JPH11202309A - 液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッチング装置 - Google Patents
液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッチング装置Info
- Publication number
- JPH11202309A JPH11202309A JP10008322A JP832298A JPH11202309A JP H11202309 A JPH11202309 A JP H11202309A JP 10008322 A JP10008322 A JP 10008322A JP 832298 A JP832298 A JP 832298A JP H11202309 A JPH11202309 A JP H11202309A
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- crystal display
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- liquid crystal
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、液晶ディスプレイ基板の薬液を用
いた洗浄処理またはエッチング処理またはレジスト剥離
処理等の製造工程において薬液中に存在する異物再付着
による汚染防止に有効な液晶ディスプレイ基板の基板洗
浄、エッチング装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、液晶ディスプレイ基板の製造
工程において、薬液を用いた洗浄処理またはエッチング
処理またはレジスト剥離処理を行う製造装置の薬液の液
切りにエアーと薬液を混合した液切りナイフを用いるこ
とにより、薬液処理室から液切り室に液晶ディスプレイ
基板が搬送された際に、表面に付着している薬液処理室
から持ち込まれた異物（固形物）を含む薬液を薬液とエ
アーの混合ナイフを用いて押し流すことができる製造装
置が提供できる。
いた洗浄処理またはエッチング処理またはレジスト剥離
処理等の製造工程において薬液中に存在する異物再付着
による汚染防止に有効な液晶ディスプレイ基板の基板洗
浄、エッチング装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、液晶ディスプレイ基板の製造
工程において、薬液を用いた洗浄処理またはエッチング
処理またはレジスト剥離処理を行う製造装置の薬液の液
切りにエアーと薬液を混合した液切りナイフを用いるこ
とにより、薬液処理室から液切り室に液晶ディスプレイ
基板が搬送された際に、表面に付着している薬液処理室
から持ち込まれた異物（固形物）を含む薬液を薬液とエ
アーの混合ナイフを用いて押し流すことができる製造装
置が提供できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
基板等の薬液を用いた洗浄処理及びエッチング処理及び
レジスト剥離処理等の製造工程において薬液中に存在す
る異物再付着による汚染防止に有効な液晶ディスプレイ
基板の基板洗浄・エッチング装置に関するものである。
基板等の薬液を用いた洗浄処理及びエッチング処理及び
レジスト剥離処理等の製造工程において薬液中に存在す
る異物再付着による汚染防止に有効な液晶ディスプレイ
基板の基板洗浄・エッチング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイ基板の生産にお
いて、薬液を用いた洗浄工程、及び基板に薄膜トランジ
スター等の回路を形成する際用いる薄膜をエッチング処
理する工程、及びエッチングの際パターン形成の為に用
いたレジストを剥離する工程で薬液中に浮遊している異
物が液晶ディスプレイ基板に再付着し、工程処理後も基
板表面に残り、液晶ディスプレイの画像品質を悪化する
原因となっている。従来の液晶ディスプレイ基板の薬液
を用いた工程における製造装置では、図３に示すように
液晶ディスプレイ基板はニュートラル室１から１枚ずつ
薬液処理室２，３に搬送され薬液による洗浄処理または
