JP2003107201A

JP2003107201A - 光学フィルム、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、偏光板、光学フィルムの製造方法、偏光板の製造方法、偏光板保護フィルムの製造方法、および表示装置

Info

Publication number: JP2003107201A
Application number: JP2001303576A
Authority: JP
Inventors: Takashi Murakami; 隆村上
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-09-28
Filing date: 2001-09-28
Publication date: 2003-04-09

Abstract

(57)【要約】【課題】セルロースエステルフィルムの平面性が悪化
するのを防止できる光学フィルムを提供する。【解決手段】光学フィルムは、セルロースエステルフ
ィルムを含んで構成されている。酸素原子と窒素原子の
うち少なくともいずれか一方と、金属原子と、を含んで
構成される金属化合物層が、セルロースエステルフィル
ムの少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して設
けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースエステ
ルフィルムを含んで構成される光学フィルム、偏光板保
護フィルム、位相差フィルム、および偏光板と、前記光
学フィルムの製造方法、前記偏光板の製造方法、前記偏
光板保護フィルムの製造方法、および、前記光学フィル
ムを含む表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】セルロースエステルフィルムは、光学的
に優れた性質を有するため、偏光板保護フィルム、位相
差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルム
に利用されている。例えば、特開平２０００−３５２６
２０号公報に記載の光学フィルムは、溶融流延により形
成されたセルロースエステルフィルムを有している。こ
の構成により、光学的、物理的、寸法安定性に優れた光
学フィルムを得ることができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、セルロース
エステルフィルムは、ロール状に巻かれた状態で保存さ
れることが多く、このことはフィルムの平面性を悪化さ
せる原因となっていた。

【０００４】また、セルロースエステルフィルムには、
通常、可塑剤や紫外線吸収剤といった添加剤が含まれて
いる。これらの添加剤は、セルロースエステルフィルム
の加工性や透湿性を改善するために添加されている。し
かし、その一方、これらの添加剤を含むことにより、各
種塗布層をセルロースエステルフィルム上に設ける際の
塗布性が悪くなる、という問題が生じていた。特に、こ
れらの添加剤のブリードアウトや、揮発による物性変化
により、未加工のセルロースエステルフィルムの保存安
定性が悪化する、という問題が生じていた。

【０００５】さらに、セルロースエステルフィルムが水
分を吸収して、膨張したり収縮したりしてしまう、とい
う問題があった。特に、長尺のロールフィルムにおいて
フィルム端部にナーリング加工を施している場合には、
吸湿による膨張によってフィルムに伸びやたるみが生
じ、これによりフィルムに凹凸や筋、折れ、しわなどが
入ってしまうことがあった。この問題は、特に薄膜のフ
ィルムで顕著であり、改善が求められていた。

【０００６】本発明の課題は、セルロースエステルフィ
ルムの平面性が悪化するのを防止できる光学フィルム、
これを用いて構成される偏光板保護フィルム、位相差フ
ィルム、偏光板、および、光学フィルムの製造方法、偏
光板の製造方法、偏光板保護フィルムの製造方法、光学
フィルムを含む表示装置を提供することである。さら
に、別の課題は、セルロースエステルフィルムへの塗布
性や、長尺ロール状のセルロースエステルフィルムの保
存安定性を改善し、また、セルロースエステルフィルム
による吸湿を防止することである。さらに、位相差フィ
ルムのリタデーション変動を抑制し、又、耐久性の優れ
た偏光板を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
め、請求項１記載の発明は、セルロースエステルフィル
ムを含んで構成される光学フィルムであって、酸素原子
（Ｏ）と窒素原子（Ｎ）のうち少なくともいずれか一方
と、金属原子と、を含んで構成される金属化合物層が、
前記セルロースエステルフィルムの少なくとも一方の面
に、直接又は他の層を介して設けられていることを特徴
とする光学フィルムである。

【０００８】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
学フィルムにおいて、セルロースエステルフィルムの膜
厚が１０〜５００μｍであることを特徴とする。請求項
３記載の発明は、請求項１または２記載の光学フィルム
において、金属化合物層の膜厚が０．００５〜１μｍで
あることを特徴とする。

【０００９】請求項４記載の発明は、請求項１〜３のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物層に
含まれる金属原子は珪素原子（Ｓｉ）であり、前記金属
原子の数に対する、前記金属化合物層に含まれる酸素原
子、窒素原子の数の比を、それぞれｘ、ｙとした場合
に、ｘは０以上２以下であり、ｙは０以上４／３以下で
あることを特徴とする。

【００１０】請求項５記載の発明は、請求項１〜４のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物層
が、セルロースエステルフィルムの両面に、直接又は他
の層を介して設けられていることを特徴とする。請求項
６記載の発明は、請求項５記載の光学フィルムにおい
て、セルロースエステルフィルムの一方の面に設けられ
る金属化合物層の膜厚は、前記セルロースエステルフィ
ルムの他方の面に設けられる金属化合物層の膜厚よりも
厚いことを特徴とする。

【００１１】請求項７記載の発明は、請求項１〜６のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物層
は、炭素原子を含むことを特徴とする。請求項８記載の
発明は、請求項７記載の光学フィルムにおいて、金属化
合物層の炭素原子の含有量は、０．１〜１０質量％であ
ることを特徴とする。

【００１２】請求項９記載の発明は、請求項１〜８のい
ずれかに記載の光学フィルムにおいて、少なくとも一つ
の金属化合物層の上に、直接又は他の層を介して樹脂層
が設けられていることを特徴とする。請求項１０記載の
発明は、請求項９記載の光学フィルムにおいて、樹脂層
は、活性線硬化樹脂層又は熱硬化性樹脂層であることを
特徴とする。

【００１３】請求項１１記載の発明は、請求項１〜１０
のいずれかに記載の光学フィルムにおいて、金属化合物
層の膜厚が、０．１μｍよりも大きく、かつ、０．８μ
ｍ以下であることを特徴とする。請求項１２記載の発明
は、請求項１〜１１のいずれかに記載の光学フィルムに
おいて、セルロースエステルフィルムの膜厚が１０〜６
０μｍであることを特徴とする。

【００１４】請求項１３記載の発明は、請求項１〜１２
のいずれかに記載の光学フィルムにおいて、セルロース
エステルフィルムは、共流延法により形成された積層構
造を有することを特徴とする。請求項１４記載の発明
は、請求項１〜１３のいずれかに記載の光学フィルムに
おいて、端部には、高さがセルロースエステルフィルム
の膜厚の２５％以下であるナーリングが設けられている
ことを特徴とする。

【００１５】請求項１５記載の発明は、請求項１〜１４
のいずれかに記載の光学フィルムを用いて構成されてい
ることを特徴とする偏光板保護フィルムである。請求項
１６記載の発明は、請求項１〜１４のいずれかに記載の
光学フィルムを用いて構成されており、下記式（１）で
定義する膜厚方向のリターデーション値（Ｒｔ値）が７
０〜３００ｎｍであるか、下記式（２）で定義する面内
方向のリターデーション値（Ｒｏ値）が４０〜１０００
ｎｍであるか、Ｒｔ値が７０〜３００ｎｍであるととも
にＲｏ値が４０〜１０００ｎｍであることを特徴とする
位相差フィルムである。Ｒｔ値＝（（ｎ_x＋ｎ_y）／２−ｎ_z）×ｄ …（１）Ｒｏ値＝（ｎ_x−ｎ_y）×ｄ …（２）（ｎ_xはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折
率、ｎ_yはｎ_xに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、
ｎ_zはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚
み（ｎｍ）をそれぞれ表す。）

【００１６】請求項１７記載の発明は、請求項１５記載
の偏光板保護フィルムを有することを特徴とする偏光板
である。請求項１８記載の発明は、請求項１７記載の偏
光板において、少なくとも一方の面から、活性線硬化樹
脂層、膜厚が０．０１〜１μｍである金属化合物層、セ
ルロースエステルフィルム、偏光子、セルロースエステ
ルフィルム、膜厚が０．０１〜１μｍである金属化合物
層、の順に積層される積層構造を有することを特徴とす
る。

【００１７】請求項１９記載の発明は、セルロースエス
テルを含む溶液を支持体上に流延し、剥離後乾燥させ
て、残留溶媒量が３〜４０質量％であるときに幅手方向
に１．００〜２．０倍延伸し、さらに乾燥させ、これに
より得られたセルロースエステルフィルムの少なくとも
一方の面に、珪素化合物を含む反応ガスを供給しなが
ら、大気圧プラズマ処理によって、酸素原子と窒素原子
のうち少なくともいずれか一方と、珪素原子と、を含ん
で構成される金属化合物層を設けることを特徴とする光
学フィルムの製造方法である。

【００１８】請求項２０記載の発明は、請求項１９記載
の光学フィルムの製造方法において、大気圧プラズマ処
理を、１００ｋＨｚを越える高周波電圧で、かつ、１Ｗ
／ｃｍ²以上の電力を供給して放電させることにより行
うことを特徴とする。請求項２１記載の発明は、請求項
１９または２０記載の光学フィルムの製造方法におい
て、少なくとも一つの金属化合物層の上に、直接又は他
の層を介して活性線硬化樹脂層を設けることを特徴とす
る。

【００１９】請求項２２記載の発明は、請求項１９〜２
１のいずれかに記載の光学フィルム製造方法により製造
された光学フィルムを鹸化処理し、偏光子と貼合するこ
とを特徴とする偏光板の製造方法である。

【００２０】請求項２３記載の発明は、セルロースエス
テルを含む溶液を支持体上に流延し、剥離後乾燥させ
て、残留溶媒量が３〜４０質量％であるときに幅手方向
に１．００〜２．０倍延伸し、さらに乾燥させ、これに
より得られたセルロースエステルフィルムの両面を鹸化
処理した後、鹸化処理した一方の面を残して、鹸化処理
した他方の面に、大気圧プラズマ処理により、酸素原子
と窒素原子のうち少なくともいずれか一方と、珪素原子
と、を含んで構成される金属化合物層を設けることを特
徴とする偏光板保護フィルムの製造方法である。

