JP2002167576A - 高屈折率導電性材料用組成物、透明導電性材料ならびに減反射材 - Google Patents
高屈折率導電性材料用組成物、透明導電性材料ならびに減反射材Info
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 帯電防止に優れ、かつ高屈折率な膜を形成す
ることが可能な高屈折率導電性材料用組成物、およびそ
れを用いた透明導電性材料ならびに減反射材を提供す
る。 【解決手段】 導電性微粒子（Ａ成分）、屈折率２．０
以上の誘電体微粒子（Ｂ成分）、およびバインダー（Ｃ
成分）からなる高屈折率導電性材料用組成物において、
Ａ成分１００重量部に対して、Ｂ成分５〜１００重量
部、Ｃ成分５〜１００重量部であることを特徴とする高
屈折率導電性材料用組成物である。
ることが可能な高屈折率導電性材料用組成物、およびそ
れを用いた透明導電性材料ならびに減反射材を提供す
る。 【解決手段】 導電性微粒子（Ａ成分）、屈折率２．０
以上の誘電体微粒子（Ｂ成分）、およびバインダー（Ｃ
成分）からなる高屈折率導電性材料用組成物において、
Ａ成分１００重量部に対して、Ｂ成分５〜１００重量
部、Ｃ成分５〜１００重量部であることを特徴とする高
屈折率導電性材料用組成物である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】帯電防止に優れ、かつ高屈折
率な膜を形成することが可能な高屈折率導電性材料用組
成物、およびそれを用いた透明導電性材料ならびに減反
射材に関する。
率な膜を形成することが可能な高屈折率導電性材料用組
成物、およびそれを用いた透明導電性材料ならびに減反
射材に関する。
【０００２】
【従来の技術】透明基板の最外層に、基板よりも低屈折
率の物質からなる低屈折率層を可視光波長の１／４の膜
厚（約１００ｎｍ）で形成すると、干渉効果により表面
反射が低減し、透過率が向上することが知られている。
率の物質からなる低屈折率層を可視光波長の１／４の膜
厚（約１００ｎｍ）で形成すると、干渉効果により表面
反射が低減し、透過率が向上することが知られている。
【０００３】最近では電気製品や光学製品、建材等の透
明基板部分における表面反射の低減が強く求められる分
野において、低屈折率層と透明基板との間に屈折率の異
なる層を１層以上設けることにより表面反射を抑える多
層減反射材が実用化されている。この多層減反射材を構
成する減反射層の中間層に配置される層には、金属酸化
物などの屈折率の高い無機材料が用いられている。
明基板部分における表面反射の低減が強く求められる分
野において、低屈折率層と透明基板との間に屈折率の異
なる層を１層以上設けることにより表面反射を抑える多
層減反射材が実用化されている。この多層減反射材を構
成する減反射層の中間層に配置される層には、金属酸化
物などの屈折率の高い無機材料が用いられている。
【０００４】減反射層の形成方法としては、フッ化マグ
ネシウム等を蒸着後、スパッタリングする、いわゆるド
ライコーティング法（特開昭６３−２６１６４６号公
報）や、均一溶液ないし分散液の状態で基材に塗布後、
乾燥、必要に応じて硬化させるウェットコーティング法
（特開平７−４８５４３号公報、特開平９−３１４０３
８号公報）の２方法が主に知られている。これらのうち
前者のドライコーティング法は高真空の大型設備が必要
で、生産性が低いなどの問題があった。一方、後者のウ
ェットコーティング法は設備投資が少なく、また生産性
および大面積化への対応の点で優れている。
ネシウム等を蒸着後、スパッタリングする、いわゆるド
ライコーティング法（特開昭６３−２６１６４６号公
報）や、均一溶液ないし分散液の状態で基材に塗布後、
乾燥、必要に応じて硬化させるウェットコーティング法
（特開平７−４８５４３号公報、特開平９−３１４０３
８号公報）の２方法が主に知られている。これらのうち
前者のドライコーティング法は高真空の大型設備が必要
で、生産性が低いなどの問題があった。一方、後者のウ
ェットコーティング法は設備投資が少なく、また生産性
および大面積化への対応の点で優れている。
【０００５】利点の多いウェットコーティング法におい
ても、一旦塗布工程を経る関係上、最終的に得られる高
屈折率の層中には、無機材料の微粒子以外にバインダー
に起因する成分が含まれる。そのためドライコーティン
グで同じ無機物を用いる場合に比べ屈折率が低くなる問
題があった。
ても、一旦塗布工程を経る関係上、最終的に得られる高
屈折率の層中には、無機材料の微粒子以外にバインダー
に起因する成分が含まれる。そのためドライコーティン
グで同じ無機物を用いる場合に比べ屈折率が低くなる問
題があった。
【０００６】また、減反射材を電気製品や光学製品に用
いる際には、静電気による表面への埃の付着を抑えるた
め、帯電防止機能の付与が求められている。この帯電防
止機能の発現には、表面抵抗値が１０12Ω以下となる程
度の導電性が必要である。
いる際には、静電気による表面への埃の付着を抑えるた
め、帯電防止機能の付与が求められている。この帯電防
止機能の発現には、表面抵抗値が１０12Ω以下となる程
度の導電性が必要である。
【０００７】しかしながら、酸化インジウム錫、酸化ア
ンチモン錫、酸化錫や五酸化アンチモン酸亜鉛などの金
属酸化物は、高い導電性を有する（特開平５−２９０６
３４号公報、特開平１１−３１４９１８号公報等）が、
屈折率が低いという欠点を有している。それに対して、
誘電体として利用される酸化チタン、酸化セリウムや酸
化亜鉛などの金属酸化物は、屈折率は一般に高いが、導
電性が低いという欠点を有している。このように両方の
性質を兼ね備えた金属酸化物は存在しないため、ウェッ
トコーティングで導電性を有し、かつ十分に高屈折率で
ある層を形成することは困難とされていた。
ンチモン錫、酸化錫や五酸化アンチモン酸亜鉛などの金
属酸化物は、高い導電性を有する（特開平５−２９０６
３４号公報、特開平１１−３１４９１８号公報等）が、
屈折率が低いという欠点を有している。それに対して、
誘電体として利用される酸化チタン、酸化セリウムや酸
化亜鉛などの金属酸化物は、屈折率は一般に高いが、導
電性が低いという欠点を有している。このように両方の
性質を兼ね備えた金属酸化物は存在しないため、ウェッ
トコーティングで導電性を有し、かつ十分に高屈折率で
ある層を形成することは困難とされていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、帯電
防止に優れ、かつ高屈折率な膜を形成することが可能な
高屈折率導電性材料用組成物、およびそれを用いた透明
導電性材料ならびに減反射材を提供することにある。
防止に優れ、かつ高屈折率な膜を形成することが可能な
高屈折率導電性材料用組成物、およびそれを用いた透明
導電性材料ならびに減反射材を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記問題
点に鑑み鋭意検討した結果、導電性微粒子、誘電体微粒
子、バインダーを特定割合で含んでなる高屈折率導電性
組成物を用いることにより、本発明の課題を解決できる
ことを見い出し、本発明を完成した。
点に鑑み鋭意検討した結果、導電性微粒子、誘電体微粒
子、バインダーを特定割合で含んでなる高屈折率導電性
組成物を用いることにより、本発明の課題を解決できる
ことを見い出し、本発明を完成した。
【００１０】即ち、第１の発明は、導電性微粒子（Ａ成
分）、屈折率２．０以上の誘電体微粒子（Ｂ成分）、お
よびバインダー（Ｃ成分）からなる高屈折率導電性材料
用組成物において、Ａ成分１００重量部に対して、Ｂ成
分５〜１００重量部、Ｃ成分５〜１００重量部であるこ
とを特徴とする高屈折率導電性材料用組成物である。第
２の発明は、導電性微粒子が酸化インジウム錫、酸化
錫、酸化アンチモン錫、および酸化亜鉛アルミニウムか
らなる群より選ばれる少なくとも１種類である第１の発
明の高屈折率導電性材料用組成物である。第３の発明
は、誘電体微粒子が酸化チタン、酸化セリウム、および
酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種類であ
る第１の発明または第２の発明の高屈折率導電性材料用
組成物である。第４の発明は、導電性微粒子の占有する
総体積が誘電体微粒子の占有する総体積以上である第１
の発明ないし第３の発明のいずれか１つの高屈折率導電
性材料用組成物である。
分）、屈折率２．０以上の誘電体微粒子（Ｂ成分）、お
よびバインダー（Ｃ成分）からなる高屈折率導電性材料
用組成物において、Ａ成分１００重量部に対して、Ｂ成
分５〜１００重量部、Ｃ成分５〜１００重量部であるこ
とを特徴とする高屈折率導電性材料用組成物である。第
２の発明は、導電性微粒子が酸化インジウム錫、酸化
錫、酸化アンチモン錫、および酸化亜鉛アルミニウムか
らなる群より選ばれる少なくとも１種類である第１の発
明の高屈折率導電性材料用組成物である。第３の発明
は、誘電体微粒子が酸化チタン、酸化セリウム、および
酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種類であ
る第１の発明または第２の発明の高屈折率導電性材料用
組成物である。第４の発明は、導電性微粒子の占有する
総体積が誘電体微粒子の占有する総体積以上である第１
の発明ないし第３の発明のいずれか１つの高屈折率導電
性材料用組成物である。
【００１１】第５の発明は、バインダーが硬化性単量体
を含むバインダーである第１の発明ないし第４のいずれ
か１つの高屈折率導電性材料用組成物である。第６の発
明は、バインダーが、硬化後の屈折率が１．５５以上で
あるバインダーである第１の発明ないし第５の発明のい
ずれか１つの高屈折率導電性材料用組成物である。第７
の発明は、硬化後の高屈折率導電性材料用組成物の屈折
率が１．６５以上である第１の発明ないし第６の発明の
いずれか１つの高屈折率導電性材料用組成物である。第
８の発明は、第１の発明ないし第７の発明のいずれか１
つの高屈折率導電性材料用組成物を透明基材に塗布した
透明導電性材料である。第９の発明は、第１の発明ない
し第７の発明のいずれか１つの高屈折率導電性材料用組
成物を透明基材に塗布し、硬化させてなる透明導電性材
料である。
を含むバインダーである第１の発明ないし第４のいずれ
か１つの高屈折率導電性材料用組成物である。第６の発
明は、バインダーが、硬化後の屈折率が１．５５以上で
あるバインダーである第１の発明ないし第５の発明のい
ずれか１つの高屈折率導電性材料用組成物である。第７
の発明は、硬化後の高屈折率導電性材料用組成物の屈折
率が１．６５以上である第１の発明ないし第６の発明の
いずれか１つの高屈折率導電性材料用組成物である。第
８の発明は、第１の発明ないし第７の発明のいずれか１
つの高屈折率導電性材料用組成物を透明基材に塗布した
透明導電性材料である。第９の発明は、第１の発明ない
し第７の発明のいずれか１つの高屈折率導電性材料用組
成物を透明基材に塗布し、硬化させてなる透明導電性材
料である。
【００１２】第１０の発明は、第１の発明ないし第７の
発明のいずれか１つの高屈折率導電性材料用組成物の硬
化物を減反射層中に用いた減反射材である。第１１の発
明は、減反射層の表面抵抗値が１０12Ω以下であること
を特徴とする第１０の発明の減反射材である。
発明のいずれか１つの高屈折率導電性材料用組成物の硬
化物を減反射層中に用いた減反射材である。第１１の発
明は、減反射層の表面抵抗値が１０12Ω以下であること
を特徴とする第１０の発明の減反射材である。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の高屈折率導電性材料用組
成物は、導電性微粒子、屈折率２．０以上の誘電体微粒
子、およびバインダーからなる組成物である。本発明に
