JP2003014932A - 偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法 - Google Patents
偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】従来の加工法を変更することなく、角度依存性
が少なく、偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッ
タ、および偏光ビームスプリッタの作成方法を提供す
る。 【解決手段】接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜
を有する透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成
した偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光分離膜へ
の光の入射角ΘｇがΘｇ＞４５度となるように構成す
る。
が少なく、偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッ
タ、および偏光ビームスプリッタの作成方法を提供す
る。 【解決手段】接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜
を有する透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成
した偏光ビームスプリッタにおいて、前記偏光分離膜へ
の光の入射角ΘｇがΘｇ＞４５度となるように構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は偏光ビームスプリッ
タ、および偏光ビームスプリッタの作成方法に関し、特
に偏光分離光学系を有する液晶プロジェクター等の偏光
ビームスプリッタの効率改善に関するものである。
タ、および偏光ビームスプリッタの作成方法に関し、特
に偏光分離光学系を有する液晶プロジェクター等の偏光
ビームスプリッタの効率改善に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の偏光ビームスプリッタにおいて
は、４５度のプリズム接合面に誘電体多層膜を設けた形
状のものがよく知られている。通常、サイコロ型素子で
は、偏光分離膜に用いる膜材料のブリュースタ条件から
基材の屈折率を決め基材を選択している。また、従来の
アレイ状平板タイプの偏光ビームスプリッタでは、白板
やＢＳＬ7の平面基材上に偏光膜を設け、同様に反射膜
を設けた基材と交互に接合し、４５度で切り出した後、
切断面を研磨して使用する例が多く、この場合は偏光分
離膜に用いる膜材料の屈折率を決めることにより膜材料
を選択している。
は、４５度のプリズム接合面に誘電体多層膜を設けた形
状のものがよく知られている。通常、サイコロ型素子で
は、偏光分離膜に用いる膜材料のブリュースタ条件から
基材の屈折率を決め基材を選択している。また、従来の
アレイ状平板タイプの偏光ビームスプリッタでは、白板
やＢＳＬ7の平面基材上に偏光膜を設け、同様に反射膜
を設けた基材と交互に接合し、４５度で切り出した後、
切断面を研磨して使用する例が多く、この場合は偏光分
離膜に用いる膜材料の屈折率を決めることにより膜材料
を選択している。
【０００３】また、液晶プロジェクターに用いられる偏
光ビームスプリッタは、可視域の波長範囲において高い
偏光分離効率を有すると共に、角度依存性の小さい事が
要求される。これは、４５度±α（ＢＳＬ7で〜４度程
度）の入射光に対して、ブリュースタ条件、及び最適膜
厚条件が満たされなくなるためである。そこで、これを
改善するものとして、例えば特開平１１−０２３８４２
号公報では、ブリュースタ条件を満たす交互層群を複数
群設け、反射帯域を広げる提案がなされている。
光ビームスプリッタは、可視域の波長範囲において高い
偏光分離効率を有すると共に、角度依存性の小さい事が
要求される。これは、４５度±α（ＢＳＬ7で〜４度程
度）の入射光に対して、ブリュースタ条件、及び最適膜
厚条件が満たされなくなるためである。そこで、これを
改善するものとして、例えば特開平１１−０２３８４２
号公報では、ブリュースタ条件を満たす交互層群を複数
群設け、反射帯域を広げる提案がなされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、偏光膜の特
性、製作容易性から言えば、屈折率の大きい基材、屈折
率差の大きい膜材料を使うのが有利である。しかしなが
ら、ＢＳＬ７等の低い屈折率（Ｎｇ＝１．５２）の基材
を使わざるを得ない場合は、上記特開平１１−０２３８
４２号公報で見られるように、使用できる膜材料はＭｇ
Ｏ（又はＹ2Ｏ3）とＭｇＦ2の組み合わせのように限定
されるという問題があった。また、層数も多くなり、製
作誤差、コストの面から問題であった。更には、層数が
多いため特にＰ成分の角度依存性が悪くなるという問題
があった。また、高い屈折率（Ｎｇ＝１．７〜１．８）
の基材を使用できる場合でも、使用できる膜材料はＴｉ
Ｏ2とＳｉＯ2、又はＴａ2Ｏ5（又はＺｒＴｉＯ4）とＡ
ｌ2Ｏ3の組み合わせのように選択範囲は広がるが、層数
の増加等、同様の問題があった。
性、製作容易性から言えば、屈折率の大きい基材、屈折
率差の大きい膜材料を使うのが有利である。しかしなが
ら、ＢＳＬ７等の低い屈折率（Ｎｇ＝１．５２）の基材
を使わざるを得ない場合は、上記特開平１１−０２３８
４２号公報で見られるように、使用できる膜材料はＭｇ
Ｏ（又はＹ2Ｏ3）とＭｇＦ2の組み合わせのように限定
されるという問題があった。また、層数も多くなり、製
作誤差、コストの面から問題であった。更には、層数が
多いため特にＰ成分の角度依存性が悪くなるという問題
があった。また、高い屈折率（Ｎｇ＝１．７〜１．８）
の基材を使用できる場合でも、使用できる膜材料はＴｉ
Ｏ2とＳｉＯ2、又はＴａ2Ｏ5（又はＺｒＴｉＯ4）とＡ
ｌ2Ｏ3の組み合わせのように選択範囲は広がるが、層数
の増加等、同様の問題があった。
【０００５】一方、入射角を４５度以上とした偏光ビー
ムスプリッタについては、特開平６−３４７６４２号公
報、特開平６−２８９２２２号公報、特開平７−２８１
０２４号公報、特開平６−２５８５２５号公報、特開平
６−２８１８８６号公報等に開示されている。しかし、
これらはいずれもアレイ状平板タイプのものではないた
