JP2002201450A - 接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造 - Google Patents
接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造Info
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Abstract
気接続が得られ、ショート発生のない電気・電子用の接
着剤組成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路
端子の接続構造を提供する。 【解決手段】 相対向する回路電極間に介在され、相対
向する回路電極を加圧し、加圧方向の電極間を電気的に
接続する接合材料において、少なくとも絶縁性の接着層
と導電粒子を含有する接着層からなる接合材料で各接着
層は1)エポキシ樹脂、2)潜在性硬化剤、3)フィル
ム形成材、4)導電粒子のいずれか3以上を必須成分と
して含有する接着剤組成物であり、各接着層から構成さ
れる接合材料の加熱加圧前の面積(A)と加熱加圧後の
面積(B)を用いて表される流動性B/Aが1.3〜
2.0である接着剤組成物。
Description
れを用いたCHIP-ON-GLASS実装(以下COG実装と呼
ぶ)またはCHIP-ON-FLEX(以下COF実装と呼ぶ)にお
ける回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造に関す
る。
ICの実装は、液晶駆動用ICを直接ガラスパネル上に
回路接続部材で接合するCOG実装方法や、液晶駆動用
ICを金属配線を有するフレキシブルテープに接合しガ
ラスパネルと回路接続部材で接合するCOF実装方法が
用いられる。液晶表示の高精細化に伴い、液晶駆動用I
Cの電極である金バンプは狭ピッチ化、狭面積化してい
る。このため、接合材料中の導電粒子が隣接電極間に流
出し、ショートを発生させるといった問題や、バンプ上
に捕捉される接合材料中の導電粒子数が減少し、接続不
良を起こすといった問題がある。そこで、これらの問題
を解決するため、接合材料の少なくとも片面に絶縁性の
接着層を形成することで、COG実装及びCOF実装に
おける接合品質の低下を防ぐ方法が開発されている(例
えば特開平8−279371号公報)。
続部材はバンプ面積が3000μm2未満となった場
合、バンプ上に捕捉される接合材料中の導電粒子数が減
少し、安定した接続抵抗値を得るのに十分ではなく、ま
た接続抵抗値を低下させるため、粒子の充填量を増やす
とショート発生率が上昇し、絶縁不良が発生するという
問題があった。本発明は、COG実装やCOF実装に対
して低抵抗の電気接続が得られ、かつショート発生のな
い電気・電子用の接着剤組成物、それを用いた回路端子
の接続方法及び回路端子の接続構造を提供するものであ
る。
する回路電極間に介在され、相対向する回路電極を加圧
し、加圧方向の電極間を電気的に接続する接合材料にお
いて、少なくとも絶縁性の接着層と導電粒子を含有する
接着層からなる接合材料で各接着層は、(1)エポキシ
樹脂、(2)潜在性硬化剤、(3)フィルム形成材、
(4)導電粒子のいずれか3以上を必須成分として含有
する接着剤組成物であり、各接着層から構成される接合
材料の加熱加圧前の面積(A)と加熱加圧後の面積
(B)を用いて表される流動性(B)/(A)の値が
1.3〜2.0である接着剤組成物である。接合材料の
加熱加圧前の面積(A)と加熱加圧後の面積(B)を用
いて表される流動性(B)/(A)の値が1.3〜2.