おいて、導電性微粒子によって硬化後の材料に高い導電
性を付与することができる。本発明に用いる導電性微粒
子は目的を達成できれば特に限定されるものではなく、
公知のもの全てを用いることができる。例えば、酸化錫
（屈折率２．０）、リンドープ酸化錫（屈折率２．
０）、酸化インジウム錫（屈折率２．０）、酸化アンチ
モン錫（屈折率２．１）、酸化亜鉛アルミニウム（屈折
率２．１）、酸化亜鉛アルミニウム（屈折率２．１）、
五酸化アンチモン−酸化亜鉛（屈折率２．０）などの金
属酸化物が挙げられる。高い導電性を得るためには、酸
化錫、酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫、酸化亜鉛
アルミニウムが好ましく挙げられる。
成物は、導電性微粒子、屈折率２．０以上の誘電体微粒
子、およびバインダーからなる組成物である。本発明に
おいて、導電性微粒子によって硬化後の材料に高い導電
性を付与することができる。本発明に用いる導電性微粒
子は目的を達成できれば特に限定されるものではなく、
公知のもの全てを用いることができる。例えば、酸化錫
（屈折率２．０）、リンドープ酸化錫（屈折率２．
０）、酸化インジウム錫（屈折率２．０）、酸化アンチ
モン錫（屈折率２．１）、酸化亜鉛アルミニウム（屈折
率２．１）、酸化亜鉛アルミニウム（屈折率２．１）、
五酸化アンチモン−酸化亜鉛（屈折率２．０）などの金
属酸化物が挙げられる。高い導電性を得るためには、酸
化錫、酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫、酸化亜鉛
アルミニウムが好ましく挙げられる。
【００１４】導電性微粒子の屈折率は１．８以上である
ことが好ましく、１．９以上であることがさらに好まし
く、３．０以下である。屈折率１．８未満では硬化後の
材料の屈折率が十分高くすることが難しい。３．０を超
える導電性物質の微粒子化は困難となる傾向にあり、入
手が容易ではなくなる。
ことが好ましく、１．９以上であることがさらに好まし
く、３．０以下である。屈折率１．８未満では硬化後の
材料の屈折率が十分高くすることが難しい。３．０を超
える導電性物質の微粒子化は困難となる傾向にあり、入
手が容易ではなくなる。
【００１５】本発明において、誘電体微粒子によって硬
化後の材料に高い屈折率を付与することができる。本発
明に用いる誘電体微粒子の屈折率は２．０以上であるこ
とを要件とし、好ましくは２．１以上、３．０以下であ
る。屈折率が２．０未満では組成物の屈折率が十分高く
することが難しく、３．０を超える誘電体は微粒子化が
困難となる傾向にある。例えば、酸化チタン（屈折率
２．４〜２．７）、酸化セリウム（屈折率２．３）、酸
化亜鉛（屈折率２．１）、酸化ジルコニウム（屈折率
２．１）、酸化アンチモン（屈折率２．１）、酸化イン
ジウム（屈折率２．０）などが挙げられる。好ましく
は、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛が挙げられ
る。
化後の材料に高い屈折率を付与することができる。本発
明に用いる誘電体微粒子の屈折率は２．０以上であるこ
とを要件とし、好ましくは２．１以上、３．０以下であ
る。屈折率が２．０未満では組成物の屈折率が十分高く
することが難しく、３．０を超える誘電体は微粒子化が
困難となる傾向にある。例えば、酸化チタン（屈折率
２．４〜２．７）、酸化セリウム（屈折率２．３）、酸
化亜鉛（屈折率２．１）、酸化ジルコニウム（屈折率
２．１）、酸化アンチモン（屈折率２．１）、酸化イン
ジウム（屈折率２．０）などが挙げられる。好ましく
は、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛が挙げられ
る。
【００１６】前記の導電性微粒子および誘電体微粒子の
平均粒径は可視光波長以下であることが好ましい。可視
光波長を超えると組成物を塗布したときに透明性が著し
く低下するため好ましくない。特に好ましくは０．２μ
ｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下である
平均粒径は可視光波長以下であることが好ましい。可視
光波長を超えると組成物を塗布したときに透明性が著し
く低下するため好ましくない。特に好ましくは０．２μ
ｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下である
【００１７】前記の誘電体微粒子は導電性微粒子１００
重量部に対して５〜１００重量部の割合で組成物中に含
まれることが必要であり、好ましくは１０〜８０重量
部、さらに好ましくは１０〜７０重量部である。５重量
部未満であると硬化後の材料の屈折率が十分でなく、ま
た１００重量部を超えると導電性が著しく低下するため
好ましくない。
重量部に対して５〜１００重量部の割合で組成物中に含
まれることが必要であり、好ましくは１０〜８０重量
部、さらに好ましくは１０〜７０重量部である。５重量
部未満であると硬化後の材料の屈折率が十分でなく、ま
た１００重量部を超えると導電性が著しく低下するため
好ましくない。
【００１８】本発明の高屈折率導電性材料用組成物にお
いて、導電性微粒子の占有する総体積は、誘電体微粒子
の占有する総体積以上であることが好ましい。この場合
の総体積とは各微粒子の添加重量を各々の比重で割った
後、総計した値である。ここで比重は、例えば「１３３
９８の化学商品」（化学工業日報社、１９９８年）等に
酸化錫（比重６．９）、酸化チタン（比重３．８〜４．
２）、酸化セリウム（比重７．３）、酸化亜鉛（比重
５．４７〜５．６１）、酸化ジルコニウム（比重５．７
３）、酸化アンチモン（比重５．２〜５．４）等と挙げ
られている。導電性微粒子の総体積が誘電体微粒子の総
体積より少なくなると硬化後の材料の導電性が著しく低
下するため好ましくない。
いて、導電性微粒子の占有する総体積は、誘電体微粒子
の占有する総体積以上であることが好ましい。この場合
の総体積とは各微粒子の添加重量を各々の比重で割った
後、総計した値である。ここで比重は、例えば「１３３
９８の化学商品」（化学工業日報社、１９９８年）等に
酸化錫（比重６．９）、酸化チタン（比重３．８〜４．
２）、酸化セリウム（比重７．３）、酸化亜鉛（比重
５．４７〜５．６１）、酸化ジルコニウム（比重５．７
３）、酸化アンチモン（比重５．２〜５．４）等と挙げ
られている。導電性微粒子の総体積が誘電体微粒子の総
体積より少なくなると硬化後の材料の導電性が著しく低
下するため好ましくない。
【００１９】また必要に応じて導電性微粒子ならびに誘
電体微粒子の表面を各種カップリング剤等により修飾す
ることができる。各種カップリング剤としては例えば、
有機置換された珪素化合物や、アルミニウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、およびアンチモン等の金属アルコキ
シドや、脂肪酸やリン酸等の有機酸およびその塩等が挙
げられる。また誘電体微粒子の表面を酸化珪素などで被
覆することにより、耐光性を向上させることができる。
電体微粒子の表面を各種カップリング剤等により修飾す
ることができる。各種カップリング剤としては例えば、
有機置換された珪素化合物や、アルミニウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、およびアンチモン等の金属アルコキ
シドや、脂肪酸やリン酸等の有機酸およびその塩等が挙
げられる。また誘電体微粒子の表面を酸化珪素などで被
覆することにより、耐光性を向上させることができる。
【００２０】本発明において、バインダーによって、硬
化時に微粒子間を充填し塗布膜を形成しやすくすること
ができる。バインダーは導電性微粒子１００重量部に対
して５〜１００重量部含まれることを要件とし、１０〜
９０重量部含まれることが好ましい。５重量部未満では
硬化後の材料の硬度が低下し、１００重量部を超えると
導電性が著しく低下する。
化時に微粒子間を充填し塗布膜を形成しやすくすること
ができる。バインダーは導電性微粒子１００重量部に対
して５〜１００重量部含まれることを要件とし、１０〜
９０重量部含まれることが好ましい。５重量部未満では
硬化後の材料の硬度が低下し、１００重量部を超えると
導電性が著しく低下する。
【００２１】バインダーに用いられる材料としては本目
的を達成できれば特に限定されるものでなく、有機物、
無機物およびその混合物を用いることができる。特に硬
度を上げるために、熱もしくは紫外線や電子線などの活
性エネルギー線により短時間に硬化する硬化性単量体を
含むことが好ましい。
的を達成できれば特に限定されるものでなく、有機物、
無機物およびその混合物を用いることができる。特に硬
度を上げるために、熱もしくは紫外線や電子線などの活
性エネルギー線により短時間に硬化する硬化性単量体を
含むことが好ましい。
【００２２】前記の硬化性単量体の具体例としては、例
えば単官能もしくは多官能（メタ）アクリル酸エステ
ル、テトラエトキシシラン等の珪素化合物が挙げられ
る。多官能（メタ）アクリル酸エステルとしては例えば
多官能アルコール誘導体やポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレ
ートなどが挙げられる。またその構造中に水酸基やリン
酸エステル基などの官能基を有していてもよい。前記バ
インダーの屈折率は特に限定されないが、硬化した材料
の屈折率を下げないため、硬化後のバインダーの屈折率
が１．４８以上であるバインダーであることが好まし
く、１．５５以上、１．８０以下の範囲内であることが
さらに好ましい。屈折率が１．４８未満では硬化した材
料の屈折率が低くなるため好ましくない。硬化後のバイ
ンダーの屈折率が１．５５以上となる硬化性単量体の使
用は、硬化した材料の高屈折率化に対して特に効果を与
える。一方、硬化後のバインダーの屈折率が１．８０を
越えることになる硬化性単量体の入手は容易ではない。
えば単官能もしくは多官能（メタ）アクリル酸エステ
ル、テトラエトキシシラン等の珪素化合物が挙げられ
る。多官能（メタ）アクリル酸エステルとしては例えば
多官能アルコール誘導体やポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレ
ートなどが挙げられる。またその構造中に水酸基やリン
酸エステル基などの官能基を有していてもよい。前記バ
インダーの屈折率は特に限定されないが、硬化した材料
の屈折率を下げないため、硬化後のバインダーの屈折率
が１．４８以上であるバインダーであることが好まし
く、１．５５以上、１．８０以下の範囲内であることが
さらに好ましい。屈折率が１．４８未満では硬化した材
料の屈折率が低くなるため好ましくない。硬化後のバイ
ンダーの屈折率が１．５５以上となる硬化性単量体の使
用は、硬化した材料の高屈折率化に対して特に効果を与
える。一方、硬化後のバインダーの屈折率が１．８０を
越えることになる硬化性単量体の入手は容易ではない。
【００２３】前記光重合開始剤としては、紫外線照射に
よる重合開始能を有するものであれば良い。具体的には
例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１
−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等の
アセトフェノン系開始剤；ベンゾイン、２，２−ジメト
キシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾ
イン系開始剤；ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニ
ルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；２
−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサン
トン等のチオキサントン系開始剤等を挙げることができ
る。特に比較的長波長に吸収を持つ開始剤を用いること
が好ましい。これらは単独もしくは混合物として用いる
ことができる。また、重合開始剤の種類によっては、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル等の三級アミンを
添加するなどの反応促進剤を併用する方法でもよい。重
合開始剤の配合割合は、バインダー中の硬化性成分１０
０重量部に対し、０．０１〜２０重量部であることが好
ましい。開始剤の配合割合が０．０１重量部未満および
２０重量部を超える場合には硬化後の表面硬度が低下す
るので好ましくはない。
よる重合開始能を有するものであれば良い。具体的には
例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１
−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等の
アセトフェノン系開始剤；ベンゾイン、２，２−ジメト
キシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾ
イン系開始剤；ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニ
ルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；２
−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサン
トン等のチオキサントン系開始剤等を挙げることができ
る。特に比較的長波長に吸収を持つ開始剤を用いること
が好ましい。これらは単独もしくは混合物として用いる
ことができる。また、重合開始剤の種類によっては、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸イソアミルエステル等の三級アミンを
添加するなどの反応促進剤を併用する方法でもよい。重
合開始剤の配合割合は、バインダー中の硬化性成分１０
０重量部に対し、０．０１〜２０重量部であることが好
ましい。開始剤の配合割合が０．０１重量部未満および
２０重量部を超える場合には硬化後の表面硬度が低下す
るので好ましくはない。
【００２４】高屈折率導電性材料用組成物には前記の化
合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、そ
の他の成分を含んでも構わない。その他の成分とは特に
限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機も
しくは有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止
剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸
収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。特
に紫外線硬化させる場合には光重合開始剤を含むことが
好ましい。またウェットコーティング法において成膜後
乾燥させる限りにおいて、任意の量の溶媒を添加するこ
とができる。
合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、そ
の他の成分を含んでも構わない。その他の成分とは特に
限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機も
しくは有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止
剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸
収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。特
に紫外線硬化させる場合には光重合開始剤を含むことが
好ましい。またウェットコーティング法において成膜後
乾燥させる限りにおいて、任意の量の溶媒を添加するこ
とができる。
【００２５】本発明の高屈折率導電性材料用組成物を透
明基材に塗布することにより、さらにこれを硬化させる
ことにより、透明導電性材料を得ることができる。
明基材に塗布することにより、さらにこれを硬化させる
ことにより、透明導電性材料を得ることができる。
【００２６】透明基材の材質としては特に限定されるも
のではないが、例えばガラス、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタ
クリル酸メチル（ＰＭＭＡ）共重合体、トリアセチルセ
ルロース（ＴＡＣ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、ポリア
ミド（ＰＡ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等を好ましく
挙げることができる。ここでいう透明性とは光線透過率
で３０％以上であり、より好ましくは５０％以上、更に
好ましくは８０％以上である。
のではないが、例えばガラス、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタ
クリル酸メチル（ＰＭＭＡ）共重合体、トリアセチルセ
ルロース（ＴＡＣ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、ポリア
ミド（ＰＡ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等を好ましく
挙げることができる。ここでいう透明性とは光線透過率
で３０％以上であり、より好ましくは５０％以上、更に
好ましくは８０％以上である。
【００２７】透明基材の形状としては特に限定されるも
のではないが、例えば板状もしくはフィルム状のものが
挙げられる。生産性、運搬性の点からフィルム状のもの
が好ましく挙げられる。フィルムの厚みとしては１０〜
５００μｍのものが透明性、作業性の点より好ましく挙
げられる。
のではないが、例えば板状もしくはフィルム状のものが
挙げられる。生産性、運搬性の点からフィルム状のもの
が好ましく挙げられる。フィルムの厚みとしては１０〜
５００μｍのものが透明性、作業性の点より好ましく挙
げられる。
【００２８】透明基材への本発明の高屈折率導電性材料
用組成物の塗布方法は特に限定されず、公知のウェット
コーティング法をとることができる。例えばロールコー
ト法、スピンコート法、ディップコート法などが代表的
なものとして挙げられる。これらの中でロールコート法
は連続的に形成できるため生産性の点より好ましい。ま
た必要に応じて層を形成した後、活性エネルギー線の照
射や加熱により硬化させることができる。塗布膜である
透明導電層の厚みは０．０５〜２０μｍが好ましい。厚
みが０．０５μｍ未満になると十分な導電性を得ること
が難しく、２０μｍを超えると透明性の低下などの問題
が生じるため好ましくない。
用組成物の塗布方法は特に限定されず、公知のウェット
コーティング法をとることができる。例えばロールコー
ト法、スピンコート法、ディップコート法などが代表的
なものとして挙げられる。これらの中でロールコート法
は連続的に形成できるため生産性の点より好ましい。ま
た必要に応じて層を形成した後、活性エネルギー線の照
射や加熱により硬化させることができる。塗布膜である
透明導電層の厚みは０．０５〜２０μｍが好ましい。厚
みが０．０５μｍ未満になると十分な導電性を得ること
が難しく、２０μｍを超えると透明性の低下などの問題
が生じるため好ましくない。
【００２９】本発明によって、透明導電材料の表面抵抗
値を１０12Ω以下とすることができ、さらに好ましくは
１０10Ω以下とすることができる。１０12Ωを超えると
帯電防止効果が十分でなくなるため好ましくない。
値を１０12Ω以下とすることができ、さらに好ましくは
１０10Ω以下とすることができる。１０12Ωを超えると
帯電防止効果が十分でなくなるため好ましくない。
【００３０】また透明導電層と透明基材の間にその他の
機能を持つ層を１層以上形成してもよい。その他の機能
を持つ層の形成方法としては特に限定されず、公知の方
法をとることができる。例えば蒸着、スパッタなどのド
ライコーティング法、ロールコート、スピンコート、ス
プレーコートなどのウェットコーティング法が挙げられ
る。用いる材料も限定されず、また必要に応じて、硬度
の向上、防眩、ニュートンリング防止、特定波長の光の
遮断、密着性の向上、色調補正等の機能を１種類以上を
付与させることができる。
機能を持つ層を１層以上形成してもよい。その他の機能
を持つ層の形成方法としては特に限定されず、公知の方
法をとることができる。例えば蒸着、スパッタなどのド
ライコーティング法、ロールコート、スピンコート、ス
プレーコートなどのウェットコーティング法が挙げられ
る。用いる材料も限定されず、また必要に応じて、硬度
の向上、防眩、ニュートンリング防止、特定波長の光の
遮断、密着性の向上、色調補正等の機能を１種類以上を
付与させることができる。
【００３１】また本発明の高屈折率導電性材料用組成物
を硬化させた材料は高屈折率と導電性を兼ね備えている
ため、減反射材の高屈折率層として用いることにより、
高い光学性能と帯電防止機能を付与させることができ
る。
を硬化させた材料は高屈折率と導電性を兼ね備えている
ため、減反射材の高屈折率層として用いることにより、
高い光学性能と帯電防止機能を付与させることができ
る。
【００３２】本発明の高屈折率導電性材料用組成物を減
反射材の高屈折率層として用いる場合には、硬化後の層
の屈折率が１．６５以上であることが好ましく、さらに
１．６５以上かつ２．５０以下であることが好ましい。
１．６５未満ならびに２．５０を超えるものでは、光学
性能が低下するため好ましくない。
反射材の高屈折率層として用いる場合には、硬化後の層
の屈折率が１．６５以上であることが好ましく、さらに
１．６５以上かつ２．５０以下であることが好ましい。
１．６５未満ならびに２．５０を超えるものでは、光学
性能が低下するため好ましくない。
【００３３】減反射材は、透明基材上に高屈折率導電性
材料用組成物を硬化して得られる高屈折率層を含む多層
の減反射層を有する構造として形成することができる。
例えば最外層から順に低屈折率層および高屈折率層から
なる２層構造；低屈折率層、高屈折率層、および中屈折
率層からなる３層構造；低屈折率層、高屈折率層、中屈
折率層、および高屈折率層からなる４層構造等が挙げら
れる。生産性、コスト、減反射効果の観点より、２層構
造のものが好ましく挙げられる。
材料用組成物を硬化して得られる高屈折率層を含む多層
の減反射層を有する構造として形成することができる。
例えば最外層から順に低屈折率層および高屈折率層から
なる２層構造；低屈折率層、高屈折率層、および中屈折
率層からなる３層構造；低屈折率層、高屈折率層、中屈
折率層、および高屈折率層からなる４層構造等が挙げら
れる。生産性、コスト、減反射効果の観点より、２層構
造のものが好ましく挙げられる。
【００３４】減反射層の厚みは基材の種類、形状、層の
構成によって異なるが、１層あたり可視光波長と同じ厚
みもしくはそれ以下の厚みが好ましい。例えば、２層減
反射材によりヒトの可視光に減反射効果を現す場合は、
高屈折率層の膜厚は１２５／ｎＨ≦高屈折率層の厚さ
（ｎｍ）≦２００／ｎＨ、及び低屈折率層の膜厚は、１
００／ｎＬ≦低屈折率層の厚さ（ｎｍ）≦１６５／ｎＬ
