JP2003019874A

JP2003019874A - 印刷用スクリーン紗

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Publication number: JP2003019874A
Application number: JP2001208781A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Suzuki; 政幸鈴木; Katsuhide Manabe; 勝英真部; Eigo Nakajima; 英吾中嶋; Toshikazu Suzuki; 敏和鈴木; Takahiro Suzuki; 隆啓鈴木; Toru Yokomizo; 徹横溝; Hiroshi Otaka; 浩大高
Original assignee: NBC Inc; Suzutora KK
Current assignee: NBC Inc; Suzutora KK
Priority date: 2001-07-10
Filing date: 2001-07-10
Publication date: 2003-01-21
Anticipated expiration: 2021-07-10
Also published as: JP3492652B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ステンレス鋼線を経糸、緯糸とするスク
リーン紗の改良により、写真製版の際にシャドー部下方
の感光層に紫外線が入射するのを防ぎ、印刷用スクリー
ンに原板マスクと等しい形の孔を形成し、精密印刷を可
能にする。【解決手段】ステンレス鋼の細い線材を経糸１６およ
び緯糸１７に用いて製織された紗状織物の少なくとも片
面を金属の酸化物、窒化物もしくは炭化物又はフッ化マ
グネシウムからなる紫外線用の反射防止膜１６ａ、１７
ａで被覆する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、写真製版用に好適な
印刷用スクリーン紗に関し、特にプリント配線等の精密
印刷を可能にするものである。

【０００２】

【従来の技術】印刷用スクリーン紗として、ステンレス
鋼からなる直径１０〜５０μｍの細い線材を経糸および
緯糸に用いて１００〜８００メッシュの紗状織物を製織
し、その表裏両面にステンレス鋼をスパッタ蒸着して上
記の経糸および緯糸をステンレス鋼からなるアモルファ
ス構造の厚み１０〜１０００ｎｍの蒸着膜で被覆したも
のが知られている（特開平８−１１８８３５号公報参
照）。この印刷用スクリーン紗は、上記の蒸着膜を有し
ないものに比べ、印刷インキやトナー、捺染糊に対する
濡れ性が優れるため、精密印刷が可能である。

【０００３】しかしながら、上記の印刷用スクリーン紗
は、経糸および緯糸の表面がステンレス鋼で形成されて
いて光反射性を有するため、写真製版に際し、紫外線硬
化性樹脂からなる水溶性乳剤を塗布、乾燥して感光層を
形成し、得られたスクリーンの片面に原板マスクを介し
て紫外線を照射し露光したとき、感光層に入った紫外線
の一部が経糸または緯糸の表面で反射し、この反射光が
本来露光の不要な部分の感光層を感光させて硬化し、そ
のため硬化部分の面積が設計よりも広くなり、印刷イン
キ等の通過する孔が狭くなるという問題があった。

【０００４】図１は、従来のスクリーン紗１０に感光層
１１を形成した状態の断面図を示し、スクリーン紗１０
は、ステンレス鋼製の経糸１０ａと緯糸（図示されてい
ない）とで製織され、ステンレス鋼の蒸着膜（図示され
ていない）を有しており、感光層１１は前記の紫外線硬
化性樹脂で形成されている。１２は原板マスクであり、
透明部１２ａとシャドー部１２ｂとからなり、この原板
マスク１２を感光層１１の表面に重ね、紫外線Ｌを照射
すると、その一部はシャドー部１２ｂによって感光層１
１への入射を遮られるが、残りは透明部１２ａを経て感
光層１１へ入射し、感光、硬化させる。そして、感光層
１１に入射した紫外線Ｌは、更に経糸１０ａまたは緯糸
に当たって反射するものと、当たらずに感光層１１を貫
通するものとに分かれ、当たって反射したものの一部Ｌ
ａは、シャドー部１２ｂの下の感光層１１に入射し、こ
の部分を感光、硬化させる。

