JP2003109497A - プラズマディスプレイパネルの製造方法および隔壁形成用転写フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の製造方法に比べて、隔壁形成における
工程数が実質的に少なく、製造効率に優れ、寸法精度の
高い隔壁を形成することができるプラズマディスプレイ
パネルの製造方法、および、新規な隔壁の形成工程に好
適に使用することのできる隔壁形成用転写フィルムを提
供すること。 【解決手段】 支持フィルム上に形成されたガラスフリ
ット含有樹脂層を転写することにより、基板上に、ガラ
スフリット含有樹脂層を形成し、当該ガラスフリット含
有樹脂層上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜
を露光・現像処理してガラスフリット含有樹脂層上にレ
ジストパターンを形成する工程と、ガラスフリット含有
樹脂層をサンドブラスト処理して、レジストパターンに
対応するガラスフリット含有樹脂層のパターンを基板上
に形成する工程と、ガラスフリット含有樹脂層のパター
ンを焼成する工程を有する隔壁形成方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示セルを区画す
る隔壁の形成工程に特徴を有するプラズマディスプレイ
パネルの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、大型のパネルを容易に製造することができること、
視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高いこと
などの理由から、フラットパネル表示技術において注目
されている。特に、カラープラズマディスプレイパネル
は、２０インチ以上の壁掛けＴＶ用の表示デバイスとし
て将来主流になるものと期待されている。カラープラズ
マディスプレイパネルは、ガス放電により発生する紫外
線を螢光体に照射することによってカラー表示が可能に
なる。そして、一般に、カラープラズマディスプレイパ
ネルにおいては、赤色発光用の螢光体部位、緑色発光用
の螢光体部位および青色発光用の螢光体部位が基板上に
形成されることにより、各色の発光表示セルが全体に均
一に混在した状態に構成されている。具体的には、ガラ
ス基板の表面上に、バリアリブと称される絶縁性材料か
らなる隔壁が設けられており、この隔壁によって多数の
表示セルが区画され、当該表示セルの内部がプラズマ作
用空間となる。ここに、隔壁の高さは、通常１００〜２
００μｍとされる。そして、このプラズマ作用空間に螢
光体部位が設けられるとともに、この螢光体部位にプラ
ズマを作用させる電極が設けられることにより、各々の
表示セルを表示単位とするプラズマディスプレイパネル
が構成される。

【０００３】このようなプラズマディスプレイパネルを
構成する隔壁の形成方法としては、基板上にガラスフリ
ット含有樹脂層を全面形成し、当該ガラスフリット含有
樹脂層上にレジスト膜のパターンからなる現像用マスク
を形成後、研磨材粒子を吹き付けてガラスフリット含有
樹脂層をエッチングしてガラスフリット含有樹脂層のパ
ターンを残存させ、これを焼成して隔壁を形成するサン
ドブラスト法などが知られている。

【０００４】前記サンドブラスト法において、ガラスフ
リット含有樹脂層の形成は、通常、スクリーン印刷法に
よりガラスフリット含有樹脂組成物を塗布して形成され
るため、１回の印刷塗布により形成できる膜厚は１０〜
２０μｍ程度であり、所望の高さ（例えば１００〜２０
０μｍ）の隔壁を形成するためには、通常、数回〜１０
数回の多重印刷を行わなければならない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】（１）スクリーン印刷
法により複数回にわたり繰り返しガラスフリット含有樹
脂組成物を塗布する操作（多重印刷）は、煩雑であって
作業性に劣るものである。また、ガラスフリット含有樹
脂組成物を塗布するごとに構成成分の分散状態を確認す
る必要があり、ガラスフリットの沈殿など分散不良が生
じた場合には再分散処理をしなければならない。従っ
て、このような煩雑な塗布工程を経てガラスフリット含
有樹脂層を形成する従来の方法は、ＰＤＰの製造効率の
観点から問題があり、ディスプレイパネルの大型化に伴
って特に顕著な問題となっている。