として設計される。ただし、ｎＨ、ｎＬはそれぞれ高屈
折率層、低屈折率層の屈折率である。また透明基材とし
ては前記の透明導電性材料と同様のものを用いることが
できる。
構成によって異なるが、１層あたり可視光波長と同じ厚
みもしくはそれ以下の厚みが好ましい。例えば、２層減
反射材によりヒトの可視光に減反射効果を現す場合は、
高屈折率層の膜厚は１２５／ｎＨ≦高屈折率層の厚さ
（ｎｍ）≦２００／ｎＨ、及び低屈折率層の膜厚は、１
００／ｎＬ≦低屈折率層の厚さ（ｎｍ）≦１６５／ｎＬ
として設計される。ただし、ｎＨ、ｎＬはそれぞれ高屈
折率層、低屈折率層の屈折率である。また透明基材とし
ては前記の透明導電性材料と同様のものを用いることが
できる。
【００３５】減反射層を形成するために、低屈折率層の
屈折率としては、形成される層がその直下の層より低屈
折率であることことを要件とし、その屈折率は１．４０
〜１．５５の範囲にあることが好ましい。１．５５を超
える場合はウェットコーティングでは十分な減反射効果
を得ることが難しく、また１．４０未満の場合は十分に
硬い層を形成することが困難である。また中屈折率層は
積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より
屈折率の高い層であればよく、その屈折率は限定されな
い。
屈折率としては、形成される層がその直下の層より低屈
折率であることことを要件とし、その屈折率は１．４０
〜１．５５の範囲にあることが好ましい。１．５５を超
える場合はウェットコーティングでは十分な減反射効果
を得ることが難しく、また１．４０未満の場合は十分に
硬い層を形成することが困難である。また中屈折率層は
積層する高屈折率層より屈折率が低く、低屈折率層より
屈折率の高い層であればよく、その屈折率は限定されな
い。
【００３６】本発明において、高屈折率導電性材料用組
成物による高屈折率層を除いた他の減反射層は従来公知
のものが使用できる。
成物による高屈折率層を除いた他の減反射層は従来公知
のものが使用できる。
【００３７】前記低屈折率層の材料としては酸化珪素、
フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム
等の無機物や含フッ素有機化合物を単独または混合物と
して用いることができる。また非フッ素系単量体や重合
体をバインダーとして用いることができる。
フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム
等の無機物や含フッ素有機化合物を単独または混合物と
して用いることができる。また非フッ素系単量体や重合
体をバインダーとして用いることができる。
【００３８】前記の含フッ素有機化合物は特に限定され
るものではないが、例えば多官能の含フッ素（メタ）ア
クリル酸エステル、含フッ素イタコン酸エステル、含フ
ッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の単量
体、およびそれらの重合体等が挙げられる。単量体とし
ては単官能および多官能の重合性基を有する構造のもの
が挙げられ、反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリ
ル酸エステルが好ましい。ここで（メタ）アクリルは、
アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。特に多
官能含フッ素（メタ）アクリル酸エステルが硬度、屈折
率の点より好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化
させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成させ
ることができる。
るものではないが、例えば多官能の含フッ素（メタ）ア
クリル酸エステル、含フッ素イタコン酸エステル、含フ
ッ素マレイン酸エステル、含フッ素珪素化合物等の単量
体、およびそれらの重合体等が挙げられる。単量体とし
ては単官能および多官能の重合性基を有する構造のもの
が挙げられ、反応性の観点より含フッ素（メタ）アクリ
ル酸エステルが好ましい。ここで（メタ）アクリルは、
アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。特に多
官能含フッ素（メタ）アクリル酸エステルが硬度、屈折
率の点より好ましい。これら含フッ素有機化合物を硬化
させることにより、低屈折率かつ高硬度の層を形成させ
ることができる。
【００３９】前記の単官能含フッ素（メタ）アクリル酸
エステルとしては、例えば１−（メタ）アクリロイロキ
シ−１−パーフルオロアルキルメタン、１−（メタ）ア
クリロイロキシ−２−パーフルオロアルキルエタン等が
挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ないし
８の直鎖状、分枝状、環状のものが挙げられる。
エステルとしては、例えば１−（メタ）アクリロイロキ
シ−１−パーフルオロアルキルメタン、１−（メタ）ア
クリロイロキシ−２−パーフルオロアルキルエタン等が
挙げられる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ないし
８の直鎖状、分枝状、環状のものが挙げられる。
【００４０】前記の多官能含フッ素（メタ）アクリル酸
エステルとしては、２官能ないし４官能の含フッ素（メ
タ）アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。その中
で２官能の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えば、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
３−パーフルオロアルキルブタン、２−ヒドロキシ−１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−
２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル｝プロピオナート、α，ω−ジ（メタ）アクリロイル
オキシメチルパーフルオロアルカン等を好ましく挙げる
ことができる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ない
し１１の直鎖状、分枝状、環状のものが考られ、パーフ
ルオロアルカン基は直鎖状のものが好ましく挙げられ
る。これらのジ（メタ）アクリル酸エステルは、使用に
際して単独もしくは混合物として用いることができる。
エステルとしては、２官能ないし４官能の含フッ素（メ
タ）アクリル酸エステルが好ましく挙げられる。その中
で２官能の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えば、１，２−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−
３−パーフルオロアルキルブタン、２−ヒドロキシ−１
Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロアルキル−
２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル｝プロピオナート、α，ω−ジ（メタ）アクリロイル
オキシメチルパーフルオロアルカン等を好ましく挙げる
ことができる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ない
し１１の直鎖状、分枝状、環状のものが考られ、パーフ
ルオロアルカン基は直鎖状のものが好ましく挙げられ
る。これらのジ（メタ）アクリル酸エステルは、使用に
際して単独もしくは混合物として用いることができる。
【００４１】さらに前記の２官能以外の含フッ素多官能
（メタ）アクリル酸エステルとしては、３官能および４
官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステルが挙
げられる。該３官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル
酸エステルの例としては、例えば、２−（メタ）アクリ
ロイルオキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフ
ルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロ
イルオキシメチル｝プロピオナート等が挙げられる。パ
ーフルオロアルキル基は炭素数１ないし１１の直鎖状、
分枝状、環状のものが好ましく挙げられる。
（メタ）アクリル酸エステルとしては、３官能および４
官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステルが挙
げられる。該３官能の含フッ素多官能（メタ）アクリル
酸エステルの例としては、例えば、２−（メタ）アクリ
ロイルオキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフ
ルオロアルキル−２’，２’−ビス｛（メタ）アクリロ
イルオキシメチル｝プロピオナート等が挙げられる。パ
ーフルオロアルキル基は炭素数１ないし１１の直鎖状、
分枝状、環状のものが好ましく挙げられる。
【００４２】また、４官能の含フッ素多官能（メタ）ア
クリル酸エステルの例としては、α，β，y，ω−テト
ラ（メタ）アクリロイルオキシ−αＨ，αＨ，βＨ，γ
Ｈ，γＨ，xＨ，xＨ，yＨ，ωＨ，ωＨ−パーフルオロ
アルカン等を好ましく挙げることができる。パーフルオ
ロアルカン基は炭素数１ないし１４の直鎖状のものが好
ましく挙げられる。使用に際しては、前記の含フッ素多
官能（メタ）アクリル酸エステルは、単独もしくは混合
物として用いることができる。
クリル酸エステルの例としては、α，β，y，ω−テト
ラ（メタ）アクリロイルオキシ−αＨ，αＨ，βＨ，γ
Ｈ，γＨ，xＨ，xＨ，yＨ，ωＨ，ωＨ−パーフルオロ
アルカン等を好ましく挙げることができる。パーフルオ
ロアルカン基は炭素数１ないし１４の直鎖状のものが好
ましく挙げられる。使用に際しては、前記の含フッ素多
官能（メタ）アクリル酸エステルは、単独もしくは混合
物として用いることができる。
【００４３】前記の含フッ素珪素化合物の具体的な例と
しては、（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアル
キル）トリメトキシシラン等を好ましく挙げることがで
きる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ないし１０の
直鎖状、分枝状、環状のものが好ましく挙げられる。
しては、（１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアル
キル）トリメトキシシラン等を好ましく挙げることがで
きる。パーフルオロアルキル基は炭素数１ないし１０の
直鎖状、分枝状、環状のものが好ましく挙げられる。
【００４４】前記の含フッ素有機化合物の重合体として
は前記の単官能含フッ素単量体の単独重合体、共重合
体、もしくはフッ素を含まない単量体との共重合体等の
直鎖状重合体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環
状重合体、櫛型重合体などが挙げられる。
は前記の単官能含フッ素単量体の単独重合体、共重合
体、もしくはフッ素を含まない単量体との共重合体等の
直鎖状重合体、鎖中に炭素環や複素環を含む重合体、環
状重合体、櫛型重合体などが挙げられる。
【００４５】前記の非フッ素系単量体としては、従来公
