JP2002201492A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 洗浄工程、時にハンダフラックスの除去、お
よび金属部品、セラミック部品等の脱脂洗浄に有用であ
り、被洗浄物への腐食等の影響を抑制でき、高品位な洗
浄性、環境特性、臭気、引火性など満足しうる洗浄剤組
成物を提供する。 【解決手段】 一般式１のイミダゾリジノン類（Ａ）、
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル等のノニオン性
界面活性剤（Ｂ）を有効成分とする洗浄剤組成物。成分
Ａ，Ｂはそれぞれ通常０．１〜９７重量％配合される。
本組成物には更にポリオキシアルキレンリン酸エステル
等、界面活性剤（Ｃ）およびポリオキシアルキレンアミ
ン系、界面活性剤（Ｄ）を配合することが好ましい。 （Ｒ１とＲ２は水素またはＣ１〜５の直鎖／分岐鎖のア
ルキル基を表す。）
よび金属部品、セラミック部品等の脱脂洗浄に有用であ
り、被洗浄物への腐食等の影響を抑制でき、高品位な洗
浄性、環境特性、臭気、引火性など満足しうる洗浄剤組
成物を提供する。 【解決手段】 一般式１のイミダゾリジノン類（Ａ）、
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル等のノニオン性
界面活性剤（Ｂ）を有効成分とする洗浄剤組成物。成分
Ａ，Ｂはそれぞれ通常０．１〜９７重量％配合される。
本組成物には更にポリオキシアルキレンリン酸エステル
等、界面活性剤（Ｃ）およびポリオキシアルキレンアミ
ン系、界面活性剤（Ｄ）を配合することが好ましい。 （Ｒ１とＲ２は水素またはＣ１〜５の直鎖／分岐鎖のア
ルキル基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は洗浄剤組成物に関す
る。特に、フリップチップ実装基板で使用される増粘剤
及びチキソ剤を多く含むハンダフラックスの除去、およ
び金属部品、セラミック部品等の脱脂洗浄に用いられる
洗浄剤組成物に関する。
る。特に、フリップチップ実装基板で使用される増粘剤
及びチキソ剤を多く含むハンダフラックスの除去、およ
び金属部品、セラミック部品等の脱脂洗浄に用いられる
洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、工業用洗浄剤としてはトリクロロ
エチレン、トリクロロトリフルオロエタン等のハロゲン
化炭化水素系の洗浄剤が使用されていたが、オゾン層破
壊などの環境汚染の問題から使用することができない。
エチレン、トリクロロトリフルオロエタン等のハロゲン
化炭化水素系の洗浄剤が使用されていたが、オゾン層破
壊などの環境汚染の問題から使用することができない。
【０００３】そこで、本出願人は特定のグリコールエー
テル系化合物、ノニオン性界面活性剤およびポリオキシ
アルキレンリン酸エステル系界面活性剤を必須成分とし
て含有してなる非ハロゲン系の洗浄剤組成物を開発し、
かかる発明を既に開示している（特許１８３２４５０
号）。このような種々開発されている非ハロゲン系の洗
浄剤は、一般的にイオン性の界面活性剤等を含有してな
り洗浄力、毒性、臭気、引火性、被洗浄物への影響など
の点で優れるものである。しかし、近頃、被洗浄物の小
型化、大容量化等により、フリップチップ実装基板が用
いられるようになってきており、基板上の微細な位置制
御を可能とするため、ハンダフラックス等にもチキソ
剤、増粘剤等の各種添加剤が多く含まれる様になってき
ている。そのためこれまで以上の洗浄性が要求されるよ
うになってきている、また金属加工部品、セラミック部
品等でも、従来からの加工油の脱脂に加え、パーティク
ル、砥粒、イオン成分などの精密洗浄が必要となり、前
記の非ハロゲン系の洗浄剤では十分に対応できないよう
な場合がある。
テル系化合物、ノニオン性界面活性剤およびポリオキシ
アルキレンリン酸エステル系界面活性剤を必須成分とし
て含有してなる非ハロゲン系の洗浄剤組成物を開発し、
かかる発明を既に開示している（特許１８３２４５０
号）。このような種々開発されている非ハロゲン系の洗
浄剤は、一般的にイオン性の界面活性剤等を含有してな
り洗浄力、毒性、臭気、引火性、被洗浄物への影響など
の点で優れるものである。しかし、近頃、被洗浄物の小
型化、大容量化等により、フリップチップ実装基板が用
いられるようになってきており、基板上の微細な位置制
御を可能とするため、ハンダフラックス等にもチキソ
剤、増粘剤等の各種添加剤が多く含まれる様になってき
ている。そのためこれまで以上の洗浄性が要求されるよ
うになってきている、また金属加工部品、セラミック部
品等でも、従来からの加工油の脱脂に加え、パーティク
ル、砥粒、イオン成分などの精密洗浄が必要となり、前
記の非ハロゲン系の洗浄剤では十分に対応できないよう
な場合がある。
【０００４】近頃、開発されている各種の非ハロゲン系
洗浄剤は、被洗浄物を洗浄した後に、水すすぎ処理（一
般的には、被洗浄物から汚れ成分を剥離するためのプレ
リンス処理、次いで洗浄剤成分を除去するための仕上げ
リンス処理をいう）により優れた清浄度の被洗浄物を得
ることが可能であるが、こうしたすすぎ工程においてす
すぎ水を繰り返し使用すると、すすぎ水中に存在する洗
浄剤成分等（主にイオン性の界面活性剤）の濃度が高く
なるため、すすぎ水のｐＨがアルカリ性または酸性とな
って被洗浄物を構成する素材の一部を、変色したり、腐
食するといった問題がある。特にこの変色、腐食の問題
は、被洗浄物から汚れ成分を剥離するためのプレリンス
処理の水すすぎ工程で著しい。たとえば、被洗浄物とし
て車載用または通信用ハイブリッドＩＣ等に使用される
厚膜ガラスコーティングは酸性水溶液中において青ヤケ
を起こし、アルカリ水溶液中において白ヤケを起こす。
また、被洗浄物のニッケル、シンチュウ、ハンダ等の金
属部分が酸、アルカリにより腐食したり、変色するとい
った問題がある。
洗浄剤は、被洗浄物を洗浄した後に、水すすぎ処理（一
般的には、被洗浄物から汚れ成分を剥離するためのプレ
リンス処理、次いで洗浄剤成分を除去するための仕上げ
リンス処理をいう）により優れた清浄度の被洗浄物を得
ることが可能であるが、こうしたすすぎ工程においてす
すぎ水を繰り返し使用すると、すすぎ水中に存在する洗
浄剤成分等（主にイオン性の界面活性剤）の濃度が高く
なるため、すすぎ水のｐＨがアルカリ性または酸性とな
って被洗浄物を構成する素材の一部を、変色したり、腐
食するといった問題がある。特にこの変色、腐食の問題
は、被洗浄物から汚れ成分を剥離するためのプレリンス
処理の水すすぎ工程で著しい。たとえば、被洗浄物とし
て車載用または通信用ハイブリッドＩＣ等に使用される
厚膜ガラスコーティングは酸性水溶液中において青ヤケ
を起こし、アルカリ水溶液中において白ヤケを起こす。
また、被洗浄物のニッケル、シンチュウ、ハンダ等の金
属部分が酸、アルカリにより腐食したり、変色するとい
った問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高品位な洗
浄性を満足でき、しかも環境特性、臭気、引火性などの