エッチング処理またはレジスト剥離処理される。薬液処
理された液晶ディスプレイ基板は次の液切り室４におい
て、エアーナイフ８から出るエアーの圧力により表面に
付着した薬液が押し流され表面が乾燥した状態になる。
乾燥した液晶ディスプレイ基板は水洗室５，６で水洗さ
れ、乾燥室７でエアーナイフ乾燥またはスピン乾燥する
ことにより処理が終了し次工程に搬送される。従来の製
造装置においては、薬液室２，３内に存在する液晶ディ
スプレイ基板により持ち込まれた異物及びエッチング液
やレジスト剥離液中に溶け込んだ薄膜、レジスト等の再
結晶化物、反応生成物等の固形物が存在するが、現在一
般的に行われているフィルトレーションによる除去や薬
液交換を実施しても薬液室の異物（固形物）は完全には
取り切れない。
いて、薬液を用いた洗浄工程、及び基板に薄膜トランジ
スター等の回路を形成する際用いる薄膜をエッチング処
理する工程、及びエッチングの際パターン形成の為に用
いたレジストを剥離する工程で薬液中に浮遊している異
物が液晶ディスプレイ基板に再付着し、工程処理後も基
板表面に残り、液晶ディスプレイの画像品質を悪化する
原因となっている。従来の液晶ディスプレイ基板の薬液
を用いた工程における製造装置では、図３に示すように
液晶ディスプレイ基板はニュートラル室１から１枚ずつ
薬液処理室２，３に搬送され薬液による洗浄処理または
エッチング処理またはレジスト剥離処理される。薬液処
理された液晶ディスプレイ基板は次の液切り室４におい
て、エアーナイフ８から出るエアーの圧力により表面に
付着した薬液が押し流され表面が乾燥した状態になる。
乾燥した液晶ディスプレイ基板は水洗室５，６で水洗さ
れ、乾燥室７でエアーナイフ乾燥またはスピン乾燥する
ことにより処理が終了し次工程に搬送される。従来の製
造装置においては、薬液室２，３内に存在する液晶ディ
スプレイ基板により持ち込まれた異物及びエッチング液
やレジスト剥離液中に溶け込んだ薄膜、レジスト等の再
結晶化物、反応生成物等の固形物が存在するが、現在一
般的に行われているフィルトレーションによる除去や薬
液交換を実施しても薬液室の異物（固形物）は完全には
取り切れない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板洗浄、エッチング装置において、薬液中に液晶ディ
スプレイ基板により持ち込まれた異物及びエッチング液
やレジスト剥離液中に溶け込んだ薄膜、レジスト等の再
結晶化物、反応生成物等の固形物が存在するとエアーナ
イフによる液切りの際に薬液はエアーにより押流されて
も薬液中に存在する異物（固形物）は液晶ディスプレイ
表面に残渣として残る。この残渣として表面に残った異
物の一部は次の水洗室で洗い流すことができずに、表面
に付着した状態で処理が終了し次工程に搬送される。液
晶ディスプレイ基板の製造工程はマザーガラス上に薄膜
を成膜し、フォト工程においてレジストを塗布しレジス
トパターンを形成し、薄膜をエッチング処理して薄膜パ
ターンを形成し、レジストを剥離し次の薄膜層を成膜す
るという工程を数回繰り返す。このような製造工程途中
において、液晶ディスプレイ基板表面に異物（固形物）
が付着すると、液晶ディスプレイ基板を構成する薄膜の
層間に残りディスプレイとして表示した際に付着した異
物（固形物）が画像ムラとなって表示されたり、トラン
ジスター部の動作不良を発生したりする。
基板洗浄、エッチング装置において、薬液中に液晶ディ
スプレイ基板により持ち込まれた異物及びエッチング液
やレジスト剥離液中に溶け込んだ薄膜、レジスト等の再
結晶化物、反応生成物等の固形物が存在するとエアーナ
イフによる液切りの際に薬液はエアーにより押流されて
も薬液中に存在する異物（固形物）は液晶ディスプレイ
表面に残渣として残る。この残渣として表面に残った異
物の一部は次の水洗室で洗い流すことができずに、表面
に付着した状態で処理が終了し次工程に搬送される。液
晶ディスプレイ基板の製造工程はマザーガラス上に薄膜
を成膜し、フォト工程においてレジストを塗布しレジス
トパターンを形成し、薄膜をエッチング処理して薄膜パ
ターンを形成し、レジストを剥離し次の薄膜層を成膜す
るという工程を数回繰り返す。このような製造工程途中
において、液晶ディスプレイ基板表面に異物（固形物）
が付着すると、液晶ディスプレイ基板を構成する薄膜の
