられ、上記ローラ
ー部が上記液体を上記搬送入口側に溜めて上記圧縮気体
噴射部の気体の噴射で液切りすることで上記基板に付着
する上記液体の小滴を乾燥させ、上記小滴が乾燥する際
に上記基板の表面に上記小滴の乾燥痕が生じないように
することを特徴とする。

【０００８】また、本発明の基板エッチング装置が、基
板エッチング装置の基板の搬送入口と、上記基板エッチ
ング装置の基板のの搬送出口とを有する装置筐体の内部
に、上記基板を搬送させる搬送部と、上記基板に液体を
噴射する液体噴射部と、上記基板に圧縮された気体を噴
射する圧縮気体噴射部と、円柱状でその軸対象の位置に
回転軸を有するローラー部とを備え、上記搬送部の搬送
の方向に対して、上記液体噴射部の長辺方向と、上記ロ
ーラー部の回転軸方向と、上記圧縮気体噴射部の長辺方
向とが略垂直方向で、かつ上記搬送部の搬送面に略平行
な位置に備えられ、上記ローラー部が上記搬送部で搬送
される基板の上側に備えられ、上記液体噴射部が上記ロ
ーラー部と上記搬送入口の間で搬送される上記基板の上
側に備えられ、上記圧縮気体噴射部が上記ローラー部と
上記搬送出口の間で搬送される上記基板の上側に備えら
れ、上記ローラー部が上記液体を上記搬送入口側に溜め
て上記圧縮気体噴射部の気体の噴射で液切りすることで
上記基板に付着する上記液体の小滴を乾燥させ、上記小
滴が乾燥する際に上記基板の表面に上記小滴の乾燥痕が
生じないようにすることを特徴とする。

【０００９】また、本発明の液晶ディスプレイ基板の基
板製造装置は、ローラー部の材質が塩化ビニルであり、
液晶ディスプレイ基板の上面と上記ローラー部の回転面
との隙間の上限値が２ｍｍであることを特徴とする。

【００１０】また、本発明の基板洗浄装置が、ローラー
部の材質が塩化ビニルであり、基板の上面と上記ローラ
ー部の回転面との隙間の上限値が２ｍｍであることを特
徴とする。

【００１１】また、本発明の基板エッチング装置が、基
板の上面と上記ローラー部の回転面との隙間の上限値が
２ｍｍであることを特徴とする。

【００１２】また、本発明の基板製造方法は、請求項１
又は請求項４のいづれにか記載の液晶ディスプレイ基板
の基板製造装置で基板を製造することを特徴とする。

【００１３】また、本発明の液晶表示装置は、請求項１
又は請求項４のいづれにか記載の液晶ディスプレイ基板
の基板製造装置で製造された液晶ディスプレイ基板を有
することを特徴とする。

【００１４】以上のように本発明によれば、薬液を用い
た洗浄処理またはエッチング処理を行う製造装置乾燥室
の圧縮気体噴射部上流部に液体噴射部とローラー部を用
いることにより、洗浄室から乾燥室に液晶ディスプレイ
基板が搬送された際に、基板表面に水滴の跡をより低減
して、乾燥できる。

【００１５】このとき液体噴射部とローラー部により圧
縮気体噴射部で液切りする直前まで基板上部に水を溜め
てから圧縮気体噴射部でローラー部の直後に一気に液切
りすることができ、次工程に搬送される液晶ディスプレ
イ基板表面には水滴の跡（又は液体の小滴の乾燥痕）が
残ることを抑制できる。

【００１６】このようにして、本発明は、液晶ディスプ
レイ基板の薬液を用いた洗浄処理またはエッチング処理
等の製造工程において乾燥室に用いる圧縮気体噴射部の
上流部に液体噴射部とローラー部を設置することによ
り、圧縮気体噴射部で液切りする直前まで基板上部に水
を溜めてから圧縮気体噴射部でローラー部直後に一気に
液切りすることができるために液晶ディスプレイ基板表
面に水滴の跡（又は液体の小滴の乾燥痕）を抑制でき
る。これにより、ディスプレイとして表示した際に上記
した原因による画像ムラやトランジスター部の動作不良
の発生を抑制できる。

【００１７】

【発明の実施形態】以下本発明の実施の形態について、
図面を参照しながら説明する。

【００１８】なお、上記液体噴射部はアクアナイフとも
呼称される。また、上記圧縮気体噴射部はエアナイフと
も呼称される。また、上記ローラー部はダムローラーと
も呼称される。以下、上記のアクアナイフ、およびエア
ナイフ、およびダムローラーに言い換えて説明する。ま
た、液体には水を用い、気体には空気を用いる例で説明
する。