【００２１】請求項２４記載の発明は、セルロースエス
テルフィルムを含む偏光板保護フィルムと、偏光子と、
を貼合して偏光板を作製する偏光板の製造方法であっ
て、前記偏光板保護フィルムと前記偏光子との貼合前も
しくは貼合後に、前記偏光板保護フィルム上に、大気圧
プラズマ処理によって、酸素原子と窒素原子のうち少な
くともいずれか一方と、珪素原子と、を含んで構成され
る金属化合物層を設けることを特徴とする。請求項２５
記載の発明は、請求項１〜１４のいずれかに記載の光学
フィルムを含むことを特徴とする表示装置である。

【００２２】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光学フィルムは、セルロースエステルフィルムを含んで
構成されており、このセルロースエステルフィルムの一
方の面もしくは両面には、直接又は他の層を介して、酸
素原子（Ｏ）と窒素原子（Ｎ）のうちの少なくともいず
れか一方と金属原子とを含んで構成される金属化合物層
が設けられている。

【００２３】ここで、「酸素原子（Ｏ）と窒素原子
（Ｎ）のうちの少なくともいずれか一方と金属原子とを
含んで構成される金属化合物層」は、金属酸化物、金属
酸窒化物、金属窒化物、これらのうちの二つ以上を混合
した混合物、のいずれでも良い。

【００２４】金属化合物層は、薄すぎると効果に乏し
く、厚すぎると割れ、クラック等の問題が発生するた
め、その膜厚は、０．００５〜１μｍ程度であるのが好
ましく、特に０．１μｍよりも大きく、かつ、０．８μ
ｍ以下であるのが好ましく、さらには０．５μｍ以下で
あるのがより好ましく、０．２μｍ以下であるのが特に
好ましい。また、金属化合物層は、反射防止層を構成す
るＳｉＯ₂層よりも厚い層であるのが好ましい。

【００２５】金属化合物層に含まれる金属原子として
は、例えば、珪素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、チ
タン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、
マグネシウム（Ｍｇ）、スズ（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、鉄
（Ｆｅ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）などが挙げられるが、
特に珪素原子（Ｓｉ）が好ましい。金属化合物層に含ま
れる金属原子が珪素原子である場合には、金属化合物層
において、珪素原子の数に対する酸素原子、窒素原子の
数の比をそれぞれｘ、ｙとした場合、ｘは０以上２以下
であり、ｙは０以上４／３以下である。

【００２６】また、金属化合物層には、所定量の炭素原
子（Ｃ）が含まれるのが好ましい。これにより、膜の柔
軟性と、積層時の密着性を得ることができる。ここで、
金属化合物層の炭素含有量は、０．１〜１０質量％であ
るのが好ましく、さらに０．２〜８質量％であればより
好ましく、０．２〜５質量％であるのが特に好ましい。
炭素含有量が０．１質量％よりも小さいと、膜の柔軟性
が不足する傾向があり、１０質量％よりも大きいと、金
属化合物層を設けることによる改善効果が低下し、金属
化合物層に必要な膜厚が厚くなるので、好ましくない。

【００２７】金属化合物層は、蒸着、スパッタ、プラズ
マＣＶＤ、真空プラズマ等の各種方法により形成するこ
とができるが、特に、大気圧プラズマ処理によって形成
するのが好ましい。大気圧プラズマ処理は、例えば、特
願２００１−１２７６４９号あるいは特願２００１−１
３１６６３号に記載されている処理方法及び装置により
行うことが出来る。

【００２８】大気圧プラズマ処理においては、大気圧ま
たは大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に放
電することにより反応ガスをプラズマ状態とし、セルロ
ースエステルフィルムをプラズマ状態の反応ガスにさら
すことにより、セルロースエステルフィルム上に金属化
合物層を形成する。

【００２９】大気圧プラズマ処理では、高いプラズマ密
度を得て製膜速度を大きくするため、高周波電圧で、あ
る程度大きな電力を供給するのが好ましく、対向する電
極間に、１００ｋＨｚを越えた高周波電圧で、１Ｗ／ｃ
ｍ²以上の電力を供給して、反応ガスを励起してプラズ
マを発生させるのが好ましい。このようなハイパワーの
電界を印加することによって、緻密で、膜厚均一性の高
い高機能性を有する薄膜を、生産効率高く得ることが出
来る。

【００３０】対向する電極間に印加する高周波電圧の周
波数は、好ましくは１５０ＭＨｚ以下である。また、高
周波電圧の周波数は、好ましくは２００ｋＨｚ以上、さ
らに好ましくは８００ｋＨｚ以上である。また、対向す
る電極間に供給する電力は、好ましくは１．２Ｗ／ｃｍ
²以上であり、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ²以下、さらに好
ましくは２０Ｗ／ｃｍ²以下である。なお、対向する電
極における電圧の印加面積（／ｃｍ²）は、放電が起こ
る範囲の面積のことを示している。対向する電極間に印
加する高周波電圧は、断続的なパルス波であっても、連
続したサイン波であっても構わないが、本発明の効果を
高く得るためには、連続したサイン波であることが好ま
しい。

【００３１】また、溶液流延法によりセルロースエステ
ル製膜工程終了後、セルロースエステルフィルムを巻き
取る前に、大気圧プラズマ処理によって金属化合物層を
連続的に形成するのが好ましい。

【００３２】以下、大気圧プラズマ処理によって金属化
合物層の薄膜を形成するのに用いられるプラズマ放電処
理装置の一例を、図１を参照して説明する。プラズマ放
電処理装置１は、回転電極２と、これに対向して配置さ
れた複数の対向電極３を有している。図示していない元
巻きロールまたは前工程から搬送されて来る基材フィル
ムＦは、ガイドロール４、ニップロール５を経て、回転
電極２に導かれ、回転電極２に接した状態で回転電極２
の回転と同期しながら移送されるようになっている。

【００３３】大気圧もしくはその近傍の圧力下にある放
電部６には、反応ガス発生装置７で調製された反応ガス
Ｇが給気管８から供給されるようになっており、対向電
極３に対向している側の基材フィルムＦ表面に薄膜（金
属化合物層）が形成されるようになっている。図１では
図示を省略しているが、基材フィルムＦの幅手方向にお
いて、均一な濃度、流量で反応ガスＧを供給出来るよう
にするため、それぞれの対向電極３の間に反応ガスＧを
導入する給気管８が複数設けられていることが望まし
い。

【００３４】回転電極２と対向電極３には、プラズマ放
電を発生させるための電圧を印加出来る電源９が、電圧
供給手段１０・１１を介して接続されている。回転電極
２、対向電極３、放電部６はプラズマ放電処理容器１２
で覆われており、外界と遮断されている。処理に使用さ
れた排ガスＧ’は、処理室の上部にあるガス排気口１３
から排出されるようになっている。また、対向電極３の
間に設けられたガス排気口（図示略）から、排ガスＧ’
を排気することも出来るようになっている。

【００３５】プラズマ放電処理された基材フィルムＦ
は、ニップロール１４及びガイドロール１５を経て、次
工程または図示してない巻き取りロールへ搬送されるよ
うになっている。外界から基材フィルムＦに同伴して侵
入してくる空気を遮断し、また出口においても、内部に
空気が侵入するのを防止するため、プラズマ放電処理容
器１２の出入り部分のニップロール５・１４のところに
は、外界との仕切板１６・１７が設けられていることが
望ましい。上述の同伴される空気は、プラズマ放電処理
容器１２内の気体の全体積に対し、１体積％以下に抑え
ることが好ましく、０．１体積％以下に抑えることがよ
り好ましい。このことは、ニップロール５により達成す
ることが可能である。

【００３６】プラズマ放電処理容器１２内の圧力は、高
くすることが好ましく、外に対して＋０．１ｋＰａ以
上、更には０．３〜１０ｋＰａ圧力を高くすることが好
ましい。なお、図示はしてないが、必要に応じて、回転
電極２及び対向電極３は、温度調節のため、温度制御さ
れた媒体を循環するようになっている。媒体としては、
蒸留水、油等の絶縁性材料を好ましく用いることができ
る。

【００３７】電源９より対向電極３に印加される電圧の
値は適宜決定されるが、例えば、電圧が０．５〜１０ｋ
Ｖ程度で、電源周波数は１００ｋＨｚを越えて１５０Ｍ
Ｈｚ以下に調整されていることが好ましい。ここで、電
圧の印加法としては、連続モードと呼ばれる連続サイン
波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるＯＮ
／ＯＦＦを断続的に行う断続発振モードのどちらを採用
しても良いが、連続モードの方がより緻密で良質な薄膜
を得ることができる。対向する電極間に電圧を印加する
電源９としては、例えば、パール工業製高周波電源（２
００ｋＨｚ）、パール工業製高周波電源（８００ｋＨ
ｚ）、日本電子製高周波電源（１３．５６ＭＨｚ）、パ
ール工業製高周波電源（１５０ＭＨｚ）等が使用出来る
が、特にこれらに限定されるものではない。

【００３８】放電部６の電極間隔は、電極の母材に設置
した固体誘電体（図示略）の厚さ、印加電圧や周波数、
プラズマを利用する目的等を考慮して決定されている。
上記電極（電極２・３）の一方に固体誘電体を設置した
場合の固体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に
固体誘電体を設置した場合の固体誘電体同士の距離は、
均一な放電を行う観点から、何れについても０．５ｍｍ
〜２０ｍｍが好ましく、更に好ましくは０．５〜５ｍｍ
であり、特に好ましくは１ｍｍ±０．５ｍｍである。

【００３９】プラズマ放電処理容器１２にはパイレック
ス（Ｒ）ガラス製あるいはプラスティック製の処理容器
等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金
属製を用いることも可能である。例えば、アルミまた
は、ステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂等を
張り付けても良く、この金属フレームにセラミックス溶
射を行い絶縁性をとっても良い。

【００４０】また、放電プラズマ処理の際、基材フィル
ムの温度によって得られる薄膜の物性や組成が変化する
ことがあり、基材フィルムへの影響を最小限に抑制する
ために、放電プラズマ処理時の基材フィルムの温度を適
宜制御することが好ましい。基材フィルムの温度は処理
条件によって異なるが、室温〜２００℃が好ましく、よ
り好ましくは室温〜１２０℃である。より詳細には、常
温（１５℃〜２５℃）以上、２００℃未満の温度に調整
することが好ましく、更に好ましくは５０℃以上、１５
０℃未満に調整することであり、更に好ましくは６０℃
以上、１２０℃未満に調整することである。上記の温度
範囲に調整する為、必要に応じて電極、基材フィルムは
冷却手段で冷却あるいは加熱しながら放電プラズマ処理
される。