【０００６】（２）スクリーン印刷法を利用する多重印
刷によってガラスフリット含有樹脂層を形成する場合に
は、当該ガラスフリット含有樹脂層のパターンを焼成し
て形成される隔壁が均一な高さ（例えば公差が±５％以
内）を有するものとならない。これは、スクリーン印刷
法による多重印刷では、基板表面に対してガラスフリッ
ト含有樹脂組成物を均一に塗布することが困難だからで
あり、塗布面積（パネルサイズ）が大きいほど、また、
塗布回数が多いほどガラスフリット含有樹脂層における
膜厚のバラツキの程度は大きいものとなる。そして、多
重印刷による塗布工程を経て得られる隔壁を具備するパ
ネル材料には、その面内において、隔壁高さのバラツキ
に起因する放電特性にバラツキが生じ、放電特性のバラ
ツキは、ＰＤＰにおける表示欠陥（輝度ムラ）の原因と
なる。そのため、膜厚均一性が不十分なガラスフリット
含有樹脂層から形成される隔壁は、隔壁の上面を研磨す
る工程が必要となり、作業が煩雑になるという問題点が
あった。

【０００７】本発明の第１の目的は、新規な隔壁の形成
工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法を
提供することにある。本発明の第２の目的は、従来の製
造方法に比べて、隔壁形成における工程数が実質的に少
なく、製造効率に優れたプラズマディスプレイパネルの
製造方法を提供することにある。本発明の第３の目的
は、寸法精度の高い隔壁を形成することができるプラズ
マディスプレイの製造方法を提供することにある。本発
明の第４の目的は、新規な隔壁の形成工程に好適に使用
することのできる隔壁形成用転写フィルムを提供するこ
とにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネルの製造方法は、下記（ｉ）〜（iv）の工程
を含む方法により隔壁を形成することを特徴とする。 （ｉ）支持フィルム上に形成されたガラスフリット含有
樹脂層を転写することにより、基板上に、ガラスフリッ
ト含有樹脂層を形成し、当該ガラスフリット含有樹脂層
上にレジスト膜を形成する工程。 （ii）レジスト膜を露光・現像処理してガラスフリット
含有樹脂層上にレジストパターンを形成する工程。 （iii）ガラスフリット含有樹脂層をサンドブラスト処
理して、レジストパターンに対応するガラスフリット含
有樹脂層のパターンを基板上に形成する工程。 （iv）ガラスフリット含有樹脂層のパターンを焼成する
工程。 本発明の隔壁形成用転写フィルムは、支持フィルム上
に、アルカリ可溶性の樹脂成分を含有するレジスト膜お
よびアルカリ不溶性または難溶性の樹脂成分を含有する
ガラスフリット含有樹脂層を含む積層膜が形成されてな
ることを特徴とする。

【０００９】本発明の製造方法における好ましい実施形
態は次のとおりである。 （ａ）支持フィルム上に形成されたレジスト膜を転写す
ることにより、ガラスフリット含有樹脂層上にレジスト
膜を形成すること。 （ｂ）支持フィルム上に形成されたレジスト膜とガラス
フリット含有樹脂層との積層膜を転写することにより、
基板上にガラスフリット含有樹脂層およびレジスト膜の
積層膜を形成すること。 （ｃ）複数のガラスフリット含有樹脂層からなる積層体
を基板上に転写形成すること。 （ｄ）ガラスフリット含有樹脂層がアルカリ不溶性また
は難溶性の樹脂成分を含有し、レジスト膜がアルカリ可
溶性の樹脂成分を含有すること。 （ｅ）レジスト膜および／またはガラスフリット含有樹
脂層が黒色顔料を含有すること。

【００１０】本発明の隔壁形成用転写フィルムにおける
好ましい実施形態は次のとおりである。 （ａ）レジスト膜および／またはガラスフリット含有樹
脂層が黒色顔料を含有すること。 （ｂ）支持フィルム上に、レジスト膜、黒色顔料を含有
するガラスフリット含有樹脂層および黒色顔料を含有し
ないガラスフリット含有樹脂層を含む積層膜が形成され
てなること。 （ｃ）支持フィルム上に、レジスト膜および複数のガラ
スフリット含有樹脂層を含む積層膜が形成されてなる転
写フィルムにおいて、転写面に該当するガラスフリット
含有樹脂層におけるガラスフリット含有率がそれ以外の
ガラスフリット含有樹脂層におけるガラスフリット含有
率よりも小さいこと。

