JP2002178657A - 感熱性平版印刷用原板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 デジタル信号に基づいた走査露光後、処理を
行うことなくそのまま印刷機に装着して印刷することが
可能で、汚れ難さ、耐刷性およびインキ受容性などの印
刷適性が良好な感熱性平版印刷用原板を提供する。 【解決手段】 砂目立てされ、かつ表面が陽極酸化処理
されたアルミニウム基板上に、（１）インキ受容層、お
よび（２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、
ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニ
ウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から
選択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化
物または水酸化物を含有する親水層をこの順に有し、イ
ンキ受容層および親水層のうち少なくとも一つの層が光
熱変換剤を含有し、かつ親水層表面の中心線平均粗さＲ
ａが０．４５μｍ以上である感熱性平版印刷用原板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要な感熱性
平版印刷用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号
に基づいた赤外線レーザビーム走査露光による画像記録
が可能であり、画像記録したものを従来のような現像工
程を経ることなしに、そのまま印刷機に装着し印刷する
ことが可能な平版印刷用原板であって、印刷適性が良好
な平版印刷用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】デジタル信号に基づいたレーザビーム走
査露光によって印刷版を作製するコンピュータ・ツウ・
プレートシステムは、多数の研究がなされている。その
中で、一層の工程合理化と廃液処理問題の解決を目指し
て、露光後、現像処理することなしにそのまま印刷機に
装着して印刷できる現像不要の平版印刷用原板も研究さ
れ、例えば日本印刷学会誌、３６巻１４８〜１６３頁
（１９９９）に記載されているように、種々の方法が提
案されている。

【０００３】有望な方法の一つは、半導体レーザ、ＹＡ
Ｇレーザ等の固体高出力赤外線レーザで露光し、露光部
分を光を熱に変換する光熱変換剤で発熱させ、分解蒸発
を起こさせるアブレーションを利用した方法である。す
なわち、親油性のインキ受容性表面またはインキ受容層
を有する基板上に親水層を設け、親水層をアブレーショ
ン除去する方法である。

【０００４】ＷＯ９４／１８００５号公報には、親油性
レーザー光吸収層の上に架橋した親水層を設け、この親
水層をアブレーションする印刷版が開示されている。こ
の親水層は、ポリビニルアルコールをテトラエトキシ珪
素の加水分解物で架橋し、二酸化チタン粒子を含有させ
たものからなり、親水層の膜強度向上を図ったものであ
る。この技術により耐刷力は向上する。しかし、汚れに
くさについては不十分で、さらなる改良が必要であっ
た。

【０００５】ＷＯ９８／４０２１２号公報及びＷＯ９９
／１９１４３号公報には、基板上にインキ受容層、及び
シリカなどのコロイドをアミノプロピルトリエトキシシ
ランなどの架橋剤で架橋したものを主成分とする親水層
を有し、現像なしで印刷機に装着できる平版印刷用原板
が開示されている。この親水層は、炭化水素基を極力少
なくして印刷汚れに対する耐性を高め、架橋剤でコロイ
ドを架橋することにより耐刷力の向上を図っている。し
かしながら、この技術では耐刷力は数千枚と不十分であ
った。

【０００６】特開平１１−３０１１３０号には、支持体
上に熱により親水性が低下する記録層、及び赤外光領域
に極大吸収を有する親水性層がこの順に形成されること
を特徴とする平版印刷用材料が記載されている。その中
に、表面の中心線粗さＲａを好ましくは０．３μｍ以
上、より好ましくは０．５以上とすることにより汚れ難
さに関わる保水性を向上できることが記載されている。
しかし、この公報における表面粗さは、記録層や親水層
にシリカなどのフィラーを添加することで得ているた
め、記録層もしくは親水層のマトリックスに用いる材料
とフィラーの選択によっては機械的強度を低下させた
り、インキ受容性が不十分となるなどの問題があり、素
材選択が制限される問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従来技術のアブレーシ
ョンを利用した無処理刷版には、上記のように、汚れ難
さ、耐刷性、インキ受容性などの印刷性能が損なわれる
問題があった。本発明の目的は、この問題を解決するこ
とである。すなわち、露光後処理を行うことなく直接印
刷機に装着して印刷することが可能であり、汚れ難さ、
耐刷性およびインキ受容性などの印刷適性が良好な感熱
性平版印刷用原板を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、以下の構成
で上記目的を達成できることを見出した。すなわち、本
発明は、以下の通りである。

【０００９】１．砂目立てされ、かつ表面が陽極酸化処
理されたアルミニウム基板上に、（１）インキ受容層、
および（２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウ
ム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジル
コニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属
から選択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状
酸化物または水酸化物を含有する親水層をこの順に有す
る感熱性平版印刷用原板であって、インキ受容層および
親水層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を含有
し、かつ親水層表面の中心線平均粗さＲａが０．４５μ
ｍ以上であることを特徴とする感熱性平版印刷用原板。

【００１０】２．前項１記載のアルミニウム基板上に、
（１）インキ受容層、（２）前項１記載の親水層、およ
び（３）印刷機上で除去可能な親水性オーバーコート層
をこの順に有する感熱性平版印刷用原板であって、イン
キ受容層、親水層および親水性オーバーコート層のうち
少なくとも一つの層が光熱変換剤を含有し、かつ親水層
表面の中心線平均粗さＲａが０．４５μｍ以上であるこ
とを特徴とする感熱性平版印刷用原板。