【００１９】図１に示すのが、アクアナイフとダムロー
ラーを乾燥室に応用した基板洗浄、およびエッチング装
置の一例である。また図２に示すのが、本発明実施の形
態のアクアナイフとダムローラーを用いて、液晶ディス
プレイ基板表面の液切りを実施している状態図である。
ニュートラル室１より搬送されたレジストが表面に付着
した液晶ディスプレイ基板は薬液処理室２、３で表面の
レジストが付着していない部分がエッチングされ、洗浄
室４、５に搬送され水洗され、その後乾燥室６に搬送さ
れる。

【００２０】このとき、洗浄室５から搬送されてきた液
晶ディスプレイ基板は、図２に示すようにアクアナイフ
とダムローラーによって、エアナイフで液切りする直前
まで基板表面に水を張り、水滴が基板表面を走ることな
く表面をエアナイフの空気の噴射で乾燥して工程を終了
する。また、処理に用いたダムローラーは図２に示すよ
うな構造とし、基板表面からの隙間を上限値が２ｍｍと
し、その隙間を設けてアクアナイフとダムローラーの間
に水を張ることによって、処理した液晶ディスプレイ基
板の表面を水滴が走ることなく乾燥でき、従来問題とな
った水滴の跡が残ることによる画像ムラの発生が抑制で
きる。また、このような装置によりエッチング処理を行
うこともできる。

【００２１】なお、本実施の形態では、エアナイフは隣
接して二つ設けられ、液晶ディスプレイ基板の搬送方向
に対して、エアナイフの長辺方向を略垂直方向にもうけ
ているが、垂直方向よりも、やや傾きのある方向であ
る。また、アクアナイフ、ダムローラー、エアナイフ
の数等や取り付け位置などは装置の仕様に応じて適宜調
整することは言うまでもない。

【００２２】

【発明の効果】以上本発明によれば、従来の装置で問題
となった乾燥室で付着した水滴の跡（液体の小滴の乾燥
痕）が取れずに残り、ディスプレイとして表示した際に
発生する付着した水滴の跡が起因の画像ムラやトランジ
スター部の動作不良を効果的に抑制できる。また、この
ローラー部と液体噴射部は従来タイプの装置に簡単に設
置することができ、産業的価値が大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の液晶ディスプレイ基板の
基板洗浄装置及びエッチング装置の説明図

【図２】本発明のエアナイフ上流部の基板上部にローラ
ーを設置して液切りを実施している状態の説明図

【図３】従来の液晶ディスプレイ基板の基板洗浄装置及
びエッチング装置の説明図

【符号の説明】

１ ニュートラル室 ２ 薬液処理室 ３ 薬液処理室 ４ 洗浄室 ５ 洗浄室 ６ 乾燥室 ７ 基板反転室 ８ エアーナイフ（圧縮気体噴射部） ９ ダムローラー（ローラー部） １０ アクアナイフ（液体噴射部） １１ 液晶ディスプレイ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武田 浩樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 中山 貴史 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA11 FA17 FA21 FA23 FA24 FA30 HA01 HA08 MA16 2H090 JC18 JC19 JD14 LA04 3B201 AA02 AB01 BB22 BB92 BB96 CC12 5G435 AA17 BB12 EE33 KK05 KK09 KK10