知のものを用いることができる。例えば単官能もしくは
多官能の（メタ）アクリル酸エステルやテトラエトキシ
シラン等の珪素化合物等が挙げられる。
知のものを用いることができる。例えば単官能もしくは
多官能の（メタ）アクリル酸エステルやテトラエトキシ
シラン等の珪素化合物等が挙げられる。
【００４６】また低屈折率層等の減反射層には前記の化
合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、そ
の他の成分を含んでも構わない。その他の成分とは特に
限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機も
しくは有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止
剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸
収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。特
に紫外線硬化させる場合には光重合開始剤を用いること
が好ましい。またウェットコーティング法において成膜
後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することが
できる。
合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、そ
の他の成分を含んでも構わない。その他の成分とは特に
限定されるものではなく、例えば、無機充填剤、無機も
しくは有機顔料、重合体、および重合開始剤、重合禁止
剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸
収剤、レベリング剤などの添加剤などが挙げられる。特
に紫外線硬化させる場合には光重合開始剤を用いること
が好ましい。またウェットコーティング法において成膜
後乾燥させる限りは、任意の量の溶媒を添加することが
できる。
【００４７】高屈折率導電性材料用組成物による高屈折
率層および前記化合物を用いた低屈折率層、中屈折率層
等の減反射層はウェットコーティング法により基材に塗
布、成膜した後、必要に応じて熱や紫外線、電子線など
の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行っ
て層を形成することができる。また溶媒を含む組成物の
場合には、硬化反応を行う前に溶媒を乾燥させることが
できる。
率層および前記化合物を用いた低屈折率層、中屈折率層
等の減反射層はウェットコーティング法により基材に塗
布、成膜した後、必要に応じて熱や紫外線、電子線など
の活性エネルギー線の照射や加熱により硬化反応を行っ
て層を形成することができる。また溶媒を含む組成物の
場合には、硬化反応を行う前に溶媒を乾燥させることが
できる。
【００４８】前記光重合開始剤としては、紫外線照射に
よる重合開始能を有するものであれば良い。具体的には
例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１
−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等の
アセトフェノン系開始剤；ベンゾイン、２，２−ジメト
キシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾ
イン系開始剤；ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニ
ルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；２
−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサン
トン等のチオキサントン系開始剤等を挙げることができ
る。これらは単独もしくは混合物として用いることがで
きる。また、重合開始剤の種類によっては、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸イソアミルエステル等の三級アミンを添加する
などの反応促進剤を併用する方法でも良い。重合開始剤
の配合割合は、減反射層の硬化性成分１００重量部に対
し、０．０１〜２０重量部であることが望ましい。開始
剤の配合割合が０．０１重量部未満の場合には硬化後の
表面硬度が低下し、２０重量部を超える場合には、重合
硬化した際に屈折率が上昇し、所望の減反射層を形成で
きないので好ましくない。
よる重合開始能を有するものであれば良い。具体的には
例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１
−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等の
アセトフェノン系開始剤；ベンゾイン、２，２−ジメト
キシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾ
イン系開始剤；ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニ
ルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；２
−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサン
トン等のチオキサントン系開始剤等を挙げることができ
る。これらは単独もしくは混合物として用いることがで
きる。また、重合開始剤の種類によっては、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸イソアミルエステル等の三級アミンを添加する
などの反応促進剤を併用する方法でも良い。重合開始剤
の配合割合は、減反射層の硬化性成分１００重量部に対
し、０．０１〜２０重量部であることが望ましい。開始
剤の配合割合が０．０１重量部未満の場合には硬化後の
表面硬度が低下し、２０重量部を超える場合には、重合
硬化した際に屈折率が上昇し、所望の減反射層を形成で
きないので好ましくない。
【００４９】前記塗布は通常用いられるウェットコーテ
ィングの塗布方法を用いることができる。具体的には例
えば、ロールコート法、ディップコート法及びスピンコ
ート法等が挙げられる。連続生産性を考慮すると、ロー
ルコート法が好ましい。これらの方法により乾燥、硬化
後の膜厚が所定の膜厚となるように塗布する。
ィングの塗布方法を用いることができる。具体的には例
えば、ロールコート法、ディップコート法及びスピンコ
ート法等が挙げられる。連続生産性を考慮すると、ロー
ルコート法が好ましい。これらの方法により乾燥、硬化
後の膜厚が所定の膜厚となるように塗布する。
【００５０】例えば紫外線照射により硬化反応を行う場
合に用いられる紫外線灯の種類は、一般的に用いられて
いるものであれば特に限定されず、例えば、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ等が挙げられる。紫外線照射の条件
としては、照射線量は１０ｍＪ以上が好ましく、１００
ｍＪ以上がさらに好ましい。照射線量が１０ｍＪより少
ない場合には重合硬化後、十分な表面硬度が得られない
ので好ましくない。また重合硬化後に、紫外線照射によ
る後硬化をさらに１回以上行っても良い。紫外線照射時
の酸素濃度は、重合硬化時及び後硬化時とも、窒素、ア
ルゴンなどの不活性ガスを吹き込むことにより、１００
０ｐｐｍ以下に抑えることが好ましい。
合に用いられる紫外線灯の種類は、一般的に用いられて
いるものであれば特に限定されず、例えば、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ等が挙げられる。紫外線照射の条件
としては、照射線量は１０ｍＪ以上が好ましく、１００
ｍＪ以上がさらに好ましい。照射線量が１０ｍＪより少
ない場合には重合硬化後、十分な表面硬度が得られない
ので好ましくない。また重合硬化後に、紫外線照射によ
る後硬化をさらに１回以上行っても良い。紫外線照射時
の酸素濃度は、重合硬化時及び後硬化時とも、窒素、ア
ルゴンなどの不活性ガスを吹き込むことにより、１００
０ｐｐｍ以下に抑えることが好ましい。
【００５１】減反射層の表面抵抗値としては、低屈折率
層などの層を導電性高屈折率組成物からなる層の上に形
成した後も１０12Ω以下であることが好ましく、１０10
Ω以下であることがさらに好ましい。１０12Ωを超える
と帯電防止効果が十分でなくなるため好ましくない。
層などの層を導電性高屈折率組成物からなる層の上に形
成した後も１０12Ω以下であることが好ましく、１０10
Ω以下であることがさらに好ましい。１０12Ωを超える
と帯電防止効果が十分でなくなるため好ましくない。
【００５２】さらに、透明基材と減反射層の間に、１層
以上の層を形成することができる。この層は無機物、有
機物、もしくはこれらの混合物を用いることができる。
その厚みは０．００５〜３０μｍが好ましく、層の形成
方法は特に限定されない。またこれらの層には硬度の向
上、防眩、ニュートンリング防止、紫外線域や近赤外線
域などの特定波長の光の遮断、層間の密着性の向上、色
調補正等の機能を１種類以上付与することができる。２
層以上積層する場合にはそれぞれに異なる機能を付与し
てもよい。それぞれの機能の付与は公知の方法を用いる
ことができる。特に硬度の向上を目的としたハードコー
ト層を設けるのが好ましい。
以上の層を形成することができる。この層は無機物、有
機物、もしくはこれらの混合物を用いることができる。
その厚みは０．００５〜３０μｍが好ましく、層の形成
方法は特に限定されない。またこれらの層には硬度の向
上、防眩、ニュートンリング防止、紫外線域や近赤外線
域などの特定波長の光の遮断、層間の密着性の向上、色
調補正等の機能を１種類以上付与することができる。２
層以上積層する場合にはそれぞれに異なる機能を付与し
てもよい。それぞれの機能の付与は公知の方法を用いる
ことができる。特に硬度の向上を目的としたハードコー
ト層を設けるのが好ましい。
【００５３】例えばハードコート層を設ける場合は、無
機材料、有機材料、もしくはこれらの混合物を用いるこ
とができる。用いられる有機材料としては、例えば多官
能もしくは単官能の（メタ）アクリル酸エステル、テト
ラエトキシシラン等の珪素化合物等の硬化物が挙げられ
る。生産性および硬度の両立の観点より、紫外線硬化性
多官能アクリレート単量体組成物の重合硬化物であるこ
とが特に好ましい。
機材料、有機材料、もしくはこれらの混合物を用いるこ
とができる。用いられる有機材料としては、例えば多官
能もしくは単官能の（メタ）アクリル酸エステル、テト
ラエトキシシラン等の珪素化合物等の硬化物が挙げられ
る。生産性および硬度の両立の観点より、紫外線硬化性
多官能アクリレート単量体組成物の重合硬化物であるこ
とが特に好ましい。
【００５４】前記紫外線硬化性多官能アクリレート単量
体組成物としては特に限定されるものでなく、例えば公
知の紫外線硬化性多官能アクリレート単量体を１種類以
上混合したもの、もしくは公知の紫外線硬化性ハードコ
ート材をそのまま、もしくはその他の成分を添加して用
いることができる。紫外線硬化性多官能アクリレート単
量体としては、特に限定されるものではないが、例えば
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメ
チロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロール
メタントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６