点でも実質上満足する洗浄剤組成物を提供すること目的
とする。
浄性を満足でき、しかも環境特性、臭気、引火性などの
点でも実質上満足する洗浄剤組成物を提供すること目的
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、以下の特定組成の洗
浄剤組成物を用いることにより、前記課題を解決しうる
ことを見出した。
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、以下の特定組成の洗
浄剤組成物を用いることにより、前記課題を解決しうる
ことを見出した。
【０００７】すなわち本発明は、式[１]：
【０００８】
【化７】
【０００９】（式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜
５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、Ｒ２は水素原子
または炭素数１〜５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基
を表す。）で表される化合物（Ａ）、ノニオン性界面活
性剤（Ｂ）を有効成分として含有してなる洗浄剤組成物
に関する。
５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、Ｒ２は水素原子
または炭素数１〜５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基
を表す。）で表される化合物（Ａ）、ノニオン性界面活
性剤（Ｂ）を有効成分として含有してなる洗浄剤組成物
に関する。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明で使用する式[１]で表され
る化合物（Ａ）としては、たとえば、２−イミダゾリド
ン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３
−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジプロピ
ル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジブチル−２−イ
ミダゾリジノン、１，３−ジペンチル−２−イミダゾリ
ジノン、１，３−ジイソプロピル−２−イミダゾリジノ
ン、１−イソプロピル−２−イミダゾリジノン、１−イ
ソブチル−２−イミダゾリジノン、１−イソペンチル−
２−イミダゾリジノン、１−メチル−２−イミダゾリジ
ノン、１−エチル−２−イミダゾリジノン、１−プロピ
ル−２−イミダゾリジノン、１−ブチル−２−イミダゾ
リジノン、１−ペンチル−２−イミダゾリジノン、１−
メチル−３−エチル−２−イミダゾリジノン、１−メチ
ル−３−プロピル−２−イミダゾリジノン、１−メチル
−３−ブチル−２−イミダゾリジノン、１−メチル−３
−ペンチル−２−イミダゾリジノン１−エチル−３−プ
ロピル−２−イミダゾリジノン、１−エチル−３−ブチ
ル−２−イミダゾリジノン等を例示できる。これら化合
物は１種を単独でまたは２種以上を適宜に組合せて使用
できる。これら化合物のうち洗浄力が良好であるという
理由から１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、
１，３−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ
プロピル−２−イミダゾリジノンが好ましい。
る化合物（Ａ）としては、たとえば、２−イミダゾリド
ン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３
−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジプロピ
ル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジブチル−２−イ
ミダゾリジノン、１，３−ジペンチル−２−イミダゾリ
ジノン、１，３−ジイソプロピル−２−イミダゾリジノ
ン、１−イソプロピル−２−イミダゾリジノン、１−イ
ソブチル−２−イミダゾリジノン、１−イソペンチル−
２−イミダゾリジノン、１−メチル−２−イミダゾリジ
ノン、１−エチル−２−イミダゾリジノン、１−プロピ
ル−２−イミダゾリジノン、１−ブチル−２−イミダゾ
リジノン、１−ペンチル−２−イミダゾリジノン、１−
メチル−３−エチル−２−イミダゾリジノン、１−メチ
ル−３−プロピル−２−イミダゾリジノン、１−メチル
−３−ブチル−２−イミダゾリジノン、１−メチル−３
−ペンチル−２−イミダゾリジノン１−エチル−３−プ
ロピル−２−イミダゾリジノン、１−エチル−３−ブチ
ル−２−イミダゾリジノン等を例示できる。これら化合
物は１種を単独でまたは２種以上を適宜に組合せて使用
できる。これら化合物のうち洗浄力が良好であるという
理由から１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、
１，３−ジエチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジ
プロピル−２−イミダゾリジノンが好ましい。
【００１１】ノニオン性界面活性剤（Ｂ）としては、そ
のイオン性がノニオン性である限り特に制限はなく、各
種公知のものを採用しうる。その具体例としては、ポリ
オキシアルキレンアルキル（アルキル基の炭素数６以
上）エーテル、ポリオキシアルキレンフェノールエーテ
ル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル
などのポリアルキレングリコールエーテル型ノニオン性
界面活性剤；ポリアルキレングリコールモノエステル、
ポリアルキレングリコールジエステルなどのポリアルキ
レングリコールエステル型ノニオン性界面活性剤；脂肪
酸アミドのアルキレンオキサイド付加物；ソルビタン脂
肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルなどの多価アルコ
ール型ノニオン性界面活性剤；脂肪酸アルカノールアミ
ドなどをあげることができる。これらノニオン性界面活
性剤（Ｂ）は１種を単独でまたは２種以上を適宜に組合
せて使用できる。なお、前記アルキレンとは、エチレ
ン、プロピレンまたはブチレンをいい、ポリオキシアル
キレンとはポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンまたはこれらが共重合したもの
をいう。以下、本発明においてアルキレンとは同意であ
る。
のイオン性がノニオン性である限り特に制限はなく、各
種公知のものを採用しうる。その具体例としては、ポリ
オキシアルキレンアルキル（アルキル基の炭素数６以
上）エーテル、ポリオキシアルキレンフェノールエーテ
ル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル
などのポリアルキレングリコールエーテル型ノニオン性