【００１１】上記の如く本発明では、印刷時の最表面で
ある親水層の表面粗さを高めるのに、支持体に砂目立て
したアルミニウム板を用いている。そのため、インキ受
容層や親水層には耐刷性やインキ受容性に悪影響を及ぼ
す可能性のある物質を添加することなく良好な保水性が
得られ、汚れ難さ、耐刷性、インキ受容性などの印刷性
能の良好な感熱性平版印刷用原板を得るのが容易となっ
た。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明では砂目立て（以下では、粗
面化とも言う）されたアルミニウム基板を支持体として
用いる。このための原料アルミニウム板は、従来より公
知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することが
できる。すなわち、原料アルミニウム板は、純アルミニ
ウム板あるいはアルミニウムを主成分とし、微量の異元
素を含む合金板である。アルミニウム合金に含まれる異
元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、
クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあ
る。合金中の異元素の含有量は１０重量％以下である。
また、ＤＣ鋳造法を用いたアルミニウム鋳塊からのアル
ミニウム板でも、連続鋳造法による鋳塊からのアルミニ
ウム板であっても良い。

【００１３】本発明に用いられる上記アルミニウム基板
の厚みは０．０５〜０．６ｍｍ、好ましくは０．１〜
０．４ｍｍ、特に好ましくは０．１５〜０．３ｍｍであ
る。

【００１４】アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々
の方法で行うことができる。例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法、化学
的に表面を選択溶解させる方法、あるいはこれらの方法
のうち２種以上の組み合わせによって行うことができ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。化学的方法としては、特開昭５４−
３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミ
ニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。ま
た、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸など
の酸を含む電解液中で交流または直流により行う方法が
ある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示されてい
るように混合酸を用いた電解粗面化方法も利用すること
ができる。

【００１５】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液に
よるアルカリエッチング処理をされ、さらに中和処理さ
れた後、陽極酸化処理を施される。

【００１６】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には、硫酸、リン酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、
あるいは、それらの混酸が用いられる。これらの電解質
の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸
化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一
概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が１〜
８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０
Ａ／dｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５０分
の範囲であれば適当である。これらの陽極酸化処理の中
でも、特に、英国特許１，４１２，７６８号公報に記載
されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法およ
び米国特許３，５１１，６６１号公報に記載されている
リン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本
発明のアルミニウム支持体の酸化皮膜量は、好ましくは
２．０ｇ／ｍ²以上、より好ましくは２．０〜６．０ｇ
／ｍ²で、特に好ましくは２．０〜４．０ｇ／ｍ²であ
る。

【００１７】本発明で用いられる基板としては、上記の
ような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのま
までも良いが、上層との接着性、断熱性などの一層の改
良のため、必要に応じて、特願２０００−６５２１９号
や特願２０００−１４３３８７号に記載されている陽極
酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封
孔処理、及び親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する
表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。
上記親水化処理のための好適な親水性化合物としては、
ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基をもつ化合物、糖
類化合物、クエン酸、アルカリ金属珪酸塩、フッ化ジル
コニウムカリウム、リン酸塩／無機フッ素化合物などを
挙げることができる。

【００１８】上記のようにして得られたアルミニウム基
板の表面粗さは、中心線平均粗さＲａが０．４８μｍ以
上が好ましく、０．５２μｍ以上がさらに好ましい。Ｒ
ａの上限はその上に塗布するインキ受容層および親水層
の塗布厚とも関係するので一概に決めがたいが、一般的
には約０．７μｍまでが好ましい。この範囲内で、親水
層表面での表面粗さが十分大きくなり、良好な保水性が
確保される。

【００１９】本発明に用いられるインキ受容層は、有機
高分子を含有する。有機高分子としては、溶媒に可溶
で、親油性の被膜を形成できるものである。さらには、
上層である親水層の塗布溶媒に不溶であることが望まし
いが、場合によっては一部上層の塗布溶媒に膨潤するも
のが、親水層との接着性に優れ、望ましい場合がある。
その他、親水層の塗布溶媒に可溶な有機高分子を用いる
場合には、架橋剤を添加する等の工夫をして、インキ受
容層を硬化させておくことが望ましい。

【００２０】有用な有機高分子としては、ポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロ
キサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ
樹脂、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、フェノール化合
物とアセトンとの縮合樹脂、ポリビニルアセテート、ア
クリル樹脂及びその共重合体、ポリビニルフェノール、
ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹脂及び
その共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルア
ミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリアミド、
ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロースエス
テル樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等を挙
げることができる。これらの中で、より好ましい化合物
として、側鎖にヒドロキシル基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基やトリアルコキシシリル基を有する樹脂
が、基板や上層の親水層との接着性に優れ、場合によっ
て架橋剤で容易に硬化するので望ましい。その他、アク
リロニトリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホン
アミド基を有する共重合体や側鎖にヒドロキシル基を有
する共重合体をジアゾ樹脂によって光硬化させたものが
好ましい。

【００２１】本発明のインキ受容層に好適なエポキシ樹
脂としては、例えば、ビスフェノールＡ／エピクロロヒ
ドリン重付加物、ビスフェノールＦ／エピクロロヒドリ
ン重付加物、ハロゲン化ビスフェノールＡ／エピクロロ
ヒドリン重付加物、ビフェニル型ビスフェノール／エピ
クロロヒドリン重付加物、ノボラック樹脂／エピクロロ
ヒドリン重付加物などを挙げることができる。具体的に
は、油化シェルエポキシ（株）製のエピコート１００７
（軟化点１２８℃、Ｍn約２９００、エポキシ当量２０
００）、エピコート１００９（軟化点1４４℃、Ｍn約３
７５０、エポキシ当量３０００）、エピコート１０１０
（軟化点1６９℃、Ｍn約５５００、エポキシ当量４００
０）、エピコート１１００Ｌ（軟化点1４９℃、エポキ
シ当量４０００）、エピコートＹＸ３１５７５（軟化点
１３０℃、エポキシ当量１２００）などを挙げることが
できる。

【００２２】ノボラック樹脂およびレゾール樹脂として
は、フェノール、クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール／クレ
ゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合
クレゾール）、フェノール変性キシレン、ｔ−ブチルフ
ェノール、オクチルフェノール、レゾルシノール、ピロ
ガロール、カテコール、クロロフェノール（ｍ−Ｃｌ、
ｐ−Ｃｌ）、ブロモフェノール（ｍ−Ｂｒ、ｐ−Ｂ
ｒ）、サリチル酸、フロログルシノールなどと、アルデ
ヒド、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒ
ドなどとの付加縮合物を挙げることができる。