0であり、流動性が1.3未満では流動性が悪く、良好
な接続が得られない場合があり、2.0を超えると、接
続端子、例えばバンプ上に捕捉される導電粒子の数が少
ないため、接続部分の電気抵抗値が上昇してしまう。 〔2〕接合材料が、(1)エポキシ樹脂、(2)潜在性
硬化剤、(3)フィルム形成材を必須成分として含有す
る絶縁性の接着層と、(1)エポキシ樹脂、(2)潜在
性硬化剤、(3)フィルム形成材、(4)導電粒子を必
須成分として含有する導電粒子を含有する接着層の2層
からなる上記〔1〕に記載の接着剤組成物である。 〔3〕導電粒子の表面が、有機高分子化合物で覆われて
いる上記〔1〕または上記〔2〕に記載の接着剤組成物
である。 〔4〕導電粒子を含有する接着層の厚みが、導電粒子の
粒径の3倍未満である上記〔1〕ないし上記〔3〕のい
ずれかに記載の接着剤組成物である。本発明の接着剤組
成物は、導電粒子を含有する層とその他の層とに分解し
た多層構成とすることができ、この時、導電粒子を含有
する接着層の厚みは、導電粒子の粒径の3倍未満である
のが好ましく、2倍未満がより好ましい。導電粒子を含
有する接着層の厚みが3倍以上の場合、導電粒子が隣接
電極間に流出する量が多くなり、絶縁性が低下するので
好ましくない。また、本発明は、〔5〕第一の接続端子
を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第
二の回路部材とを、第一の接続端子と第二の接続端子を
対向して配置し、前記対向配置した第一の接続端子と第
二の接続端子の間に前記〔1〕ないし前記〔4〕のいず
れかに記載の接着剤組成物を介在させ、加熱加圧して前
記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子を電気
的に接続させる回路端子の接続方法である。 〔6〕少なくとも一方の接続端子を有する回路部材がI
Cチップである上記〔5〕に記載の回路端子の接続方法
である。 〔7〕少なくとも一方の接続端子の表面が金、銀、錫、
白金族の金属、インジュウム−錫酸化物(ITO)から
選ばれる少なくとも一種で構成される上記〔5〕または
上記〔6〕に記載の回路端子の接続方法である。 〔8〕少なくとも一方の回路部材表面が窒化シリコン、
シリコーン化合物、ポリイミド樹脂から選ばれる少なく
とも一種でコーティングもしくは付着している上記
〔5〕ないし上記〔7〕のいずれかに記載の回路端子の
接続方法である。さらに、本発明は、
ないし上記〔8〕のいずれかに記載の回路端子の接続方
法で得られる回路端子の接続構造である。
に介在され、相対向する回路電極を加熱加圧し、加圧方
向の電極間を電気的に接続する接合材料において、少な
くとも絶縁性の接着層と導電粒子を含有する接着層から
なる接合材料である。各接着層は、(1)エポキシ樹
脂、(2)潜在性硬化剤、(3)フィルム形成材、
(4)導電粒子のいずれか3以上を必須成分として含有
する接着剤組成物である。接合材料は、絶縁性の接着層
(Z)と導電粒子を含有する接着層(D)から構成さ
れ、その構成は、2層では、Z−Dが、3層では、Z−D
−Z、D−Z−Dが挙げられ、同様に4層以上の構成と
することもできる。そして、各接着層から構成される接
合材料の加熱加圧前の面積(A)と加熱加圧後の面積
(B)を用いて表される流動性(B)/(A)の値が
1.3〜2.0である必要がある。流動性が1.3未満
では流動性が悪く、良好な接続が得られない場合があ
り、2.0を超えると、接続端子、例えばバンプ上に捕
捉される導電粒子の数が少ないため、接続部分の電気抵
抗値が上昇してしまう。流動性の測定は、厚み0.7m
m、15mm×15mmのガラスを用いて、厚み35μ
m、5mm×5mmの接着剤組成物をこの2枚のガラス
間に挟み、200℃、2MPa、10秒で加熱加圧を行
い、初期の面積(A)と加熱加圧後の面積(B)から
(B)/(A)の値を求めた。この面積は、画像処理装
置などを用いても測定することができる。各接着層の厚
みが異なる場合、その厚みに比例させ接合材料の厚みが
35μmとなるようにした。
(1)エポキシ樹脂、(2)潜在性硬化剤、(3)フィ
ルム形成材を必須成分として含有することが好ましく、
また、導電粒子を含有する接着層は、(1)エポキシ樹
脂、(2)潜在性硬化剤、(3)フィルム形成材、
(4)導電粒子を必須成分として含有することが好まし
い。導電粒子は、その導電粒子の表面が、有機高分子化
合物で覆われていることが好ましく、有機高分子化合物
の被覆はマイクロカプセルの手法に通常用いられている
方法を採用することができる。例えば、導電粒子に高分
子化合物のスプレー、浸漬乾燥などである。被覆厚み