−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロ
ピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコール誘導体やポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンア
クリレートなどが挙げられる。
体組成物としては特に限定されるものでなく、例えば公
知の紫外線硬化性多官能アクリレート単量体を１種類以
上混合したもの、もしくは公知の紫外線硬化性ハードコ
ート材をそのまま、もしくはその他の成分を添加して用
いることができる。紫外線硬化性多官能アクリレート単
量体としては、特に限定されるものではないが、例えば
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、テトラメ
チロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロール
メタントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６
−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロ
ピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコール誘導体やポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンア
クリレートなどが挙げられる。
【００５５】ハードコート層には前記の化合物以外に本
発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を
含んでも構わない。その他の成分とは特に限定されるも
のではなく、例えば、無機または有機充填剤、無機もし
くは有機微粒子、無機または有機顔料、重合体、および
重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活
性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリング剤などの添加剤
などが挙げられる。特に紫外線硬化させる場合には光重
合開始剤を用いることが好ましい。またウェットコーテ
ィング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の量の
溶媒を添加することができる。
発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を
含んでも構わない。その他の成分とは特に限定されるも
のではなく、例えば、無機または有機充填剤、無機もし
くは有機微粒子、無機または有機顔料、重合体、および
重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活
性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリング剤などの添加剤
などが挙げられる。特に紫外線硬化させる場合には光重
合開始剤を用いることが好ましい。またウェットコーテ
ィング法において成膜後乾燥させる限りは、任意の量の
溶媒を添加することができる。
【００５６】また層の形成方法は特に限定されず、有機
材料を用いた場合には、ロールコートやダイコート等、
一般的なウェットコート法により形成することができ
る。形成した層は必要に応じて加熱や紫外線、電子線な
どの活性エネルギー線照射により硬化反応を行うことが
できる。
材料を用いた場合には、ロールコートやダイコート等、
一般的なウェットコート法により形成することができ
る。形成した層は必要に応じて加熱や紫外線、電子線な
どの活性エネルギー線照射により硬化反応を行うことが
できる。
【００５７】前記の減反射材は減反射効果、高光線透過
率および帯電防止能を必要とする用途に用いることがで
きる。特に電子画像表示装置の表面反射を抑える目的で
用いることができる。これらの用途に用いる場合には減
反射材の減反射層を形成していない面にあらかじめ接着
層を設け、対象物に貼り合せて用いることができる。接
着層に用いられる材料としては特に限定されるものでは
ないが、例えば、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着
剤、熱硬化型接着剤等を挙げることができる。また、こ
の接着層には特定波長の光の遮断、コントラスト向上、
色調補正等の機能を一種類以上付与することができる。
率および帯電防止能を必要とする用途に用いることがで
きる。特に電子画像表示装置の表面反射を抑える目的で
用いることができる。これらの用途に用いる場合には減
反射材の減反射層を形成していない面にあらかじめ接着
層を設け、対象物に貼り合せて用いることができる。接
着層に用いられる材料としては特に限定されるものでは
ないが、例えば、アクリル系粘着剤、紫外線硬化型接着
剤、熱硬化型接着剤等を挙げることができる。また、こ
の接着層には特定波長の光の遮断、コントラスト向上、
色調補正等の機能を一種類以上付与することができる。
【００５８】前記の電子画像表示装置としては、例え
ば、ブラウン管、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液
晶表示装置等を挙げることができる。該表面に直接、も
しくは前面に配置する透明材料に減反射材の減反射層を
形成していない面が接するように接着層を介して密着さ
せ用いることができる。
ば、ブラウン管、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液
晶表示装置等を挙げることができる。該表面に直接、も
しくは前面に配置する透明材料に減反射材の減反射層を
形成していない面が接するように接着層を介して密着さ
せ用いることができる。
【００５９】
【実施例】以下、実施例に基き更に詳細に説明する。 実施例１ 導電性微粒子として平均粒径０．０５μｍ、屈折率２．
０、比重６．５の酸化インジウム錫微粒子（以下、ＩＴ
Ｏ微粒子と略す。）の１０重量％エタノール分散液７０
重量部、誘電体微粒子として平均粒径０．０７μｍ、屈
折率２．３、比重７．３の酸化セリウム微粒子の１０重
量％イソプロパノール（ＩＰＡ）分散液３０重量部、バ
インダーとしてテトラメチロールメタントリアクリレー
ト２重量部、光重合開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ
９０７」、チバスペシャルティケミカルズ製）０．１
重量部を混合し、組成物Ａ（高屈折率導電性材料用組成
物Ａ）を作製した。
０、比重６．５の酸化インジウム錫微粒子（以下、ＩＴ
Ｏ微粒子と略す。）の１０重量％エタノール分散液７０
重量部、誘電体微粒子として平均粒径０．０７μｍ、屈
折率２．３、比重７．３の酸化セリウム微粒子の１０重
量％イソプロパノール（ＩＰＡ）分散液３０重量部、バ
インダーとしてテトラメチロールメタントリアクリレー
ト２重量部、光重合開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ
９０７」、チバスペシャルティケミカルズ製）０．１
重量部を混合し、組成物Ａ（高屈折率導電性材料用組成
物Ａ）を作製した。
【００６０】得られた組成物Ａを厚さ２ｍｍ、屈折率
１．４９のアクリル板（商品名「デラグラスＡ」、旭化
成工業株式会社製）上に、ディップコーター（杉山元理
化学機器株式会社製）により、乾燥膜厚でλ／４を示す
光の波長が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整
して塗布した。９０℃で１分間乾燥後、紫外線照射装置
（岩崎電気株式会社製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ
高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射するこ
とにより硬化し、透明導電性材料Ａを作製した。
１．４９のアクリル板（商品名「デラグラスＡ」、旭化
成工業株式会社製）上に、ディップコーター（杉山元理
化学機器株式会社製）により、乾燥膜厚でλ／４を示す
光の波長が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整
して塗布した。９０℃で１分間乾燥後、紫外線照射装置
（岩崎電気株式会社製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ
高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射するこ
とにより硬化し、透明導電性材料Ａを作製した。
【００６１】組成物の硬化後の屈折率、バインダーの硬
化後の屈折率および表面抵抗値を以下の方法で測定し、
結果を表１に示した。組成物の硬化後の屈折率：透明導
電性材料の裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で
塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓｔ ５
０」、日本分光株式会社製）により、４００〜７００ｎ
ｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。反射ス
ペクトルから読み取った最大反射率Ｒｍａｘより以下の
式１に従い屈折率を計算した。
化後の屈折率および表面抵抗値を以下の方法で測定し、
結果を表１に示した。組成物の硬化後の屈折率：透明導
電性材料の裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で
塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓｔ ５
０」、日本分光株式会社製）により、４００〜７００ｎ
ｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。反射ス
ペクトルから読み取った最大反射率Ｒｍａｘより以下の
式１に従い屈折率を計算した。
【００６２】
【数１】
【００６３】バインダーの硬化後の屈折率：導電性微粒
子および誘電体微粒子を除いた組成物を厚さ１８８μ
ｍ、屈折率１．６４のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１
００」、東洋紡績株式会社製）に塗布、硬化したサンプ
ルを作成した。その裏面をサンドペーパーで荒らし、黒
色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓ
ｔ ５０」、日本分光株式会社製）により、４００〜７
００ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。
反射スペクトルから読み取った最小反射率Ｒｍｉｎより
以下の式２に従い屈折率を計算した。
子および誘電体微粒子を除いた組成物を厚さ１８８μ
ｍ、屈折率１．６４のＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１
００」、東洋紡績株式会社製）に塗布、硬化したサンプ
ルを作成した。その裏面をサンドペーパーで荒らし、黒
色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−ｂｅｓ
ｔ ５０」、日本分光株式会社製）により、４００〜７
００ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。
反射スペクトルから読み取った最小反射率Ｒｍｉｎより
以下の式２に従い屈折率を計算した。