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶ディスプレイ基板の搬送入口と、前
   記液晶ディスプレイ基板の搬送出口とを有する装置筐体
   の内部に、前記液晶ディスプレイ基板を搬送させる搬送
   部と、前記液晶ディスプレイ基板に液体を噴射する液体
   噴射部と、円柱状でその軸対象の位置に回転軸を有する
   ローラー部と、前記基板に圧縮された気体を噴射する圧
   縮気体噴射部と備え、前記搬送部の搬送の方向に対し
   て、前記液体噴射部の長辺方向と、前記ローラー部の回
   転軸方向と、前記圧縮気体噴射部の長辺方向とが略垂直
   方向で、かつ前記搬送部の搬送面に略平行な位置に備え
   られ、前記ローラー部が前記搬送部で搬送される液晶デ
   ィスプレイ基板の上側に備えられ、前記液体噴射部が前
   記ローラー部と前記搬送入口の間で搬送される前記液晶
   ディスプレイ基板の上側に備えられ、前記圧縮気体噴射
   部が前記ローラー部と前記搬送出口の間で搬送される前
   記液晶ディスプレイ基板の上側に備えられ、前記ローラ
   ー部が前記液体を前記搬送入口側に溜めて前記圧縮気体
   噴射部の気体の噴射で液切りすることで、前記液晶ディ
   スプレイ基板に付着する前記液体の小滴を乾燥させ、前
   記小滴が乾燥する際に前記液晶ディスプレイ基板の表面
   に前記小滴の乾燥痕が生じないようにすることを特徴と
   する液晶ディスプレイ基板の基板製造装置。
2. 【請求項２】 基板洗浄装置の基板の搬送入口と、前記
   基板洗浄装置の基板のの搬送出口とを有する装置筐体の
   内部に、前記基板を搬送させる搬送部と、前記基板に液
   体を噴射する液体噴射部と、前記基板に圧縮された気体
   を噴射する圧縮気体噴射部と、円柱状でその軸対象の位
   置に回転軸を有するローラー部とを備え、前記搬送部の
   搬送の方向に対して、前記液体噴射部の長辺方向と、前
   記ローラー部の回転軸方向と、前記圧縮気体噴射部の長
   辺方向とが略垂直方向で、かつ前記搬送部の搬送面に略
   平行な位置に備えられ、前記ローラー部が前記搬送部で
   搬送される基板の上側に備えられ、前記液体噴射部が前
   記ローラー部と前記搬送入口の間で搬送される前記基板
   の上側に備えられ、前記圧縮気体噴射部が前記ローラー
   部と前記搬送出口の間で搬送される前記基板の上側に備
   えられ、前記ローラー部が前記液体を前記搬送入口側に
   溜めて前記圧縮気体噴射部の気体の噴射で液切りするこ
   とで前記基板に付着する前記液体の小滴を乾燥させ、前
   記小滴が乾燥する際に前記基板の表面に前記小滴の乾燥
   痕が生じないようにすることを特徴とする基板製造装
   置。
3. 【請求項３】 基板エッチング装置の基板の搬送入口
   と、前記基板エッチング装置の基板のの搬送出口とを有
   する装置筐体の内部に、前記基板を搬送させる搬送部
   と、前記基板に液体を噴射する液体噴射部と、前記基板
   に圧縮された気体を噴射する圧縮気体噴射部と、円柱状
   でその軸対象の位置に回転軸を有するローラー部とを備
   え、前記搬送部の搬送の方向に対して、前記液体噴射部
   の長辺方向と、前記ローラー部の回転軸方向と、前記圧
   縮気体噴射部の長辺方向とが略垂直方向で、かつ前記搬
   送部の搬送面に略平行な位置に備えられ、前記ローラー
   部が前記搬送部で搬送される基板の上側に備えられ、前
   記液体噴射部が前記ローラー部と前記搬送入口の間で搬
   送される前記基板の上側に備えられ、前記圧縮気体噴射
   部が前記ローラー部と前記搬送出口の間で搬送される前
   記基板の上側に備えられ、前記ローラー部が前記液体を
   前記搬送入口側に溜めて前記圧縮気体噴射部の気体の噴
   射で液切りすることで前記基板に付着する前記液体の小
   滴を乾燥させ、前記小滴が乾燥する際に前記基板の表面
   に前記小滴の乾燥痕が生じないようにすることを特徴と
   する基板エッチング装置。
4. 【請求項４】 ローラー部の材質が塩化ビニルであり、
   液晶ディスプレイ基板上面と前記ローラー部の回転面と
   の隙間の上限値が２ｍｍであることを特徴とする請求項
   １に記載の液晶ディスプレイ基板の基板製造装置。
5. 【請求項５】 ローラー部の材質が塩化ビニルであり、
   基板の上面と前記ローラー部の回転面との隙間の上限値
   が２ｍｍであることを特徴とする請求項２に記載の基板
   洗浄装置。
6. 【請求項６】 ローラー部の材質が塩化ビニルであり、
   基板の上面と前記ローラー部の回転面との隙間の上限値
   が２ｍｍであることを特徴とする請求項３に記載の基板
   エッチング装置。
7. 【請求項７】 請求項１又は請求項４のいづれにか記載
   の液晶ディスプレイ基板の基板製造装置で基板を製造す
   ることを特徴とする基板製造方法。
8. 【請求項８】 請求項１又は請求項４のいづれにか記載
   の液晶ディスプレイ基板の基板製造装置で製造された液
   晶ディスプレイ基板を有することを特徴とする液晶表示
   装置。