は、絶縁性を有すればよく、極めて薄い厚みでもよい。
導電粒子を含有する接着層は、その厚みが、導電粒子の
粒径の3倍未満であると好ましい。導電粒子を含有する
接着層の厚みが3倍以上の場合、導電粒子が隣接電極間
に流出する量が多くなり、絶縁性が低下する傾向にあ
り、また、接続端子に保持される導電粒子の数が少なく
なるので、接続抵抗が高くなったり、接続信頼性に劣る
ようになる。
ては、エピクロルヒドリンとビスフェノールAやF、A
D等から誘導されるビスフェノール型エポキシ樹脂、エ
ピクロルヒドリンとフェノールノボラックやクレゾール
ノボラックから誘導されるエポキシノボラック樹脂やナ
フタレン環を含んだ骨格を有するナフタレン系エポキシ
樹脂、グリシジルアミン、グリシジルエーテル、ビフェ
ニル、脂環式等の1分子内に2個以上のグリシジル基を
有する各種のエポキシ化合物等を単独にあるいは2種以
上を混合して用いることが可能である。これらのエポキ
シ樹脂は、不純物イオン(Na+、Cl-等)や、加水分
解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品を用
いることがエレクトロンマイグレーション防止のために
好ましい。
ては、イミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素
−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリア
ミンの塩、ジシアンジアミド等が挙げられる。これら
は、単独または混合して使用することができ、分解促進
剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。また、これらの
硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質
等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可使時間
が延長されるために好ましい。
しては、フェノキシ樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、
ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリアミド樹脂、キシレン樹脂、ポリウレ
タン樹脂等が挙げられる。フィルム形成材とは、液状物
を固形化し、構成組成物をフィルム形状とした場合に、
そのフィルムの取扱いが容易で、容易に裂けたり、割れ
たり、べたついたりしない機械特性等を付与するもので
あり、通常の状態でフィルムとしての取扱いができるも
のである。フィルム形成材の中でも接着性、相溶性、耐
熱性、機械強度に優れることからフェノキシ樹脂が好ま
しい。フェノキシ樹脂は2官能フェノール類とエピハロ
ヒドリンを高分子量まで反応させるか、又は2官能エポ
キシ樹脂と2官能フェノール類を重付加させることによ
り得られる樹脂である。具体的には、2官能フェノール
類1モルとエピハロヒドリン0.985〜1.015と
をアルカリ金属水酸化物の存在下において非反応性溶媒
中で40〜120℃の温度で反応させることにより得る
ことができる。また、樹脂の機械的特性や熱的特性の点
からは、特に2官能性エポキシ樹脂と2官能性フェノー
ル類の配合当量比をエポキシ基/フェノール水酸基=1
/0.9〜1/1.1としアルカリ金属化合物、有機リ
ン系化合物、環状アミン系化合物等の触媒の存在下で沸
点が120℃以上のアミド系、エーテル系、ケトン系、
ラクトン系、アルコール系等の有機溶剤中で反応固形分
が50重量部以下で50〜200℃に加熱して重付加反
応させて得たものが好ましい。2官能エポキシ樹脂とし
ては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹
脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などがある。2官
能フェノール類は2個のフェノール性水酸基を持つもの
で、例えば、ハイドロキノン類、ビスフェノールA、ビ
スフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノール
S等のビスフェノール類などが挙げられる。フェノキシ
樹脂はラジカル重合性の官能基により変性されていても
よい。フェノキシ樹脂は、単独で用いても、2種類以上
を混合して用いてもよい。
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたはアク
リロニトリルのうち少なくとも一つをモノマー成分とし
た重合体又は共重合体を使用することができ、グリシジ