【００２３】その他の好適な高分子化合物として以下
（１）〜（１２）に示すモノマーをその構成単位とする
通常１〜２０万の平均分子量を持つ共重合体を挙げるこ
とができる。 （１）芳香族ヒドロキシ基を有するアクリルアミド類、
メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ
−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ
−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ
−、ｍ−およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−お
よびｐ−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタク
リレート、（２）脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル
酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、
２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、

【００２４】（３）アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、アク
リル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの
アクリル酸エステル、（４）メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸
ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタク
リル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキ
シブチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなどのメタクリル酸エス
テル、

【００２５】（５）アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメ
タクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ
−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ
−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルア
ミド、Ｎ−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよび
Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、

【００２６】（６）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル、（７）ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルな
どのビニルエステル、（８）スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（９）メ
チルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン、
（１０）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレンなどのオレフィン、（１１）Ｎ−ビニ
ルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピ
リジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど、

【００２７】（１２）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノス
ルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミ
ノスルホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホ
ニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）メタクリルアミドなどのスルホンア
ミド基含有アクリルアミドまたはメタクリルアミド類、
また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフェニルアクリレート、１−（３−アミノス
ルホニルフェニルナフチル）アクリレート、ｏ−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、ｍ−アミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニルフ
ェニルナフチル）メタクリレートなどのスルホンアミド
基含有アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル
類。

【００２８】これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解さ
せて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に設
けることができる。有機高分子のみを溶媒に溶解させて
用いることもできるが、架橋剤、接着助剤、着色剤、塗
布面状改良剤、可塑剤を必要に応じて添加することがで
きる。その他、露光後のプリントアウト画像を形成させ
るための加熱発色系あるいは消色系添加剤が添加されて
もよい。

【００２９】有機高分子を架橋させる架橋剤としては、
例えば、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポキシ樹
脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化
合物、テトラアルコキシ珪素の初期加水分解縮合物、グ
リオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化合物を
挙げることができる。

【００３０】接着助剤としては、上記ジアゾ樹脂が基板
および親水層との接着に優れるが、この他にシランカッ
プリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリ
ング剤も有用である。

【００３１】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、キニザリン、２−（α−ナフチル）−５−フ
ェニルオキサゾールなどが挙げられる。他の染料として
具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー
＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢ
Ｇ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイ
ルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラック
Ｔ−５０５（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ
４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３
５）、エチルバイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２
０１５）、パテントピュアブルー（住友三国化学社
製）、ブリリアントブルー、メチルグリーン、エリスリ
シンＢ、ベーシックフクシン、ｍ−クレゾールパープ
ル、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミ
ナフトキノン、シアノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルア
セトアニリドなどに代表されるトリフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イ
ミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキノ
ン系の染料あるいは特開昭６２−２９３２４７号公報、
特開平９−１７９２９０号公報に記載されている染料を
挙げることができる。上記色素は、インキ受容層中に添
加される場合は受容層の全固形分に対し、通常約０．０
２〜１０重量％、より好ましくは約０．１〜５重量％の
割合ある。

【００３２】さらに、塗布面状改良剤としてよく知られ
た化合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活
性剤も用いることができる。具体的にはパーフルオロア
ルキル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が
塗布面上を整えることで有用である。

【００３３】さらに、本発明のインキ受容層には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。

【００３４】さらに、本発明のインキ受容層に添加でき
る発色または消色系の添加剤としては、例えば、ジアゾ
化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤
とロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリ
スタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクト
ン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチルバイオレッ
ト、ビクトリアピュアーブルーＢＯＨ等の染料）が組み
合わせて用いられる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細
書に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダ
ーの組合わせも有効である。この場合、加熱によって染
料を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が
形成して有色から無色に変化する。これらの添加剤の添
加割合は、好ましくはインキ受容層固形分に対し１０重
量％以下、より好ましくは５重量％以下である。

【００３５】上記インキ受容層を塗布する溶媒として
は、アルコール類（メタノール、エタノール、プロピル
アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセ
チルアセトン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテ
ート、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル等）、アミド類（ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムア
ミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等）等を用い
ることができる。これらの溶媒は、単独あるいは混合し
て使用される。塗布液中の上記インキ受容層成分（添加
剤を含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量
％である。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ば
かりでなく、水性エマルジョンからも被膜を形成させる
ことができる。この場合の濃度は５重量％から５０重量
％が好ましい。

【００３６】本発明のインキ受容層の乾燥塗布量は、ア
ルミニウム基板の表面粗さとも関連して変動するので一
概に決めがたいが、好ましくは０．２５〜０．７ｇ／ｍ
²、より好ましくは０．３５〜０．５ｇ／ｍ²である。こ
の範囲内で、画像部の耐刷性および耐薬品性を損なうこ
となく、親水層の保水性を確保できる。

【００３７】本発明の親水層は、ベリリウム、マグネシ
ウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニ
ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
ンおよび遷移金属から選択された少なくとも一つの元素
のコロイド粒子状酸化物または水酸化物を含有する。

【００３８】これらの元素のコロイド粒子状酸化物また
は水酸化物は、上記元素のハロゲン化物やアルコキシ化
合物の加水分解、あるいは、水酸化物の縮合など種々の
公知の方法によってコロイド分散液の分散相、すなわ
ち、コロイド粒子として作られる。親水層を設けるため
の親水層塗布液に添加する場合は、コロイド分散液の状
態で添加できる。

【００３９】これらの元素の酸化物または水酸化物のう
ち、特に好ましいものは、アルミニウム、ケイ素、チタ
ンおよびジルコニウムから選択された少なくとも一つの
元素の酸化物または水酸化物である。