層間に残りディスプレイとして表示した際に付着した異
物（固形物）が画像ムラとなって表示されたり、トラン
ジスター部の動作不良を発生したりする。
【０００４】薬液のみのナイフで基板の洗浄を繰り返す
方法があるが、この方法では１回の洗浄では異物を完全
に取り除くことはできないため洗浄を繰り返す必要があ
り、繰り返す回数分同じ処理室を複数個並べて洗浄する
必要がある。
方法があるが、この方法では１回の洗浄では異物を完全
に取り除くことはできないため洗浄を繰り返す必要があ
り、繰り返す回数分同じ処理室を複数個並べて洗浄する
必要がある。
【０００５】従って、この方法では装置が大型化して、
使用する薬液も大量であるため、排水処理設備も大型化
し、装置全体も大型化する。
使用する薬液も大量であるため、排水処理設備も大型化
し、装置全体も大型化する。
【０００６】本発明は上記課題に対して、液晶ディスプ
レイ基板の薬液を用いた洗浄処理及びエッチング処理及
びレジスト剥離処理等の製造工程において薬液中に存在
する異物再付着による汚染防止に有効な液晶ディスプレ
イ基板の基板洗浄、エッチング装置を提供することを目
的とする。
レイ基板の薬液を用いた洗浄処理及びエッチング処理及
びレジスト剥離処理等の製造工程において薬液中に存在
する異物再付着による汚染防止に有効な液晶ディスプレ
イ基板の基板洗浄、エッチング装置を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、液晶ディスプ
レイ基板の製造工程において、薬液を用いた洗浄処理ま
たはエッチング処理またはレジスト剥離処理を行う製造
装置の薬液の液切りにエアーと薬液を混合した液切りナ
イフを用いることにより、薬液処理室から液切り室に液
晶ディスプレイ基板が搬送された際に、表面に付着して
いる薬液処理室から持ち込まれた異物（固形物）を含む
薬液を薬液とエアーの混合ナイフを用いて押し流すこと
ができる製造装置である。このときエアーと薬液を混合
した液切りナイフから噴出されるエアーは薬液が混合さ
れることにより、ミスト状になり液晶ディスプレイ基板
の表面を洗い流す。また液切りナイフを通過した液晶デ
ィスプレイ基板表面はミスト状に噴出した薬液で置換さ
れた状態になり、表面に存在する薬液には汚染の原因と
なる異物は含まれない。またこの薬液とエアーを混合し
たナイフの後方にエアーナイフを設置することにより置
換した薬液をエアーにて押し流し乾燥することができ、
次工程に搬送される液晶ディスプレイ基板表面には薬液
中に存在する異物（固形物）起因の表面汚染は発生しな
い。
レイ基板の製造工程において、薬液を用いた洗浄処理ま
たはエッチング処理またはレジスト剥離処理を行う製造
装置の薬液の液切りにエアーと薬液を混合した液切りナ
イフを用いることにより、薬液処理室から液切り室に液
晶ディスプレイ基板が搬送された際に、表面に付着して
いる薬液処理室から持ち込まれた異物（固形物）を含む
薬液を薬液とエアーの混合ナイフを用いて押し流すこと
ができる製造装置である。このときエアーと薬液を混合
した液切りナイフから噴出されるエアーは薬液が混合さ
れることにより、ミスト状になり液晶ディスプレイ基板
の表面を洗い流す。また液切りナイフを通過した液晶デ
ィスプレイ基板表面はミスト状に噴出した薬液で置換さ
れた状態になり、表面に存在する薬液には汚染の原因と
なる異物は含まれない。またこの薬液とエアーを混合し
たナイフの後方にエアーナイフを設置することにより置
換した薬液をエアーにて押し流し乾燥することができ、
次工程に搬送される液晶ディスプレイ基板表面には薬液
中に存在する異物（固形物）起因の表面汚染は発生しな
い。
【０００８】本発明は、液晶ディスプレイ基板の薬液を
用いた洗浄処理またはエッチング処理またはレジスト剥
離処理等の製造工程において用いる枚葉式の製造装置の
通常設置してある薬液の液切り用のエアーナイフを薬液
とエアーを混合したナイフに変更することにより、効果
的に薬液室中に存在する異物（固形物）を洗い落とすこ
とができる。また、薬液とエアーを混合したナイフの後
段に通常のエアーナイフを設置することにより、薬液と
エアーの混合ナイフでの処理後に液晶ディスプレイ基板
表面に存在する置換された異物を含まない薬液を押し流