ルエーテル基を含有するグリシジルアクリレートやグリ
シジルメタクリレートを含む共重合体系アクリルゴムを
併用した場合、応力緩和に優れるので好ましい。これら
アクリルゴムの分子量(重量平均)は接着剤の凝集力を
高める点から20万以上が好ましい。本発明の接着剤組
成物には、さらに、充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止
剤、難燃化剤、色素、チキソトロピック剤、カップリン
グ剤及びフェノール樹脂やメラミン樹脂、イソシアネー
ト類等を含有することもできる。充填剤を含有した場
合、接続信頼性等の向上が得られるので好ましい。充填
剤の最大径が導電粒子の粒径未満であれば使用でき、5
〜60体積部(接着剤樹脂成分100体積部に対して)
の範囲が好ましい。60体積部を超えると信頼性向上の
効果が飽和することがあり、5体積部未満では添加の効
果が少ない。
基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネ
ート基含有物が、接着性の向上の点から好ましい。具体
的には、アミノ基を有するシランカップリング剤とし
て、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。ケチミンを有するシ
ランカップリング剤として、上記のアミノ基を有するシ
ランカップリング剤に、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物を反応さ
せて得られたものが挙げられる。
も、接続時に相対向する回路電極の直接接触により接続
が得られるが、導電粒子を含有した場合、より安定した
接続が得られる。導電粒子としては、Au、Ag、N
i、Cu、はんだ等の金属粒子やカーボン等があり、十
分なポットライフを得るためには、表層はNi、Cu等
の遷移金属類ではなくAu、Ag、白金属の貴金属類が
好ましくAuがより好ましい。また、Ni等の遷移金属
類の表面をAu等の貴金属類で被覆したものでもよい。
また、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等
に前記した導通層を被覆等により形成し最外層を貴金属
類としたものでもよい。プラスチックに導通層を被覆等
により形成した場合や熱溶融金属粒子の揚合、加熱加圧
により変形性を有するので接続時に電極との接触面積が
増加し、回路部材の回路端子の厚みばらつきを吸収し信
頼性が向上するので好ましい。貴金属類の被覆層の厚み
は良好な抵抗を得るためには、100オングストローム
以上が好ましい。しかし、Ni等の遷移金属の上に貴金
属類の層をもうける揚合では、貴金属類層の欠損や導電
粒子の混合分散時に生じる貴金属類層の欠損等により生
じる酸化還元作用で遊離ラジカルが発生し保存性低下を
引き起こすため、300オングストローム以上が好まし
い。そして、厚くなるとそれらの効果が飽和してくるの
で最大1μmにするのが望ましいが制限するものではな
い。導電粒子は、接着剤樹脂成分100体積部に対して
0.1〜30体積部の範囲で用途により使い分ける。過
剰な導電粒子による隣接回路の短絡等を防止するために
は0.1〜10体積部とするのがより好ましい。
OF実装における、フレキシブルテープやガラス基板と
ICチップとの接着用のフィルム状接着剤として使用す
ることもできる。すなわち、第一の接続端子を有する第
一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部
材とを第一の接続端子と第二の接続端子を対向して配置
し、前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子
の間に本発明の接着剤組成物(フィルム状接着剤)を介
在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端子
と第二の接続端子を電気的に接続させることができる。
これらの回路部材には接続端子が通常は多数(場合によ
っては単数でもよい)設けられており、前記回路部材の
少なくとも1組をそれらの回路部材に設けられた接続端
子の少なくとも一部を対向配置し、対向配置した接続端
子間に本発明の接着剤を介在させ、加熱加圧することで
対向配置した接続端子同士を電気的に接続して回路板と
する。回路部材の少なくとも1組を加熱加圧することに
より、対向配置した接続端子同士は、直接接触により又
は接着剤組成物中の導電粒子を介して電気的に接続する
ことができる。
接着剤組成物を、接続端子の表面が、金、銀、錫、白金
族の金属、インジュウム−錫酸化物(ITO)から選ば