【００４０】これらの元素の酸化物または水酸化物のコ
ロイド粒子は、コロイドの粒径として、シリカの場合５
〜１００ｎｍの球形のものが好適である。１０〜５０ｎ
ｍの球状粒子が、５０〜４００ｎｍの長さに連なったパ
ールネックレス状のコロイド粒子も用いることができ
る。アルミニウムの酸化物または水酸化物のコロイド粒
子のように１００ｎｍ×１０ｎｍのような羽毛状のもの
も有効である。これらのコロイド分散液は、日産化学工
業（株）などの市販品を購入することもできる。

【００４１】これらのコロイド粒子の分散媒としては、
水のほかに、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、メチルエチルケトンなどの有
機溶媒も有用である。

【００４２】本発明の親水層には、上記コロイド粒子と
共に、親水性樹脂を用いることができる。親水性樹脂を
用いることにより親水層の皮膜性を強化し、耐刷性を向
上できる。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、
カルボキシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、アミノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキ
シメチルなどの親水基を有するものが好ましい。具体的
な親水性樹脂として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチ
ン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそ
れらのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン
酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー、ス
チレン−マレイン酸コポリマー、ポリアクリル酸および
それらの塩、ポリメタクリル酸およびそれらの塩、ヒド
ロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポ
リマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー
およびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピル
アクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロ
キシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーお
よびコポリマー、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レンオキシド、ポリビニルアルコール、ならびに加水分
解度が少なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも８
０重量％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマ
ー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、
Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコ
ポリマー等を挙げることができる。

【００４３】これらの親水性樹脂の添加割合は、親水層
固形分の４０重量％以下が好ましく、２０重量％以下が
より好ましい。

【００４４】また、本発明の親水層には、芳香族水酸基
を有する樹脂を用いることもできる。芳香族水酸基を有
する樹脂を用いた場合は、親水層の皮膜性の向上と同時
に、刷り出しの着肉性を改良することができる。芳香族
水酸基を有する樹脂としては、メタノールに２５℃で５
重量％以上溶解するものが好ましく、例えば、ノボラッ
ク樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ケ
トンピロガロール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂が挙げら
れる。

【００４５】好ましいノボラック樹脂としては、フェノ
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、２，５−キシレノール、および３，５−キシレノー
ル、レゾルシンから選ばれる少なくとも１種の水酸基含
有芳香族化合物を、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドなどのアルデヒドの中から選
ばれる少なくとも１種と酸性触媒下で付加縮合したノボ
ラック樹脂が挙げられる。ホルムアルデヒドおよびアセ
トアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデヒ
ドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。その中で
も、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレ
ノール：３，５−キシレノール：レゾルシンの混合割合
がモル比で４０〜１００：０〜５０：０〜２０：０〜２
０：０〜２０の混合物、または、フェノール：ｍ−クレ
ゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で１〜１０
０：０〜７０：０〜６０の混合物とアルデヒドとの付加
縮合物であるノボラック樹脂が好ましい。アルデヒドの
中でも、特にホルムアルデヒドが好ましい。ノボラック
樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜１
５，０００、さらに好ましくは１，５００〜１０，００
０のものが用いられる。

【００４６】好ましいレゾール樹脂としては、フェノー
ル、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、レ
ゾルシン、ピロガロール、ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビスフェノール−Ａ、ｏ−エチルフェノ
ール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、
プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｔ−ブチ
ルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール等の水
酸基含有芳香族炭化水素類やその他の２個以上の水酸基
を有する多核芳香族炭化水素類の少なくとも１種を、ア
ルカリ性触媒下、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフ
ラール等のアルデヒド、およびアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンから選ば
れた少なくとも１種のアルデヒドまたはケトンと付加縮
合させたものが挙げられる。ホルムアルデヒドおよびア
セトアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデ
ヒドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。レゾール
樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５００〜１０,０
００、特に好ましくは１，０００〜５，０００である。

【００４７】好ましいポリビニルフェノール樹脂として
は、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフ
ェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）
プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類の単独または２種以上の
共重合体が挙げられる。ヒドロキシスチレン類は、芳香
環に塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいは
炭素数１〜4個のアルキル基等の置換基を有していても
よく、従って、ポリビニルフェノール類としては、芳香
環にハロゲンまたは炭素数１〜４個のアルキル基を有し
ていても良いポリビニルフェノールが挙げられる。

【００４８】このほかに、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ
−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−
（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒ
ドロキシフェニル）プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）プロピレンなどのヒドロキシスチレン類に、
メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸アルキルエス
テルやアクリル酸アルキルエステルを共重合したものも
有用である。ポリビニルフェノール樹脂は、通常、置換
基を有していてもよいヒドロキシスチレンを、単独でま
たは２種以上を、ラジカル重合開始剤またはカチオン重
合開始剤の存在下で重合することにより得られる。かか
るポリビニルフェノール樹脂は、一部水素添加を行なっ
たものでもよい。また、ｔ−ブトキシカルボニル基、ピ
ラニル基、フラニル基などで、ポリビニルフェノール樹
脂の一部の水酸基を保護した樹脂でもよい。ポリビニル
フェノール樹脂の重量平均分子量は、好ましくは１，０
００〜１００，０００、特に好ましくは１，５００〜５
０，０００である。ケトンピロガロール樹脂としては、
アセトンピロガロール樹脂が特に有用である。

【００４９】これらの芳香族水酸基を有する樹脂の添加
割合は、好ましくは親水層固形分の２０重量％以下、よ
り好ましくは１２重量％以下である。

【００５０】本発明の親水層には、上記の元素のコロイ
ド状酸化物または水酸化物および芳香族水酸基を有する
樹脂の他に、コロイド状酸化物または水酸化物の架橋を
促進する架橋剤を添加しても良い。そのような架橋剤と
しては、テトラアルコキシシランの初期加水分解縮合
物、トリアルコキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
アルキルアンモニウムハライド、または、アミノプロピ
ルトリアルコキシシランが好ましい。その添加割合は、
親水層固形分の５重量％以下が好ましい。