【００４１】上記の放電プラズマ処理は、大気圧または
大気圧近傍で行われる。ここで、大気圧近傍とは、２０
ｋＰａ〜２００ｋＰａの圧力を表す。本発明に記載の効
果を好ましく得るためには、９０〜１１０ｋＰａ、特に
９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａが好ましい。

【００４２】また、大気圧プラズマ処理に使用する放電
用の電極（電極２・３）において、電極の少なくとも基
材フィルムＦと接する側の表面は、ＪＩＳＢ０６０
１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒmax）が１０μ
ｍ以下になるように調整されていることが好ましく、更
に、表面粗さの最大値が８μｍ以下であるのが好まし
く、特に７μｍ以下であるのが好ましい。

【００４３】上記電極の表面は固体誘電体で被覆されて
いることが望ましく、特に金属等の導電性母材に対し固
体誘電体で被覆されていることが望ましい。固体誘電体
としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレン
テレフタレート等のプラスティック、ガラス、二酸化珪
素、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ₂）、酸化チタン（ＴｉＯ₂）等の金属酸化物、
チタン酸バリウム等の複酸化物等を挙げることが出来
る。特に、セラミックスを溶射後、無機材料を用いて封
孔処理したセラミック被覆処理誘電体であることが望ま
しい。ここで、金属等の導電性母材としては、銀、白
金、ステンレス、アルミニウム、鉄等の金属等を挙げる
ことが出来るが、加工の観点からステンレスが好まし
い。また、ライニング材としては、ケイ酸塩系ガラス、
ホウ酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス、ゲルマン酸塩系
ガラス、亜テルル酸塩ガラス、アルミン酸塩ガラス、バ
ナジン酸塩ガラス等が好ましく用いられるが、この中で
もホウ酸塩系ガラスが加工し易いので、更に好ましく用
いられる。

【００４４】上記電極は、その裏面側（内側）から、必
要に応じて、加熱あるいは冷却することが出来るように
なっている。電極がベルトの場合には、その裏面より気
体で冷却することも出来るが、ロールを用いた回転電極
２では、内部に媒体を供給して電極表面の温度及び基材
フィルムの温度を制御することが好ましい。

【００４５】プラズマ放電処理の際、幅手方向あるいは
長手方向での基材フィルムの温度ムラが出来るだけ生じ
ないようにするため、ロールを用いた回転電極２の内部
の温度を制御することが望ましい。温度ムラは±１０℃
以内であることが好ましく、更に好ましくは±５℃以内
であり、より好ましくは±１℃以内であり、最も好まし
くは±０．１℃以内である。

【００４６】大気圧プラズマ処理で使用する反応ガスＧ
は、基材フィルムＦ上に設けたい薄膜の種類によって異
なるが、基本的には、不活性ガスと、薄膜を形成するた
めの反応性ガスとが混合された反応ガスである。反応性
ガスは、反応ガスに対し、０．０１〜１０体積％含有さ
せることが好ましい。

【００４７】上記不活性ガスとしては、周期表の第１８
属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、ク
リプトン、キセノン、ラドン等が挙げられるが、本発明
に記載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが好
ましく用いられる。

【００４８】反応性ガスとしては、金属化合物が用いら
れ、金属水素化合物、金属アルコキシド等の有機金属化
合物が好ましく用いられる。また、これらの有機金属化
合物を放電空間である電極間に導入するには、両者は常
温常圧で、気体、液体、固体何れの状態であっても構わ
ない。気体の場合は、そのまま放電空間に導入でき、液
体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段に
より気化させて使用される。上記金属化合物ガスは、反
応ガス中０．０１〜１０体積％含有されることが好まし
く、０．１〜５体積％含有されるのがより好ましい。

【００４９】上記金属化合物ガスとして珪素化合物を用
い、これを含む反応ガスを供給しながら大気圧プラズマ
処理を行うことにより、珪素原子を含む金属化合物層を
形成することができる。ここで、上記珪素化合物として
は、例えば、一般式Ｓｉ（ＯＲ１）₄（Ｒ１はアルキル
基であり、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基であ
る。）や、一般式（Ｒ２）_nＳｉ（ＯＲ３）_4-n（Ｒ２及
びＲ３はアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜５の
アルキル基である。また、ｎは１〜３の整数である。）
で表される有機珪素化合物や、シラン（ＳｉＨ₄）など
が挙げられる。具体的には、テトラエトキシシラン（Ｔ
ＥＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、
テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシ
ロキサン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、トリメチルエトキシシラン、エチルトリ
メトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロ
ピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシ
ラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリ
メトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、デカメチルシクロペン
タシロキサンが挙げられる。また、１，１，３，３−テ
トラメチルジシラザン、１，３−ビス（クロロメチル）
−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメ
チルジシラザン、１，３−ジビニルー１，１，３，３−
テトラメチルジシラザン、アミノメチルトリメチルシラ
ン、ジメチルジメチルアミノシラン、ジメチルアミノト
リメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、ジエ
チルアミノジメチルシラン、１−トリメチルシリルピロ
ール、１−トリメチルシリルピロリジン、イソプロピル
アミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメ
チルシラン、アニリノトリメチルシラン、２−ピペリジ
ノエチルトリメチルシラン、３−ブチルアミノプロピル
トルメチルシラン、３−ピペリジノプロピルトリメチル
シラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、１−ト
リメチルシリルイミダゾール、ビス（エチルアミノ）ジ
メチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラ
ン、ビス（ブチルアミノ）ジメチルシラン、２−アミノ
エチルアミノメチルジメチルフェニルシラン、３−（４
−メチルピペラジノプロピル）トリメチルシラン、ジメ
チルフェニルピペラジノメチルシラン、ブチルジメチル
−３−ピペラジノプロピルシラン、ジアニリノジメチル
シラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシランなど
も用いることができる。また、メチルトリメトキシシラ
ンとＴＥＯＳを比率１：１で混合したもの、エチルトリ
エトキシシランとＴＥＯＳを比率１：２で混合したもの
など、上記の珪素化合物を所定比率で混合して用いるこ
ともできる。これらの有機珪素化合物に、さらに、酸素
ガスや窒素ガスなどを所定割合で組み合わせて、Ｏ原子
とＮ原子の少なくともいずれかと、Ｓｉ原子とを含む金
属化合物層を形成することができる。

【００５０】又、反応ガス中に酸素、オゾン、過酸化水
素、二酸化炭素、一酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒
素、水素、窒素から選択される成分を好ましくは０．０
１〜１０体積％、より好ましくは０．１〜５体積％含有
させることにより、反応が促進され、かつ、薄膜の硬度
を著しく向上させたり、緻密で良質な薄膜を形成したり
することが出来る。特に、酸素または水素を添加するこ
とが好ましい。

【００５１】このように、セルロースエステルフィルム
の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して金属
化合物層を設けることにより、巻き取られたロール状セ
ルロースエステルフィルムの保存安定性を著しく改善す
ることができ、巻き取り後、防眩層、クリアハードコー
ト層、反射防止層等の各種機能層を設けるまでの間に、
平面性や面品質が劣化しないロール状セルロースエステ
ルフィルムを提供することができる。特に、大気圧プラ
ズマ処理によって金属化合物層を形成した場合には、密
度の高い緻密な膜が形成されるので、セルロースエステ
ルフィルムによる吸湿を防止でき、また、強度が強く、
耐傷性に優れた光学フィルムを提供することができる。

【００５２】本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィ
ルムとして好ましく用いられる。なお、従来より、セル
ロースエステルフィルムは、偏光板保護フィルムとして
好ましく用いられている。これは、鹸化処理により、偏
光板との優れた接着性が得られるためである。

【００５３】本発明の光学フィルムを鹸化処理して、こ
れを偏光子と貼合することにより、偏光板を製造するこ
とができる。ここで、偏光子に貼合される光学フィルム
（偏光板保護フィルム）には、両面に金属化合物層が設
けられているのが特に好ましい。なお、本発明の光学フ
ィルムでは、セルロースエステルフィルムの少なくとも
一方の面に金属化合物層が設けられていれば、上述の効
果を期待できるので、鹸化処理を施す面に金属化合物層
を設けないようにしておくこともできる。また、光学フ
ィルムにおいて、セルロースエステルフィルムの両面に
金属化合物層が設けられている場合には、偏光子と貼合
する側の金属化合物層を強い鹸化処理により溶解させ
て、偏光板製造上の障害とならないようにすることがで
きる。

【００５４】鹸化処理条件や金属化合物層の製膜条件を
コントロールすることによって、鹸化処理後に、セルロ
ースエステルフィルムの少なくとも一方の面の金属化合
物層が残るようにすることもできる。ここで、セルロー
スエステルフィルムの両面に金属化合物層を設ける場合
には、セルロースエステルフィルムの一方の面に設けら
れる金属化合物層の膜厚を、他方の面に設けられる金属
化合物層の膜厚よりも厚くするのが好ましい。これによ
り、薄い方の金属化合物層と、この金属化合物層が設け
られている側のセルロースエステルフィルムの面を鹸化
処理により溶解でき、厚い方の金属化合物層は、鹸化処
理により一部は溶解されるものの、残しておくことがで
きる。

【００５５】以上のようにして、金属化合物層を有する
光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いることに
より、偏光板の耐久性を著しく改善することができる。
なお、あらかじめ金属化合物層が設けられた光学フィル
ムを鹸化処理して、偏光子と貼合する場合に限らず、セ
ルロースエステルフィルムの両面を鹸化処理した後、鹸
化処理した一方の面を残して、他方の面に、大気圧プラ
ズマ処理により金属化合物層を形成して偏光板保護フィ
ルムを作製し、この偏光板保護フィルムを偏光子と貼合
するものとしても良い。また、金属化合物層が設けられ
た光学フィルムと偏光子とを貼合して偏光板を作製する
場合に限らず、セルロースエステルフィルムを含む偏光
板保護フィルムと偏光子とを貼合した後に、偏光板保護
フィルム上に大気圧プラズマにより金属化合物層を設け
るものとしても、偏光板の耐久性を改善することができ
る。