界面活性剤；ポリアルキレングリコールモノエステル、
ポリアルキレングリコールジエステルなどのポリアルキ
レングリコールエステル型ノニオン性界面活性剤；脂肪
酸アミドのアルキレンオキサイド付加物；ソルビタン脂
肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルなどの多価アルコ
ール型ノニオン性界面活性剤；脂肪酸アルカノールアミ
ドなどをあげることができる。これらノニオン性界面活
性剤（Ｂ）は１種を単独でまたは２種以上を適宜に組合
せて使用できる。なお、前記アルキレンとは、エチレ
ン、プロピレンまたはブチレンをいい、ポリオキシアル
キレンとはポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンまたはこれらが共重合したもの
をいう。以下、本発明においてアルキレンとは同意であ
る。
【００１２】これらノニオン性界面活性剤（Ｂ）のう
ち、洗浄力の点からポリエチレングリコールエーテル型
ノニオン性界面活性剤が好ましい。より好ましいものと
しては下記、式[２]：
ち、洗浄力の点からポリエチレングリコールエーテル型
ノニオン性界面活性剤が好ましい。より好ましいものと
しては下記、式[２]：
【００１３】
【化８】
【００１４】（式中、Ｒ３ は炭素数６〜２０の直鎖も
しくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数
７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換され
たフェニル基を、ｍは２〜２０の整数を示す。）で表さ
れるポリオキシエチレンアルキルエーテルである。特に
Ｒ３ は炭素数１０〜１６の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基であり、ｍは３〜１６の整数のポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルが好ましい。
しくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数
７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換され
たフェニル基を、ｍは２〜２０の整数を示す。）で表さ
れるポリオキシエチレンアルキルエーテルである。特に
Ｒ３ は炭素数１０〜１６の直鎖もしくは分岐鎖のアル
キル基であり、ｍは３〜１６の整数のポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルが好ましい。
【００１５】本発明では前記式[１]で表される化合物
（Ａ）、ノニオン性界面活性剤（Ｂ）に加えポリオキシ
アルキレンリン酸エステル系界面活性剤（Ｃ）、および
ポリオキシアルキレンアミン系界面活性剤（Ｄ）を含有
することができる。特にポリオキシアルキレンリン酸エ
ステル系界面活性剤（Ｃ）は洗浄剤に含有されると、水
で希釈して使用する際に、優れた洗浄性向上効果があ
る、しかし洗浄液が酸性になり、洗浄物によっては変色
等の問題を引き起こす恐れがあるため、必要に応じてポ
リオキシアルキレンアミン系界面活性剤（Ｄ）をｐＨ調
整剤として添加するのが好ましい。ポリオキシアルキレ
ンリン酸エステル系界面活性剤（Ｃ）としては各種公知
のものを制限なく使用できるが、洗浄性、環境特性、引
火性の点から、下記式［３］：
（Ａ）、ノニオン性界面活性剤（Ｂ）に加えポリオキシ
アルキレンリン酸エステル系界面活性剤（Ｃ）、および
ポリオキシアルキレンアミン系界面活性剤（Ｄ）を含有
することができる。特にポリオキシアルキレンリン酸エ
ステル系界面活性剤（Ｃ）は洗浄剤に含有されると、水
で希釈して使用する際に、優れた洗浄性向上効果があ
る、しかし洗浄液が酸性になり、洗浄物によっては変色
等の問題を引き起こす恐れがあるため、必要に応じてポ
リオキシアルキレンアミン系界面活性剤（Ｄ）をｐＨ調
整剤として添加するのが好ましい。ポリオキシアルキレ
ンリン酸エステル系界面活性剤（Ｃ）としては各種公知
のものを制限なく使用できるが、洗浄性、環境特性、引
火性の点から、下記式［３］：
【００１６】
【化９】
【００１７】（式中、Ｒ４ は炭素数５〜２０の直鎖も
しくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数
７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換され
たフェニル基を、ｎは０〜２０の整数、Ｘは水酸基また
は式［４］：
しくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数
７〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換され
たフェニル基を、ｎは０〜２０の整数、Ｘは水酸基また
は式［４］：
【００１８】
【化１０】
【００１９】（式中、Ｒ５は炭素数５〜２０の直鎖もし
くは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数７
〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換された
フェニル基を、ｎは前記と同じを示す。））で表される
ポリオキシエチレンリン酸エステル系界面活性剤または
その塩が好ましい。前記塩としてはナトリウム塩、カリ
ウム塩などの金属塩、アンモニウム塩、アルカノールア
ミン塩などを例示できる。特に、Ｒ４ は炭素数７〜１
６の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、ｎは３〜１６の
整数で表されるポリオキシエチレンリン酸エステル系界
面活性剤が好ましい。これらポリオキシアルキレンリン
酸エステル系界面活性剤（Ｃ）は１種を単独でまたは２
種以上を適宜に組合せて使用できる。
くは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数７
〜１２の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換された
フェニル基を、ｎは前記と同じを示す。））で表される
ポリオキシエチレンリン酸エステル系界面活性剤または
その塩が好ましい。前記塩としてはナトリウム塩、カリ
ウム塩などの金属塩、アンモニウム塩、アルカノールア
ミン塩などを例示できる。特に、Ｒ４ は炭素数７〜１
６の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、ｎは３〜１６の
整数で表されるポリオキシエチレンリン酸エステル系界
面活性剤が好ましい。これらポリオキシアルキレンリン
酸エステル系界面活性剤（Ｃ）は１種を単独でまたは２
種以上を適宜に組合せて使用できる。
【００２０】なお、前記式[３]で表されるポリオキシエ
チレンリン酸エステル系界面活性剤またはその塩の市販
品としては、例えば第一工業製薬（株）製の「プライサ