【００５１】さらに、本発明の親水層には、印刷時の耐
刷力を増加させる目的で、上記の親水性樹脂あるいは芳
香族水酸基を有する樹脂の架橋剤を添加してもよい。こ
の様な架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グリオキザ
ール、ポリイソシアネート、テトラアルコキシシランの
初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素およびヘキサ
メチロールメラミンを挙げることができる。

【００５２】さらに、本発明の親水層には、塗布の面状
を良化させるため、良く知られたフッ素系界面活性剤、
シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン系界面活性
剤などを添加しても良い。

【００５３】本発明の親水層の乾燥塗布量は、好ましく
は０．２〜０．８ｇ／ｍ²、より好ましくは０．３〜
０．５ｇ／ｍ²である。この範囲内で、機上現像性の低
下や感度低下を起こすことなく、親水層の良好な保水性
が得られる。

【００５４】本発明の感熱性平版印刷用原板は、保存や
取り扱い時の親油性物質による親水層汚染や傷付き、素
手で取り扱ったときの指紋跡付着の防止、およびアブレ
ーションによるカスの発生低減のため、親水層上に親水
性オーバーコート層を設けることができる。

【００５５】本発明に使用される親水性オーバーコート
層は印刷機上で除去可能なものであり、水溶性樹脂、又
は水溶性樹脂を部分的に架橋した水膨潤性樹脂から選ば
れた樹脂を含有する。

【００５６】かかる水溶性樹脂は、水溶性の天然高分子
及び合成高分子から選ばれ、架橋剤とともに用い、塗布
乾燥された皮膜がフィルム形成能を有するものである。
本発明に好ましく用いられる水溶性樹脂の具体例として
は、天然高分子では、アラビアガム、水溶性大豆多糖
類、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等）、その変性体、ホワイトデキストリン、プルラン、
酵素分解エーテル化デキストリン等、合成高分子では、
ポリビニルアルコール（ポリ酢酸ビニルの加水分解率６
５％以上のもの）、ポリアクリル酸、そのアルカリ金属
塩もしくはアミン塩、ポリアクリル酸共重合体、そのア
ルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、そ
のアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ビニルアルコール
／アクリル酸共重合体及びそのアルカリ金属塩もしくは
アミン塩、ポリアクリルアミド、その共重合体、ポリヒ
ドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン、
その共重合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチ
ルエーテル／無水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アク
リルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、そ
のアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリ−２−アクリ
ルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合
体、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、等を挙げる
ことができる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二
種以上混合して用いることもできる。しかし、本発明は
これらの例に限定されるものではない。

【００５７】水溶性樹脂の少なくとも１種以上を部分架
橋し、親水層上にオーバーコート層を形成する場合、架
橋は、水溶性樹脂の有する反応性官能基を用いて架橋反
応することにより行われる。架橋反応は、共有結合性の
架橋であっても、イオン結合性の架橋であってもよい。

【００５８】架橋により、オーバーコート層表面の粘着
性が低下して取り扱い性がよくなるが、架橋が進み過ぎ
るとオーバーコート層が親油性に変化して、印刷機上に
おけるオーバーコート層の除去が困難になるので、適度
な部分架橋が好ましい。好ましい部分架橋の程度は、２
５℃の水中に印刷用原板を浸したときに、３０秒〜１０
分間では親水性オーバーコート層が溶出せず残存してい
るが、１０分以上では溶出が認められる程度である。

【００５９】架橋反応に用いられる化合物としては、架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリアルコ
キシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化合
物、アルデヒド化合物、ヒドラジンなどが挙げられ、該
架橋反応は公知の触媒を添加し、反応を促進することも
できる。

【００６０】架橋性を有する公知の多官能性化合物の具
体例としては、下記の化合物が挙げられる。

【００６１】ポリエポキシ化合物の具体例としては、グ
リセリンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグ
リシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシ
ジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、
ビスフェノール類もしくはそれらの水素添加物とエピハ
ロヒドリンとのポリ縮合物、などが挙げられる。

【００６２】ポリアミンの具体例としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミン、ポリア
ミドアミンなどが挙げられる。

【００６３】ポリイソシアネート化合物の具体例として
は、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンイソ
シアネート、液状ジフェニルメタンジイソシアネート、
ポリメチレンポリフェニルイソシアネート、キシリレン
ジイソシアネート、ナフタリン−１，５−ジイソシアネ
ート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネート、イ
ソプロピルベンゼン−２，４−ジイソシアネート、など
の芳香族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、デカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族イソ
シアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネートなどの脂環族ジイソシアネート、
またポリプロピレングリコール／トリレンジイソシアネ
ート付加反応物などが挙げられる。

【００６４】シラン化合物としては、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジ
エトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリス
（メチルエチルケトオキシム）シラン、メチルトリス
（メチルエチルケトオキシム）シラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、など。

【００６５】チタネート化合物としては、テトラエチル
オルトシリケート、ビス（ジオクチルパイロホスフェー
ト）エチレンチタネート、イソプロピルトリアクタノイ
ルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロ
イルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアク
リルチタネート、イソプロピル（ジオクチルホスフェー
ト）チタネート）、イソプロピルトリクミルフェニルチ
タネート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチルアミノ
エチル）チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテー
トチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネー
ト、イソプロピルトリインステアロイルチタネート、イ
ソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネー
ト、イソプロピルトリス（ジオクチルホスフェート）チ
タネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスフ
ァイト）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリジシ
ルホスファイト）チタネート、テトラ（２、２ージアリ
ルオキシメチル−１−ブチル）ビス（ジトリデシルホス
ファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェ
ート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチル
パイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、な
ど。