【０００５】上記の露光が終わると、原板マスク１２を
外したスクリーン紗１０が感光層１１と共に現像に付さ
れ、この処理で感光層１１の感光部分を残して非感光部
分が除去され、印刷インキや塗料の通過可能な孔が形成
され、印刷版（スクリーン型）１３（図２参照）が得ら
れる。したがって、上記シャドー部１２ｂの下方部分に
入射する紫外線Ｌａが存在しない場合は、図２（ａ）に
示すように、印刷版１３には、シャドー部１２ｂと等し
い形の孔１３ａが形成されるが、実際には上記シャドー
部１２ｂの下方に入射する紫外線Ｌａが存在するため、
図２（ｂ）に示すように、印刷版１３に形成される孔１
３ａは、上部がシャドー部１２ｂとほぼ等しく、下部が
狭い台形断面となる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】この発明は、ステンレ
ス鋼線を経糸、緯糸とするスクリーン紗を改良すること
により、写真製版の際にシャドー部下方の感光層に紫外
線が入射するのを防いで感光層に原板マスクと等しい形
の孔を形成し、もって印刷インキ、トナー、捺染糊およ
びペースト等の透過性を向上し、プリント回路等で要求
される精密印刷を可能にするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明に係る印刷用ス
クリーン紗は、ステンレス鋼の細い線材を経糸および緯
糸に用いて製織された紗状織物の少なくとも片面が金属
の酸化物、窒化物もしくは炭化物又はフッ化マグネシウ
ムからなる紫外線用の反射防止膜で被覆されていること
を特徴とする。

【０００８】この発明に係るスクリーン紗は、写真製版
の際、常法にしたがって紫外線硬化性樹脂からなる感光
層と一体化し、得られたスクリーンの表面、すなわち経
糸および緯糸が反射防止膜で被覆されている側に原板マ
スクを重ねて紫外線を照射し、次いで現像、水洗により
非露光部分を洗い流して印刷版（スクリーン型）とされ
るが、経糸および緯糸を構成するステンレス鋼の細い線
材の少なくとも片面が紫外線用の反射防止膜で被覆され
ているので、紫外線照射の際、反射防止膜からの反射光
が大幅に減少する。

【０００９】そして、反射防止膜で被覆されない部分が
あっても、その部分は原板マスクの反対側に位置するの
で、露光用の紫外線が当たることはない。したがって、
原板マスクのシャドー部下方の感光剤に紫外線が入射し
て該部が硬化することはなく、そのため現像、水洗によ
ってシャドー部と同一形状の孔が形成され、原板マスク
と等しい型模様の印刷版（スクリーン型）が得られる。

【００１０】上記の反射防止膜は、チタン、亜鉛、ニッ
ケル、クロームおよびケイ素等の金属の酸化物、窒化物
もしくは炭化物又はフッ化マグネシウムで形成される。
この反射防止膜は、特に物理蒸着膜が好ましい。これら
の物理蒸着膜は、経糸および緯糸を構成するステンレス
鋼と共に導電性を有しているので、静電気の帯電による
障害も防ぐことができる。そして、物理蒸着膜であるた
め、耐剥離性に優れる。また、物理蒸着を紗状織物の表
面に向けて施すことにより、蒸着膜が経糸および緯糸の
表面側半周を裏面側へ越えて広く形成される。

【００１１】図３は、この発明に係るスクリーン紗１５
の断面を示し、ステンレス鋼線からなる経糸１６および
緯糸１７の表面側にそれぞれ反射防止膜１６ａおよび１
７ａが形成されている。スクリーン紗１５の片側（図３
の上方）から物理蒸着法によって前記金属酸化物等の蒸
気を下向きに飛ばした場合は、蒸気が主として経糸１６
および緯糸１７の上面に付着して上記の金属酸化物等と
ほぼ同じ組成の金属酸化物からなる蒸着膜が形成され、
その厚みを適当に設定することにより反射防止膜１６
ａ、１７ａを構成するが、金属酸化物が蒸気の形で飛ば
されるため、一部が経糸１６、緯糸１７の下面側にも回
って付着し、反射防止膜１６ａ、１７ａが経糸１６、緯
糸１７の片側半分よりも広い範囲にわたって形成され
る。