れる少なくとも一種から構成される接続端子(電極回
路)に形成した後、もう一方の接続端子(回路電極)を
位置合わせし加熱加圧して接続することができる。この
とき、一方の回路部材側から光を照射してもよい。本発
明においては、フレキシブルテープがポリイミド樹脂等
の有機絶縁物質、ガラス基板の表面が窒化シリコン、シ
リコーン化合物、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂から
選ばれる少なくとも一種でコーティングもしくは付着し
た回路部材に対して特に良好な接着強度が得られる電気
・電子用の接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続
方法及び回路端子の接続構造の提供が可能となる。
樹脂とビスフェノールAからガラス転移温度が80℃の
フェノキシ樹脂を合成した。この樹脂50gを、重量比
でトルエン(沸点110.6℃)/酢酸エチル(沸点7
7.1℃)=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分
40重量%の溶液とした。固形重量比でフェノキシ樹脂
40g、マイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する
液状エポキシ(HX3941HP;旭化成工業株式会社
製商品名、エポキシ当量185)60gとなるように配
合し、導電粒子(ポリスチレンを核とする粒子の表面に
厚み0.2μmのニッケル層、その外側に厚み0.04
μmの金層を設けた平均粒径5μm粒子にPVA溶液に
より数〜数百Åの厚さに被覆)を5体積%配合分散さ
せ、厚み80μmの片面を表面処理したPET(ポリエ
チレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗
布し、70℃、10分の熱風乾燥により、接着剤層の厚
みが10μmのフィルム状接着剤組成物を得た。また、
固形重量比でフェノキシ樹脂 40g、マイクロカプセ
ル型潜在性硬化剤を含有する液状エポキシ(エポキシ当
量185)60gとなるように配合し、厚み80μmの
片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレフタレー
ト)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、10
分の熱風乾燥により、接着剤層の厚みが10μmのフィ
ルム状接着剤組成物を得た。これらの接着剤組成物をラ
ミネーターを用い貼り合わせ、二層構成のフィルム状接
着剤組成物を得た。
35g、マイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する
液状エポキシ(エポキシ当量185)65gとなるよう
に配合したほかは実施例1と同様にして二層構成のフィ
ルム状接着剤組成物を得た。
30g、マイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する
液状エポキシ(エポキシ当量185)70gとしたほか
は実施例1と同様にして二層構成のフィルム状接着剤組
成物を得た。
μm、ピッチ100μm、高さ20μmの金バンプを配
置したICチップと厚み1.1mmのガラス上にインジ
ュウム−錫酸化物(ITO)を蒸着により形成したIT
O基板(表面抵抗、<20Ω/□)とを、上記接着剤組
成物を用い、石英ガラスと加圧ヘッドで挟み、200
℃、100MPa(バンプ面積換算)で10秒間加熱加
圧して接続した。このとき、フィルム状接着剤組成物は
あらかじめITO基板上に、接着剤組成物の接着面を7
0℃、0.5MPa(バンプ面積換算)で5秒間加熱加
圧して貼り付け、その後、PETフィルムを剥離してI
Cチップと接続した。 (流動性の測定)厚み0.7mm、15mm×15mm
のガラスを用いて、厚み35μm、5mm×5mmの回
路接続用樹脂組成物からなる回路用接続材料をこのガラ
スに挟み、200℃、2MPa、10秒で加熱加圧を行
い、初期の面積(A)と加熱加圧後の面積(B)から
(B)/(A)の値を求めた。 (バンプ上捕捉粒子数の測定)回路の接続後、ガラス側
からバンプを金属顕微鏡(倍率200倍)で観察し、バ
ンプ上の導電粒子数をカウントし平均値を求めた。 (接続抵抗の測定)回路の接続後接続部の電気抵抗値
を、初期と、−40℃/30分と100℃/30分の温
度サイクル槽中に500サイクル保持した後に2端子測
定法を用いマルチメータで測定した。それらの測定結果
を表1に示した。
脂の配合量が少なく、エポキシ樹脂の配合量が多くなる
と流動性が増加してくる。流動性が増加するとバンプ上