【００６６】アルデヒド化合物としては、ホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ブチル
アルデヒド、グリオキサール、グルタルアルデヒド、テ
レフタルアルデヒド、など。

【００６７】多価金属塩化合物としては、亜鉛、カルシ
ウム、マグネシウム、バリウム、ストロンチウム、コバ
ルト、マンガン、ニッケル等の金属の水溶性塩が挙げら
れる。

【００６８】これらの架橋剤は単独または２種以上を混
合して使用することが可能である。これらの架橋剤のう
ち特に好ましい架橋剤は、水溶性の架橋剤であるが、非
水溶性のものは分散剤によって水に分散して使用するこ
とができる。

【００６９】特に好ましい水溶性樹脂と架橋剤の組み合
わせとしては、カルボン酸含有水溶性樹脂／多価金属化
合物、カルボン酸含有水溶性樹脂／水溶性エポキシ樹
脂、水酸基含有樹脂／ジアルデヒド類を挙げられる。

【００７０】架橋剤の好適な添加量は、水溶性樹脂の２
〜１０重量％である。この範囲内で印刷機上でのオーバ
ーコート層の除去性を損なうことなく、良好な耐水性が
得られる。

【００７１】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましく
は１〜３重量％である。

【００７２】本発明のオーバーコート層の乾燥塗布量
は、０．１〜４．０ｇ／ｍ²が好ましく、更に好ましい
範囲は０．１５〜０．２５ｇ／ｍ²である。この範囲内
で、印刷機上でのオーバーコート層の除去性を損なうこ
となく、良好な汚れ防止、傷付き防止、指紋跡付着防止
およびアブレーションカスの発生低減ができる。

【００７３】本発明のインキ受容層、親水層およびオー
バーコート層の少なくとも一つの層には、感度を高める
ため、光を熱に変換させる機能の光熱変換剤が含有され
る。

【００７４】光熱変換剤としては、７００ｎｍ以上の光
を吸収する物質であればよく、種々の顔料や染料を用い
る事ができる。顔料としては、市販の顔料及びカラーイ
ンデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本
顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔
料が利用できる。

【００７５】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔
料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン
系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。

【００７６】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線
を発光するレーザでの利用に適する点で好ましい。その
ような赤外線を吸収する顔料としてはカーボンブラック
が特に好ましい。

【００７７】本発明の親水層及びオーバーコート層に添
加する顔料としては、特に水溶性又は親水性の樹脂と分
散しやすく、かつ親水性を損わないように親水性樹脂や
シリカゾルで表面がコートされたカーボンブラックが有
用である。

【００７８】顔料の粒径は０.０１μｍ〜１μｍの範囲
にあることが好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００７９】染料としては、市販の染料及び文献（例え
ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊、
「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の「近赤
外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動
向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）又は特
許に記載されている公知の染料が利用できる。具体的に
は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シア
ニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。

【００８０】さらに、赤外線吸収染料としては、例えば
特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６
号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシア
ニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−
１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載
されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、
特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７
号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４
０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナ
フトキノン染料、 特開昭５８−１１２７９２号等に記
載されているスクワリリウム染料、英国特許４３４，８
７５号記載のシアニン染料や米国特許第４，７５６，９
９３号記載の染料、米国特許第４，９７３，５７２号記
載のシアニン染料、特開平１０−２６８５１２号記載の
染料、特開平１１−２３５８８３号記載のフタロシアニ
ン化合物を挙げることができる。

【００８１】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号）
記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８
１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３
６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９
号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号
公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９
−２１６１４６号公報記載のシアニン染料、米国特許第
４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリ
ウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２
号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン社
製エポライトIII−１７８、エポライトIII−１３０、エ
ポライトIII−１２５等も好ましく用いられる。これら
の中で、オーバーコート層及び親水層に添加するのに特
に好ましい染料は水溶性染料で、以下に具体例を構造式
で列挙する。

【００８２】

【化１】

【００８３】

【化２】

【００８４】本発明のインキ受容層に用いる染料は、前
記の赤外線吸収染料であっても良いが、好ましくはより
親油性の染料が良い。より好ましい染料として、以下に
例示する染料を挙げることができる。

【００８５】

【化３】

【００８６】

【化４】

【００８７】光熱変換剤の添加割合は、親水層では、親
水層固形分の１〜５０重量％が好ましく、オーバーコー
ト層では、オーバーコート層固形分２〜５０重量％が好
ましく、インキ受容層では、インキ受容層固形分の２０
重量％以下が好ましい。これらの範囲で、各層の膜強度
を損なうことなく、良好な感度が得られる。

【００８８】本発明の感熱性平版印刷用原板は、熱によ
り画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による
直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノ
ン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露
光などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤
外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高
出力赤外線レーザによる露光が好適である。画像露光さ
れた本発明の印刷用原板は、それ以上の処理なしに印刷
機に装着することができる。インキと湿し水を用いて印
刷を開始すると、オーバーコート層は湿し水によって除
去されると同時に露光部の親水層も除去され、その下の
インキ受容層にインキが着肉し印刷が開始される。