し乾燥できる為に、液晶ディスプレイ基板の異物再付着
による表面汚染は発生しない。これにより、ディスプレ
イとして表示した際に前記した原因による画像ムラやト
ランジスター部の動作不良の発生を防止できる。
用いた洗浄処理またはエッチング処理またはレジスト剥
離処理等の製造工程において用いる枚葉式の製造装置の
通常設置してある薬液の液切り用のエアーナイフを薬液
とエアーを混合したナイフに変更することにより、効果
的に薬液室中に存在する異物（固形物）を洗い落とすこ
とができる。また、薬液とエアーを混合したナイフの後
段に通常のエアーナイフを設置することにより、薬液と
エアーの混合ナイフでの処理後に液晶ディスプレイ基板
表面に存在する置換された異物を含まない薬液を押し流
し乾燥できる為に、液晶ディスプレイ基板の異物再付着
による表面汚染は発生しない。これにより、ディスプレ
イとして表示した際に前記した原因による画像ムラやト
ランジスター部の動作不良の発生を防止できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
て、図面を参照しながら説明する。
【００１０】図１に示すのが、薬液とエアーを混合した
液切りナイフをレジスト剥離装置に応用した基板洗浄、
エッチング装置の一例である。また図２に示すのが、本
発明実施の形態の薬液とエアーを混合した液切りナイフ
を用いて、液晶ディスプレイ基板表面の液切りを実施し
ている状態図である。ニュートラル室１より搬送された
レジストが表面に付着した液晶ディスプレイ基板はレジ
スト剥離処理室２，３で表面のレジストが剥離され、液
切り室４に搬送される。この時液晶ディスプレイ基板の
表面はレジスト残渣を含むレジスト剥離液で覆われてい
るが、図２に示すように再生処理されたレジスト剥離液
を混合したエアーをギャップ幅０．２ｍｍのナイフ９に
て吹き付けることにより洗い流され、表面は再生処理さ
れたきれいな剥離液で覆われた状態となり表面には、レ
ジスト残渣は存在しない。次にエアーナイフ８にて、表
面の剥離液が押し流され液晶ディスプレイ基板１０表面
は異物（固形物）の付着がない状態で乾燥し、水洗室
５，６に搬送され水洗される。最後に乾燥室７にて表
面、裏面をエアーナイフ乾燥して工程を終了する。ま
た、処理に用いた剥離液とエアーを混合したナイフは図
２に示すような構造とし、エアー４００〜８００l/min
に対して、再生処理した剥離液を０．１〜０．８l/min
を混合することにより、ナイフより剥離液がミスト状に
吹き出すように調整し、効率よくレジスト残渣を含む剥
離液を押し流すとともに、処理した液晶ディスプレイ基
板表面を均一にきれいな剥離液で覆うことができた。ま
たこの時、剥離液は液晶ディスプレイ基板がナイフ位置
に来たタイミングで加圧タンクに加圧したエアーを吹き
込み混合した。加圧タンクに加圧した圧力はナイフのギ
ャップ幅が０．２ｍｍの時には１．０〜２．０Kg/cm2が
好ましい。このような装置によりレジスト剥離処理を行
うことにより、従来問題となったレジスト残渣残り起因
による画像ムラの発生がなくなり、また同時に剥離液の
汚れの液晶ディスプレイ基板への影響が少なくなり装置
メンテサイクルの長期化を実施し、稼働率向上を図るこ
とができる。これは、液晶ディスプレイ基板のレジスト
剥離処理後に表面に付着している数ミクロンレベルのレ
ジスト残渣を一端乾燥する前に洗い押し流す効果と、ナ
イフで吹き付けるミスト状の再生処理したきれいなレジ
スト剥離液で一部残渣が溶ける効果による。
液切りナイフをレジスト剥離装置に応用した基板洗浄、
エッチング装置の一例である。また図２に示すのが、本
発明実施の形態の薬液とエアーを混合した液切りナイフ
を用いて、液晶ディスプレイ基板表面の液切りを実施し
ている状態図である。ニュートラル室１より搬送された
レジストが表面に付着した液晶ディスプレイ基板はレジ
スト剥離処理室２，３で表面のレジストが剥離され、液
切り室４に搬送される。この時液晶ディスプレイ基板の
表面はレジスト残渣を含むレジスト剥離液で覆われてい
るが、図２に示すように再生処理されたレジスト剥離液
を混合したエアーをギャップ幅０．２ｍｍのナイフ９に
て吹き付けることにより洗い流され、表面は再生処理さ
れたきれいな剥離液で覆われた状態となり表面には、レ