め、従来の加工法を変更することなく作成する等の点の
考慮がなされたものではなかった。
ムスプリッタについては、特開平６−３４７６４２号公
報、特開平６−２８９２２２号公報、特開平７−２８１
０２４号公報、特開平６−２５８５２５号公報、特開平
６−２８１８８６号公報等に開示されている。しかし、
これらはいずれもアレイ状平板タイプのものではないた
め、従来の加工法を変更することなく作成する等の点の
考慮がなされたものではなかった。
【０００６】そこで、本発明は、上記課題を解決し、従
来の加工法を変更することなく、角度依存性が少なく、
偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッタ、および偏
光ビームスプリッタの作成方法を提供することを目的と
するものである。
来の加工法を変更することなく、角度依存性が少なく、
偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッタ、および偏
光ビームスプリッタの作成方法を提供することを目的と
するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、次の（１）〜（９）のように構成した偏
光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作
成方法を提供するものである。 （１）接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜を有す
る透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成した偏
光ビームスプリッタにおいて、前記偏光分離膜への光の
入射角ΘｇがΘｇ＞４５度とされていることを特徴とす
る偏光ビームスプリッタ。 （２）前記入射角ΘｇがΘｇ＞４５度の誘電体多層膜に
よる偏光分離接合面と、該偏光分離接合面と入射角Θｇ
が等しいＳ偏光反射膜による接合面とで一対をなし、こ
の対を複数個接合してアレイ状平板タイプとしたことを
特徴とする上記（１）に記載の偏光ビームスプリッタ。 （３）前記Θｇが４５度＜Θｇ＜６０度であることを特
徴とする上記（１）または上記（２）に記載の偏光ビー
ムスプリッタ。 （４）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＺｒＯ2、
低屈折率材としてＭｇＦ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率が約１．５２であることを特徴とする上記
（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光ビームスプリッ
タ。 （５）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＴｉＯ2、
低屈折率材としてＳｉＯ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率が約１．５２であることを特徴とする上記
（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光ビームスプリッ
タ。 （６）接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜を有す
る透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに形成する偏
光ビームスプリッタの作成方法において、前記偏光分離
膜への光の入射角ΘｇがΘｇ＞４５度となるように設定
し、前記入射角ΘｇがΘｇ＞４５度の誘電体多層膜によ
る偏光分離接合面と、該偏光分離接合面と入射角Θｇが
等しいＳ偏光反射膜による接合面とで一対をなし、この
対を複数個接合してアレイ状平板タイプに形成すること
を特徴とする偏光ビームスプリッタの作成方法。 （７）前記Θｇが４５度＜Θｇ＜６０度であることを特
徴とする上記（６）に記載の偏光ビームスプリッタの作
成方法。 （８）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＺｒＯ2、
低屈折率材としてＭｇＦ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率を約１．５２とすることを特徴とする上記
（６）または上記（７）に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。 （９）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＴｉＯ2、
低屈折率材としてＳｉＯ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率を約１．５２とすることを特徴とする上記
（６）または上記（７）に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。
決するために、次の（１）〜（９）のように構成した偏
光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作
成方法を提供するものである。 （１）接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜を有す
る透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成した偏
光ビームスプリッタにおいて、前記偏光分離膜への光の
入射角ΘｇがΘｇ＞４５度とされていることを特徴とす
る偏光ビームスプリッタ。 （２）前記入射角ΘｇがΘｇ＞４５度の誘電体多層膜に
よる偏光分離接合面と、該偏光分離接合面と入射角Θｇ
が等しいＳ偏光反射膜による接合面とで一対をなし、こ
の対を複数個接合してアレイ状平板タイプとしたことを
特徴とする上記（１）に記載の偏光ビームスプリッタ。 （３）前記Θｇが４５度＜Θｇ＜６０度であることを特
徴とする上記（１）または上記（２）に記載の偏光ビー
ムスプリッタ。 （４）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＺｒＯ2、
低屈折率材としてＭｇＦ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率が約１．５２であることを特徴とする上記
