JP2003010794A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JP2003010794A JP2003010794A JP2001194087A JP2001194087A JP2003010794A JP 2003010794 A JP2003010794 A JP 2003010794A JP 2001194087 A JP2001194087 A JP 2001194087A JP 2001194087 A JP2001194087 A JP 2001194087A JP 2003010794 A JP2003010794 A JP 2003010794A
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- cleaning
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶ディスプレイ等の製造の、薬液を用いた
処理、レジスト剥離またはエッチング処理等の工程にお
いて、薬液と洗浄液の置換を効率良く行うことで洗浄液
の使用量を削減、また洗浄処理時間の短縮するのに有効
な基板の洗浄装置の提供。 【解決手段】 液晶ディスプレイ基板の製造工程の、薬
液を用いたレジスト剥離処理またはエッチング処理等を
行う枚葉処理装置の洗浄処理部において、洗浄液を吐出
する上部ノズル、下部ノズル及び基板の進行方向に対し
て垂直に吐出する側面ノズルを設ける。
処理、レジスト剥離またはエッチング処理等の工程にお
いて、薬液と洗浄液の置換を効率良く行うことで洗浄液
の使用量を削減、また洗浄処理時間の短縮するのに有効
な基板の洗浄装置の提供。 【解決手段】 液晶ディスプレイ基板の製造工程の、薬
液を用いたレジスト剥離処理またはエッチング処理等を
行う枚葉処理装置の洗浄処理部において、洗浄液を吐出
する上部ノズル、下部ノズル及び基板の進行方向に対し
て垂直に吐出する側面ノズルを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
基板等の薬液を用いたエッチング処理及びレジスト剥離
処理等の製造工程において薬液と洗浄液との置換を素早
く行うことで洗浄液の削減に有効な基板洗浄装置に関す
る。
基板等の薬液を用いたエッチング処理及びレジスト剥離
処理等の製造工程において薬液と洗浄液との置換を素早
く行うことで洗浄液の削減に有効な基板洗浄装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイ基板の生産にお
いて、薬液を用いて薄膜トランジスター等の回路パター
ンを形成するエッチング処理する工程、及びエッチング
の際パターン形成の為に用いたレジストを剥離する工程
では、薬液処理室、洗浄処理室及び乾燥室が直列に配置
された枚葉処理装置が用いられている。
いて、薬液を用いて薄膜トランジスター等の回路パター
ンを形成するエッチング処理する工程、及びエッチング
の際パターン形成の為に用いたレジストを剥離する工程
では、薬液処理室、洗浄処理室及び乾燥室が直列に配置
された枚葉処理装置が用いられている。
【０００３】従来の液晶ディスプレイ基板のエッチング
工程における製造装置では、図３に示すように基板はニ
ュートラル室１から１枚ずつ薬液処理室２，３に搬送さ
れ薬液による洗浄処理、エッチング処理またはレジスト
剥離処理される。薬液処理された基板は洗浄室４，５で
水洗され、乾燥室６でエアーナイフ乾燥またはスピン乾
燥することにより処理が終了し次工程に搬送される。従
来の製造装置においては、水洗室４、５では基板により
持ち込まれたエッチング液やレジスト剥離液を置換する
のにスプレー方式が用いられている。
工程における製造装置では、図３に示すように基板はニ
ュートラル室１から１枚ずつ薬液処理室２，３に搬送さ
れ薬液による洗浄処理、エッチング処理またはレジスト
剥離処理される。薬液処理された基板は洗浄室４，５で
水洗され、乾燥室６でエアーナイフ乾燥またはスピン乾
燥することにより処理が終了し次工程に搬送される。従
来の製造装置においては、水洗室４、５では基板により
持ち込まれたエッチング液やレジスト剥離液を置換する