ジスト残渣は存在しない。次にエアーナイフ８にて、表
面の剥離液が押し流され液晶ディスプレイ基板１０表面
は異物（固形物）の付着がない状態で乾燥し、水洗室
５，６に搬送され水洗される。最後に乾燥室７にて表
面、裏面をエアーナイフ乾燥して工程を終了する。ま
た、処理に用いた剥離液とエアーを混合したナイフは図
２に示すような構造とし、エアー４００〜８００l/min
に対して、再生処理した剥離液を０．１〜０．８l/min
を混合することにより、ナイフより剥離液がミスト状に
吹き出すように調整し、効率よくレジスト残渣を含む剥
離液を押し流すとともに、処理した液晶ディスプレイ基
板表面を均一にきれいな剥離液で覆うことができた。ま
たこの時、剥離液は液晶ディスプレイ基板がナイフ位置
に来たタイミングで加圧タンクに加圧したエアーを吹き
込み混合した。加圧タンクに加圧した圧力はナイフのギ
ャップ幅が０．２ｍｍの時には１．０〜２．０Kg/cm2が
好ましい。このような装置によりレジスト剥離処理を行
うことにより、従来問題となったレジスト残渣残り起因
による画像ムラの発生がなくなり、また同時に剥離液の
汚れの液晶ディスプレイ基板への影響が少なくなり装置
メンテサイクルの長期化を実施し、稼働率向上を図るこ
とができる。これは、液晶ディスプレイ基板のレジスト
剥離処理後に表面に付着している数ミクロンレベルのレ
ジスト残渣を一端乾燥する前に洗い押し流す効果と、ナ
イフで吹き付けるミスト状の再生処理したきれいなレジ
スト剥離液で一部残渣が溶ける効果による。
【００１１】
【発明の効果】以上本発明によれば、従来の装置で問題
となった薬液処理室で再付着した異物（固形物）が取れ
ずに残り、ディスプレイとして表示した際に発生する付
着した異物起因の画像ムラやトランジスター部の動作不
良を効果的に防止できる。これは液晶ディスプレイ基板
表面への異物付着、特に数ミクロン以下の異物は一端付
着して乾いてしまうとその後洗浄をしても取れにくくな
るが、 本発明の薬液とエアーを混合した液切りナイフ
は、薬液室中の異物（固形物）を表面が一端乾く前に除
去することができる為である。また実際に基板を処理す
る薬液と同じ薬液で洗い流すことにより、薬液処理の装
置が簡単となり、異物（固形物）を効果的に取り除くこ
とが可能である。また、この薬液とエアーを混合した液
切りナイフは従来タイプの装置に簡単に設置することが
できるとともに、薬液の汚染の影響を液晶ディスプレイ
基板が受けにくいので薬液の寿命をのばすことができ、
設備の稼働率を向上する。さらに液切り室で使用する薬
液を薬液処理室に戻す構造を付加すれば、薬液の使用量
削減が可能である。
となった薬液処理室で再付着した異物（固形物）が取れ
ずに残り、ディスプレイとして表示した際に発生する付
着した異物起因の画像ムラやトランジスター部の動作不
良を効果的に防止できる。これは液晶ディスプレイ基板
表面への異物付着、特に数ミクロン以下の異物は一端付
着して乾いてしまうとその後洗浄をしても取れにくくな
るが、 本発明の薬液とエアーを混合した液切りナイフ
は、薬液室中の異物（固形物）を表面が一端乾く前に除
去することができる為である。また実際に基板を処理す
る薬液と同じ薬液で洗い流すことにより、薬液処理の装
置が簡単となり、異物（固形物）を効果的に取り除くこ
とが可能である。また、この薬液とエアーを混合した液
切りナイフは従来タイプの装置に簡単に設置することが
できるとともに、薬液の汚染の影響を液晶ディスプレイ
基板が受けにくいので薬液の寿命をのばすことができ、
設備の稼働率を向上する。さらに液切り室で使用する薬
液を薬液処理室に戻す構造を付加すれば、薬液の使用量
削減が可能である。
【図１】本発明の一実施の形態における液晶ディスプレ
イ基板の基板洗浄・エッチング装置の説明図
イ基板の基板洗浄・エッチング装置の説明図
【図２】本発明の薬液とエアーを混合したナイフを用い
て、液晶ディスプレイ基板表面の液切りを実施している
状態の説明図
て、液晶ディスプレイ基板表面の液切りを実施している
状態の説明図
【図３】従来の液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッ
チング装置の説明図
チング装置の説明図