（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光ビームスプリッ
タ。 （５）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＴｉＯ2、
低屈折率材としてＳｉＯ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率が約１．５２であることを特徴とする上記
（１）〜（３）のいずれかに記載の偏光ビームスプリッ
タ。 （６）接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜を有す
る透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに形成する偏
光ビームスプリッタの作成方法において、前記偏光分離
膜への光の入射角ΘｇがΘｇ＞４５度となるように設定
し、前記入射角ΘｇがΘｇ＞４５度の誘電体多層膜によ
る偏光分離接合面と、該偏光分離接合面と入射角Θｇが
等しいＳ偏光反射膜による接合面とで一対をなし、この
対を複数個接合してアレイ状平板タイプに形成すること
を特徴とする偏光ビームスプリッタの作成方法。 （７）前記Θｇが４５度＜Θｇ＜６０度であることを特
徴とする上記（６）に記載の偏光ビームスプリッタの作
成方法。 （８）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＺｒＯ2、
低屈折率材としてＭｇＦ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率を約１．５２とすることを特徴とする上記
（６）または上記（７）に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。 （９）前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＴｉＯ2、
低屈折率材としてＳｉＯ2を用いた交互層からなり、基
材の屈折率を約１．５２とすることを特徴とする上記
（６）または上記（７）に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明においては、上記のように
構成することにより、従来の加工法を変更することな
く、角度依存性が少なく、偏光分離効率の優れた偏光ビ
ームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方
法を提供することが可能となるが、それは本発明が鋭意
研究した結果によるつぎのような知見に基づくものであ
る。
構成することにより、従来の加工法を変更することな
く、角度依存性が少なく、偏光分離効率の優れた偏光ビ
ームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方
法を提供することが可能となるが、それは本発明が鋭意
研究した結果によるつぎのような知見に基づくものであ
る。
【０００９】上記課題を解決するため、まず、透明基材
の接合面に誘電体多層膜を設けた偏光ビームスプリッタ
において、光軸の接合面に対する基材中の入射角Θｇが
Θｇ＞４５度となるように設定した。基材がＢＳＬ7の
場合選択できる膜屈折率が限定されるため、選択できる
膜屈折率の範囲を広げるため高い屈折率の基材を選択す
るが、同様のことを、接合面の入射角を変更することで
行った。
の接合面に誘電体多層膜を設けた偏光ビームスプリッタ
において、光軸の接合面に対する基材中の入射角Θｇが
Θｇ＞４５度となるように設定した。基材がＢＳＬ7の
場合選択できる膜屈折率が限定されるため、選択できる
膜屈折率の範囲を広げるため高い屈折率の基材を選択す
るが、同様のことを、接合面の入射角を変更することで
行った。
【００１０】この例を図１（ａ）、（ｂ）に示す。図１
（ａ）は横軸に膜材料屈折率を示すものであり、縦軸に
Ｓ偏光等価屈折率（ｎＣＯＳΘ）を示すものである。ま
た、図１（ｂ）の縦軸はＰ偏光等価屈折率（ＣＯＳΘ／
ｎ）を示すものである。４５等価ＢＳＬ7の実線が、基
材をＴＩＨ3に変更することにより４５等価ＴＩＨ3の実
線となる。入射角を５５度に変更することにより、４５
等価ＢＳＬ7の実線が、５５等価ＢＳＬ7の点線となる。
この時、４５等価ＴＩＨ3の実線と５５等価ＢＳＬ7の点
線はほぼ重なり、同じ効果である事が分かる。
（ａ）は横軸に膜材料屈折率を示すものであり、縦軸に
Ｓ偏光等価屈折率（ｎＣＯＳΘ）を示すものである。ま
た、図１（ｂ）の縦軸はＰ偏光等価屈折率（ＣＯＳΘ／
ｎ）を示すものである。４５等価ＢＳＬ7の実線が、基
材をＴＩＨ3に変更することにより４５等価ＴＩＨ3の実
線となる。入射角を５５度に変更することにより、４５
等価ＢＳＬ7の実線が、５５等価ＢＳＬ7の点線となる。
この時、４５等価ＴＩＨ3の実線と５５等価ＢＳＬ7の点
線はほぼ重なり、同じ効果である事が分かる。
【００１１】また、図１（ｂ）４５等価ＢＳＬ7の実線
から、ＢＳＬ7を基材に用いた場合、等価屈折率を同じ
にする（ブリュースタ条件を満たす）ためには、実用的
な低屈折率材としてＭｇＦ2に限られるのが分かる。し
かし、入射角を変更すれば、５５等価ＢＳＬ7の点線か
ら、４５等価ＴＩＨ3の実線と同様、ＴｉＯ2、Ｎｂ
2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＨｆＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ
2等の材料が使用できることになり、偏光分離特性、製
造上大きな利点となる。
から、ＢＳＬ7を基材に用いた場合、等価屈折率を同じ
にする（ブリュースタ条件を満たす）ためには、実用的
な低屈折率材としてＭｇＦ2に限られるのが分かる。し
かし、入射角を変更すれば、５５等価ＢＳＬ7の点線か
ら、４５等価ＴＩＨ3の実線と同様、ＴｉＯ2、Ｎｂ
2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＨｆＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ
2等の材料が使用できることになり、偏光分離特性、製
造上大きな利点となる。
【００１２】以上の構成のもので、更に、該Θｇ＞４５
度の偏光分離接合面とＳ偏光反射膜を有するΘｇ＞４５
度の接合面を一対となし、この対を複数個接合してなる