のにスプレー方式が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
基板の大型化に伴い、洗浄処理室に基板により持ち込ま
れるエッチング液やレジスト剥離液の量が増加、また面
積の増加から置換が困難になり、残渣が残りやすくなり
残渣を防ぐために洗浄時間を短縮できない、また、洗浄
液を削減できないことが問題として残る。
基板の大型化に伴い、洗浄処理室に基板により持ち込ま
れるエッチング液やレジスト剥離液の量が増加、また面
積の増加から置換が困難になり、残渣が残りやすくなり
残渣を防ぐために洗浄時間を短縮できない、また、洗浄
液を削減できないことが問題として残る。
【０００５】また、液晶ディスプレイ基板の製造工程は
マザーガラス上に薄膜を成膜し、フォト工程においてレ
ジストを塗布しレジストパターンを形成し、薄膜をエッ
チング処理して薄膜パターンを形成し、レジストを剥離
し次の薄膜層を成膜するという工程を数回繰り返す。こ
のような製造工程途中において、液晶ディスプレイ基板
表面に残渣があると、液晶ディスプレイ基板を構成する
薄膜の層間に残りディスプレイとして表示した際に付着
した残渣が画像ムラとなって表示されたり、トランジス
タ部の動作の不具合を発生させたりする。
マザーガラス上に薄膜を成膜し、フォト工程においてレ
ジストを塗布しレジストパターンを形成し、薄膜をエッ
チング処理して薄膜パターンを形成し、レジストを剥離
し次の薄膜層を成膜するという工程を数回繰り返す。こ
のような製造工程途中において、液晶ディスプレイ基板
表面に残渣があると、液晶ディスプレイ基板を構成する
薄膜の層間に残りディスプレイとして表示した際に付着
した残渣が画像ムラとなって表示されたり、トランジス
タ部の動作の不具合を発生させたりする。
【０００６】薬液処理室の出口においてエアナイフ等の
液切り処理の圧力を高くすることにより薬液の持ち出し
量は少なくできるが、エアナイフから基板表面に吐出さ
れる気体により基板表面が乾燥ししてしまうことがあ
り、一度乾いてしまうと水洗では除去できない残渣が生
じるという不具合点も有している。
液切り処理の圧力を高くすることにより薬液の持ち出し
量は少なくできるが、エアナイフから基板表面に吐出さ
れる気体により基板表面が乾燥ししてしまうことがあ
り、一度乾いてしまうと水洗では除去できない残渣が生
じるという不具合点も有している。
【０００７】従って、この方法では洗浄室への薬液の持
ち込み量を削減できず置換に使用する洗浄液も大量であ
るため、装置全体も大型化する。
ち込み量を削減できず置換に使用する洗浄液も大量であ
るため、装置全体も大型化する。
【０００８】本発明は上記課題に対して、ディスプレイ
基板の薬液を用いた洗浄処理、エッチング処理及びレジ
スト剥離処理等の製造工程において薬液を効率よく洗浄
液と置換する事で洗浄液を削減するのに有効なディスプ
レイ基板の基板洗浄、エッチング装置を提供することを
目的とする。
基板の薬液を用いた洗浄処理、エッチング処理及びレジ
スト剥離処理等の製造工程において薬液を効率よく洗浄
液と置換する事で洗浄液を削減するのに有効なディスプ
レイ基板の基板洗浄、エッチング装置を提供することを
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の基板洗浄装置は、薬液を用いた洗浄処
理、レジスト剥離処理またはエッチング処理を行う枚葉
処理装置の洗浄処理部において、洗浄液を吐出する上部
ノズルと、下部ノズル及び基板の進行方向に対して垂直
に吐出する側面ノズルとを有することを特徴とする。
めに、本発明の基板洗浄装置は、薬液を用いた洗浄処
理、レジスト剥離処理またはエッチング処理を行う枚葉
処理装置の洗浄処理部において、洗浄液を吐出する上部
ノズルと、下部ノズル及び基板の進行方向に対して垂直
に吐出する側面ノズルとを有することを特徴とする。
【００１０】また、本発明の基板洗浄装置は、上方ノズ
ルの洗浄液の吐出量と、側面ノズルの洗浄液の吐出量と
の比が５対４以下であることを特徴とする。
ルの洗浄液の吐出量と、側面ノズルの洗浄液の吐出量と
の比が５対４以下であることを特徴とする。
【００１１】また、本発明の基板洗浄装置は、側面ノズ