【００１２】上記反射防止膜を備えた印刷用スクリーン
紗の反射率は、特に波長２５０〜４５０ｎｍの紫外線に
対して１５％以下であることが好ましく、１５％を超え
た場合は、設計通りの製版が困難になる。上記の反射率
を得るためには、前記の物理蒸着を行う際の蒸着時間等
を制御することにより、上記反射防止膜の厚みを３〜２
５０ｎｍに設定することが好ましい。また、透過率は、
上記の紫外線に対して４５％以上が好ましい。そして、
紫外線として上記波長のものを選択することにより、上
記範囲の紫外線に感光性の紫外線硬化樹脂を使用するこ
とが可能になり、取扱が容易になる。また、上記の反射
防止膜は、単層でもよいが、屈折率を異にする２種以上
の反射防止膜からなる多層構造として反射率を一層小さ
くすることもできる。また、上記の反射防止膜を表裏両
面に形成した場合は、印刷インキ、トナー、捺染糊およ
びペースト等の透過性が一層向上する。

【００１３】この発明において、上記の経糸および緯糸
を構成するステンレス鋼は、マルテンサイト系、フェラ
イト系、オーステナイト系等のステンレス鋼であり、特
にオーステナイト系ステンレス鋼の中でモリブデンを添
加したもの（例えば、ＳＵＳ３１６）は、耐食性、耐塩
素性および耐酸性等に優れる点で特に好ましい。この発
明では、上記のステンレス鋼からなる細い線材が織物の
経糸および緯糸として使用されるが、その太さは、１０
〜５０μｍ、特に１５〜３０μｍが好ましく、１０μｍ
未満では、細過ぎて切断し易く、反対に５０μｍを超す
と細い線の印刷が著しく困難になる。

【００１４】上記スクリーン紗の密度は、１００〜８０
０メッシュ、特に２５０〜７００メッシュが好ましい。
この密度が１００メッシュ未満では細い線からなる精密
な図柄の印刷、捺染が不可能になり、反対に８００メッ
シュを超した場合は、製造が困難になる。なお、上記ス
クリーン紗の織り組織は、平組織等の目ずれの生じ難
い、縦横均一な開口面を有する組織が好ましい。

【００１５】

【発明の実施の形態】実施形態１線径１５〜３０μｍのステンレス鋼線を経糸および緯糸
に用いて２５０〜７００メッシュの平織物を製織し、こ
れを紗状織物（スクリーン紗原反）とし、その表面側に
酸化チタン等の金属酸化物をスパッタ蒸着して経糸およ
び緯糸に厚み３〜２５０ｎｍの反射防止膜を形成する。
得られたスクリーン紗に紫外線硬化性樹脂からなる水溶
性乳剤を塗布、乾燥して感光層を形成し、その表面（経
糸・緯糸の反射防止膜側）に原板マスクを重ねて紫外線
を照射し、次いで現像、水洗すると、原板マスクと同じ
型模様を備えた印刷版（スクリーン型）が得られる。そ
して、この印刷版は、濡れ性および導電性を兼備してい
るため、印刷時の裏回りも良好で、かつ静電気の帯電に
よる障害もなく、極めて精密な印刷が可能である。

【００１６】図４は、スパッタリング装置の一例を示
し、密閉可能なチャンバ２０の下部にチタンからなる平
板状のターゲット２１が表面を上にして中空のターゲッ
トソース２２上に固定され、このターゲットソース２２
に通される冷水で上記ターゲット２１が下面から冷却さ
れる。このターゲット２１の上方左右にアノード２３が
水平に設置され、このアノード２３およびターゲット２
１間に直流電源Ｅによって５００〜１０００Ｖの直流電
圧が印加される。

【００１７】上記アノード２３の上方に水冷シリンダ２
４が水平に、かつ回転自在に設置され、その左上方に前
記のステンレス鋼線からなる紗状織物Ｆの送出し軸２５
が、また右上方にスクリーン紗Ｆａの巻取り軸２６がそ
れぞれ水平に、かつ回転自在に設置される。そして、送
出し軸２５に巻かれた紗状織物Ｆが引出され、左上部の
ガイドローラ２７ａを経て上記水冷シリンダ２４に巻回
され、右上部のガイドローラ２７ｂを経て巻取り軸２６
に巻き取られる。また、チャンバ２０に真空ポンプ２
８、アルゴンガス供給用ガスボンベ２９ａおよび酸素ガ
ス供給用ガスボンベ２９ｂがそれぞれ接続される。