アレイ状平板タイプとすることにより、白板やＢＳＬ7
の平面基材を用いて、従来と同様に、接合、切断、研磨
の方法で製作する事が出来ることを見出した。即ち、ス
ペースを取らずに、高い偏光分離効率を有するアレイ状
平板タイプの偏光ビームスプリッタは製造上大きな利点
がある。
度の偏光分離接合面とＳ偏光反射膜を有するΘｇ＞４５
度の接合面を一対となし、この対を複数個接合してなる
アレイ状平板タイプとすることにより、白板やＢＳＬ7
の平面基材を用いて、従来と同様に、接合、切断、研磨
の方法で製作する事が出来ることを見出した。即ち、ス
ペースを取らずに、高い偏光分離効率を有するアレイ状
平板タイプの偏光ビームスプリッタは製造上大きな利点
がある。
【００１３】図２（ａ）に従来のアレイ状平板タイプの
偏光ビームスプリッタの断面模式図を、図２（ｂ）に上
記本発明の構成を適用したアレイ状平板タイプの偏光ビ
ームスプリッタの模式図を示す。図２において、Ｗは分
割ビーム幅、Ｈはアレイ状平板タイプでの板厚、Ｌは奥
行き方向に占めるスペース、Θａは光軸のガラス面に対
する入射角（図２（ａ）の場合は０度）、Θｇは光軸の
接合面に対する入射角（図２（ａ）の場合は４５度）を
示す。入射光は偏光分離膜によって透過Ｐ成分（Ｔｐ）
と反射Ｓ成分（Ｒｓ）に分離され、更にＲｓは反射膜に
よってＴｐと同一方向に出射される。この時の各寸法関
係は次式（Ａ）で現される。 Ｈ＝Ｗ×ＣＯＳ（２×Θｇ−９０）／ＣＯＳΘａ 及び Ｌ＝ｍ×Ｗ×ｔａｎΘａ＋Ｈ／ＣＯＳΘａ ………（Ａ） 但しｍは段数
偏光ビームスプリッタの断面模式図を、図２（ｂ）に上
記本発明の構成を適用したアレイ状平板タイプの偏光ビ
ームスプリッタの模式図を示す。図２において、Ｗは分
割ビーム幅、Ｈはアレイ状平板タイプでの板厚、Ｌは奥
行き方向に占めるスペース、Θａは光軸のガラス面に対
する入射角（図２（ａ）の場合は０度）、Θｇは光軸の
接合面に対する入射角（図２（ａ）の場合は４５度）を
示す。入射光は偏光分離膜によって透過Ｐ成分（Ｔｐ）
と反射Ｓ成分（Ｒｓ）に分離され、更にＲｓは反射膜に
よってＴｐと同一方向に出射される。この時の各寸法関
係は次式（Ａ）で現される。 Ｈ＝Ｗ×ＣＯＳ（２×Θｇ−９０）／ＣＯＳΘａ 及び Ｌ＝ｍ×Ｗ×ｔａｎΘａ＋Ｈ／ＣＯＳΘａ ………（Ａ） 但しｍは段数
【００１４】
【実施例】以下に、本発明の実施例について説明する
が、本発明はこれらによって何ら限定されるものではな
い。 ［実施例１］本発明の実施例１においては、まず、図３
に示すように、２個のＢＳＬ7プリズムで偏光分離膜を
挟んで接合し、ビームスプリッタを作成した。但し、Θ
ｇ＝５５度で成膜側からの入射である。偏光分離膜の膜
構成を表１に示す。高屈折率膜としてＴｉＯ2、低屈折
率膜としてＳｉＯ2を用い、ＵＶ硬化接着材で接合し
た。
が、本発明はこれらによって何ら限定されるものではな
い。 ［実施例１］本発明の実施例１においては、まず、図３
に示すように、２個のＢＳＬ7プリズムで偏光分離膜を
挟んで接合し、ビームスプリッタを作成した。但し、Θ
ｇ＝５５度で成膜側からの入射である。偏光分離膜の膜
構成を表１に示す。高屈折率膜としてＴｉＯ2、低屈折
率膜としてＳｉＯ2を用い、ＵＶ硬化接着材で接合し
た。
【００１５】この時の偏光分離膜の角度依存分光特性を
図４に示す。５８．５Ｔｐ、５８．５Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、５１．３Ｔｐ、５１．３Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。後述の比較例
１の従来例に対して、同じＢＳＬ7基材であっても、少
ない層数で反射率、透過率が高く、ともに変動の少ない
優れた特性が得られるのが分かる。
図４に示す。５８．５Ｔｐ、５８．５Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、５１．３Ｔｐ、５１．３Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。後述の比較例
１の従来例に対して、同じＢＳＬ7基材であっても、少
ない層数で反射率、透過率が高く、ともに変動の少ない
優れた特性が得られるのが分かる。
【００１６】
【表１】
本実施例においては、上記した膜構成で、図２（ｂ）に
示すようにアレイ状平板タイプの偏光ビームスプリッタ
を製作した。この時の形状寸法を、従来例および本実施
例におけるアレイ状平板タイプに構成する以前のもの
（以下、膜構成１と記す）との比較を表２に示す。偏光
ビームスプリッタの奥行き方向のスペースＬについて
は、本実施例、膜構成１のものは、共に従来例に比べて
不利である。しかしながら、液晶プロジェクタでは明る
さが重要であり、本実施例の偏光ビームスプリッタを用
いることは、有効である。更に、膜構成１のものに比較
してアレイ状平板タイプとすることにより、スペースＬ
について改善されることが分かる。
示すようにアレイ状平板タイプの偏光ビームスプリッタ
を製作した。この時の形状寸法を、従来例および本実施
例におけるアレイ状平板タイプに構成する以前のもの
（以下、膜構成１と記す）との比較を表２に示す。偏光
ビームスプリッタの奥行き方向のスペースＬについて
は、本実施例、膜構成１のものは、共に従来例に比べて
不利である。しかしながら、液晶プロジェクタでは明る
さが重要であり、本実施例の偏光ビームスプリッタを用
いることは、有効である。更に、膜構成１のものに比較
してアレイ状平板タイプとすることにより、スペースＬ
について改善されることが分かる。
【００１７】
【表２】
［実施例２］本発明の実施例２においては、実施例１と
同様にして、ＢＳＬ7プリズムで偏光分離膜を挟んで接
合し、後述の比較例１に比し、約半数の層数で優れた特
性が得られるビームスプリッタを作成した。但し、Θｇ
＝５０度で成膜側からの入射である。膜特性としては、
光源のスペクトル特性から、４３０〜６５０ｎｍの範囲
で角度依存（角度変化に対して透過Ｐ成分同士の比率、
反射Ｓ成分同士の比率の変化）が小さいこと、及び５１
０〜６３０ｎｍの範囲で高い透過率、反射率が得られる
ことを、目標とした。
同様にして、ＢＳＬ7プリズムで偏光分離膜を挟んで接
合し、後述の比較例１に比し、約半数の層数で優れた特
性が得られるビームスプリッタを作成した。但し、Θｇ
＝５０度で成膜側からの入射である。膜特性としては、
光源のスペクトル特性から、４３０〜６５０ｎｍの範囲