【００６４】
【数２】
【００６５】表面抵抗値：透明導電性材料の表面抵抗値
を、表面抵抗計（「ＤＳＭ８１０３」、東亜電波工業株
式会社製）で測定した。
を、表面抵抗計（「ＤＳＭ８１０３」、東亜電波工業株
式会社製）で測定した。
【００６６】実施例２ 誘電体微粒子として平均粒径０．０４μｍ、屈折率２．
５、比重４．９の酸化チタン微粒子の１０重量％エタノ
ール分散液３０重量部を用いた以外は実施例１と同様に
して組成物Ｂ（高屈折率導電性材料用組成物Ｂ）、およ
び透明導電性材料Ｂを作製した。バインダーおよび得ら
れた組成物の硬化後の屈折率、および表面抵抗値を実施
例１と同様の方法で測定し、結果を表１に示した。
５、比重４．９の酸化チタン微粒子の１０重量％エタノ
ール分散液３０重量部を用いた以外は実施例１と同様に
して組成物Ｂ（高屈折率導電性材料用組成物Ｂ）、およ
び透明導電性材料Ｂを作製した。バインダーおよび得ら
れた組成物の硬化後の屈折率、および表面抵抗値を実施
例１と同様の方法で測定し、結果を表１に示した。
【００６７】実施例３ 導電性微粒子として平均粒径０．０５μｍ、屈折率２．
１、比重５．２の酸化アンチモン錫微粒子（以下、ＡＴ
Ｏ微粒子と略す。）の１０重量％トルエン分散液を用い
た以外は実施例１と同様にして、組成物Ｃ（高屈折率導
電性材料用組成物Ｃ）、および透明導電性材料Ｃを作製
した。バインダーおよび得られた組成物の硬化後の屈折
率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で測定
し、結果を表１に示した。
１、比重５．２の酸化アンチモン錫微粒子（以下、ＡＴ
Ｏ微粒子と略す。）の１０重量％トルエン分散液を用い
た以外は実施例１と同様にして、組成物Ｃ（高屈折率導
電性材料用組成物Ｃ）、および透明導電性材料Ｃを作製
した。バインダーおよび得られた組成物の硬化後の屈折
率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で測定
し、結果を表１に示した。
【００６８】実施例４ 導電性微粒子として平均粒径０．０３μｍ、屈折率２．
０、比重６．９の酸化錫微粒子の１０重量％ＩＰＡ分散
液を、誘電体微粒子として平均粒径０．０４μｍ、屈折
率２．１、比重５．５の酸化亜鉛微粒子の１０重量％エ
タノール分散液を用いた以外は実施例１と同様にして、
組成物Ｄ（高屈折率導電性材料用組成物Ｄ）、および透
明導電性材料Ｄを作製した。バインダーおよび得られた
組成物の硬化後の屈折率、および表面抵抗値を実施例１
と同様の方法で測定し、結果を表１に示した。
０、比重６．９の酸化錫微粒子の１０重量％ＩＰＡ分散
液を、誘電体微粒子として平均粒径０．０４μｍ、屈折
率２．１、比重５．５の酸化亜鉛微粒子の１０重量％エ
タノール分散液を用いた以外は実施例１と同様にして、
組成物Ｄ（高屈折率導電性材料用組成物Ｄ）、および透
明導電性材料Ｄを作製した。バインダーおよび得られた
組成物の硬化後の屈折率、および表面抵抗値を実施例１
と同様の方法で測定し、結果を表１に示した。
【００６９】実施例５ バインダーとして屈折率１．５９のデソライトＺ９００
１（ＪＳＲ株式会社製）を２重量部用いた以外は実施例
１と同様にして、組成物Ｅ（高屈折率導電性材料用組成
物Ｅ）、および透明導電性材料Ｅを作製した。バインダ
ーおよび得られた組成物の硬化後の屈折率、および表面
抵抗値を実施例１と同様の方法で測定し、結果を表１に
示した。
１（ＪＳＲ株式会社製）を２重量部用いた以外は実施例
１と同様にして、組成物Ｅ（高屈折率導電性材料用組成
物Ｅ）、および透明導電性材料Ｅを作製した。バインダ
ーおよび得られた組成物の硬化後の屈折率、および表面
抵抗値を実施例１と同様の方法で測定し、結果を表１に
示した。
【００７０】実施例６ 導電性微粒子としてＩＴＯ微粒子の１０重量％エタノー
ル分散液６０重量部、誘電体微粒子として酸化セリウム
微粒子の１０重量％ＩＰＡ分散液４０重量部を用いた以
外は実施例１と同様にして、組成物Ｆ（高屈折率導電性
材料用組成物Ｆ）、および透明導電性材料Ｆを作製し
た。バインダーおよび得られた組成物の硬化後の屈折
率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で測定
し、結果を表１に示した。
ル分散液６０重量部、誘電体微粒子として酸化セリウム
微粒子の１０重量％ＩＰＡ分散液４０重量部を用いた以
外は実施例１と同様にして、組成物Ｆ（高屈折率導電性
材料用組成物Ｆ）、および透明導電性材料Ｆを作製し
た。バインダーおよび得られた組成物の硬化後の屈折
率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で測定
し、結果を表１に示した。
【００７１】比較例１ 平均粒径０．０５μｍのＩＴＯ微粒子の１０重量％エタ
ノール分散液１００重量部、バインダーとしてテトラメ
チロールメタントリアクリレート２重量部、光重合開始
剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、チバスペシ
ャルティケミカルズ製）０．１重量部を混合し、組成物
Ｇ（導電性材料用組成物Ｇ）、および透明導電性材料Ｇ
を作製した。バインダーおよび得られた組成物の硬化後
の屈折率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で
測定し、結果を表１に示した。
ノール分散液１００重量部、バインダーとしてテトラメ
チロールメタントリアクリレート２重量部、光重合開始
剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、チバスペシ
ャルティケミカルズ製）０．１重量部を混合し、組成物
Ｇ（導電性材料用組成物Ｇ）、および透明導電性材料Ｇ
を作製した。バインダーおよび得られた組成物の硬化後
の屈折率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で
測定し、結果を表１に示した。
【００７２】比較例２ ０．０７μｍの酸化セリウム微粒子の１０重量％イソプ
ロパノール分散液１００重量部、バインダーとしてテト
ラメチロールメタントリアクリレート２重量部、光重合
開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、チバス
ペシャルティケミカルズ製）０．１重量部を混合し、組
成物Ｈ、および透明材料Ｈを作製した。バインダーおよ
び得られた組成物の硬化後の屈折率、および表面抵抗値
を実施例１と同様の方法で測定し、結果を表１に示し
た。
ロパノール分散液１００重量部、バインダーとしてテト
ラメチロールメタントリアクリレート２重量部、光重合
開始剤（商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７」、チバス
ペシャルティケミカルズ製）０．１重量部を混合し、組
成物Ｈ、および透明材料Ｈを作製した。バインダーおよ
び得られた組成物の硬化後の屈折率、および表面抵抗値
を実施例１と同様の方法で測定し、結果を表１に示し
た。
【００７３】比較例３ 導電性微粒子として平均粒径０．０５μｍのＩＴＯ微粒
子の１０重量％エタノール分散液３０重量部、誘電体微
粒子として平均粒径０．０７μｍの酸化セリウム微粒子
の１０重量％ＩＰＡ分散液７０重量部を用いた以外は実
施例１と同様にして組成物Ｉ、および透明材料Ｉを作製
した。バインダーおよび得られた組成物の硬化後の屈折
率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で測定
し、結果を表１に示した。
子の１０重量％エタノール分散液３０重量部、誘電体微
粒子として平均粒径０．０７μｍの酸化セリウム微粒子
の１０重量％ＩＰＡ分散液７０重量部を用いた以外は実
施例１と同様にして組成物Ｉ、および透明材料Ｉを作製
した。バインダーおよび得られた組成物の硬化後の屈折
率、および表面抵抗値を実施例１と同様の方法で測定
し、結果を表１に示した。
【００７４】
【表１】
【００７５】実施例１ないし実施例６における組成物の
硬化物は、屈折率が１．６５以上となり、高屈折率であ
る。またその表面抵抗値は１０9〜１０12Ωの範囲にあ
り、帯電防止に十分な表面抵抗値を示している。それに
対し比較例１では屈折率が１．６１と低く、また比較例
２では表面抵抗値が１０14Ωと帯電防止効果が得られて
いない。比較例３では屈折率は高いものの帯電防止効果
が十分に得られていない。
硬化物は、屈折率が１．６５以上となり、高屈折率であ
る。またその表面抵抗値は１０9〜１０12Ωの範囲にあ
り、帯電防止に十分な表面抵抗値を示している。それに
対し比較例１では屈折率が１．６１と低く、また比較例
２では表面抵抗値が１０14Ωと帯電防止効果が得られて
いない。比較例３では屈折率は高いものの帯電防止効果
が十分に得られていない。
【００７６】製造例１（減反射材用低屈折率層塗液） １，２，９，１０−テトラアクリロイルオキシ−４，
４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５
０重量部、シリカゲル微粒子３０％分散液（商品名「Ｘ
ＢＡ−ＳＴ」、日産化学株式会社製）１２０重量部、
２’，２’−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
１，１１，１１−ノナデカフルオロウンデシル、１０重
量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤
（商品名「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ」、日本化薬株式
会社製）５重量部を混合し減反射材用低屈折率層塗液を
調製した。
４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５
０重量部、シリカゲル微粒子３０％分散液（商品名「Ｘ
ＢＡ−ＳＴ」、日産化学株式会社製）１２０重量部、
２’，２’−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチ
ル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
１，１１，１１−ノナデカフルオロウンデシル、１０重
量部、ブチルアルコール９００重量部、光重合開始剤
（商品名「ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ」、日本化薬株式
会社製）５重量部を混合し減反射材用低屈折率層塗液を
調製した。
【００７７】製造例２（減反射材用ハードコート層塗
液） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン２０、１，
６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロピルオキシ）ヘキサン３０重量部、光重合開始剤（商
品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」、チバスペシャルテ
ィケミカルズ製）４重量部、ＩＰＡ１００重量部を混合
し減反射材用ハードコート層塗液（ＨＣ−１）を調製し
た。
液） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７０重量
部、トリアクリル酸テトラメチロールメタン２０、１，
６−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロピルオキシ）ヘキサン３０重量部、光重合開始剤（商
品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」、チバスペシャルテ