【００５６】より安定した耐久性を得るには、光学フィ
ルムに設けられる金属化合物層の上に、直接又は他の層
を介して、樹脂層を設けるのがより好ましい。ここで、
光学フィルムに金属化合物層が設けられていることによ
り、塗布むらやブラッシングといった塗布故障が起こり
にくく、塗布加工しやすいので、本発明の光学フィルム
は、樹脂層を設けるのにより好ましい。

【００５７】前記樹脂層としては、熱可塑性樹脂層、活
性線硬化樹脂層、又は熱硬化性樹脂層が好ましく、特に
活性線硬化樹脂層が好ましい。ここで、活性線硬化樹脂
層とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋
反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をい
う。活性線硬化樹脂層または熱硬化性樹脂層は、防眩層
として設けられるものであっても、クリアハードコート
層として設けられるものであっても良い。また、これら
樹脂層の上に、更に反射防止層や防汚層を設けることが
できる。

【００５８】防眩層あるいはクリアハードコート層等の
活性線硬化樹脂層は、エチレン性不飽和モノマーを含む
成分を重合させて形成した樹脂層であることが好まし
い。活性線硬化樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子
線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、
その他、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化
する樹脂でもよい。

【００５９】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外
線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエ
ステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げるこ
とが出来る。

【００６０】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に、更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートと記載
した場合、メタクリレートを包含するものとする）、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有する
アクリレート系のモノマーを反応させることによって容
易に得ることが出来る（例えば、特開昭５９−１５１１
１０号公報等を参照）。

【００６１】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報を参
照）。

【００６２】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１
−１０５７３８号公報を参照）。光反応開始剤として
は、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾ
フェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、
１種もしくは２種以上を選択して使用することが出来
る。

【００６３】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。

【００６４】これらの樹脂は、通常公知の光増感剤と共
に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤として
も使用出来る。光増感剤としては、具体的には、アセト
フェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノ
ン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チ
オキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来
る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤を使用す
る際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ
−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。
塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹
脂組成物に含まれる光反応開始剤または光増感剤は、こ
の組成物の通常１〜１０質量％添加することができ、添
加量は２．５〜６質量％であることがより好ましい。

【００６５】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニ
ル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることが出来る。

【００６６】紫外線硬化樹脂は、例えば、アデカオプト
マーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１
０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ
−３２０Ｂ（以上、旭電化工業株式会社製）、あるいは
コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、
Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０
１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０
１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１
０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業株式会社
製）、あるいはセイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、Ｐ
ＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１
０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１０
０、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５０
０、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業株
式会社製）、あるいはＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３
９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ
２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセ
ル・ユーシービー株式会社）、あるいはＲＣ−５０１
５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３
１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２
０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７
１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本イ
ンキ化学工業株式会社製）、あるいはオーレックスＮ
ｏ．３４０クリヤ（中国塗料株式会社製）、あるいはサ
ンラッドＨ−６０１（三洋化成工業株式会社製）、ある
いはＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子株式
会社製）、あるいはＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパ
ン株式会社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０
３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成株式会社製）ある
いはこの他の市販のものから適宜選択して利用出来る。

【００６７】活性線硬化樹脂層は、公知の方法で塗設す
ることが出来る。活性線硬化性樹脂を光硬化反応により
硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発
生する光源を何れも使用でき、例えば、低圧水銀灯、中
圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いる
ことが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異
なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ²程度
あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ²
である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけては、その
領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用
出来る。

【００６８】活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒とし
ては、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、
エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中
から適宜選択して、あるいはこれらを混合して利用出来
る。好ましくは、プロピレングリコールモノ（炭素数１
〜４のアルキル基）アルキルエーテルやプロピレングリ
コールモノ（炭素数１〜４のアルキル基）アルキルエー
テルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５〜８
０質量％以上含有する溶媒が用いられる。

【００６９】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押し出しコーター、エアードクターコーター等公知
の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で
０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５
μｍである。

【００７０】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された
後、紫外線を光源より照射する。照射時間は０．５秒〜
５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率と
から、３秒〜２分がより好ましい。

【００７１】ブロッキングを防止するため、また、耐擦
り傷性等を高めるために、得られた硬化皮膜層に無機あ
るいは有機の微粒子を加えることが好ましい。例えば、
無機微粒子としては、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ア
ルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げ
ることが出来、また有機微粒子としては、ポリメタアク
リル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン
系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリ
コン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボ
ネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミ
ン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステ
ル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹
脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げ
ることが出来、これらの微粒子粉末を紫外線硬化性樹脂
組成物に加えることが出来る。

【００７２】これらの微粒子粉末の平均粒径としては、
０．００５μｍ〜４５μｍが好ましく０．０１〜１μｍ
であることが特に好ましい。また、微粒子粉末は、樹脂
組成物（紫外線硬化樹脂組成物）１００質量部に対し
て、０．１〜１０質量部となるように配合することが望
ましい。

【００７３】紫外線硬化樹脂を硬化させた層は、中心線
平均粗さＲａが１〜５０ｎｍのクリアハードコート層で
あっても、Ｒａが０．１〜１μｍ程度の防眩層であって
もよい。また、これらの層の上に、公知の方法で反射防
止層を形成することが出来る。

【００７４】金属化合物層の上に活性線硬化樹脂層を設
けた場合には、金属化合物層を設けなかった場合に比べ
て活性線硬化樹脂層の表面の硬度を硬くすることがで
き、より耐擦り傷性や鉛筆硬度の優れた光学フィルムを
得ることができる。

【００７５】以上のような樹脂層が設けられている偏光
板としては、例えば、少なくとも一方の面から、反射防
止層、活性線硬化樹脂層、金属化合物層、セルロースエ
ステルフィルム、偏光子、セルロースエステルフィル
ム、金属化合物層、の順に積層される積層構造を有して
いるもの等が挙げられる。ここで、金属化合物層の膜厚
は０．０１〜１μｍであるのが好ましい。

【００７６】金属化合物層が設けられた光学フィルム
は、位相差フィルムとしても好ましく用いられる。光学
フィルムを位相差フィルムとして用いる場合には、膜厚
方向のリターデーション値Ｒｔが７０〜３００ｎｍであ
るか、面内方向のリターデーション値Ｒｏが４０〜１０
００ｎｍであるか、Ｒｔ値、Ｒｏ値それぞれが上記の範
囲内にあるのが特に好ましい。この構成とすることによ
り、環境によってこれらの特性が変動するのを極めて少
なくすることができ、耐久性に優れた位相差性能を有す
る位相差フィルムを提供することができる。

【００７７】位相差フィルムとして本発明の光学フィル
ムを用い、透過型、半透過型、反射型の各種液晶表示装
置や、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＶＡ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型
の各種駆動方式の液晶表示装置、プラズマディスプレ
イ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、あ
るいはその他の表示装置に利用することができる。これ
により、高温高湿環境においても位相差の変動が少な
く、表示性能の変化が少ない、安定性のある、耐久性に
優れた表示装置を提供することができる。

【００７８】なお、本発明の光学フィルムにおいては、
セルロースエステルフィルムの膜厚は、１０〜５００μ
ｍであるのが好ましい。膜厚が１０μｍより薄いと機械
強度が不足し、また５００μｍを越えると取り扱い性や
加工性が悪くなるため、好ましくない。セルロースエス
テルフィルムの膜厚は、１０〜２００μｍであるのがよ
り好ましく、特に、１０〜６０μｍの薄膜フィルムであ
るのが好ましい。金属化合物層を設けることによる効果
が、薄膜のセルロースエステルフィルムでは特に顕著で
あるからである。

【００７９】また、本発明のセルロースエステルフィル
ムは、共流延法により形成された積層構造を有している
のが好ましい。より具体的には、セルロースエステルフ
ィルムは、基層の両面に表層を有する３層以上の構成で
あることが好ましい。ここで、表層には、主に滑り性を
付与するための微粒子（マット剤）が添加され、基層に
は、紫外線吸収剤や可塑剤が含まれる。紫外線吸収剤や
可塑剤のうち、ブリードアウト性の成分は、主に基層に
添加するのが好ましい。なお、表層に可塑剤を入れない
場合や、添加量や成分比率が異なる場合には、その上に
塗設する防眩層やクリアハードコート層等の塗布性が変
わる恐れがあるが、本発明では、金属化合物層を設ける
ことによりフィルムに一定の特性を持たせることができ
るので、塗布加工適性に優れたセルロースエステルフィ
ルムを提供することができる。

【００８０】本発明に用いられるセルロースエステルの
原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リ
ンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来
る。また、これらから得られたセルロースエステルは、
それぞれを単独であるいは任意の割合で混合使用するこ
とが出来るが、綿花リンターを５０質量％以上使用する
ことが好ましい。

【００８１】本発明に用いられるセルロースエステル
は、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物（無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢
酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を
用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応を行っ
て得ることができる。アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ
₃ＣＯＣｌ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＣｌ、Ｃ₃Ｈ₇ＣＯＣｌ）の場合
には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて
反応を行って得ることができる。具体的には、特開平１
０−４５８０４号公報に記載の方法で合成することが出
来る。

【００８２】セルロースエステルの合成においては、ア
シル基がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロー
ス分子はグルコースユニットが多数連結したものからな
っており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。
この３個の水酸基に誘導されたアシル基の数を置換度と
いう。例えば、セルローストリアセテートでは、グルコ
ースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合し
ている。

【００８３】本発明のセルロースエステルフィルムに用
いることが出来るセルロースエステルには特に限定はな
いが、総アシル基の置換度が２．５〜３．０であること
が好ましく、特に２．６〜２．９であることが好まし
い。アシル基のうちのアセチル基の置換度が１．４以上
であるものが好ましく用いられる。アシル基の置換度
は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することが
出来る。