ーフ」シリーズ、日本乳化剤（株）製の「Ｎ−１０００
ＦＣＰ」、「ＲＡ−５７４」、「ＲＡ−５７９」などを
例示できる。
チレンリン酸エステル系界面活性剤またはその塩の市販
品としては、例えば第一工業製薬（株）製の「プライサ
ーフ」シリーズ、日本乳化剤（株）製の「Ｎ−１０００
ＦＣＰ」、「ＲＡ−５７４」、「ＲＡ−５７９」などを
例示できる。
【００２１】ポリオキシアルキレンアミン系界面活性剤
（Ｄ）としては、各種公知のものを制限なく使用できる
が、洗浄性、環境特性、引火性の点から、下記式
［５］：
（Ｄ）としては、各種公知のものを制限なく使用できる
が、洗浄性、環境特性、引火性の点から、下記式
［５］：
【００２２】
【化１１】
【００２３】（式中、Ｒ６は水素原子または直鎖もしく
は分岐鎖の炭素数１〜２２のアルキル基またはアルケニ
ル基を示し、Ｙは水素原子または直鎖もしくは分岐鎖の
炭素数１〜４のアルキル基またはアシル基を示し、ｐは
１〜１５、ｑは０〜１５の整数を示す。）で表されるポ
リオキシエチレンアミン系界面活性剤が好ましい。これ
らのなかでもＲ６ は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分
岐鎖のアルキル基またはアルケニル基、Ｙは水素原子、
ｐ＋ｑが２〜１５の整数のポリオキシエチレンアミン系
界面活性剤が好ましい。これらポリオキシアルキレンア
ミン系界面活性剤（Ｄ）は１種を単独でまたは２種以上
を適宜に組合せて使用できる。
は分岐鎖の炭素数１〜２２のアルキル基またはアルケニ
ル基を示し、Ｙは水素原子または直鎖もしくは分岐鎖の
炭素数１〜４のアルキル基またはアシル基を示し、ｐは
１〜１５、ｑは０〜１５の整数を示す。）で表されるポ
リオキシエチレンアミン系界面活性剤が好ましい。これ
らのなかでもＲ６ は炭素数８〜１８の直鎖もしくは分
岐鎖のアルキル基またはアルケニル基、Ｙは水素原子、
ｐ＋ｑが２〜１５の整数のポリオキシエチレンアミン系
界面活性剤が好ましい。これらポリオキシアルキレンア
ミン系界面活性剤（Ｄ）は１種を単独でまたは２種以上
を適宜に組合せて使用できる。
【００２４】なお、前記式[５]で表されるポリオキシエ
チレンアルキルアミン系界面活性剤の市販品としては、
例えば日本乳化剤（株）製の「Ｎｅｗｃｏｌ ４０
５」、「Ｎｅｗｃｏｌ ４１０」、竹本油脂（株）製の
「パイオニンＤ−３１０４」、「パイオニンＤ−３１１
０」、ライオン（株）製の「エソミンＴ／１５」、「エ
ソミンＴ／２５」などを例示できる。
チレンアルキルアミン系界面活性剤の市販品としては、
例えば日本乳化剤（株）製の「Ｎｅｗｃｏｌ ４０
５」、「Ｎｅｗｃｏｌ ４１０」、竹本油脂（株）製の
「パイオニンＤ−３１０４」、「パイオニンＤ−３１１
０」、ライオン（株）製の「エソミンＴ／１５」、「エ
ソミンＴ／２５」などを例示できる。
【００２５】本発明では式[６]で表される化合物（Ｅ）
を含有することも出来る、化合物（Ｅ）の具体例として
は、ベンジルアルコール、１−フェニルエタノール、１
−フェニルプロパノール、１−フェニルブタノール、１
−フェニルペンタノール、１−フェニルヘキサノール、
１−フェニル−３−メチルブタノール、１−フェニル−
３−メチルペンタノール、１−フェニル−４−メチルペ
ンタノール、１−フェニル−２−メチルペンタノール、
１−フェニル−２，３−ジメチルペンタノール、１−フ
ェニル−２，２−ジメチルペンタノール、１−フェニル
−２−メチルプロパノール、１−フェニル−２−メチル
ブタノール、１−フェニル−３，３−ジメチルブタノー
ル、１−フェニル−２，２−ジメチルプロパノール等が
挙げられる。これら化合物は1種を単独でまたは２種以
上を適宜に組み合わせて使用することもできる。これら
式[６]で表される化合物のうちベンジルアルコールが、
泡切れ性が良好である等の理由で好ましい。
を含有することも出来る、化合物（Ｅ）の具体例として
は、ベンジルアルコール、１−フェニルエタノール、１
−フェニルプロパノール、１−フェニルブタノール、１
−フェニルペンタノール、１−フェニルヘキサノール、
１−フェニル−３−メチルブタノール、１−フェニル−
３−メチルペンタノール、１−フェニル−４−メチルペ
ンタノール、１−フェニル−２−メチルペンタノール、
１−フェニル−２，３−ジメチルペンタノール、１−フ
ェニル−２，２−ジメチルペンタノール、１−フェニル
−２−メチルプロパノール、１−フェニル−２−メチル
ブタノール、１−フェニル−３，３−ジメチルブタノー
ル、１−フェニル−２，２−ジメチルプロパノール等が
挙げられる。これら化合物は1種を単独でまたは２種以
上を適宜に組み合わせて使用することもできる。これら
式[６]で表される化合物のうちベンジルアルコールが、
泡切れ性が良好である等の理由で好ましい。
【００２６】前記化合物（Ａ）、ノニオン性界面活性剤
（Ｂ）の使用割合は、特に制限はされないが、通常は順
に０．１〜９７重量％程度：０．１〜９７重量％程度で
ある。より好ましくは前記化合物（Ａ）とノニオン性界
面活性剤（Ｂ）を０．５〜８０重量％程度：０．５〜８
０重量％程度とすることが好ましい。
（Ｂ）の使用割合は、特に制限はされないが、通常は順
に０．１〜９７重量％程度：０．１〜９７重量％程度で
ある。より好ましくは前記化合物（Ａ）とノニオン性界
面活性剤（Ｂ）を０．５〜８０重量％程度：０．５〜８
０重量％程度とすることが好ましい。
【００２７】水希釈時の洗浄性を向上させる等の理由か
ら、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面活性剤
（Ｃ）およびポリオキシアルキレンアルキルアミン系界
面活性剤（Ｄ）をそれぞれ０．０１〜８５重量％程度、
好ましくはそれぞれ０．１〜６０重量％程度含有させ、
前記化合物（Ａ）、ノニオン性界面活性剤（Ｂ）、ポリ
オキシアルキレンリン酸エステル系界面活性剤（Ｃ）お
よびポリオキシアルキレンアルキルアミン系界面活性剤
（Ｄ）からなる洗浄剤とすることも可能である。
ら、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面活性剤
（Ｃ）およびポリオキシアルキレンアルキルアミン系界
面活性剤（Ｄ）をそれぞれ０．０１〜８５重量％程度、
好ましくはそれぞれ０．１〜６０重量％程度含有させ、
前記化合物（Ａ）、ノニオン性界面活性剤（Ｂ）、ポリ
オキシアルキレンリン酸エステル系界面活性剤（Ｃ）お
よびポリオキシアルキレンアルキルアミン系界面活性剤
（Ｄ）からなる洗浄剤とすることも可能である。
【００２８】また、泡切れ性を向上させる等の理由か
ら、式[６]で表される化合物（Ｅ）を８５重量％以下の
範囲（好ましくは１０重量％以上８０重量％以下の範
囲）で含有させ、前記化合物（Ａ）、ノニオン性界面活
性剤（Ｂ）、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界
面活性剤（Ｃ）、ポリオキシアルキレンアルキルアミン
系界面活性剤（Ｄ）および化合物（Ｅ）からなる洗浄剤
とすることも可能である。
ら、式[６]で表される化合物（Ｅ）を８５重量％以下の
範囲（好ましくは１０重量％以上８０重量％以下の範