【００１８】上記の装置において、送出し軸２５、巻取
り軸２６および水冷シリンダ２４を回転し、紗状織物Ｆ
を反時計方向に所定の速度で送りながら水冷シリンダ２
４を冷却し、上記紗状織物Ｆの表面温度を６０℃以下に
維持する。一方、真空ポンプ２８を駆動してチャンバ２
０内圧力を１．３×１０^-3Pa程度に減圧し、次いでアル
ゴンガス供給用ガスボンベ２９ａからアルゴンガスを導
入してチャンバ２０内圧力を６．６×１０^-2Pa程度に調
整し、続いて酸素ガス供給用ガスボンベ２９ｂから酸素
ガスを導入してチャンバ２０内圧力を１．３×１０^-1Pa
程度に調整し、しかるのち上記のアノード２３およびタ
ーゲット２１間に５００〜１０００Ｖの直流電圧を印加
してターゲット２１からチタンを飛び出させ、このチタ
ンを酸素ガスと反応させて酸化チタンとし、この酸化チ
タンを上記紗状織物Ｆの経糸および緯糸上に付着させ、
経糸および緯糸の半周以上を酸化チタンの蒸着膜で被覆
する。このとき、紗状織物Ｆの送り速度を調整して蒸着
膜の厚さを３〜２５０ｎｍに制御して反射防止膜とし、
スクリーン紗Ｆａを得る。

【００１９】なお、ターゲット２１のチタンに代えて亜
鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等を使用した場合は、
亜鉛やニッケル、クローム、ケイ素の酸化物からなる反
射防止膜が得られる。

【００２０】実施形態２上記の実施形態１において、酸素ガスに代えて窒素ガス
を用い、その他は実施形態１と同様にしてチタン、亜
鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等の金属を窒素ガスと
反応させ、これによって窒化物からなる反射防止膜を形
成する。

【００２１】実施形態３上記の実施形態１において、酸素ガスに代えてメタンガ
スを用い、その他は実施形態１と同様にしてチタン、亜
鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等の金属を、メタンガ
スから分離した炭素ガスと反応させ、これによって炭化
物からなる反射防止膜を形成する。

【００２２】実施形態４上記の実施形態１において、ターゲット２１のチタンに
代えてフッ化マグネシウムを使用し、かつ酸素ガス供給
用ガスボンベ２９ｂの使用を止め、アルゴンガスの雰囲
気下でスパッタリングを行うことにより、フッ化マグネ
シウムからなる反射防止膜を形成する。

【００２３】実施形態５上記の実施形態１〜４において、スクリーン紗原反Ｆに
対する片側からのスパッタリングが終わった後、この原
反Ｆを裏返しに取付けて２度目のスパッタリングを裏側
から行うことにより、経糸および緯糸の全面に反射防止
膜を形成することができ、この場合は濡れ性が一層向上
する。そして、図５に示すように、チャンバ内に２組の
スパッタリング装置を設置すると、表裏のスパッタリン
グを連続して行うことができる。

【００２４】図５において、３０は密閉チャンバであ
り、その中央部左右に第１水冷シリンダー３１および第
２水冷シリンダー３２が並設され、左側の第１水冷シリ
ンダー３１が反時計方向に、また右側の第２水冷シリン
ダー３２が時計方向にそれぞれ駆動により回転する。

【００２５】上記第１水冷シリンダー３１の上方に紗状
織物Ｆの送出し軸３３が、また上記第２水冷シリンダー
３２の上方にスクリーン紗Ｆの巻取り軸３４がそれぞれ
回転自在に設置される。そして、送出し軸３３から引出
された紗状織物Ｆは、第１ガイドローラ３５ａを経て第
１水冷シリンダー３１に裏面が接するように巻回され、
この第１水冷シリンダー３１から第２ガイドローラ３５
ｂを経て離脱し、上方の第３ガイドローラ３５ｃ、第４
ガイドローラ３５ｄに導かれて上記巻取り軸３４の上を
通り、下方の第５ガイドローラ３５ｅを経て第２水冷シ
リンダー３２に表面が接するように巻回され、この第２
水冷シリンダー３２から第６ガイドローラ３５ｆを経て
離脱し、スクリーン紗Ｆａとして巻取り軸３４に引取ら
れる。