【００８９】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００９０】実施例１ ［アルミニウム基板の作製］アルミニウム９９．５重量
％に、銅を０．０１重量％、チタンを０．０３重量％、
鉄を０．３重量％、ケイ素を０．１重量％含有するＪＩ
ＳＡ１０５０アルミニウム材の厚み０．２４ｍｍ圧延板
を、４００メッシュのパミストン（共立窯業製）の２０
重量％水性懸濁液と回転ナイロンブラシ（６，１０−ナ
イロン）とを用いてその表面を砂目立てした後、よく水
で洗浄した。これを１５重量％水酸化ナトリウム水溶液
（アルミニウム４．５重量％含有）に浸漬してアルミニ
ウムの溶解量が５ｇ／ｍ²になるようにエッチングした
後、流水で水洗した。更に、１重量％硝酸水溶液で中和
し、次に０．７重量％硝酸水溶液（アルミニウム０．５
重量％含有）中で、陽極時電圧１０．５Ｖ、陰極時電圧
９．３Ｖの矩形波交番波形電圧（電流比ｒ＝０．９０、
特公昭５８−５７９６号公報実施例に記載されている電
流波形）を用いて１６０Ｃ／ｄｍ²の陽極時電気量で電
解粗面化処理を行った。水洗後、３５℃の１０重量％水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解
量が１ｇ／ｍ²になるようにエッチングした後、水洗し
た。次に、５０℃、３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬
し、デスマットした後、水洗した。さらに、３５℃の硫
酸２０重量％水溶液（アルミニウム０．８重量％含有）
中で直流電流を用いて、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を
行った。すなわち、電流密度１３A／ｇ／ｍ²で電解を行
い、電解時間の調節により、陽極酸化皮膜重量２．７ｇ
／ｍ²とした。この支持体を水洗後、７０℃のケイ酸ナ
トリウムの０．２重量％水溶液に３０秒間浸漬処理し、
水洗乾燥した。シリケート付着量は蛍光Ｘ線分析で測定
したケイ素量で５ｍｇ／ｍ²であった。以上のようにし
て得られたアルミニウム基板は、マクベスＲＤ９２０反
射濃度計で測定した反射濃度は０．３０で、中心線平均
粗さは０．５８μｍであった。

【００９１】［インキ受容層の塗布］上記支持体上に、
下記組成のインキ受容層塗布液Ａ−１を、塗布液量が１
１．２５ｍｌ／ｍ²になるようＫ６バーで塗布し、１０
０℃、１分間加熱乾燥して、乾燥塗布量０．４５ｇ／ｍ
²のインキ受容層を得た。インキ受容層表面のＲａは
０．５６μｍであった。

【００９２】 （インキ受容層塗布液Ａ−１） エピコート１００９（油化シェルエポキシ（株）製） ０．８ｇ エピコート１００１（油化シェルエポキシ（株）製） ０．２ｇ 光熱変換剤（前記（ＩＲ−２４）） ０．２ｇ メチルエチルケトン ２ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２３ｇ

【００９３】［親水層の塗布］このようにして設けたイ
ンキ受容層の上に、下記の親水層塗布液Ｂ−１をＫ６バ
ーで塗布し、１００℃、１分間乾燥して親水層乾燥塗布
量０．３９ｇ／ｍ²の感熱性平版印刷用原板を得た。親
水層表面のＲａは０．５４μｍであった。

【００９４】 （親水層塗布液Ｂ−１） メタノールシリカ（日産化学工業（株）製：シリカ粒径１０〜２０ｎｍ、 ３０重量％含有メタノール溶液からなるコロイド） ３ｇ ポリアクリル酸（重量平均分子量２５万）の ５重量％メタノール溶液 ２ｇ 乳酸メチル １ｇ メタノール １７．５３ｇ

【００９５】［オーバーコート層の塗布］上記親水層上
に、下記組成のオーバーコート層塗布液ＯＣ−１をＫ６
バーで塗布し、１００℃、９０秒間乾燥して、乾燥塗布
重量０．２２ｇ／ｍ²のオーバーコート層を有する感熱
性平版印刷用原板を作製した。

【００９６】 （オーバーコート層塗布液ＯＣ−１） アラビアガム２８重量％含有水溶液 １．５ｇ 光熱変換剤（前記（ＩＲ−１０）） ０．０４２ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール （１０重量％含有水溶液） ０．１６８ｇ イオン交換水 ２２ｇ

【００９７】［製版および印刷評価］上記の感熱性平版
印刷用原板をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（４
０Ｗの８３０ｎｍ半導体レーザーを搭載したプレートセ
ッター）にて、２００ｍＪ／ｃｍ²のエネルギーで露光
した。露光した原板をそれ以上の処理をしないで、その
まま小森コーポレーション製の印刷機リスロンに取付
け、プレートエッチ液ＥＵ−３（富士写真フイルム
（株）製）／水／イソプロピルアルコール（容量比１／
９９／１０）からなる湿し水と、大日本インキ化学工業
（株）製ジオスＧ墨インキを用い、湿し水とインキを同
時に作動させ、アートコート紙を供給して印刷を開始し
たところ、問題なく機上現像され、刷り出し５枚目で完
全にインキが着肉した。保水性は良好で、印刷スタート
時から汚れを発生せず、２万枚で刷了した。

【００９８】実施例２ 実施例１のアルミニウム基板の製造工程からケイ酸ナト
リウム溶液への浸漬処理を省いた基板を支持体として用
いた。陽極酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ²、中心線平均粗
さＲａ０．５８μｍであった。この基板上に下記組成の
インキ受容層塗布液Ａ−２を、塗布液量が１１．２５ｍ
ｌ／ｍ²になるようＫ６バーで塗布し、１００℃、１分
間加熱乾燥して、乾燥塗布量０．４５ｇ／ｍ²のインキ
受容層を得た。インキ受容層表面のＲａは０．５６μｍ
であった。

【００９９】 （インキ受容層塗布液Ａ−２） エピコート１００９（油化シェルエポキシ（株）製） １．０ｇ 光熱変換剤（前記（ＩＲ−２４）） ０．２ｇ メチルエチルケトン ２ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２３ｇ

【０１００】このインキ受容層上に、下記の親水層塗布
液Ｂ−２をＫ６バーで塗布し、１００℃、１分間乾燥し
て親水層乾燥塗布量０．３９ｇ／ｍ²の感熱性平版印刷
用原板を得た。親水層表面のＲａは０．５５μｍであっ
た。 （親水層塗布液Ｂ−２） メタノールシリカ（日産化学製：実施例１と同じもの） ３．３３ｇ 乳酸メチル １ｇ メタノール １９．８ｇ