囲）で含有させ、前記化合物（Ａ）、ノニオン性界面活
性剤（Ｂ）、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界
面活性剤（Ｃ）、ポリオキシアルキレンアルキルアミン
系界面活性剤（Ｄ）および化合物（Ｅ）からなる洗浄剤
とすることも可能である。
【００２９】化合物（Ａ）は、汚れ成分の溶解という、
洗浄剤としての主目的を果たす成分であるが、洗浄物の
種類（汚染の種類）や、洗浄方式により必要量の幅があ
るが、少なくとも０．１重量％を必要とする。特にその
使用割合が６５重量％以上の場合には洗浄物の種類、洗
浄方式を問わず洗浄性がよい。また、ノニオン性界面活
性剤（Ｂ）は、すすぎの際、汚れ成分を水中で保持する
はたらきがあるが、洗浄物の種類（汚染の種類）や、洗
浄方式により必要量の幅があるため少なくとも０．１重
量％を必要とする。特にその使用割合が４重量％以上の
場合には洗浄物の種類、洗浄方式を問わず洗浄性がよ
い。また、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面
活性剤（Ｃ）は、特に洗浄剤を水で希釈して使用する際
に、優れた洗浄性向上効果があるため少なくとも０．０
１重量％を必要とするが、８５重量％を越えると、余剰
の添加となり効果の向上はみられないばかりか、むしろ
被洗浄物に対する腐食等の影響が出ることがあり好まし
くない。また、ポリオキシアルキレンアミン系界面活性
剤（Ｄ）は、特に洗浄剤を水で希釈して使用する際に、
優れた洗浄性向上効果があるため少なくとも０．０１重
量％を必要とするが、８５重量％を越えると、余剰の添
加となり効果の向上はみられないばかりか、むしろ被洗
浄物に対する腐食等の影響が出ることがあり好ましくな
い。
洗浄剤としての主目的を果たす成分であるが、洗浄物の
種類（汚染の種類）や、洗浄方式により必要量の幅があ
るが、少なくとも０．１重量％を必要とする。特にその
使用割合が６５重量％以上の場合には洗浄物の種類、洗
浄方式を問わず洗浄性がよい。また、ノニオン性界面活
性剤（Ｂ）は、すすぎの際、汚れ成分を水中で保持する
はたらきがあるが、洗浄物の種類（汚染の種類）や、洗
浄方式により必要量の幅があるため少なくとも０．１重
量％を必要とする。特にその使用割合が４重量％以上の
場合には洗浄物の種類、洗浄方式を問わず洗浄性がよ
い。また、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面
活性剤（Ｃ）は、特に洗浄剤を水で希釈して使用する際
に、優れた洗浄性向上効果があるため少なくとも０．０
１重量％を必要とするが、８５重量％を越えると、余剰
の添加となり効果の向上はみられないばかりか、むしろ
被洗浄物に対する腐食等の影響が出ることがあり好まし
くない。また、ポリオキシアルキレンアミン系界面活性
剤（Ｄ）は、特に洗浄剤を水で希釈して使用する際に、
優れた洗浄性向上効果があるため少なくとも０．０１重
量％を必要とするが、８５重量％を越えると、余剰の添
加となり効果の向上はみられないばかりか、むしろ被洗
浄物に対する腐食等の影響が出ることがあり好ましくな
い。
【００３０】また、前記洗浄剤組成物は、そのままで使
用することもできるが、洗浄物の種類（汚染の種類）
や、洗浄方式により水で溶解して水溶液として使用する
こともできる。この場合、洗浄剤の引火危険性の低減、
排水処理負荷の低減等の効果が得られる。洗浄性の点か
らすれば、前記洗浄剤組成物の濃度が７０〜９８重量％
程度になるようにすることで、チキソ剤や増粘剤が多く
含まれたハンダフラックスに対しても高度な洗浄性が得
られる。また金属部品、セラミック部品などの加工油類
の脱脂洗浄や、パーティクル洗浄などには前記洗浄剤組
成物の有効成分が１重量％程度でも効果がある。
用することもできるが、洗浄物の種類（汚染の種類）
や、洗浄方式により水で溶解して水溶液として使用する
こともできる。この場合、洗浄剤の引火危険性の低減、
排水処理負荷の低減等の効果が得られる。洗浄性の点か
らすれば、前記洗浄剤組成物の濃度が７０〜９８重量％
程度になるようにすることで、チキソ剤や増粘剤が多く
含まれたハンダフラックスに対しても高度な洗浄性が得
られる。また金属部品、セラミック部品などの加工油類
の脱脂洗浄や、パーティクル洗浄などには前記洗浄剤組
成物の有効成分が１重量％程度でも効果がある。
【００３１】さらには本発明の洗浄剤組成物は、該洗浄
剤組成物を１重量％の水溶液に調整したときのｐＨが６
〜８の中性付近となるように、各成分の使用割合を調整
するのが好ましい。本発明では、このように洗浄剤組成
物のｐＨを６〜８の中性付近とすることにより、すすぎ
水処理工程（プレリンス槽）においてすすぎ水を繰り返
し使用しても、すすぎ水中のイオン性界面活性剤の濃度
向上に伴う、ｐＨの変動を抑制できるため、洗浄物の腐
食や変色を防止することができる。
剤組成物を１重量％の水溶液に調整したときのｐＨが６
〜８の中性付近となるように、各成分の使用割合を調整
するのが好ましい。本発明では、このように洗浄剤組成
物のｐＨを６〜８の中性付近とすることにより、すすぎ
水処理工程（プレリンス槽）においてすすぎ水を繰り返
し使用しても、すすぎ水中のイオン性界面活性剤の濃度
向上に伴う、ｐＨの変動を抑制できるため、洗浄物の腐
食や変色を防止することができる。
【００３２】本発明の洗浄剤組成物のｐＨは、主にアニ
オン性のポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面活
性剤（Ｃ）とカチオン性のポリオキシアルキレンアミン
系界面活性剤（Ｄ）の割合によって決まるため、ｐＨの
調整はこれらの使用割合を適宜に調整して行う。なお、
洗浄剤組成物のｐＨは使用する界面活性剤の種類により
それぞれ異なるため一概にはいえないが、一般的に重量
比で、前者（Ｃ）１〜１０に対し、後者（Ｄ）１０〜１
となるようにする。好ましくは、前者１〜５に対し、後
者が５〜１である。
オン性のポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面活
性剤（Ｃ）とカチオン性のポリオキシアルキレンアミン
系界面活性剤（Ｄ）の割合によって決まるため、ｐＨの
調整はこれらの使用割合を適宜に調整して行う。なお、
洗浄剤組成物のｐＨは使用する界面活性剤の種類により
それぞれ異なるため一概にはいえないが、一般的に重量
比で、前者（Ｃ）１〜１０に対し、後者（Ｄ）１０〜１
となるようにする。好ましくは、前者１〜５に対し、後
者が５〜１である。
【００３３】しかしながら、洗浄物によっては、あえて
洗浄剤の１重量％水溶液のｐＨを酸性またはアルカリ性
に調整することで、エッチング効果など様々な効果が期
待できることもあり、本発明の洗浄剤組成物では、１重
量％水溶液のｐＨを中性領域に限定するものではない。
洗浄剤の１重量％水溶液のｐＨを酸性またはアルカリ性
に調整することで、エッチング効果など様々な効果が期
待できることもあり、本発明の洗浄剤組成物では、１重
量％水溶液のｐＨを中性領域に限定するものではない。