【００２６】上記の第１水冷シリンダー３１および第２
水冷シリンダー３２の下方には、それぞれ左右一対の第
１アノード３７および第２アノード３８が設置される。
そして、第１アノード３７および第２アノード３８の下
方にそれぞれ水冷式の第１ターゲットソース３９および
第２ターゲットソース４０が設置され、これら第１ター
ゲットソース３９および第２ターゲットソース４０の上
にそれぞれチタンからなる平板状ターゲット３１がそれ
ぞれ固定され、第１アノード３７と第１ターゲットソー
ス３９の間および第２アノード３８と第２ターゲットソ
ース４０の間にそれぞれ電圧５００〜１０００Ｖの直流
電源Ｅが介設される。

【００２７】上記の構造において、送出し軸３３、巻取
り軸３４および水冷シリンダー３１、３２を回転し、送
出し軸３３から紗状織物Ｆを所定の速度で送出し、第１
水冷シリンダー３１および第２水冷シリンダー３２に順
に接触させて巻取り軸３４で引取りながら、第１水冷シ
リンダー３１では上記の紗状織物Ｆを裏側から冷却し、
また第２水冷シリンダー３２では表側から冷却する。一
方、密閉チャンバ３０に接続されている真空ポンプ（図
示されていない）を駆動して密閉チャンバ３０の内部圧
力を１．３×１０^-3Pa程度に減圧し、次いでアルゴンガ
ス供給用ガスボンベ（図示されていない）からアルゴン
ガスを導入して上記密閉チャンバ３０の内部圧力を６．
６×１０^-2Pa程度に調整し、更に酸素ガス供給用ガスボ
ンベ（図示されていない）から酸素ガスを導入してチャ
ンバ３０内圧力を１．３×１０^-1Pa程度に調整する。

【００２８】しかるのち上記の第１アノード３７・第１
ターゲットソース３９間および第２アノード３８・第２
ターゲットソース４０間にそれぞれ直流電圧を印加して
平板状ターゲット４１からチタンを飛び出させ、酸素と
反応させて酸化チタンとし、これを第１水冷シリンダー
３１上の紗状織物Ｆの表面および第２水冷シリンダー３
２上の紗状織物Ｆの裏面にそれぞれ付着させ、急冷して
アモルファス構造の厚み３〜２５０ｎｍの反射防止膜を
形成してスクリーン紗Ｆａを得る。

【００２９】なお、左右のターゲット４１のチタンに代
えて亜鉛、ニッケル、クローム、ケイ素等を使用した場
合は、その酸化物からなる反射防止膜が得られる。ま
た、酸素ガスに代えて窒素ガスを用いた場合は、窒化物
からなる反射防止膜が得られる。また、酸素ガスに代え
てメタンガスを用いた場合は、炭化物からなる反射防止
膜が得られる。また、ターゲット４１のチタンに代えて
フッ化マグネシウム使用し、かつ酸素ガスの使用を止
め、アルゴンガスの雰囲気下でスパッタリングを行った
場合は、フッ化マグネシウムからなる反射防止膜が得ら
れる。

【００３０】

【実施例】オーステナイト系ステンレス鋼（ＳＵＳ３１
６）からなる線径１８μｍの線材を経糸および緯糸とす
る５００メッシュの平織物を使用し、前記実施形態５の
方法で表裏両面にスパッタリングを行い、実施例１、２
の印刷用スクリーン紗を製造した。また、実施形態５に
おいて、ターゲットにステンレス鋼製を用い、雰囲気ガ
スにアルゴンガスを用いる以外は実施形態５と同様にし
て比較例１のスクリーン紗を製造した。また、上記の線
材からなる平織物をそのまま用いて比較例２のスクリー
ン紗とした。これらのスクリーン紗の特性を下記の表１
に示す。

【００３１】

【表１】

【００３２】上記の実施例１、２および比較例１、２の
スクリーン紗をそれぞれスクリーン枠（サイズ３２０×
３２０mm）に張り、感光乳剤を塗布し、その中央部（サ
イズ１００×１００mm）に原板マスクを密着した。次い
で、波長２００〜４５０ｎｍの紫外線を照射し、現像し
て製版し、ＵＶペースト（ソマール社製「ＥＲ−７０
Ｂ」）、ガラスペースト（奥野製薬社製「ＥＬＤ−５２
０」）および銀ペースト（アサヒ化学社製「ＬＳ−５０
４ＨＣ」）を用いて印刷テストを行い、印刷前と印刷後
の被印刷物（コート紙）の重量を測定し、その差からペ
ーストの塗布量を算出し、この塗布量で印刷性能を比較
した。