【００１１】

【作用】本発明の製造方法において、ガラスフリット含
有樹脂層は、ガラスフリットを含有するペースト状組成
物（ガラスフリット含有樹脂組成物）を、剛性を有する
基板上に直接塗布して形成されるのではなく、可撓性を
有する支持フィルム上に塗布することにより形成され
る。このため、当該ペースト状組成物の塗布方法とし
て、ロールコータなどによる塗布方法を採用することが
でき、これにより、膜厚が大きくて、かつ、膜厚の均一
性に優れたガラスフリット含有樹脂層（例えば１００μ
ｍ±５μｍ）を支持フィルム上に形成することが可能と
なる。そして、このようにして形成されたガラスフリッ
ト含有樹脂層を基板の表面に対して一括転写するという
簡単な操作により、当該ガラスフリット含有樹脂層を基
板上に確実に形成することができる。従って本発明の製
造方法によれば、ガラスフリット含有樹脂層の形成工程
における工程改善（高効率化）を図ることができるとと
もに、形成される隔壁の品質の向上（膜厚均一性）を図
ることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の製造方法について
詳細に説明する。本発明の製造方法においては、〔１〕
ガラスフリット含有樹脂層の転写工程、〔２〕レジスト
膜の形成工程、〔３〕レジスト膜の露光工程、〔４〕レ
ジスト膜の現像工程、〔５〕ガラスフリット含有樹脂層
のサンドブラスト工程、〔６〕ガラスフリット含有樹脂
層パターンの焼成工程により、基板の表面に隔壁が形成
される。

【００１３】＜ガラスフリット含有樹脂層の転写工程＞
図１および図２は、本発明の製造方法における隔壁の形
成工程の一例を示す概略断面図である。図１（イ）にお
いて、１１はガラス基板であり、このガラス基板上に
は、プラズマを発生させるための電極１２が等間隔に配
列されている。

【００１４】本発明の製造方法は、転写フィルムを使用
し、当該転写フィルムを構成するガラスフリット含有樹
脂層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写する
点に特徴を有するものである。ここに、転写フィルム
は、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された
ガラスフリット含有樹脂層とを有してなり、当該ガラス
フリット含有樹脂層の表面には保護フィルム層が設けら
れていてもよい。転写フィルムの具体的構成については
後述する。

【００１５】転写工程の一例を示せば以下のとおりであ
る。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィル
ム層を剥離した後、図１（ロ）に示すように、ガラス基
板１１の表面に、ガラスフリット含有樹脂層２１の表面
が当接されるように転写フィルム２０を重ね合わせ、こ
の転写フィルム２０を加熱ローラなどにより熱圧着した
後、ガラスフリット含有樹脂層２１から支持フィルム２
２を剥離除去する。これにより、図１（ハ）に示すよう
に、ガラス基板１１の表面にガラスフリット含有樹脂層
２１が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条
件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が５０〜２
００℃、加熱ローラによるロール圧が０．５〜２０ｋｇ
／ｃｍ² 、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ
／分を示すことができる。また、ガラス基板１１は予熱
されていてもよく、予熱温度としては例えば５０〜２０
０℃とすることができる。

【００１６】＜レジスト膜の形成工程＞この工程におい
ては、図１（ニ）に示すように、転写されたガラスフリ
ット含有樹脂層２１の表面にレジスト膜３１を形成す
る。このレジスト膜３１を構成するレジストとしては、
ポジ型レジストおよびネガ型レジストのいずれであって
もよく、その具体的組成については後述する。レジスト
膜（３１）は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転
塗布法、流延塗布法など種々の方法によってレジストを
塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することが
できる。ここに、塗膜の乾燥温度は、通常５０〜１５０
℃程度とされる。また、支持フィルム上に形成されたレ
ジスト膜をガラスフリット含有樹脂層（２１）の表面に
転写することによって形成してもよい。このような形成
方法によれば、レジスト膜の形成工程数を減らすことが
できるとともに、得られるレジスト膜の膜厚均一性が優
れたものとなるため、当該レジスト膜の現像処理および
隔壁形成材料層のエッチング処理が均一に行われ、形成
される隔壁の高さおよび形状が均一なものとなる。レジ
スト膜（３１）の膜厚としては、通常０．１〜１００μ
ｍとされ、好ましくは１〜５０μｍとされる。