ィケミカルズ製）４重量部、ＩＰＡ１００重量部を混合
し減反射材用ハードコート層塗液（ＨＣ−１）を調製し
た。
【００７８】実施例７ 厚みが１８８μｍのＰＥＴフィルム（商品名「Ａ４１０
０」、東洋紡績株式会社製）上に、製造例２で調製した
減反射材用ハードコート層塗液（ＨＣ−1）をバーコー
ターにより乾燥膜厚４μｍ程度になるように塗布し、紫
外線照射装置（岩崎電気株式会社製、１２０Ｗ高圧水銀
灯）を用いて４００ｍＪの紫外線を照射することにより
硬化し、ハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。
０」、東洋紡績株式会社製）上に、製造例２で調製した
減反射材用ハードコート層塗液（ＨＣ−1）をバーコー
ターにより乾燥膜厚４μｍ程度になるように塗布し、紫
外線照射装置（岩崎電気株式会社製、１２０Ｗ高圧水銀
灯）を用いて４００ｍＪの紫外線を照射することにより
硬化し、ハードコート処理ＰＥＴフィルムを作製した。
【００７９】その上に、ディップコーター（杉山元理化
学機器株式会社製）により、実施例１にて調製した組成
物Ａを乾燥膜厚でλ／４を示す光の波長が５５０ｎｍ程
度になるように層の厚さを調整して塗布後、紫外線照射
装置（岩崎電気株式会社製、窒素雰囲気下で１２０Ｗ高
圧水銀灯）を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射するこ
とにより硬化した。その上に同様にして、製造例１にて
調製した減反射材用低屈折率層塗液をそれぞれ乾燥膜厚
が、５５０ｎｍで最小反射率を示すように調整してから
塗布、硬化することにより減反射材を作製した。
学機器株式会社製）により、実施例１にて調製した組成
物Ａを乾燥膜厚でλ／４を示す光の波長が５５０ｎｍ程
度になるように層の厚さを調整して塗布後、紫外線照射
装置（岩崎電気株式会社製、窒素雰囲気下で１２０Ｗ高
圧水銀灯）を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射するこ
とにより硬化した。その上に同様にして、製造例１にて
調製した減反射材用低屈折率層塗液をそれぞれ乾燥膜厚
が、５５０ｎｍで最小反射率を示すように調整してから
塗布、硬化することにより減反射材を作製した。
【００８０】得られた減反射材の最小反射率および表面
抵抗値を以下のように測定した。結果をそれぞれ表２に
示した。 最小反射率：導電性減反射材の裏面をサンドペーパーで
荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計
（「Ｕ−ｂｅｓｔ ５０」、日本分光株式会社製）によ
り、４００〜７００ｎｍの５°、−５°正反射スペクト
ルを測定した。そして反射スペクトルから反射率の極小
値を読みとり、最小反射率とした。 表面抵抗値：表面抵抗計（「ＤＳＭ８１０３」、東亜電
波工業株式会社製）により測定した。
抵抗値を以下のように測定した。結果をそれぞれ表２に
示した。 最小反射率：導電性減反射材の裏面をサンドペーパーで
荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計
（「Ｕ−ｂｅｓｔ ５０」、日本分光株式会社製）によ
り、４００〜７００ｎｍの５°、−５°正反射スペクト
ルを測定した。そして反射スペクトルから反射率の極小
値を読みとり、最小反射率とした。 表面抵抗値：表面抵抗計（「ＤＳＭ８１０３」、東亜電
波工業株式会社製）により測定した。
【００８１】実施例８〜１２ 組成物Ａに代えてそれぞれ組成物（Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、
Ｆ）を用いた以外は実施例７と同様にして減反射材を作
製した。また実施例７と同様に減反射材の最小反射率お
よび表面抵抗値の測定を行った。結果をそれぞれ表２に
示した。
Ｆ）を用いた以外は実施例７と同様にして減反射材を作
製した。また実施例７と同様に減反射材の最小反射率お
よび表面抵抗値の測定を行った。結果をそれぞれ表２に
示した。
【００８２】比較例４〜６ 組成物Ａに代えてそれぞれ組成物（Ｇ、Ｈ、Ｉ）を用い
た以外は実施例７と同様にして減反射材を作製した。ま
た実施例７と同様に減反射材の最小反射率および表面抵
抗値の測定を行った。結果をそれぞれ表２に示した。
た以外は実施例７と同様にして減反射材を作製した。ま
た実施例７と同様に減反射材の最小反射率および表面抵
抗値の測定を行った。結果をそれぞれ表２に示した。
【００８３】
【表２】
【００８４】実施例７ないし実施例１２において、製造
された減反射材は最小反射率１％以下、かつ帯電防止機
能を兼備している。それに対して比較例４では反射率が
高く、比較例５、６では帯電防止能が十分で無いことが
わかる。
された減反射材は最小反射率１％以下、かつ帯電防止機
能を兼備している。それに対して比較例４では反射率が
高く、比較例５、６では帯電防止能が十分で無いことが
わかる。
【００８５】
【発明の効果】帯電防止に優れ、かつ高屈折率な膜を形
成することが可能な高屈折率導電性材料用組成物が得ら
れる。また高屈折率導電性組成物の硬化物を備えた透明
導電性材料は、屈折率が１．６５以上となり、高屈折率
である。またその表面抵抗値は１０9〜１０12Ωの範囲
にあり、帯電防止に十分な表面抵抗値を示している。ま
た高屈折率導電性材料用組成物の硬化物を減反射層中に
用いた減反射材は最小反射率１％以下、かつ帯電防止機
能の優れた性能を示す。
成することが可能な高屈折率導電性材料用組成物が得ら
れる。また高屈折率導電性組成物の硬化物を備えた透明
導電性材料は、屈折率が１．６５以上となり、高屈折率
である。またその表面抵抗値は１０9〜１０12Ωの範囲
にあり、帯電防止に十分な表面抵抗値を示している。ま
た高屈折率導電性材料用組成物の硬化物を減反射層中に
用いた減反射材は最小反射率１％以下、かつ帯電防止機
能の優れた性能を示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ３２Ｂ 27/18 Ｂ３２Ｂ 27/18 Ｊ Ｚ Ｃ０９Ｄ 4/00 Ｃ０９Ｄ 4/00 5/00 5/00 Ｚ 5/24 5/24 7/12 7/12 201/00 201/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｕ Ｈ０１Ｂ 1/20 Ｈ０１Ｂ 1/20 Ｚ 5/14 5/14 Ａ Ｆターム(参考） 4D075 CA22 CB06 EC02 4F100 AA21B AA25B AA28B AA33B AK01B AK25 AT00A BA02 CA30 DE01B EH46 EJ08 EJ54 GB07 GB48 JB12B JG01B JG03 JG05B JN01A JN18 JN18B YY00B 4J038 DL021 FA121 FA211 FA271 FA281 HA216 JC32 KA03 KA12 KA20 NA01 NA17 NA19 NA20 5G301 DA01 DA23 DA31 DA33 DA42 DD01 DD02 DD10 5G307 FA01 FA02 FB01 FC10
Claims (11)
- 【請求項１】 導電性微粒子（Ａ成分）、屈折率２．０
以上の誘電体微粒子（Ｂ成分）、およびバインダー（Ｃ
成分）からなる高屈折率導電性材料用組成物において、
Ａ成分１００重量部に対して、Ｂ成分５〜１００重量
部、Ｃ成分５〜１００重量部であることを特徴とする高
屈折率導電性材料用組成物。 - 【請求項２】 導電性微粒子が酸化インジウム錫、酸化
錫、酸化アンチモン錫、および酸化亜鉛アルミニウムか
らなる群より選ばれる少なくとも１種類である請求項１
に記載の高屈折率導電性材料用組成物。 - 【請求項３】 誘電体微粒子が酸化チタン、酸化セリウ
ム、および酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも
１種類である請求項１または請求項２に記載の高屈折率
導電性材料用組成物。 - 【請求項４】 導電性微粒子の占有する総体積が誘電体
微粒子の占有する総体積以上である請求項１ないし請求
項３のいずれか１つに記載の高屈折率導電性材料用組成
物。 - 【請求項５】 バインダーが、硬化性単量体を含むバイ
ンダーである請求項１ないし請求項４のいずれか１つに
記載の高屈折率導電性材料用組成物。 - 【請求項６】 バインダーが、硬化後の屈折率が１．５
５以上であるバインダーである請求項１ないし請求項５
のいずれか１つに記載の高屈折率導電性材料用組成物。 - 【請求項７】 硬化後の高屈折率導電性材料組成物の屈
折率が１．６５以上である請求項１ないし請求項６のい
ずれか１つに記載の高屈折率導電性材料用組成物。 - 【請求項８】 請求項１ないし請求項７のいずれか１つ
に記載の高屈折率導電性材料用組成物を透明基材に塗布
した透明導電性材料。 - 【請求項９】 請求項１ないし請求項７のいずれか１つ
に記載の高屈折率導電性材料用組成物を透明基材に塗布
し、硬化させてなる透明導電性材料。 - 【請求項１０】 請求項１ないし請求項７のいずれか１
つに記載の高屈折率導電性組成物の硬化物を減反射層中
に用いた減反射材。 - 【請求項１１】 減反射層の表面抵抗値が１０12Ω以下
である請求項１０に記載の減反射材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000368009A JP2002167576A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | 高屈折率導電性材料用組成物、透明導電性材料ならびに減反射材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000368009A JP2002167576A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | 高屈折率導電性材料用組成物、透明導電性材料ならびに減反射材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002167576A true JP2002167576A (ja) | 2002-06-11 |
Family
ID=18838333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000368009A Pending JP2002167576A (ja) | 2000-12-04 | 2000-12-04 | 高屈折率導電性材料用組成物、透明導電性材料ならびに減反射材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002167576A (ja) |
Cited By (12)
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|---|---|---|---|---|
| WO2003049123A1 (fr) * | 2001-12-05 | 2003-06-12 | Asahi Glass Company, Limited | Film conducteur, procede de fabrication correspondant et substrat comprenant ce film |
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-
2000
- 2000-12-04 JP JP2000368009A patent/JP2002167576A/ja active Pending
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