【００３４】さらに本発明の洗浄剤組成物は、必要によ
り消泡剤、酸化防止剤などの添加剤を配合することがで
き、該添加剤の使用量は洗浄剤に対して０．１％程度以
下とされる。
り消泡剤、酸化防止剤などの添加剤を配合することがで
き、該添加剤の使用量は洗浄剤に対して０．１％程度以
下とされる。
【００３５】本発明の洗浄剤組成物は、各種金属加工部
品、セラミック部品、電子部品等の洗浄において良好な
洗浄性を示すが、特にチキソ剤や増粘剤が多量に使用さ
れているフリップチップ実装された基板、例えばＰＧ
Ａ、ＢＧＡ、ＣＳＰ、ＭＣＭ、特に、ソルダーペースト
の印刷法により製造したウエハレベルＣＳＰ、インアタ
ーポーザなどの洗浄に使用した場合に、既存のグリコー
ルエーテル系洗浄剤を使用した場合に比較して非常に良
好な洗浄性を示す。
品、セラミック部品、電子部品等の洗浄において良好な
洗浄性を示すが、特にチキソ剤や増粘剤が多量に使用さ
れているフリップチップ実装された基板、例えばＰＧ
Ａ、ＢＧＡ、ＣＳＰ、ＭＣＭ、特に、ソルダーペースト
の印刷法により製造したウエハレベルＣＳＰ、インアタ
ーポーザなどの洗浄に使用した場合に、既存のグリコー
ルエーテル系洗浄剤を使用した場合に比較して非常に良
好な洗浄性を示す。
【００３６】本発明の洗浄剤組成物を用いて、被洗浄物
を洗浄するにあたっては、各種の使用方法を採用できる
が、以下に、一般的な使用方法として、電子部品上のロ
ジンフラックスに接触させる場合について説明する。す
なわち、洗浄剤組成物に電子部品を直接浸漬して洗浄す
る方法、該水溶液を、スプレー装置を使用してフラッシ
ュする方法、あるいは機械的手段によりブラッシングす
る方法などを適宜選択して採用することができる。フリ
ップチップ実装基板を洗浄する場合、５０μｍ以下の隙
間に洗浄剤を通液させなければならず、ダイレクトパス
洗浄装置（荒川化学工業株式会社製、商品名、特許２６
２１８００号）を用いて洗浄するのが最適である。
を洗浄するにあたっては、各種の使用方法を採用できる
が、以下に、一般的な使用方法として、電子部品上のロ
ジンフラックスに接触させる場合について説明する。す
なわち、洗浄剤組成物に電子部品を直接浸漬して洗浄す
る方法、該水溶液を、スプレー装置を使用してフラッシ
ュする方法、あるいは機械的手段によりブラッシングす
る方法などを適宜選択して採用することができる。フリ
ップチップ実装基板を洗浄する場合、５０μｍ以下の隙
間に洗浄剤を通液させなければならず、ダイレクトパス
洗浄装置（荒川化学工業株式会社製、商品名、特許２６
２１８００号）を用いて洗浄するのが最適である。
【００３７】また、洗浄剤組成物を適用する際の条件
は、洗浄剤組成物中の洗浄剤成分の濃度、該成分の使用
割合、除去すべきフラックスの種類等により適宜選択す
ればよく、一般に除去すべきフラックスを洗浄除去する
のに有効な温度と時間で洗浄剤をフラックスに接触させ
る。洗浄剤組成物の使用時の温度は２０℃程度から８０
℃程度である。これは使用温度が２０℃よりも低い場合
にはフラックスの溶解性が悪くなるため、また、８０℃
よりも高くなる場合には水分等の蒸発のために洗浄が不
可能になるためである。これらのことから通常は５０〜
７０℃程度とするのが好ましい。電子部品上のフラック
スを、例えば６０℃程度の温度において浸漬法により除
去する場合には、一般に本発明の洗浄剤組成物にハンダ
フラックスを有する電子部品を約１〜２０分程度浸漬す
れば、良好に除去することができる。
は、洗浄剤組成物中の洗浄剤成分の濃度、該成分の使用
割合、除去すべきフラックスの種類等により適宜選択す
ればよく、一般に除去すべきフラックスを洗浄除去する
のに有効な温度と時間で洗浄剤をフラックスに接触させ
る。洗浄剤組成物の使用時の温度は２０℃程度から８０
℃程度である。これは使用温度が２０℃よりも低い場合
にはフラックスの溶解性が悪くなるため、また、８０℃
よりも高くなる場合には水分等の蒸発のために洗浄が不
可能になるためである。これらのことから通常は５０〜
７０℃程度とするのが好ましい。電子部品上のフラック
スを、例えば６０℃程度の温度において浸漬法により除
去する場合には、一般に本発明の洗浄剤組成物にハンダ
フラックスを有する電子部品を約１〜２０分程度浸漬す
れば、良好に除去することができる。
【００３８】こうしてフラックスを除去された電子部品
は仕上げ処理として、洗浄剤組成物による洗浄のあと
に、プレリンス処理、仕上げリンス処理の水すすぎ処理
を行い残留している可能性のある洗浄剤組成物を完全に
除去する。このような水洗処理により、基板の清浄度
は、非常に高いものとなる。
は仕上げ処理として、洗浄剤組成物による洗浄のあと
に、プレリンス処理、仕上げリンス処理の水すすぎ処理
を行い残留している可能性のある洗浄剤組成物を完全に
除去する。このような水洗処理により、基板の清浄度
は、非常に高いものとなる。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果が奏され
る。 （１）本発明の洗浄剤組成物は、高品位な洗浄にも十分
に対応できる優れた洗浄性を有する。 （２）本発明の洗浄剤組成物は、チキソ剤、増粘剤が多
量に使用されているフリップチップ実装基板用フラック
スの洗浄にも十分に対応できる優れた洗浄性を有する。 （３）本発明の洗浄剤組成物は、有効成分が１％程度の
希薄溶液でも優れた脱脂洗浄性を有する。 （４）本発明の洗浄剤組成物は非ハロゲン系の洗浄剤で
あるため、フロン系洗浄剤に見られるようなオゾン層破
壊の問題はない。また、環境破壊、引火性、すすぎ性、
臭気などの点でも十分に満足しうる。
る。 （１）本発明の洗浄剤組成物は、高品位な洗浄にも十分
に対応できる優れた洗浄性を有する。 （２）本発明の洗浄剤組成物は、チキソ剤、増粘剤が多
量に使用されているフリップチップ実装基板用フラック
スの洗浄にも十分に対応できる優れた洗浄性を有する。 （３）本発明の洗浄剤組成物は、有効成分が１％程度の
希薄溶液でも優れた脱脂洗浄性を有する。 （４）本発明の洗浄剤組成物は非ハロゲン系の洗浄剤で
あるため、フロン系洗浄剤に見られるようなオゾン層破
壊の問題はない。また、環境破壊、引火性、すすぎ性、
臭気などの点でも十分に満足しうる。
【００４０】
【実施例】以下、実施例を挙げ本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。なお、各例の部および％は重量基準である。
するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。なお、各例の部および％は重量基準である。
【００４１】実施例１ １，３−ジメチルイミダゾリジノン８２部、ポリエチレ
ングリコールアルキルエーテル型ノニオン界面活性剤
（第一工業製薬（株）製、商品名「ノイゲンＥＴ−１３
５」、式[２]においてＲ３は炭素数１２〜１４の分岐鎖
アルキル基、ｍは９である）１０部、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルのリン酸モノエステル（式[３]にお
いてＲ４は炭素数１２の直鎖アルキル基、ｎは１６、Ｘ