で角度依存（角度変化に対して透過Ｐ成分同士の比率、
反射Ｓ成分同士の比率の変化）が小さいこと、及び５１
０〜６３０ｎｍの範囲で高い透過率、反射率が得られる
ことを、目標とした。
【００１８】偏光分離膜の膜構成を表３に示す。高屈折
率膜としてＺｒＯ2、低屈折率膜としてＭｇＦ2を用い、
ＵＶ硬化接着材で接合した。この時の偏光分離膜の角度
依存分光特性を図５に示す。縦軸はＴｐ、又はＲｓを示
し、横軸は波長である。５３．８Ｔｐ、５３．８Ｒｓは
大気中で＋６度の角度変化に対応し、４６．１Ｔｐ、４
６．１Ｒｓは大気中で−６度の角度変化に対応する。比
較例１の従来例に対して、同じＢＳＬ7基材であって
も、約半分の層数で同等以上の特性が得られるのが分か
る。
率膜としてＺｒＯ2、低屈折率膜としてＭｇＦ2を用い、
ＵＶ硬化接着材で接合した。この時の偏光分離膜の角度
依存分光特性を図５に示す。縦軸はＴｐ、又はＲｓを示
し、横軸は波長である。５３．８Ｔｐ、５３．８Ｒｓは
大気中で＋６度の角度変化に対応し、４６．１Ｔｐ、４
６．１Ｒｓは大気中で−６度の角度変化に対応する。比
較例１の従来例に対して、同じＢＳＬ7基材であって
も、約半分の層数で同等以上の特性が得られるのが分か
る。
【００１９】
【表３】
（比較例１）実施例１と同様にしてＢＳＬ7プリズムで
偏光分離膜を挟んで接合し、ビームスプリッタを作成し
た。但し、Θｇ＝４５度で成膜側からの入射である。偏
光分離膜の膜構成を表４に示す。高屈折率膜としてＹ2
Ｏ3、低屈折率膜としてＭｇＦ 2を用い、ＵＶ硬化接着材
で接合した。この時の偏光分離膜の角度依存分光特性を
図６に示す。４９Ｔｐ、４９Ｒｓは大気中で＋６度の角
度変化に対応し、４１Ｔｐ、４１Ｒｓは大気中で−６度
の角度変化に対応する。実施例１及び実施例２に対し
て、同じＢＳＬ7基材であっても、同等に近い特性を得
るためには層数を大幅に増加させることが必要となり、
製造上の誤差を考えるときわめて不利であることが分か
る。
偏光分離膜を挟んで接合し、ビームスプリッタを作成し
た。但し、Θｇ＝４５度で成膜側からの入射である。偏
光分離膜の膜構成を表４に示す。高屈折率膜としてＹ2
Ｏ3、低屈折率膜としてＭｇＦ 2を用い、ＵＶ硬化接着材
で接合した。この時の偏光分離膜の角度依存分光特性を
図６に示す。４９Ｔｐ、４９Ｒｓは大気中で＋６度の角
度変化に対応し、４１Ｔｐ、４１Ｒｓは大気中で−６度
の角度変化に対応する。実施例１及び実施例２に対し
て、同じＢＳＬ7基材であっても、同等に近い特性を得
るためには層数を大幅に増加させることが必要となり、
製造上の誤差を考えるときわめて不利であることが分か
る。
【００２０】
【表４】
［実施例３］実施例１と同様にしてＴＩＨ3プリズムで
偏光分離膜を挟んで接合し、後述の比較例２に比して、
少ない層数で優れた特性の得られるビームスプリッタを
作成した。但し、Θｇ＝５０度で成膜側からの入射であ
る。偏光分離膜の膜構成を表５に示す。高屈折率膜とし
てＴｉＯ2、低屈折率膜としてＡｌ2Ｏ3を用い、ＵＶ硬
化接着材で接合した。
偏光分離膜を挟んで接合し、後述の比較例２に比して、
少ない層数で優れた特性の得られるビームスプリッタを
作成した。但し、Θｇ＝５０度で成膜側からの入射であ
る。偏光分離膜の膜構成を表５に示す。高屈折率膜とし
てＴｉＯ2、低屈折率膜としてＡｌ2Ｏ3を用い、ＵＶ硬
化接着材で接合した。
【００２１】この時の偏光分離膜の角度依存分光特性を
図７に示す。５３．３Ｔｐ、５３．３Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、４６．６Ｔｐ、４６．６Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。比較例２の従
来例に対して、同じＴＩＨ3基材であっても、少ない層
数で反射率、透過率ともに変動の少ない優れた特性が得
られるのが分かる。
図７に示す。５３．３Ｔｐ、５３．３Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、４６．６Ｔｐ、４６．６Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。比較例２の従
来例に対して、同じＴＩＨ3基材であっても、少ない層
数で反射率、透過率ともに変動の少ない優れた特性が得
られるのが分かる。
【００２２】
【表５】
［実施例４］実施例１と同様にしてＴＩＨ3プリズムで
偏光分離膜を挟んで接合し、後述の比較例２に比して、
優れた特性の得られるビームスプリッタを作成した。但
し、Θｇ＝５５度で成膜側からの入射である。偏光分離
膜の膜構成を表６に示す。高屈折率膜としてＴｉＯ2、
低屈折率膜としてＹ2Ｏ3を用い、屈折率１．６２のＵＶ
硬化接着材で接合した。
偏光分離膜を挟んで接合し、後述の比較例２に比して、
優れた特性の得られるビームスプリッタを作成した。但
し、Θｇ＝５５度で成膜側からの入射である。偏光分離
膜の膜構成を表６に示す。高屈折率膜としてＴｉＯ2、
低屈折率膜としてＹ2Ｏ3を用い、屈折率１．６２のＵＶ
硬化接着材で接合した。
【００２３】この時の偏光分離膜の角度依存分光特性を
図８に示す。５７．９Ｔｐ、５７．９Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、５２．０Ｔｐ、５２．０Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。比較例２の従
来例に対して、同じＴＩＨ3基材であっても、反射率、
透過率が高く、ともに変動の少ない優れた特性が得られ
るのが分かる。
図８に示す。５７．９Ｔｐ、５７．９Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、５２．０Ｔｐ、５２．０Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。比較例２の従
来例に対して、同じＴＩＨ3基材であっても、反射率、
透過率が高く、ともに変動の少ない優れた特性が得られ
るのが分かる。
【００２４】
【表６】
（比較例２）実施例１と同様にしてＴＩＨ3プリズムで
偏光分離膜を挟んで接合し、ビームスプリッタを作成し
た。但し、Θｇ＝４５度で成膜側からの入射である。偏
光分離膜の膜構成を表７に示す。高屈折率膜としてＴｉ
Ｏ2、低屈折率膜としてＳｉＯ2を用い、ＵＶ硬化接着材
で接合した。