【０１０１】上記親水層上に、実施例１と同じオーバー
コート層を塗布して、感熱性平版印刷用原板を得た。オ
ーバーコート層乾燥塗布重量０．２２ｇ／ｍ²であっ
た。次いで、実施例１と同様に露光し、機上現像して印
刷したところ、刷り出し１５枚以内で完全にインキが着
肉し、保水性は良好で印刷スタート時から汚れを発生せ
ず、２万枚で刷了した。

【０１０２】実施例３ 実施例２のインキ受容層の代わりに下記組成のインキ受
容層塗布液Ａ−３を用いた以外は実施例２と同様に、親
水層、オーバーコート層を塗布して、平版印刷用原板を
得た。インキ受容層の乾燥塗布量は０．４５ｇ／ｍ²、
Ｒａは０．５４μｍ、親水層表面のＲａは０．５２μｍ
であった。

【０１０３】 （インキ受容層塗布液Ａ−３） エピコート１００９（油化シェルエポキシ（株）製） ０．６ｇ ポリメチルメタクリレート（重量平均分子量１．２万） ０．４ｇ 光熱変換剤（前記（ＩＲ−２４）） ０．２ｇ メチルエチルケトン ２ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２３ｇ

【０１０４】次いで、実施例２と同様に露光し印刷した
ところ、問題なく機上現像できた。版面露光エネルギー
は１６０ｍＪ／ｍ²が最適露光量であり、刷り出し５枚
以内で完全にインキが着肉した。保水性は良好で印刷ス
タート時から汚れを発生せず、２万枚で刷了した。

【０１０５】実施例４ 実施例１のオーバーコート層塗布液の代わりに下記のオ
ーバーコート層塗布液ＯＣ−２を用いた以外は実施例１
と同様にして感熱性平版印刷用原板を作製した。

【０１０６】 （オーバーコート層塗布液ＯＣ−２） ポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万） １．０ｇ 酢酸カルシウム ０．１２ｇ 光熱変換剤（前記（ＩＲ−１０）） ０．４ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール （１０重量％含有水溶液） ０．４ｇ イオン交換水 ７５．３ｇ

【０１０７】この平版印刷用原板を実施例１と同様に２
００ｍＪ／ｍ²で露光したところ、鮮やかな退色画像が
生成した。次に、実施例１と同様に印刷機に装着して機
上現像し、印刷したところ、刷り出し５枚以内で完全に
インキが着肉した。保水性は良好で印刷スタート時から
汚れを発生せず、２万枚を刷了した。

【０１０８】比較例１ 実施例１のアルミニウム基板のブラシ粗面化および電解
粗面化の条件を変えてＲａが０．４５μｍである基板を
用いた以外は実施例１と同様にして平版印刷用原板を作
製した。インキ受容層塗布後のＲａは０．４２μｍ、親
水層塗布後のＲａは０．３８μｍであった。次に、この
比較用原板を実施例１と同様に露光し、機上現像し、印
刷した結果、版面露光エネルギーは１８０ｍＪ／ｍ²が
最適露光量であった。この条件の印刷で、刷り出し５枚
以内で完全にインキが着肉し良好なインキ受容性を示し
たが、保水性が悪く、アートコート紙で５０００枚刷っ
た時点で非画像部に汚れが発生した。

【０１０９】比較例２ 実施例１のインキ受容層を塗布するバーをＫ６バーから
Ｋ１０バーに替えることによって塗布液量を１９．５ｍ
ｌ／ｍ²とし、インキ受容層の乾燥塗布量を０．７６ｇ
／ｍ²に増やした。その結果、インキ受容層表面のＲａ
は０．４４μｍとなった。親水層とオーバーコート層の
塗布は、実施例１と同様に行い、比較用の平版印刷用原
板を作製した。親水層塗布後の表面のＲａは０．４２μ
ｍであった。

【０１１０】この比較用原板を実施例１と同様に露光
し、機上現像し、印刷した結果、版面露光エネルギーは
１８０ｍＪ／ｍ²が最適露光量であった。この条件の印
刷で、刷り出し５枚以内で完全にインキが着肉したが、
保水性が悪く、アートコート紙で８０００枚刷った時点
で非画像部に汚れが発生した。

【０１１１】

【発明の効果】本発明によれば、デジタル信号に基づい
た走査露光による製版が可能であり、露光後、処理を行
うことなく直接印刷機に装着して印刷することができ、
良好な汚れ難さと耐刷性とを有する感熱性平版印刷用原
板を提供できる。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ00 CC11 CC20 DA18 EA10 FA21 2H096 AA07 BA20 CA03 CA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 AA27 BA01 DA04 DA15 DA25 DA26 DA46 DA52 DA55 DA73 DA78 EA01 EA03 EA04 FA11 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 GA27 GA34 GA36 GA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】砂目立てされ、かつ表面が陽極酸化処理さ
   れたアルミニウム基板上に、（１）インキ受容層、およ
   び（２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケ
   イ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
   ム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選
   択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物
   または水酸化物を含有する親水層をこの順に有する感熱
   性平版印刷用原板であって、インキ受容層および親水層
   のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を含有し、かつ
   親水層表面の中心線平均粗さＲａが０．４５μｍ以上で
   あることを特徴とする感熱性平版印刷用原板。
2. 【請求項２】 請求項１記載のアルミニウム基板上に、
   （１）インキ受容層、（２）請求項１記載の親水層、お
   よび（３）印刷機上で除去可能な親水性オーバーコート
   層をこの順に有する感熱性平版印刷用原板であって、イ
   ンキ受容層、親水層および親水性オーバーコート層のう
   ち少なくとも一つの層が光熱変換剤を含有し、かつ親水
   層表面の中心線平均粗さＲａが０．４５μｍ以上である
   ことを特徴とする感熱性平版印刷用原板。