は水酸基である。）２部、ポリオキシエチレンアルキル
アミン（式[５]においてＲ６は炭素数１２の直鎖アルキ
ル基、ｐ＋ｑは１０、Ｙは水素原子である）３部および
純水３部を混合して洗浄剤組成物を調製した。
ングリコールアルキルエーテル型ノニオン界面活性剤
（第一工業製薬（株）製、商品名「ノイゲンＥＴ−１３
５」、式[２]においてＲ３は炭素数１２〜１４の分岐鎖
アルキル基、ｍは９である）１０部、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテルのリン酸モノエステル（式[３]にお
いてＲ４は炭素数１２の直鎖アルキル基、ｎは１６、Ｘ
は水酸基である。）２部、ポリオキシエチレンアルキル
アミン（式[５]においてＲ６は炭素数１２の直鎖アルキ
ル基、ｐ＋ｑは１０、Ｙは水素原子である）３部および
純水３部を混合して洗浄剤組成物を調製した。
【００４２】実施例２〜９および比較例は、実施例１に
おいて洗浄剤組成物を表１に示すように変化させた他は
実施例１と同様に調製した。
おいて洗浄剤組成物を表１に示すように変化させた他は
実施例１と同様に調製した。
【００４３】
【表１】 ※ 比較例において、Ａ成分はジエチレングリコールモ
ノブチルエーテルを使用。Ｅ成分はベンジルアルコール
使用。
ノブチルエーテルを使用。Ｅ成分はベンジルアルコール
使用。
【００４４】表１中、成分Ａは式[１]で表される化合物
であり、ａ１は１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ａ
２は１，３−ジプロピルイミダゾリジノンを示す。成分
Ｂはノニオン性界面活性剤であり、ｂ１はポリエチレン
グリコールアルキルエーテル型ノニオン性界面活性剤
（第一工業製薬（株）製、商品名「ノイゲンＥＴ−１３
５」、式[２]においてＲ３は炭素数１２〜１４の分岐鎖
アルキル基、ｍは９である）、ｂ２はポリエチレングリ
コールアラルキルエーテル型ノニオン性界面活性剤（第
一工業製薬（株）製、商品名「ノイゲンＥＡ−１２
０」、式[２]においてＲ３はノニルフェニル基であり、
ｍは５である）、ｂ３はポリオキシエチレンソルビタン
モノラウレート（第一工業製薬（株）製、商品名「ソル
ゲンＴＷ２０」、エチレンオキシド平均付加モル数１
２）を示す。成分Ｃはポリオキシアルキレンリン酸エス
テル系界面活性剤であり、ｃ１はポリオキシエチレンア
ルキルエーテルのリン酸モノエステル（式[３]において
Ｒ４は炭素数１２の直鎖アルキル基、ｎは１６、Ｘは水
酸基である）、ｃ２はポリオキシエチレンアラルキルエ
ーテルのリン酸ジエステル（式[３]においてＲ４はノニ
ルフェニル基、ｎは１０、Ｘは式[５]においてＲ５はノ
ニルフェニル基、ｎは１０である）を示す。成分Ｄはポ
リオキシアルキレンアミン系界面活性剤であり、ｄ１は
ポリオキシエチレンアルキルアミン（式[５]においてＲ
６は炭素数１２の直鎖アルキル基、ｐ＋ｑは１０、Ｙは
水素原子である）、ｄ２はポリオキシエチレンアルキル
アミン（式[５]においてＲ６ は炭素数１８の直鎖アル
キル基、ｐ＋ｑは７、Ｙは水素原子である）、ｄ３はポ
リオキシエチレン牛脂アミン（式[５]においてＲ６ は
オレイン酸、リノール酸、ミスチリン酸、パルミチン酸
およびステアリン酸などの混合物からなる牛脂の残基、
ｐ＋ｑは１５、Ｙは水素原子である）を示す。
であり、ａ１は１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ａ
２は１，３−ジプロピルイミダゾリジノンを示す。成分
Ｂはノニオン性界面活性剤であり、ｂ１はポリエチレン
グリコールアルキルエーテル型ノニオン性界面活性剤
（第一工業製薬（株）製、商品名「ノイゲンＥＴ−１３
５」、式[２]においてＲ３は炭素数１２〜１４の分岐鎖
アルキル基、ｍは９である）、ｂ２はポリエチレングリ
コールアラルキルエーテル型ノニオン性界面活性剤（第
一工業製薬（株）製、商品名「ノイゲンＥＡ−１２
０」、式[２]においてＲ３はノニルフェニル基であり、
ｍは５である）、ｂ３はポリオキシエチレンソルビタン
モノラウレート（第一工業製薬（株）製、商品名「ソル
ゲンＴＷ２０」、エチレンオキシド平均付加モル数１
２）を示す。成分Ｃはポリオキシアルキレンリン酸エス
テル系界面活性剤であり、ｃ１はポリオキシエチレンア
ルキルエーテルのリン酸モノエステル（式[３]において
Ｒ４は炭素数１２の直鎖アルキル基、ｎは１６、Ｘは水
酸基である）、ｃ２はポリオキシエチレンアラルキルエ
ーテルのリン酸ジエステル（式[３]においてＲ４はノニ
ルフェニル基、ｎは１０、Ｘは式[５]においてＲ５はノ
ニルフェニル基、ｎは１０である）を示す。成分Ｄはポ
リオキシアルキレンアミン系界面活性剤であり、ｄ１は
ポリオキシエチレンアルキルアミン（式[５]においてＲ
６は炭素数１２の直鎖アルキル基、ｐ＋ｑは１０、Ｙは
水素原子である）、ｄ２はポリオキシエチレンアルキル
アミン（式[５]においてＲ６ は炭素数１８の直鎖アル
キル基、ｐ＋ｑは７、Ｙは水素原子である）、ｄ３はポ
リオキシエチレン牛脂アミン（式[５]においてＲ６ は
オレイン酸、リノール酸、ミスチリン酸、パルミチン酸
およびステアリン酸などの混合物からなる牛脂の残基、
ｐ＋ｑは１５、Ｙは水素原子である）を示す。
【００４５】実施例１〜９および比較例１で得られた各
種の洗浄剤組成物を以下の試験に供した。試験結果を表
３に示す。
種の洗浄剤組成物を以下の試験に供した。試験結果を表
３に示す。
【００４６】（１）洗浄性 表２に記載の方法により各種供試基板を調製した。この
基板を７０℃の洗浄剤組成物に浸漬し、フラックスの除
去の度合いを以下の判定基準に基づき目視判定した。な
お、本試験に用いた使用フラックスについて表２に併せ
て示す。また、各実施例および比較例に用いた実装方法
およびフラックスの種類に関しては表２の番号によって
表３に示す。 ○：良好に除去できる。△：若干残存する。×：かなり
残存する。
基板を７０℃の洗浄剤組成物に浸漬し、フラックスの除
去の度合いを以下の判定基準に基づき目視判定した。な
お、本試験に用いた使用フラックスについて表２に併せ
て示す。また、各実施例および比較例に用いた実装方法
およびフラックスの種類に関しては表２の番号によって
表３に示す。 ○：良好に除去できる。△：若干残存する。×：かなり
残存する。
【００４７】
【表２】フリップチップ実装方法 九州松下電器株式会社製、フリップチップ実装用試作
品フラックス タムラ化研製、フリップチップ実装用試作品フラック
ス 千住金属製、フリップチップ実装用試作品フラックス
品フラックス タムラ化研製、フリップチップ実装用試作品フラック
ス 千住金属製、フリップチップ実装用試作品フラックス
【００４８】（２）清浄度 洗浄性の試験を行った基板を水洗および乾燥した後、イ
オンクロマトグラフィーIC7000（YOKOGAWA製、商品名）
を用いて、基板の清浄度（残留イオン量）を測定した。
オンクロマトグラフィーIC7000（YOKOGAWA製、商品名）
を用いて、基板の清浄度（残留イオン量）を測定した。
【００４９】（３）腐食性 洗浄剤組成物の濃度が５重量％となるように水溶液を調