偏光分離膜を挟んで接合し、ビームスプリッタを作成し
た。但し、Θｇ＝４５度で成膜側からの入射である。偏
光分離膜の膜構成を表７に示す。高屈折率膜としてＴｉ
Ｏ2、低屈折率膜としてＳｉＯ2を用い、ＵＶ硬化接着材
で接合した。
【００２５】この時の偏光分離膜の角度依存分光特性を
図９に示す。４８．４Ｔｐ、４８．４Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、４１．６Ｔｐ、４１．６Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。実施例３に対
して、同じＴＩＨ3基材であっても、多くの層数を必要
とし、製造上の誤差を考えると不利であるのが分かる。
又、特に透過率において、実施例３に比較して特性変動
が大きい。
図９に示す。４８．４Ｔｐ、４８．４Ｒｓは大気中で＋
６度の角度変化に対応し、４１．６Ｔｐ、４１．６Ｒｓ
は大気中で−６度の角度変化に対応する。実施例３に対
して、同じＴＩＨ3基材であっても、多くの層数を必要
とし、製造上の誤差を考えると不利であるのが分かる。
又、特に透過率において、実施例３に比較して特性変動
が大きい。
【００２６】
【表７】
【００２７】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、従来の加工法を変更することなく、角度依存性が少
なく、偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッタ、お
よび偏光ビームスプリッタの作成方法を実現することが
できる。
ば、従来の加工法を変更することなく、角度依存性が少
なく、偏光分離効率の優れた偏光ビームスプリッタ、お
よび偏光ビームスプリッタの作成方法を実現することが
できる。
【図１】本発明の実施の形態の偏光ビームスプリッタに
おける透過屈折率を説明するための図。
おける透過屈折率を説明するための図。
【図２】本発明の実施の形態におけるアレイ状平板タイ
プの偏光ビームスプリッタを説明するための断面模式図
であり、（ａ）は従来のアレイ状平板タイプの偏光ビー
ムスプリッタの断面模式図であり、（ｂ）は本発明の構
成を適用したアレイ状平板タイプの偏光ビームスプリッ
タの模式図である。
プの偏光ビームスプリッタを説明するための断面模式図
であり、（ａ）は従来のアレイ状平板タイプの偏光ビー
ムスプリッタの断面模式図であり、（ｂ）は本発明の構
成を適用したアレイ状平板タイプの偏光ビームスプリッ
タの模式図である。
【図３】本発明の実施例１〜実施例４における偏光ビー
ムスプリッタの断面構成を示す模式図。
ムスプリッタの断面構成を示す模式図。
【図４】本発明の実施例１における偏光膜の特性を示す
図。
図。
【図５】本発明の実施例２における偏光膜の特性を示す
図。
図。
【図６】比較例１の偏光膜の特性を示す図。
【図７】本発明の実施例３における偏光膜の特性を示す
図。
図。
【図８】本発明の実施例４における偏光膜の特性を示す
図。
図。
【図９】比較例２の偏光膜の特性を示す図。
Claims (9)
- 【請求項１】接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜
を有する透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに構成
した偏光ビームスプリッタにおいて、 前記偏光分離膜への光の入射角ΘｇがΘｇ＞４５度とさ
れていることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。 - 【請求項２】前記入射角ΘｇがΘｇ＞４５度の誘電体多
層膜による偏光分離接合面と、該偏光分離接合面と入射
角Θｇが等しいＳ偏光反射膜による接合面とで一対をな
し、この対を複数個接合してアレイ状平板タイプとした
ことを特徴とする請求項１に記載の偏光ビームスプリッ
タ。 - 【請求項３】前記Θｇが４５度＜Θｇ＜６０度であるこ
とを特徴とする請求項１または請求項２に記載の偏光ビ
ームスプリッタ。 - 【請求項４】前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＺｒ
Ｏ2、低屈折率材としてＭｇＦ2を用いた交互層からな
り、基材の屈折率が約１．５２であることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光ビームスプリ
ッタ。 - 【請求項５】前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＴｉ
Ｏ2、低屈折率材としてＳｉＯ2を用いた交互層からな
り、基材の屈折率が約１．５２であることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光ビームスプリ
ッタ。 - 【請求項６】接合面に誘電体多層膜からなる偏光分離膜
を有する透明基材を接合し、アレイ状平板タイプに形成
する偏光ビームスプリッタの作成方法において、前記偏
光分離膜への光の入射角ΘｇがΘｇ＞４５度となるよう
に設定し、前記入射角ΘｇがΘｇ＞４５度の誘電体多層
膜による偏光分離接合面と、該偏光分離接合面と入射角
Θｇが等しいＳ偏光反射膜による接合面とで一対をな
し、この対を複数個接合してアレイ状平板タイプに形成
することを特徴とする偏光ビームスプリッタの作成方
法。 - 【請求項７】前記Θｇが４５度＜Θｇ＜６０度であるこ
とを特徴とする請求項６に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。 - 【請求項８】前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＺｒ
Ｏ2、低屈折率材としてＭｇＦ2を用いた交互層からな
り、基材の屈折率を約１．５２とすることを特徴とする
請求項６または請求項７に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。 - 【請求項９】前記偏光分離膜は、高屈折率材としてＴｉ
Ｏ2、低屈折率材としてＳｉＯ2を用いた交互層からな
り、基材の屈折率を約１．５２とすることを特徴とする
請求項６または請求項７に記載の偏光ビームスプリッタ
の作成方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001197978A JP2003014932A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法 |