１ ニュートラル室 ２ エッチング室 ３ エッチング室 ４ 液切り室 ５ 水洗室 ６ 水洗室 ７ 乾燥室 ８ エアーナイフ ９ 薬液とエアーを混合したナイフ １０ 液晶ディスプレイ基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１
Claims (13)
- 【請求項１】液晶ディスプレイ基板の製造工程におい
て、薬液を用いた洗浄処理またはエッチング処理、また
はレジスト剥離処理を行う枚葉処理装置の薬液の液切り
にエアーと薬液を混合した液切りナイフを用いることを
特徴とする液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッチン
グ装置。 - 【請求項２】薬液の液切りナイフに混合する薬液が、未
使用薬液もしくは再生処理された薬液を用いることを特
徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイ基板の基板洗
浄・エッチング装置。 - 【請求項３】エアーと薬液を混合した液切りナイフをエ
ッチング室の後段または液切り室の初段、または水洗室
の初段に配置していることを特徴とする液晶ディスプレ
イ基板の基板洗浄・エッチング装置。 - 【請求項４】薬液の液切りナイフに混合するエアー量が
４００〜８００l/minであり、薬液量が０．１〜０．８l
/minにすることを特徴とする請求項１に記載の液晶ディ
スプレイ基板の基板洗浄・エッチング装置。 - 【請求項５】薬液と気体を混合した液切りナイフを用い
る洗浄装置。 - 【請求項６】薬液と気体を混合した液切りナイフを用い
るエッチング装置。 - 【請求項７】薬液と気体を混合した液切りナイフを用い
る液晶ディスプレイ装置製造装置。 - 【請求項８】薬液と気体を混合した液切りナイフを用い
るディスプレイ装置製造方法。 - 【請求項９】薬液と気体を混合した液切りナイフを用い
る基板製造方法。 - 【請求項１０】薬液を用いたエッチング処理又はレジス
ト剥離処理の後にエアーと薬液を混合した液切りナイフ
を用いることを特徴とする基板製造装置。 - 【請求項１１】液切りナイフに用いた後の薬液をエッチ
ング処理又はレジスト剥離処理に用いることを特徴とす
る基板製造装置。 - 【請求項１２】液切りナイフのギャップ幅が０．２ｍｍ
であり、吹き込むエアーの圧力が１．０〜２．０Kg/cm2
であることを特徴とする請求項１、請求項２、請求項
３、請求項４、請求項５、請求項６、請求項７、請求項
８又は請求項１０の装置。 - 【請求項１３】請求項１、請求項２、請求項３、請求項
４、請求項５、請求項６、請求項７、請求項８、請求項
１０、請求項１１又は請求項１２の装置を用いる製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10008322A JPH11202309A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10008322A JPH11202309A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッチング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11202309A true JPH11202309A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11689945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10008322A Pending JPH11202309A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 液晶ディスプレイ基板の基板洗浄・エッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11202309A (ja) |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP10008322A patent/JPH11202309A/ja active Pending
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