【００８４】本発明に係わるセルロースエステルは、セ
ルローストリアセテートやセルロースジアセテート等の
セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、またはセル
ロースアセテートプロピオネートブチレートのようなア
セチル基の他にプロピオネート基あるいはブチレート基
が結合したセルロースエステルであることが好ましい。
また、セルロースエステルとしては、上記の例の他に、
セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレ
ート等も挙げられる。なお、ブチレートは、ｎ−の他に
ｉｓｏ−も含む。プロピオネート基の置換度が大きいセ
ルロースアセテートプロピオネートは耐水性が優れてい
る。

【００８５】本発明のセルロースエステルの数平均分子
量Ｍｎ（測定法は下記）は、７０，０００〜２５０，０
００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く、
且つ適度のドープ粘度となり好ましく、更には８０，０
００〜１５０，０００の範囲がより好ましい。また、重
量平均分子量Ｍｗとの比Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜５．０の
セルロースエステルが好ましく使用され、更には１．５
〜４．５のセルロースエステルが好ましく使用される。

【００８６】セルロースエステルの数平均分子量は、高
速液体クロマトグラフィーにより、下記条件で測定でき
る。溶媒：アセトンカラム：ＭＰＷ×１（東ソー（株）製）試料濃度：０．２（質量／体積）％流量：１．０ｍＬ／分試料注入量：３００μＬ標準試料：ポリメチルメタクリレート（重量平均分子
量１８８，２００）温度：２３℃

【００８７】また、セルロースエステルの製造中に使用
する、または使用材料に微量ながら混在しているセルロ
ースエステル中の金属（Ｃａ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｎａ等）
は、出来るだけ少ない方が好ましく、金属の総含有量は
１００ｐｐｍ以下が好ましい。

【００８８】セルロースエステルを溶解したセルロース
エステル溶液またはドープ形成に有用な有機溶媒として
は、塩素系有機溶媒のメチレンクロライド（塩化メチレ
ン）を挙げることが出来、これは、セルロースエステ
ル、特にセルローストリアセテートの溶解に適してい
る。また、非塩素系有機溶媒としては、例えば、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒド
ロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサ
ン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリ
フルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ
−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパ
ノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２
−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３
−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，
３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエ
タン等を挙げることが出来る。これらの有機溶媒をセル
ローストリアセテートに対して使用する場合には、常温
での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、冷却
溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いることが、
不溶解物を少なく出来るので好ましい。

【００８９】セルローストリアセテート以外のセルロー
スエステルに対しては、メチレンクロライドを用いるこ
とも出来るが、メチレンクロライドを使用せずに、酢酸
メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用すること
が出来る。特に酢酸メチルが好ましい。ここで、以下、
上記セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する
有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示
し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒
または主たる（有機）溶媒という。

【００９０】ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４
０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させる
ことが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延
した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くな
ることでウェブをゲル化させ、ウェブを丈夫にし金属支
持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用
いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶
媒のセルロースエステルの溶解を促進したりする役割も
ある。

【００９１】炭素原子数１〜４のアルコールとしては、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらの
うち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥
性も良く、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ま
しい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロースエステ
ルに対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。

【００９２】本発明において、セルロースエステルフィ
ルムは、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子
（マット剤）、リタデーション調製剤等を含有するのが
好ましい。

【００９３】可塑剤としては、特に限定はないが、リン
酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリ
メリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑
剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑
剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることが
出来る。

【００９４】リン酸エステル系では、トリフェニルホス
フェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェ
ニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、
ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホス
フェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステ
ル系では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタ
レート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレー
ト、ジシクロヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタ
レート等、トリメリット酸系可塑剤として、トリブチル
トリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエ
チルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑
剤として、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニ
ルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グ
リコール酸エステル系では、トリアセチン、トリブチリ
ン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリ
ルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレ
ート等、クエン酸エステル系可塑剤として、トリエチル
シトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルト
リエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレ
ート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シト
レート、フタル酸ジシクロヘキシル等を好ましく用いる
ことができる。その他のカルボン酸エステルの例には、
オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバ
シン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含ま
れる。ポリエステル系可塑剤として、脂肪族二塩基酸、
脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコ
ールの共重合体を用いることが出来る。脂肪族二塩基酸
としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン
酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシル
ジカルボン酸などを用いることが出来る。グリコールと
しては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレング
リコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチ
レングリコール、１，２−ブチレングリコールなどを用
いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールは
それぞれ単独で用いても良いし、二種以上混合して用い
ても良い。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、
加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０
質量％であることが好ましい。

【００９５】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。好ましく用いられる紫外線吸
収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系
化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エス
テル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリ
レート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられ
るが、これらに限定されない。又、特開平６−１４８４
３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用い
られる。

【００９６】本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例とし
て、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−フェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−５’−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，
５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’
−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メ
チレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フ
ェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ
−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−
イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチル−
フェノール<<チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１>>、２
−オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−
イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル
−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−
（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）
フェニル〕プロピオネートの混合物<<チヌビン（ＴＩＮ
ＵＶＩＮ）１０９>>、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニル
エチル）フェノール<<チヌビン２３４>>等を挙げること
が出来るが、これらに限定されない。また、上記のチヌ
ビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン３２６等チヌビ
ンは何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製の市
販品で、好ましく使用出来る。

【００９７】ベンゾフェノン系化合物の具体例として、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス
（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェ
ニルメタン）等を挙げることが出来るが、これらに限定
されない。

【００９８】また、本発明のセルロースエステルフィル
ムに用いることのできる紫外線吸収剤は、プラズマ処理
工程の汚染が少なく、また、各種塗布層の塗布性にも優
れる為、特願平１１−２９５２０９号に記載されている
分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤を含むことが好ま
しく、特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用
いることが好ましい。

【００９９】また、特開平６−１４８４３０号公報及び
特願２０００−１５６０３９号記載の高分子紫外線吸収
剤（または紫外線吸収性ポリマー）を好ましく用いるこ
とができる。特開平６−１４８４３０号の一般式
（１）、あるいは一般式（２）、あるいは特願２０００
−１５６０３９の一般式（３）（６）（７）記載の高分
子紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

【０１００】また、酸化防止剤としては、ヒンダードフ
ェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリ
チル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，
６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、
２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）−イソシアヌレイト等を挙げることが出来る。特
に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ト
リエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活
性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォ
スファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。こ
れらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して
質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０
００ｐｐｍが更に好ましい。

【０１０１】この酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれ
る。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた
場合には、セルロースエステルフィルムの劣化が起こる
場合がある。酸化防止剤は、例えば、セルロースエステ
ルフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤
のリン酸等によりセルロースエステルフィルムが分解す
るのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前
記セルロースエステルフィルム中に含有させるのが好ま
しい。セルロースエステルフィルム中に添加される微粒
子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸
化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸
カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カ
オリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、
ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カ
ルシウムを挙げることが出来る。中でもケイ素を含むも
のが濁度が低くなり、また、フィルムのヘイズを小さく
出来るので好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸
化珪素のような微粒子は有機物により表面処理されてい
る場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを
低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物と
しては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザ
ン、シロキサンなどを挙げることが出来る。二酸化珪素
微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と水素を混合
させたものを１０００〜１２００℃にて空気中で燃焼さ
せることで得ることが出来る。二酸化珪素の微粒子は、
１次平均粒子径が２０ｎｍ以下、見かけ比重が７０ｇ／
Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜
１６ｎｍであるのがより好ましく、５〜１２ｎｍである
のが更に好ましい。１次粒子の平均径が小さい方がヘイ
ズが低く好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌ以
上がより好ましく、さらに１００〜２００ｇ／Ｌ以上が
より好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の微粒子
分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が発生
せず好ましい。なお、本発明において、リットルをＬで
表すこととする。微粒子の添加量は、セルロースエステ
ルフィルム１ｍ²当たり０．０１〜１．０ｇが好まし
く、０．０３〜０．３ｇがより好ましく、０．０８〜
０．１６ｇが更に好ましい。これにより、セルロースエ
ステルフィルム表面に０．１〜１μｍの凸部が好ましく
形成される。

【０１０２】好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例
えば、日本アエロジル（株）製のアエロジルＲ９７２、
Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、
３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本ア
エロジル（株）製）の商品名で市販されているものを挙
げることが出来、アエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９
７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２を好ましく用い
ることが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子としては、
例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本ア
エロジル（株）製）の商品名で市販されており、何れも
使用することが出来る。これらの中でアエロジル２００
Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＴＴ６００が本
発明のセルロースエステルフィルムの濁度を低くし、且
つ摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。

【０１０３】ポリマーの微粒子の例として、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来
る。これらのうちシリコーン樹脂が好ましく、特に三次
元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパ
ール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４
５、同３１２０及び同２４０（東芝シリコーン（株）
製）を挙げることが出来る。

【０１０４】微粒子の１次平均粒子径の測定において
は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒
子を観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値を
もって、１次平均粒子径とすることができる。また、上
記記載の見掛比重は、二酸化珪素微粒子を一定量メスシ
リンダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出
することができる。見掛比重（ｇ／Ｌ）＝二酸化珪素質量（ｇ）／二酸化珪
素の容積（Ｌ）

【０１０５】また、セルロースエステルフィルムは、溶
液流延製膜でつくられたものであることが好ましい。特
に、セルロースエステルを含む溶液を支持体上に流延
し、剥離後乾燥させて、残留溶媒量が３〜４０質量％で
あるときに幅手方向に１．００〜２．０倍延伸し、さら
に乾燥させて得られたセルロースエステルフィルムであ
ることが好ましい。

【０１０６】以下、本発明に係わるセルロースエステル
フィルムの製膜方法について述べる。セルロースエステ
ルフィルムは溶液流延製膜方法により作製できる。

【０１０７】溶解工程：セルロースエステル（フレー
ク状の）に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜
中で該セルロースエステル、ポリマーや添加剤を攪拌し
ながら溶解しドープを形成する工程、あるいはセルロー
スエステル溶液にポリマー溶液や添加剤溶液を混合して
ドープを形成する工程である。セルロースエステルの溶
解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方
法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−
９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、また
は特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法
で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如
き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来
るが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ま
しい。ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３
５質量％が好ましい。溶解中または後のドープに添加剤
を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して
送液ポンプで次工程に送る。