製し、この水溶液を４０℃に加温して、ニッケル、亜
鉛、鉛の各金属片を１時間浸漬した。浸漬前後における
金属表面の様子について以下の判定基準に基づき目視判
定した。 ○：変化なし。△：金属表面にくもりがみられる。×：
金属表面に激しい錆がみられる。
製し、この水溶液を４０℃に加温して、ニッケル、亜
鉛、鉛の各金属片を１時間浸漬した。浸漬前後における
金属表面の様子について以下の判定基準に基づき目視判
定した。 ○：変化なし。△：金属表面にくもりがみられる。×：
金属表面に激しい錆がみられる。
【００５０】（４）希釈洗浄性 製造例１〜９および比較例で得られた各種の洗浄剤組成
物を純水で希釈し、有効成分が１％となるように調製
し、以下の試験に供した。試験結果を表４に示す。
物を純水で希釈し、有効成分が１％となるように調製
し、以下の試験に供した。試験結果を表４に示す。
【００５１】油性切削油の付着した銅製端子（被洗浄物
Ａ）、またはグリースの付着したセラミック製電子部品
（被洗浄物Ｂ）を超音波洗浄装置（４０ｋＨｚ、６００
Ｗ）に設置し、前記有効成分が１％となるよう調製した
製造例１〜７および比較例の当該洗浄剤組成物により７
５℃で５分間洗浄した後、純水で５分間すすぎ処理を行
った。さらに７０℃で５分間熱風乾燥した。油の除去の
度合いを以下の判定基準に基づき目視判定した。 ○：良好に除去できる。△：若干残存する。×：かなり
残存する。
Ａ）、またはグリースの付着したセラミック製電子部品
（被洗浄物Ｂ）を超音波洗浄装置（４０ｋＨｚ、６００
Ｗ）に設置し、前記有効成分が１％となるよう調製した
製造例１〜７および比較例の当該洗浄剤組成物により７
５℃で５分間洗浄した後、純水で５分間すすぎ処理を行
った。さらに７０℃で５分間熱風乾燥した。油の除去の
度合いを以下の判定基準に基づき目視判定した。 ○：良好に除去できる。△：若干残存する。×：かなり
残存する。
【００５２】
【表３】
【００５３】
【表４】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１３年１１月５日（２００１．１１．
５）
５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４７】
【表２】フリップチップ実装方法 九州松下電器株式会社製、フリップチップ実装用試作
品フラックス タムラ化研製、フリップチップ実装用試作品フラック
ス 千住金属製、フリップチップ実装用試作品フラックス
品フラックス タムラ化研製、フリップチップ実装用試作品フラック
ス 千住金属製、フリップチップ実装用試作品フラックス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 3/43 Ｃ１１Ｄ 3/43
Claims (8)
- 【請求項１】 式[１]： 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜５の直鎖もし
くは分岐鎖のアルキル基を、Ｒ２は水素原子または炭素
数１〜５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表す。）
で表される化合物（Ａ）、ノニオン性界面活性剤（Ｂ）
を有効成分として含有してなる洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 前記ノニオン性界面活性剤（Ｂ）が、
式[２]： 【化２】 （式中、Ｒ3 は炭素数６〜２０の直鎖もしくは分岐鎖の
アルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直鎖
もしくは分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、
ｍは２〜２０の整数を表す。）で表されるポリエチレン
グリコールエーテル型のノニオン性界面活性剤である請
求項１記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項３】 ポリオキシアルキレンリン酸エステル系
界面活性剤（Ｃ）およびポリオキシアルキレンアミン系
界面活性剤（Ｄ）を含有してなる請求項１または２に記
載の洗浄剤組成物。 - 【請求項４】 前記ポリオキシアルキレンリン酸エステ
ル系界面活性剤（Ｃ）が、式[３]： 【化３】 （式中、Ｒ４ は炭素数５〜２０の直鎖もしくは分岐鎖
のアルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直
鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基
を、ｎは０〜２０の整数、Ｘは水酸基または式[４]： 【化４】 （式中、Ｒ５ は炭素数５〜２０の直鎖もしくは分岐鎖
のアルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直
鎖もしくは分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基
を、ｎは前記と同じを表す。））で表されるポリオキシ
エチレンリン酸エステル系界面活性剤またはその塩であ
る請求項１〜３のいずれかに記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項５】 前記ポリオキシアルキレンアミン系界面
活性剤（Ｄ）が、式[５]： 【化５】 （式中、Ｒ６ は水素原子または炭素数１〜２２の直鎖
もしくは分岐鎖のアルキル基またはアルケニル基を示
し、Ｙは水素原子または炭素数１〜４の直鎖もしくは分
岐鎖のアルキル基またはアシル基を示し、ｐは１〜１
５、ｑは０〜１５の整数を表す。）で表されるポリオキ
シエチレンアミン系界面活性剤である請求項１〜４のい
ずれかに記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項６】式[６]： 【化６】 （式中、Ｒ７は水素原子または炭素数１〜５の直鎖もし
くは分岐鎖のアルキル基を表す。）で表される化合物
（Ｅ）を含有してなる請求項１〜５のいずれかに記載の
洗浄剤組成物。 - 【請求項７】 前記洗浄剤組成物が水を含有してなる請
求項１〜６のいずれかに記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項８】 前記化合物（Ａ）、ノニオン性界面活性
剤（Ｂ）、ポリオキシアルキレンリン酸エステル系界面
活性剤（Ｃ）およびポリオキシアルキレンアミン系界面
活性剤（Ｄ）の使用割合が順に０．１〜９７重量％:
０．１〜９７重量％:０．０１〜８５重量％:０．０１〜
８５重量％である請求項１〜５のいずれかに記載の洗浄
剤組成物。
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|---|---|---|---|
| JP2001000303A JP4025953B2 (ja) | 2001-01-05 | 2001-01-05 | 洗浄剤組成物 |
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