ルの洗浄液の単位時間（分）当たりの吐出量（体積：ｍ
3）が基板の単位表面積（ｍ2）当たり、１×１０-2（ｍ
3）から１５×１０-2（ｍ3）の間であることを特徴とす
る。また、本発明の基板洗浄装置は、基板の搬送高さと
側面ノズルの高さの差と、基板の幅との比が０．１から
０．８の間であることを特徴とする。
ルの洗浄液の単位時間（分）当たりの吐出量（体積：ｍ
3）が基板の単位表面積（ｍ2）当たり、１×１０-2（ｍ
3）から１５×１０-2（ｍ3）の間であることを特徴とす
る。また、本発明の基板洗浄装置は、基板の搬送高さと
側面ノズルの高さの差と、基板の幅との比が０．１から
０．８の間であることを特徴とする。
【００１２】このようにして本発明は、液晶ディスプレ
イ基板の製造工程において、薬液を用いた洗浄処理また
はエッチング処理またはレジスト剥離処理を行う製造装
置の水洗処理室に基板の進行方向と垂直に洗浄液を吐出
するノズルを用いることにより、薬液処理室から洗浄室
に基板が搬送された際に、表面に付着している薬液処理
室から持ち込まれた薬液に進行方向に垂直にもうけたノ
ズルより洗浄液を吐出することで薬液を押し流すことが
できる。
イ基板の製造工程において、薬液を用いた洗浄処理また
はエッチング処理またはレジスト剥離処理を行う製造装
置の水洗処理室に基板の進行方向と垂直に洗浄液を吐出
するノズルを用いることにより、薬液処理室から洗浄室
に基板が搬送された際に、表面に付着している薬液処理
室から持ち込まれた薬液に進行方向に垂直にもうけたノ
ズルより洗浄液を吐出することで薬液を押し流すことが
できる。
【００１３】また本発明は、液晶ディスプレイ基板の薬
液を用いた洗浄処理またはエッチング処理またはレジス
ト剥離処理等の製造工程において用いる枚葉式の製造装
置の水洗室に基板の進行方向と垂直に洗浄液を吐出する
ノズルを用いることにより、効果的に薬液を洗浄液に置
換すことができる。また、薬液を短時間で押し流すこと
で、液晶ディスプレイ基板の薬液再付着による表面汚染
は抑制される。これにより、ディスプレイとして表示し
た際に上記の原因による画像ムラやトランジスタ部の動
作の不具合の発生を抑制できる。
液を用いた洗浄処理またはエッチング処理またはレジス
ト剥離処理等の製造工程において用いる枚葉式の製造装
置の水洗室に基板の進行方向と垂直に洗浄液を吐出する
ノズルを用いることにより、効果的に薬液を洗浄液に置
換すことができる。また、薬液を短時間で押し流すこと
で、液晶ディスプレイ基板の薬液再付着による表面汚染
は抑制される。これにより、ディスプレイとして表示し
た際に上記の原因による画像ムラやトランジスタ部の動
作の不具合の発生を抑制できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。図１に示すのが、基
板の進行方向と垂直方向に洗浄液を吐出する、エッチン
グ装置の一例である。また図２に示すのが、本発明実施
の形態の薬液とエアーを混合した液切りナイフを用い
て、液晶ディスプレイ基板表面の液切りを実施している
状態図である。ニュートラル室１より搬送されたレジス
トパターが形成された基板は薬液処理室２，３で膜表面
が蝕刻され、洗浄室４に搬送される。この時ディスプレ
イ基板の表面はエッチング液で覆われている。このエッ
チング液をスプレーにより純水と置換し、洗浄室５に搬
送され水洗される。
て、図面を参照しながら説明する。図１に示すのが、基
板の進行方向と垂直方向に洗浄液を吐出する、エッチン
グ装置の一例である。また図２に示すのが、本発明実施
の形態の薬液とエアーを混合した液切りナイフを用い
て、液晶ディスプレイ基板表面の液切りを実施している
状態図である。ニュートラル室１より搬送されたレジス
トパターが形成された基板は薬液処理室２，３で膜表面
が蝕刻され、洗浄室４に搬送される。この時ディスプレ
イ基板の表面はエッチング液で覆われている。このエッ
チング液をスプレーにより純水と置換し、洗浄室５に搬
送され水洗される。
【００１５】最後に乾燥室６にて表面、裏面をエアーナ
イフ乾燥して工程を終了する。また、水洗室で用いたス
プレーは図２に示すような配置とし、上部からの単位時
間（分）当たりの単位面積の水洗流量を７×１０-2（ｍ