【０１０８】流延工程：ドープを送液ポンプ（例え
ば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液
し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレ
スベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体
上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延す
る工程である。ダイの口金部分のスリット形状を調整出
来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイ
には、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも
好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となって
いる。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上
に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。
あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によっ
て積層構造のセルロースエステルフィルムを得ることが
好ましい。

【０１０９】溶媒蒸発工程：ウェブ（金属支持体上に
ドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとす
る）を金属支持体上で加熱し、金属支持体からウェブが
剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。溶媒
を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び
／または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方
法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏
面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれ
らを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合
は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を
有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。

【０１１０】剥離工程：金属支持体上で溶媒が蒸発し
たウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離され
たウェブは次工程に送られる。なお、剥離する時点での
ウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥
離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させ過
ぎてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたり
する。

【０１１１】ここで、製膜速度を上げる方法（残留溶媒
量が出来るだけ多いうちに剥離することで製膜速度を上
げることが出来る）としてゲル流延法（ゲルキャスティ
ング）がある。例えば、ドープ中にセルロースエステル
に対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方
法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等があ
る。金属支持体上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げ
ておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げること
が出来るのである。金属支持体上でのウェブの乾燥が条
件の強弱、金属支持体の長さ等により５〜１５０質量％
の範囲で剥離することが出来るが、残留溶媒量がより多
い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時
平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発
生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の
残留溶媒量が決められる。本発明においては、該金属支
持体上の剥離位置における温度を１０〜４０℃とするの
が好ましく、１５〜３０℃とするのがより好ましい。ま
た、該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量を１０〜１
２０質量％とすることが好ましい。残留溶媒量は下記の
式で表わすことが出来る。残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、Ｎは質量Ｍの
ものを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。

【０１１２】乾燥及び延伸工程：剥離後、ウェブを乾
燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する
乾燥装置、及び／またはクリップでウェブの両端をクリ
ップして搬送するテンター装置を用いて、ウェブを乾燥
する。本発明においては、クリップ間の幅手方向に対し
て１．００〜２．０倍延伸する方法として、テンター装
置を用いて延伸することが好ましい。更に好ましくは縦
及び横方向に２軸延伸されたものである。延伸倍率は目
的の光学特性（Ｒｏ、Ｒｔ）に応じて設定される。又、
位相差フィルムを製造する場合、長尺方向に一軸延伸す
ることもできる。乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹
かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエ
ーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は
出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。全体を通し
て、通常乾燥温度は４０〜２５０℃の範囲で行われる。
使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時
間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥条件
を適宜選べばよい。

【０１１３】また、光学フィルムの透過率は、９０％以
上であるのが好ましく、９２％以上であるのがより好ま
しく、９４％以上であるのが特に好ましい。また、セル
ロースエステルフィルムのヘイズは、０〜１％であるの
が好ましく、０〜０．１％であるのが特に好ましい。光
学フィルムに防眩層を設けた場合には、光学フィルム全
体のヘイズ値は、３〜３０％であるのが好ましい。

【０１１４】また、本発明の光学フィルムにおいては、
透湿度を２５０ｇ／ｍ²・２４時間以下とするのが好ま
しく、更に０〜２２０ｇ／ｍ²・２４時間とするのが好
ましく、特に１〜２００ｇ／ｍ²・２４時間とするのが
好ましい。なお、透湿性が低すぎると、偏光子と貼合す
る際にポリビニルアルコール水溶液等の接着剤に含まれ
る水分の蒸発速度が遅くなり好ましくないが、セルロー
スエステルフィルム自身は透湿性・吸水性を有している
ので、本発明においては大きな問題はない。

【０１１５】また、本発明の光学フィルムは、膜厚方向
のリターデーション値Ｒｔが０〜３００ｎｍ、面内方向
のリターデーション値Ｒｏが０〜１０００ｎｍであるも
のが特に好ましく用いられる。また、本発明の光学フィ
ルムの端部には、ナーリングが設けられているのが好ま
しい。特に、ナーリングの高さは、セルロースエステル
フィルムの膜厚の２５％以下であるのが好ましく、ロー
ル状フィルムの保管における安定性が改善される。

【０１１６】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、以下に示す「部」は、「質量部」を意味している。

【０１１７】［実施例１］＜基材フィルムの作製＞以下に示す方法に従って、基材
であるセルロースエステルフィルムを作製した。

【０１１８】（ドープの調製）以下に記載の素材を密閉
容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解、濾
過して、ドープ１〜７を調製した。なお、二酸化珪素微
粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ）はエタノールに分散した
後に添加した。２次粒子の平均粒径は０．４４μｍであ
った。

【０１１９】ドープ１セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）１００部トリフェニルホスフェート８部エチルフタリルエチルグリコレート２部チヌビン１７１（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）０．４部チヌビン１０９（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）０．４部チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）０．３部メチレンクロライド４１５部エタノール３０部アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）０．１３部

【０１２０】ドープ２セルローストリアセテート（アセチル置換度２．６８）１００部エチルフタリルエチルグリコレート４部チヌビン１７１０．４部チヌビン１０９０．４部チヌビン３２６０．３部メチレンクロライド４１５部エタノール３０部アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）０．１３部

【０１２１】ドープ３セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）１００部フタル酸ジシクロヘキシル１０部チヌビン１７１０．４部チヌビン１０９０．４部チヌビン３２６０．３部メチレンクロライド４００部エタノール２２部

【０１２２】ドープ４セルローストリアセテート（アセチル置換度２．８８）１００部メチレンクロライド４１５部エタノール３０部アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）０．１５部

【０１２３】ドープ５セルロースアセテートプロピオネート（アセチル置換度１．９、プロピオニル置換度０．７）１００部トリフェニルホスフェート８部エチルフタリルエチルグリコレート２部チヌビン１７１０．４部チヌビン１０９０．４部チヌビン３２６０．３部メチレンクロライド３８０部エタノール５０部

【０１２４】ドープ６セルロースアセテートプロピオネート（アセチル置換度１．９、プロピオニル置換度０．７）１００部メチレンクロライド３８０部エタノール５０部アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）０．１６部

【０１２５】ドープ７セルロースアセテートプロピオネート（アセチル置換度２．０、プロピオニル置換度０．８）１００部トリフェニルホスフェート８部エチルフタリルエチルグリコレート２部チヌビン１７１０．４部チヌビン１０９０．４部チヌビン３２６０．３部酢酸エチル２５０部エタノール８０部アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）０．１２部

【０１２６】（セルロースエステルフィルムの作製）得
られたドープ１〜７を用いて、以下のようにして下記の
表１に記載のセルロースエステルフィルム１〜１５をそ
れぞれ作製した。まず、ドープを濾過した後、ベルト流
延装置を用い、ドープ温度３４℃で３３℃のステンレス
バンド支持体上に均一に流延した。支持体上で６０秒間
乾燥させた後、ステンレスバンド支持体上からウェブを
剥離した。ここで、セルロースエステルフィルム１２〜
１５は共流延法により積層構成とした。すなわち、２種
のドープを１つのダイの中で合流させて流延し、３層構
成とした。

【０１２７】ステンレスバンド支持体から剥離した後、
８０℃の雰囲気でロール搬送し、縦方向に搬送張力をか
けながら乾燥させた後、テンターで、残留溶媒量１０％
のときに８０℃の雰囲気内で幅方向に延伸した（なお、
セルロースエステルフィルム１５については、テンター
を用いた幅手方向の延伸は行わず、長手方向に延伸し
た）。その後、幅保持を解放して、さらにロール搬送し
ながら１２０℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了させ、フィル
ム両端に幅１０ｍｍ、所定の高さのナーリング加工を施
して、ロール状に巻き取り、セルロースエステルフィル
ム１〜１５を作製した。表１に、各々のドープから形成
された層の乾燥膜厚を示す。

【表１】

【０１２８】また、得られたセルロースエステルフィル
ム１〜１５に、連続的に大気圧プラズマ処理を行って酸
化珪素層を片面もしくは両面に形成し、下記の表２に記
載の光学フィルム１〜３０を得た。フィルム幅は１３０
０ｍｍ、巻き取り長は２５００ｍとした。

【０１２９】ここで、大気圧プラズマ処理においては、
対向する電極間に下記の放電条件で放電することによ
り、反応ガスをプラズマ状態とし、このプラズマ状態の
反応ガスにフィルムを晒すことにより、フィルムの表面
に酸化珪素層を形成した。放電条件電源周波数８００ｋＨｚ電力１０Ｗ／ｃｍ² 気圧大気圧＋０．１ｋＰａ反応ガス不活性ガス：アルゴン９９．０体積％反応ガス１：酸素ガス０．７体積％反応ガス２：テトラエトキシシラン蒸気（アルゴンガス
にてバブリング）０．３体積％

【０１３０】＜炭素含有率の測定＞作製した光学フィル
ム１〜１５の炭素含有率を、ＸＰＳ（X-ray Photoelect
ron Spectroscopy）表面分析装置を用いて測定した。Ｘ
ＰＳ表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機
種も使用することができるが、本実施例においてはＶＧ
サイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒ
を用いた。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ
（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測
定した。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２ピ
ークの半値幅で規定したとき、１．５〜１．７ｅＶとな
るように設定した。

【０１３１】測定をおこなう前に、汚染による影響を除
くために、フィルム膜厚の１０〜２０％の厚さに相当す
る表面層をエッチング除去する必要がある。この表面層
の除去には、希ガスイオンが利用できるイオン銃を用い
ることが好ましく、イオン種としては、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａ
ｒ、Ｘｅ、Ｋｒなどが利用できる。本測定においては、
Ａｒイオンエッチングを用いて表面層を除去した。

【０１３２】ＸＰＳ表面分析において、結合エネルギー
０ｅＶから１１００ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔
１．０ｅＶで測定し、いかなる原子が検出されるかを求
めた。

【０１３３】次に、検出された、エッチングイオン種を
除く全ての原子について、データの取り込み間隔を０．
２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークにつ
いてナロースキャンをおこない、各原子のスペクトルを
測定した。得られたスペクトルは、測定装置、あるい
は、コンピューターの違いによる含有率算出結果の違い
を生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−Ｊ
ＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮＤＡＴＡＰＲＯＣＥＳＳ
ＩＮＧＳＹＳＴＥＭ（Ｖｅｒ．２．３以降が好まし
い。ここでは、Ｖｅｒ．２．３を使用した）上に転送し
た後、同ソフトで処理をおこない、炭素含有率の値を原
子数濃度（atomic concentration）として求めた。