【００３３】印刷機には小型印刷機（ニューロング精密
工業株式会社製、商品名「ＬＳ１５ＧＸ」）を使用し、
スキージ圧力を３．５kg／cm² に、押込み量（被印刷物
にスキージゴムの先端を接触させ、この位置を基準にし
て印圧を加えた際のスキージヘッドの下降距離）を０．
３ mm に、オフコンタクト（刷版の印刷面と被印刷物間
のギャップ）を１．０mmに、スキージ硬度を７０度に、
スキージ角度を７５度に、印刷速度を１００mm／秒に
それぞれ設定した。ただし、試料番号１〜３のそれぞれ
で１０回ずつペースト塗布量を試験し、その算術平均を
算出した。その結果を下記の表２に示す。

【００３４】

【表２】

【００３５】上記の表１、２に示すとおり、実施例１、
２は、特に可視光領域に近い波長３６０ｎｍの紫外線に
対する反射率が小さいため、平均塗布量が大きくなり、
小さい孔や幅の狭いスリットの形成が可能になり、精密
印刷が可能であった。一方、比較例１、２は、反射率が
大きいため、平均塗布量が少なくなり、実施例に比べて
印刷性が劣っていた。

【００３６】

【発明の効果】上記のとおり、この発明に係る印刷用ス
クリーン紗は、写真製版に際し、反射防止膜を有しない
もに比べて再現性に優れ、原板マスクと等しい型模様の
印刷版（スクリーン型）が得られ、かつ濡れ性も良好で
あるため、印刷インキ等の透過性が向上し、精密印刷や
精密捺染が可能になる。特に請求項２に係る発明は、反
射防止膜の耐剥離性に優れている。また、請求項３に係
る発明は、反射防止膜の反射率を限定するものであるか
ら、設計通りの製版が一層容易になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】印刷用スクリーンの露光時における断面図であ
る。

【図２】原板マスクと印刷版の関係を示す断面図であ
る。

【図３】実施形態のスクリーン紗の断面図である。

【図４】スパッタリング装置の一例を示す断面図であ
る。

【図５】スパッタリング装置の他の例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

Ｌ、Ｌａ：紫外線１０：スクリーン紗、１０ａ：経糸１１：感光層１２：原板マスク、１２ａ：透明部、１２ｂ：シャドー
部１３：印刷版（スクリーン型）、１３ａ：孔１５：実施形態のスクリーン紗１６：経糸１７：緯糸１６ａ、１７ａ：反射防止膜Ｆ：スクリーン紗原反（紗状織物）Ｆａ：スクリーン紗２０、３０：チャンバ２１、４１：ターゲット２２、３９、４０：ターゲットソース２３、３７、３８：アノード２４、３１、３２：水冷シリンダ２５、３３：送出し軸２６、３４：巻取り軸２７ａ、２７ｂ、３５ａ〜３５ｆ：ガイドローラ２８：真空ポンプ２９ａ、２９ｂ：ガスボンベＥ：直流電源

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中嶋英吾愛知県蒲郡市浜町36番地株式会社鈴寅内 (72)発明者鈴木敏和愛知県蒲郡市浜町36番地株式会社鈴寅内 (72)発明者鈴木隆啓愛知県蒲郡市浜町36番地株式会社鈴寅内 (72)発明者横溝徹東京都日野市豊田２丁目50番地の３エヌ・ビー・シー工業株式会社内 (72)発明者大高浩東京都日野市豊田２丁目50番地の３エヌ・ビー・シー工業株式会社内Ｆターム(参考） 2H096 AA00 AA19 2H114 AB05 BA02 DA04 DA05 DA06 EA01 EA04 GA33 5E343 DD03 FF02 FF14 GG08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ステンレス鋼の細い線材を経糸および緯
糸に用いて製織された紗状織物の少なくとも片面が金属
の酸化物、窒化物もしくは炭化物又はフッ化マグネシウ
ムからなる紫外線の反射防止膜で被覆されていることを
特徴とする印刷用スクリーン紗。
【請求項２】反射防止膜が物理蒸着膜である請求項１
に記載の印刷用スクリーン紗。
【請求項３】反射防止膜の反射率が２５０〜４５０ｎ
ｍの波長域において１５％以下である請求項１または２
に記載の印刷用スクリーン紗。