の導電粒子数が減少してくる。粒子数が減少すると温度
サイクル試験後の接続信頼性を評価する接続抵抗の大幅
な増加が見られ、20Ω以上にもなる。本発明の接合材
料の流動性が1.3〜2.0の範囲では、初期と信頼性
試験後の接続抵抗が両者で低く良好な結果を示す。一
方、比較例1の流動性が2.5では、初期値の接続抵抗
は低く良好であるが、信頼性試験後の接続抵抗は著しく
大きくなり回路部材の接合材料には適しない。また、種
々実験した結果、導電粒子を含有する接着層の厚みが、
導電粒子の粒径の3倍未満であると、バンプ上に捕捉さ
れる導電粒子の数が多くなり接続抵抗が低い状態を維持
することができた。さらに、流動性が1.3未満では、流
動性が悪く気泡の巻き込みを生じ良好な接続が得られな
かった。導電粒子が有機高分子で覆われている場合、流
動性に大きな影響はないが、隣接接続端子間のショート
の発生がなく絶縁不良が解消される。また、導電粒子の
充填量を増やし、確実な接続を確保することができた。
装において、バンプ面積の小さい駆動用ICであっても
低抵抗の電気接続が得られる、電気・電子用の接着剤組
成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の
接続構造の提供が可能となる。
Claims (9)
- 【請求項1】 相対向する回路電極間に介在され、相対
向する回路電極を加圧し、加圧方向の電極間を電気的に
接続する接合材料において、少なくとも絶縁性の接着層
と導電粒子を含有する接着層からなる接合材料で各接着
層は、(1)エポキシ樹脂、(2)潜在性硬化剤、
(3)フィルム形成材、(4)導電粒子のいずれか3以
上を必須成分として含有する接着剤組成物であり、各接
着層から構成される接合材料の加熱加圧前の面積(A)
と加熱加圧後の面積(B)を用いて表される流動性
(B)/(A)の値が1.3〜2.0である接着剤組成
物。 - 【請求項2】 接合材料が、(1)エポキシ樹脂、
(2)潜在性硬化剤、(3)フィルム形成材を必須成分
として含有する絶縁性の接着層と、(1)エポキシ樹
脂、(2)潜在性硬化剤、(3)フィルム形成材、
(4)導電粒子を必須成分として含有する導電粒子を含
有する接着層の2層からなる請求項1に記載の接着剤組
成物。 - 【請求項3】 導電粒子の表面が、有機高分子化合物で
覆われている請求項1または請求項2に記載の接着剤組
成物。 - 【請求項4】 導電粒子を含有する接着層の厚みが、導
電粒子の粒径の3倍未満である請求項1ないし請求項3
のいずれかに記載の接着剤組成物。 - 【請求項5】 第一の接続端子を有する第一の回路部材
と、第二の接続端子を有する第二の回路部材とを、第一
の接続端子と第二の接続端子を対向して配置し、前記対
向配置した第一の接続端子と第二の接続端子の間に請求
項1ないし請求項4のいずれかに記載の接着剤組成物を
介在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端
子と第二の接続端子を電気的に接続させる回路端子の接
続方法。 - 【請求項6】 少なくとも一方の接続端子を有する回路
部材がICチップである請求項5に記載の回路端子の接
続方法。 - 【請求項7】 少なくとも一方の接続端子の表面が金、
銀、錫、白金族の金属、インジュウム−錫酸化物(IT
O)から選ばれる少なくとも一種で構成される請求項5
または請求項6に記載の回路端子の接続方法。 - 【請求項8】 少なくとも一方の回路部材表面が窒化シ
リコン、シリコーン化合物、ポリイミド樹脂から選ばれ
る少なくとも一種でコーティングもしくは付着している
請求項5ないし請求項7のいずれかに記載の回路端子の
接続方法。 - 【請求項9】 請求項5ないし請求項8のいずれかに記
載の回路端子の接続方法で得られる回路端子の接続構
造。
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| JP2002203871A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着剤組成物、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造 |
| JP2006233203A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-09-07 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 異方導電性接着剤フィルム |
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