【０１３４】定量処理をおこなう前に、各原子について
ＣｏｕｎｔＳｃａｌｅのキャリブレーションをおこな
い、５ポイントのスムージング処理をおこなった。定量
処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強
度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理に
は、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。Ｓｈｉｒｌｅ
ｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．
Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にするこ
とができる。測定の結果、形成した酸化珪素層の炭素含
有率は０．５％であった。

【０１３５】＜高温高湿の巻き形状変化＞光学フィルム
１〜１５をそれぞれロール状に２０００ｍ巻き取ったも
のを埃付着防止のためのビニールシートで覆い、これを
３５℃、８０％ＲＨ（relativehumidity）の環境下に２
週間放置し、巻き状態での表面の形状の変化を目視で確
認した。比較として、これらの層を形成していないロー
ル状に巻き取ったセルロースエステルフィルム１〜１５
についても形状変化を確認した（比較例３１〜４５）。

【０１３６】以下に、巻き形状変化の確認結果を示す。 ◎：変化は認められない。 ○：ロールの表面に弱い皺が認められる。 △：ロール表面付近には著しい形状の劣化があり、皺や
凹みが全面に認められる。 ×：ロール表面には著しい形状の劣化があり、皺や凹み
が全面に認められ、さらにロールの内部まで形状の劣化
が及んでいる。

【表２】ここで、流延の際にステンレスバンド支持体に接してい
た面をＢ面とし、その反対側をＡ面としている。

【０１３７】［実施例２］下記の方法に従って、実施例
１で作製した光学フィルム１〜１５の酸化珪素層の上に
クリアハードコート層をそれぞれ設け、光学フィルム４
６〜６０を作製した。

【０１３８】＜クリアハードコート層（ＣＨＣ層）の塗
設＞下記の塗布組成物（１）をグラビアコートし、次い
で８０℃に設定された乾燥部で乾燥した後、１１８ｍＪ
／ｃｍ²で紫外線照射し、乾燥膜厚で３μｍの中心線平
均粗さ（Ｒａ）１０ｎｍのクリアハードコート層を設け
た。ここで、上記の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ
Ｂ０６０１で規定される値である。

【０１３９】塗布組成物（１）（クリアハードコート層（ＣＨＣ層）塗布組成物）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０部ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤４部酢酸エチル５０部メチルエチルケトン５０部イソプロピルアルコール５０部

【０１４０】また、下記の方法に従って、光学フィルム
１〜１５の酸化珪素層の上に防眩層をそれぞれ設け、光
学フィルム６１〜７５を作製した。いずれも塗布すじや
ブラッシングも発生せず、良好な塗布性であった。

【０１４１】＜防眩層の塗設＞下記の素材を高速攪拌機
（ＴＫホモミキサー、特殊機化工業（株）製）で攪拌し
た後、衝突型分散機（マントンゴーリン、ゴーリン
（株）製）で分散した。酢酸エチル５０部メチルエチルケトン５０部イソプロピルアルコール５０部アエロジルＲ９７２Ｖ（１次粒子平均粒径１６ｎｍ）（日本アエロジル（株）製））５部

【０１４２】分散後、下記の成分を添加し、塗布組成物
（２）（防眩層（AG層）塗布組成物）を調製した。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０部ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤４部得られた塗布組成物（２）をグラビアコートし、次いで
８０℃に設定された乾燥部で乾燥した後、１１８ｍＪ／
ｃｍ²で紫外線照射し、乾燥膜厚で４μｍの防眩層（中
心線平均粗さ（Ｒａ）０．２５μｍ）を設けた。

【０１４３】作製した光学フィルム４６〜７５につい
て、実施例１と同様にして高温高湿の巻き形状変化の評
価を行った。光学フィルム４６〜７５いずれについて
も、高温高湿処理による巻き状態の変化は認められなか
った。

【０１４４】［実施例３］実施例１で作製した光学フィ
ルム４、５、１４、１５、１９、２０、２９、３０、３
４、３５、４４、４５について、２３℃、５５％ＲＨに
２４時間放置した後、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１
ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、２３℃、５
５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍで３次元屈折率測
定を行い、膜厚方向のリターデーション値Ｒｔと面内方
向のリターデーション値Ｒｏを求めた。また、これらの
サンプルを、３５℃、８０％ＲＨに７２時間放置した
後、同様に３次元屈折率測定を行い、リターデーション
値Ｒｔ、Ｒｏを求め、高温高湿処理前後の変動を求め
た。結果を表３に示す。

【表３】比較例である３４、３５、４４、４５では、Ｒｔ値、Ｒ
ｏ値がいずれも低減しているのに対し、光学フィルム
４、５、１４、１５では、Ｒｔ値、Ｒｏ値の変動はほと
んど認められなかった。また、光学フィルム１９、２
０、２９、３０については、Ｒｔ値、Ｒｏ値の変動は認
められなかった。

【０１４５】［実施例４］実施例１で作製したセルロー
スエステルフィルム１２のＡ面に、実施例１と同様の条
件で、プラズマ処理により膜厚０．３μｍの酸化珪素層
を設け、同様にして、Ｂ面に膜厚０．０１μｍの酸化珪
素層を設け、光学フィルム７６を得た。光学フィルム７
６のＢ面側に設けられた酸化珪素層の上に、実施例２記
載の方法でクリアハードコート層を設け、光学フィルム
７７とした。また、光学フィルム７６のＢ面側に設けら
れた酸化珪素層の上に、実施例２記載の方法で防眩層を
設け、光学フィルム７８とした。

【０１４６】実施例１で作製したセルロースエステルフ
ィルム１のＡ面に、下記のように放電条件を変更した点
以外は実施例１と同様の方法で、プラズマ処理により膜
厚０．０５μｍの酸化珪素層を設け、下記のように放電
条件を変更した点以外は同様にして、Ｂ面に膜厚０．５
μｍの酸化珪素層を設け、光学フィルム７９を得た。

【０１４７】放電条件（Ａ面側）周波数２００ｋＨｚ電力２Ｗ／ｃｍ² 反応ガスアルゴン９８．７％水素１％テトラエトキシシラン０．２５％（アルゴンガスでバ
ブリング）ジメチルジエトキシシラン０．０５％（アルゴンガス
でバブリング）ここで、Ａ面側に設けられた酸化珪素膜の炭素含有量
は、６％であった。

【０１４８】放電条件（Ｂ面側）周波数２ＭＨｚ電力８Ｗ／ｃｍ² 反応ガスアルゴン９８．７％水素１％テトラエトキシシラン０．２５％（アルゴンガスでバ
ブリング) ジメチルジエトキシシラン０．０５％（アルゴンガス
でバブリング）ここで、Ｂ面側に設けられた酸化珪素膜の炭素含有量
は、２％であった。

【０１４９】光学フィルム７９のＢ面側に設けられた酸
化珪素層の上に、実施例２記載の方法でクリアハードコ
ート層を設け、光学フィルム８０とした。また、光学フ
ィルム７９のＢ面側に設けられた酸化珪素層の上に、実
施例２記載の方法で防眩層を設け、光学フィルム８１と
した。

【０１５０】光学フィルム７６〜８１をロール状に巻き
取り、実施例１と同様にして高温高湿の巻き形状変化の
評価を行った。高温高湿条件で保管しても、巻き形状の
劣化は認められなかった。

【０１５１】実施例１で作製した長尺のセルロースエス
テルフィルム１を、２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶
液に５０℃で８０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させ、
更に実施例１と同様の方法でＢ面側に膜厚０．２μmの
酸化珪素層をプラズマ処理で形成し、これを光学フィル
ム８２とした。また、セルロースエステルフィルム１を
実施例１で作製した長尺のセルロースエステルフィルム
１２に変えた点以外は同様にして、Ｂ面側に膜厚０．３
μmの酸化珪素層をプラズマ処理で形成し、これを光学
フィルム８３とした。

【０１５２】長尺の光学フィルム７６〜８１を、２ｍｏ
ｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に５５℃で９０秒間浸漬
し、次いで水洗、乾燥させて、鹸化処理された光学フィ
ルム７６〜８１を得た。長尺の光学フィルム１、１２
を、２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に４５℃で３
０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させて、鹸化処理され
た光学フィルム１、１２を得た。

【０１５３】実施例１で作製したセルロースエステルフ
ィルム１、１２に、実施例２記載の方法でクリアハード
コート層を設け、これにより得られた長尺フィルムを、
各々２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に５５℃で９
０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させて、鹸化処理を行
った。これらは後述する偏光板２１、２３の作製にそれ
ぞれ使用した。偏光板２１のクリアハードコート層の鉛
筆硬度は２Ｈであったのに対し、偏光板１〜１９は３Ｈ
であり優れていることが確認された。鉛筆硬度は、ＪＩ
ＳＫ−５４００に従って測定した。

【０１５４】鹸化処理された光学フィルムを偏光板用保
護フィルムとして用い、下記の方法に従って、下記の表
４に記載された偏光板１〜２３を作製した。＜偏光膜の作製＞厚さ１２０μｍの長尺なポリビニルア
ルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍
率５倍）した。これを、ヨウ素０．０８ｇ、ヨウ化カリ
ウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間
浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、
水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬した。
その後、これを水洗、乾燥して、長尺な偏光膜を得た。

【０１５５】＜偏光板の作製＞次いで、下記工程１〜５
に従って、得られた偏光膜と光学フィルムとを貼り合わ
せて、偏光板を作製した。工程１：本発明の光学フィルム又はセルロースエステル
フィルムを、偏光板保護フィルムとして、前述の方法で
各々鹸化処理した。工程２：前述の長尺な偏光膜を、固形分２質量％のポリ
ビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。工程３：工程２で偏光膜に過剰に付着した接着剤を軽く
取り除き、これを表４の組み合わせで偏光板保護フィル
ムの鹸化処理面で挟み込んで、積層配置した。工程４：２つの回転するローラにより、２０〜３０Ｎ／
ｃｍ２の圧力、約２ｍ／ｍｉｎの速度で、偏光膜と光学
フィルムを貼り合わせた。このとき、気泡が入らないよ
うに注意した。工程５：工程４で作製した試料を８０℃の乾燥機中で乾
燥処理し、偏光板を作製した。