3）から１０×１０-2（ｍ3）に対して、基板の進行方向
に垂直のノズルから単位時間当たりの単位面積の洗浄液
量を１×１０-2（ｍ3）から５×１０-2（ｍ3）吐出する
ことにより、基板の進行方向に垂直に洗浄液が流される
ように調整し、効率よく薬液を含む洗浄液を押し流すこ
とができた。
イフ乾燥して工程を終了する。また、水洗室で用いたス
プレーは図２に示すような配置とし、上部からの単位時
間（分）当たりの単位面積の水洗流量を７×１０-2（ｍ
3）から１０×１０-2（ｍ3）に対して、基板の進行方向
に垂直のノズルから単位時間当たりの単位面積の洗浄液
量を１×１０-2（ｍ3）から５×１０-2（ｍ3）吐出する
ことにより、基板の進行方向に垂直に洗浄液が流される
ように調整し、効率よく薬液を含む洗浄液を押し流すこ
とができた。
【００１６】またこの時、洗浄液は基板が水洗室の位置
に来たタイミングで吐出した。上部からの水洗量は基板
全面を均一な分布にするには５×１０-2（ｍ3）以上が
好ましく、基板の進行方向に垂直のノズルからは上部か
らの吐出量の１／２以下が好ましい。このような装置に
よりエッチング処理を行うことにより、従来問題となっ
た洗浄時間を短縮すると残渣残り起因による画像ムラの
発生することがなくなり、また同時に洗浄時間を短縮す
ることにより、洗浄液の使用量も削減できた。
に来たタイミングで吐出した。上部からの水洗量は基板
全面を均一な分布にするには５×１０-2（ｍ3）以上が
好ましく、基板の進行方向に垂直のノズルからは上部か
らの吐出量の１／２以下が好ましい。このような装置に
よりエッチング処理を行うことにより、従来問題となっ
た洗浄時間を短縮すると残渣残り起因による画像ムラの
発生することがなくなり、また同時に洗浄時間を短縮す
ることにより、洗浄液の使用量も削減できた。
【００１７】
【発明の効果】以上本発明によれば、従来の装置で問題
となった水洗時間を短縮すると薬液処理室で再付着した
異物（固形物）が取れずに残り、ディスプレイとして表
示した際に発生する付着した異物起因の画像ムラやトラ
ンジスター部の動作不良を効果的に防止できる。これは
液晶ディスプレイ基板表面への異物付着、特に数ミクロ
ン以下の異物は一端付着して乾いてしまうとその後洗浄
をしても取れにくくなるが、本発明の洗浄液を吐出する
上部ノズル、下部ノズル及び基板の進行方向に対して垂
直に吐出する側面ノズルを設けたことにより、薬液と洗
浄液の置換がすばやくできる。
となった水洗時間を短縮すると薬液処理室で再付着した
異物（固形物）が取れずに残り、ディスプレイとして表
示した際に発生する付着した異物起因の画像ムラやトラ
ンジスター部の動作不良を効果的に防止できる。これは
液晶ディスプレイ基板表面への異物付着、特に数ミクロ
ン以下の異物は一端付着して乾いてしまうとその後洗浄
をしても取れにくくなるが、本発明の洗浄液を吐出する
上部ノズル、下部ノズル及び基板の進行方向に対して垂
直に吐出する側面ノズルを設けたことにより、薬液と洗
浄液の置換がすばやくできる。
【００１８】また薬液を短時間で押し流すことで、液晶
ディスプレイ基板の薬液再付着による表面汚染は発生し
なくなり、異物（固形物）を効果的に取り除くことが可
能である。また、この基板の進行方向に対して垂直に吐
出する側面ノズルは従来タイプの装置に簡単に設置する
ことができ、すばやく薬液を洗浄液に置換できるため水
洗時間を短縮することができ、設備のタクトが向上でき
て、産業的価値が大きい。
ディスプレイ基板の薬液再付着による表面汚染は発生し
なくなり、異物（固形物）を効果的に取り除くことが可
能である。また、この基板の進行方向に対して垂直に吐
出する側面ノズルは従来タイプの装置に簡単に設置する
ことができ、すばやく薬液を洗浄液に置換できるため水
洗時間を短縮することができ、設備のタクトが向上でき
て、産業的価値が大きい。
【図１】本発明の一実施の形態における液晶ディスプレ
イ基板の基板洗浄・エッチング装置の説明図
イ基板の基板洗浄・エッチング装置の説明図
【図２】本発明の側面ノズルを使用して洗浄を実施して
いる状態の説明図
いる状態の説明図
【図３】従来の液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッ
チング装置の説明図
チング装置の説明図
１ ニュートラル室
２ 薬液処理室
３ 薬液処理室
４ 洗浄室
５ 洗浄室
６ 乾燥室
７ 基板反転室
８ 側面ノズル
９ 上部ノズル
１０ 液晶ディスプレイ基板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 中山 貴史
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
(72)発明者 満生 敦士
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30
2H090 JB02 JC19 JC20
3B201 AA01 AB02 BB23 BB90 BB92
CC01 CC12
4G059 AA01 AA08 AC24
Claims (4)
- 【請求項１】 薬液を用いた洗浄処理、レジスト剥離処
理またはエッチング処理を行う枚葉処理装置の洗浄処理
部において、洗浄液を吐出する上部ノズルと、下部ノズ
ル及び基板の進行方向に対して垂直に吐出する側面ノズ
ルとを有した基板洗浄装置。 - 【請求項２】 上方ノズルの洗浄液の吐出量と、側面ノ
ズルの洗浄液の吐出量との比が５対４以下であることを
特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。 - 【請求項３】 側面ノズルの洗浄液の単位時間（分）当
たりの吐出量（体積：ｍ3）が基板の単位表面積（ｍ2）
当たり、１×１０-2（ｍ3）から１５×１０-2（ｍ3）の
間であることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装
置。 - 【請求項４】 基板の搬送高さと側面ノズルの高さの差
と、基板の幅との比が０．１から０．８の間であること
を特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001194087A JP2003010794A (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001194087A JP2003010794A (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | 基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003010794A true JP2003010794A (ja) | 2003-01-14 |
Family
ID=19032269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001194087A Pending JP2003010794A (ja) | 2001-06-27 | 2001-06-27 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003010794A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006351595A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
| KR100798144B1 (ko) | 2006-08-24 | 2008-01-28 | 세메스 주식회사 | 평판 디스플레이 제조용 장비 |
-
2001
- 2001-06-27 JP JP2001194087A patent/JP2003010794A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006351595A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
| KR100798144B1 (ko) | 2006-08-24 | 2008-01-28 | 세메스 주식회사 | 평판 디스플레이 제조용 장비 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20061109 |