| EP02254577A EP1276000B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-28 | Polarisation beam splitter and method of producing the same |
| DE60221754T DE60221754T2 (de) | 2001-06-29 | 2002-06-28 | Polarisationsstrahlenteiler und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US10/183,399 US6859315B2 (en) | 2001-06-29 | 2002-06-28 | Polarization beam splitter and method of producing the same |
| US10/917,329 US20050012997A1 (en) | 2001-06-29 | 2004-08-13 | Polarization beam splitter and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001197978A JP2003014932A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003014932A true JP2003014932A (ja) | 2003-01-15 |
Family
ID=19035493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001197978A Pending JP2003014932A (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6859315B2 (ja) |
| EP (1) | EP1276000B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003014932A (ja) |
| DE (1) | DE60221754T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007021015A1 (en) * | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Ricoh Company, Ltd. | Polarization conversion element, polarization conversion optical system and image projecting apparatus |
| JP2008015240A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Olympus Corp | 光学素子、この光学素子を備える２板ユニット、撮像機器、及び内視鏡 |
| WO2017018372A1 (ja) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | コニカミノルタ株式会社 | 光源装置及び投影装置 |
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|---|---|---|---|---|
| FR2847988B1 (fr) * | 2002-12-03 | 2005-02-25 | Essilor Int | Separateur de polarisation, procede pour sa fabrication et lentille ophtalmique presentant des inserts de projection le contenant |
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| CN102998801B (zh) * | 2011-09-09 | 2015-04-22 | 亚洲光学股份有限公司 | 三色光合成装置 |
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|---|---|---|---|---|
| US2748659A (en) * | 1951-02-26 | 1956-06-05 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Light source, searchlight or the like for polarized light |
| US2868076A (en) * | 1952-05-17 | 1959-01-13 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Polarizer for producing uniformly polarized light with aid of interference polarizers and phase retarders |
| FR2629924B1 (fr) * | 1988-04-08 | 1992-09-04 | Comp Generale Electricite | Polariseur a couches dielectriques |
| DE69218830T2 (de) | 1991-05-29 | 1997-07-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bildprojektions-System |
| JPH06258525A (ja) | 1993-03-02 | 1994-09-16 | Omron Corp | 投受光装置 |
| JPH06281886A (ja) | 1993-03-26 | 1994-10-07 | Omron Corp | 光アイソレータ及び光アイソレータを用いた光学装置 |
| JP3168765B2 (ja) | 1993-04-01 | 2001-05-21 | 松下電器産業株式会社 | 偏光装置および該偏光装置を用いた投写型表示装置 |