【０１５６】＜耐久性試験＞偏光板１〜２３を６５℃、
９５％ＲＨの高温高湿条件下で、１２日間放置し、その
前後の偏光度の変化量を求めた。ここで、測定検体であ
る二枚の偏光板を、それぞれの偏光子の配向方向が同一
になるように重ねた場合の透過率を平行位透過率Ｔｐと
し、二枚の偏光板を、それぞれの偏光子の配向が直交す
るように重ねた場合の透過率を直交位透過率Ｔｃとし、
下記式（３）により偏光度Ｐを算出した。

【数１】

【０１５７】以下に、耐久性試験の結果を示す。 ◎ 偏光度変化量０％以下、かつ、−０．３
％より大 ○ 偏光度変化量 −０．３％以下、かつ、−０．５
％より大 △ 偏光度変化量 −０．５％以下、かつ、−１．０
％より大 × 偏光度変化量 −１．０％以下、かつ、−２．０
％より大 ×× 偏光度変化量 −２．０％以下

【表４】本発明の光学フィルム７５〜８３を偏光板保護フィルム
として用いた偏光板１〜１９は、高温高湿処理を行って
も偏光度の変動は著しく低く、耐久性に優れることが確
認された。また、本発明の光学フィルムに鹸化処理を施
すことも可能であり、偏光板保護フィルムとして特に好
ましいことが確認された。

【０１５８】［実施例５］市販の液晶表示パネル（ＮＥ
Ｃ製カラー液晶ディスプレイＭｕｌｔｉＳｙｎｃ
ＬＣＤ１５２５Ｊ型名ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表
面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせ
た耐久性試験後の偏光板１〜２３を各々貼り付けた。そ
の結果、本発明の偏光板である偏光板１〜１９では、コ
ントラストも高く、高い表示性能を維持していた。一
方、比較の偏光板２０〜２３では、明らかにコントラス
トが低いことが認められた。

【０１５９】

【発明の効果】本発明によれば、セルロースエステルフ
ィルムの少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介し
て、酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか一方
と金属原子とを含んで構成される金属化合物層が設けら
れているので、ロール状セルロースエステルフィルムの
平面性や面品質が悪化するのを防止することができる。
また、金属化合物層が設けられていることにより、巻き
取られたロール状セルロースエステルフィルムの保存安
定性を著しく改善することができる。また、塗布むらや
ブラッシングといった塗布故障を起こりにくくさせて、
フィルムへの塗布性を改善することができる。また、大
気圧プラズマ処理によって金属化合物層を設けることに
より、密度の高い緻密な膜が形成されるので、セルロー
スエステルフィルムによる吸湿を防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の金属化合物層の薄膜形成に用いられる
プラズマ放電処理装置の一例を示す図面である。

【符号の説明】

１プラズマ放電処理装置２回転電極３対向電極Ｆ基材フィルムＧ反応ガス１０・１１電圧供給手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０４Ｆ２０５Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ 1/13363 1/13363 Ｂ２９Ｋ 1:00 // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｃ０８Ｌ 1:10 Ｃ０８Ｌ 1:10 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＺＦターム(参考） 2H049 BA02 BA25 BA27 BB33 BB43 BB51 BC03 BC14 BC22 2H091 FA08 FA11 FA50 FB03 FB08 FC07 GA16 LA30 2K009 BB28 CC01 CC03 CC42 DD04 EE00 4F006 AA02 AB76 BA00 BA02 CA05 DA01 EA03 4F100 AA01B AA01D AA17B AA17D AA20B AA20D AJ06C AK01A AK01E AK25 BA03 BA05 BA10A BA10E BA25B BA25C BA25D EH46C EJ61B EJ61D EJ612 JB13A JB13E JB14A JB14E JN06 4F205 AA01 AG01 AG03 AH73 GA07 GB02 GW21 GW34

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】セルロースエステルフィルムを含んで構
成される光学フィルムであって、酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか一方と、
金属原子と、を含んで構成される金属化合物層が、前記
セルロースエステルフィルムの少なくとも一方の面に、
直接又は他の層を介して設けられていることを特徴とす
る光学フィルム。
【請求項２】セルロースエステルフィルムの膜厚が１
０〜５００μｍであることを特徴とする請求項１記載の
光学フィルム。
【請求項３】金属化合物層の膜厚が０．００５〜１μ
ｍであることを特徴とする請求項１または２記載の光学
フィルム。
【請求項４】金属化合物層に含まれる金属原子は珪素
原子であり、前記金属原子の数に対する、前記金属化合物層に含まれ
る酸素原子、窒素原子の数の比を、それぞれｘ、ｙとし
た場合に、ｘは０以上２以下であり、ｙは０以上４／３
以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに
記載の光学フィルム。
【請求項５】金属化合物層が、セルロースエステルフ
ィルムの両面に、直接又は他の層を介して設けられてい
ることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光
学フィルム。
【請求項６】セルロースエステルフィルムの一方の面
に設けられる金属化合物層の膜厚は、前記セルロースエ
ステルフィルムの他方の面に設けられる金属化合物層の
膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項５記載の光学フ
ィルム。
【請求項７】金属化合物層は、炭素原子を含むことを
特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィル
ム。
【請求項８】金属化合物層の炭素原子の含有量は、
０．１〜１０質量％であることを特徴とする請求項７記
載の光学フィルム。
【請求項９】少なくとも一つの金属化合物層の上に、
直接又は他の層を介して樹脂層が設けられていることを
特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィル
ム。
【請求項１０】樹脂層は、活性線硬化樹脂層又は熱硬
化性樹脂層であることを特徴とする請求項９記載の光学
フィルム。
【請求項１１】金属化合物層の膜厚が、０．１μｍよ
りも大きく、かつ、０．８μｍ以下であることを特徴と
する請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１２】セルロースエステルフィルムの膜厚が
１０〜６０μｍであることを特徴とする請求項１〜１１
のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１３】セルロースエステルフィルムは、共流
延法により形成された積層構造を有することを特徴とす
る請求項１〜１２のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項１４】端部には、高さがセルロースエステル
フィルムの膜厚の２５％以下であるナーリングが設けら
れていることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに
記載の光学フィルム。
【請求項１５】請求項１〜１４のいずれかに記載の光
学フィルムを用いて構成されていることを特徴とする偏
光板保護フィルム。
【請求項１６】請求項１〜１４のいずれかに記載の光
学フィルムを用いて構成されており、下記式（１）で定
義する膜厚方向のリターデーション値（Ｒｔ値）が７０
〜３００ｎｍであるか、下記式（２）で定義する面内方
向のリターデーション値（Ｒｏ値）が４０〜１０００ｎ
ｍであるか、Ｒｔ値が７０〜３００ｎｍであるとともに
Ｒｏ値が４０〜１０００ｎｍであることを特徴とする位
相差フィルム。Ｒｔ値＝（（ｎ_x＋ｎ_y）／２−ｎ_z）×ｄ …（１）Ｒｏ値＝（ｎ_x−ｎ_y）×ｄ …（２）（ｎ_xはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折
率、ｎ_yはｎ_xに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、
ｎ_zはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚
み（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
【請求項１７】請求項１５記載の偏光板保護フィルム
を有することを特徴とする偏光板。
【請求項１８】少なくとも一方の面から、活性線硬化
樹脂層、膜厚が０．０１〜１μｍである金属化合物層、
セルロースエステルフィルム、偏光子、セルロースエス
テルフィルム、膜厚が０．０１〜１μｍである金属化合
物層、の順に積層される積層構造を有することを特徴と
する請求項１７記載の偏光板。
【請求項１９】セルロースエステルを含む溶液を支持
体上に流延し、剥離後乾燥させて、残留溶媒量が３〜４
０質量％であるときに幅手方向に１．００〜２．０倍延
伸し、さらに乾燥させ、これにより得られたセルロース
エステルフィルムの少なくとも一方の面に、珪素化合物
を含む反応ガスを供給しながら、大気圧プラズマ処理に
よって、酸素原子と窒素原子のうち少なくともいずれか
一方と、珪素原子と、を含んで構成される金属化合物層
を設けることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２０】大気圧プラズマ処理を、１００ｋＨｚ
を越える高周波電圧で、かつ、１Ｗ／ｃｍ²以上の電力
を供給して放電させることにより行うことを特徴とする
請求項１９記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項２１】少なくとも一つの金属化合物層の上
に、直接又は他の層を介して活性線硬化樹脂層を設ける
ことを特徴とする請求項１９または２０記載の光学フィ
ルムの製造方法。
【請求項２２】請求項１９〜２１のいずれかに記載の
光学フィルム製造方法により製造された光学フィルムを
鹸化処理し、偏光子と貼合することを特徴とする偏光板
の製造方法。
【請求項２３】セルロースエステルを含む溶液を支持
体上に流延し、剥離後乾燥させて、残留溶媒量が３〜４
０質量％であるときに幅手方向に１．００〜２．０倍延
伸し、さらに乾燥させ、これにより得られたセルロース
エステルフィルムの両面を鹸化処理した後、鹸化処理し
た一方の面を残して、鹸化処理した他方の面に、大気圧
プラズマ処理により、酸素原子と窒素原子のうち少なく
ともいずれか一方と、珪素原子と、を含んで構成される
金属化合物層を設けることを特徴とする偏光板保護フィ
ルムの製造方法。
【請求項２４】セルロースエステルフィルムを含む偏
光板保護フィルムと、偏光子と、を貼合して偏光板を作
製する偏光板の製造方法であって、前記偏光板保護フィルムと前記偏光子との貼合前もしく
は貼合後に、前記偏光板保護フィルム上に、大気圧プラ
ズマ処理によって、酸素原子と窒素原子のうち少なくと
もいずれか一方と、珪素原子と、を含んで構成される金
属化合物層を設けることを特徴とする偏光板の製造方
法。
【請求項２５】請求項１〜１４のいずれかに記載の光
学フィルムを含むことを特徴とする表示装置。