| JP3168770B2 (ja) | 1993-06-03 | 2001-05-21 | 松下電器産業株式会社 | 偏光装置および該偏光装置を用いた投写型表示装置 |
| US5969861A (en) | 1994-02-07 | 1999-10-19 | Nikon Corporation | Polarizing optical system |
| JP3584257B2 (ja) | 1994-04-08 | 2004-11-04 | 株式会社ニコン | 偏光ビームスプリッタ |
| JPH08146218A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Olympus Optical Co Ltd | 偏光ビームスプリッター |
| EP1063554B1 (en) * | 1994-12-28 | 2004-03-03 | Seiko Epson Corporation | Polarization luminaire and projector using it |
| JPH09184916A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-07-15 | Olympus Optical Co Ltd | 偏光ビームスプリッター及び多層膜の成膜方法 |
| US6404550B1 (en) | 1996-07-25 | 2002-06-11 | Seiko Epson Corporation | Optical element suitable for projection display apparatus |
| JP2894290B2 (ja) | 1996-08-20 | 1999-05-24 | 日本電気株式会社 | 投射型カラー液晶表示装置 |
| JPH1123842A (ja) | 1997-07-03 | 1999-01-29 | Minolta Co Ltd | 偏光ビームスプリッタ、該偏光ビームスプリッタを有する照明光学系およびプロジェクタ |
| US5967635A (en) * | 1997-07-03 | 1999-10-19 | Minolta Co., Ltd. | Polarized beam splitter and an illumination optical system and a projector provided with a polarized beam splitter |
| US5896232A (en) | 1997-08-07 | 1999-04-20 | International Business Machines Corporation | Highly efficient and compact frontlighting for polarization-based reflection light valves |
| CA2290860C (en) * | 1998-11-27 | 2007-05-22 | National Research Council Of Canada | Polarizing back-lighting system for direct view liquid crystal displays |
-
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- 2001-06-29 JP JP2001197978A patent/JP2003014932A/ja active Pending
-
2002
- 2002-06-28 DE DE60221754T patent/DE60221754T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-28 EP EP02254577A patent/EP1276000B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-06-28 US US10/183,399 patent/US6859315B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-08-13 US US10/917,329 patent/US20050012997A1/en not_active Abandoned
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007021015A1 (en) * | 2005-08-18 | 2007-02-22 | Ricoh Company, Ltd. | Polarization conversion element, polarization conversion optical system and image projecting apparatus |
| KR100909405B1 (ko) * | 2005-08-18 | 2009-07-24 | 가부시키가이샤 리코 | 편광 변환 소자, 편광 변환 광학계 및 화상 투영 장치 |
| US7995275B2 (en) | 2005-08-18 | 2011-08-09 | Ricoh Company, Ltd. | Polarization conversion element, polarization conversion optical system and image projecting apparatus |
| JP2008015240A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Olympus Corp | 光学素子、この光学素子を備える２板ユニット、撮像機器、及び内視鏡 |
| US8203787B2 (en) | 2006-07-06 | 2012-06-19 | Olympus Corporation | Optical device, two-plate unit, imaging instrument, and endoscope equipped with optical device |
| WO2017018372A1 (ja) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | コニカミノルタ株式会社 | 光源装置及び投影装置 |
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