【００１７】＜レジスト膜の露光工程＞この工程におい
ては、図１（ホ）に示すように、ガラスフリット含有樹
脂層２１上に形成されたレジスト膜３１の表面に、露光
用マスクＭを介して、紫外線などの放射線を選択的に照
射（露光）して、レジストパターンの潜像を形成する。
同図において、ＭＡおよびＭＢは、それぞれ、露光用マ
スクＭにおける光透過部および遮光部である。ここに、
放射線照射装置としては、前記フォトリソグラフィー法
で使用されている紫外線照射装置、半導体および液晶表
示装置を製造する際に使用されている露光装置など特に
限定されるものではない。また、レジスト膜を転写によ
って形成した場合には、レジスト膜上の支持フィルムを
剥離しない状態で露光を行い、露光の後に支持フィルム
を剥離してもよい。支持フィルムを剥離せずに露光する
ことにより、露光感度を向上させることができ、また、
露光用マスクの汚れを防止することができる。

【００１８】＜レジスト膜の現像工程＞この工程におい
ては、露光されたレジスト膜を現像処理することによ
り、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。ここ
に、現像処理条件としては、レジスト膜（３１）の種類
などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、
現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー
法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択
することができる。この現像工程により、図２（ヘ）に
示すように、レジスト残留部３５Ａと、レジスト除去部
３５Ｂとから構成されるレジストパターン３５（露光用
マスクＭに対応するパターン）が形成される。このレジ
ストパターン３５は、次工程（エッチング工程）におけ
るサンドブラストマスクとして作用するものであり、レ
ジスト残留部３５Ａの構成材料は、ガラスフリット含有
樹脂層２１の構成材料よりもサンドブラストに対するブ
ラスト速度が小さいことが必要である。

【００１９】＜ガラスフリット含有樹脂層のサンドブラ
スト工程＞この工程においては、ガラスフリット含有樹
脂層をサンドブラスト処理し、レジストパターンに対応
するガラスフリット含有樹脂層のパターンを形成する。
すなわち、図２（ト）に示すように、ガラスフリット含
有樹脂層２１のうち、レジストパターン３５のレジスト
除去部（３５Ｂ）に対応する部分がサンドブラスト処理
により切削されて選択的に除去される。ここに、図２
（ト）は、サンドブラスト処理中の状態を示している。
そして、更にサンドブラスト処理を継続すると、図２
（チ）に示すように、ガラスフリット含有樹脂層（２
１）における電極１２の周辺部分が除去され、これによ
り、樹脂層残留部２５Ａと、樹脂層除去部２５Ｂとから
構成されるガラスフリット含有樹脂層パターン２５が形
成される。サンドブラスト処理に用いる研磨剤として
は、公知の種々のものを用いることができる。例えば、
ガラスビーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ
などの粒径２〜１００μｍ程度の微粒子を挙げることが
できる。また、サンドブラスト処理後に残留したレジス
トパターン（３５Ａ）は、次の焼成工程で焼失除去させ
ることが可能である。また、サンドブラスト処理後のレ
ジストパターンを除去するには、例えば、５０〜８０℃
にて攪拌中の剥離液に該基板を５〜３０分間浸漬し、剥
離除去することもできる。ここで使用される剥離液とし
ては、第４級アンモニウム塩とジメチルスルホキシドと
水との混合溶液などを挙げることができる。

【００２０】＜ガラスフリット含有樹脂層パターンの焼
成工程＞この工程においては、ガラスフリット含有樹脂
層のパターン（２５）を焼成処理して隔壁を形成する。
これにより、樹脂層残留部２５Ａ中の有機物質が焼失し
て隔壁が形成され、図２（リ）に示すような、ガラス基
板１１の表面に隔壁４０が形成されてなるパネル材料５
０を得ることができる。そして、このパネル材料５０に
おいて、隔壁４０により区画される空間（樹脂層除去部
２５Ｂに由来する空間）はプラズマ作用空間となる。こ
こに、焼成処理の温度としては、樹脂層残留部（２５
Ａ）中の有機物質が焼失される温度であることが必要で
あり、通常４００〜６００℃とされる。また、焼成時間
は、通常１０〜６０分間とされる。

【００２１】＜好ましい実施形態＞本発明の製造方法に
おいては、レジスト膜および／またはガラスフリット含
有樹脂層が黒色顔料を含有することが好ましい。レジス
ト膜および／またはガラスフリット含有樹脂層が黒色顔
料を含有することにより、形成される隔壁の頂部が黒色
を呈することとなり、プラズマディスプレイパネルにお
ける表示コントラストを向上させることができる。さら
にガラスフリット含有樹脂層が黒色顔料を含有する場合
には、複数のガラスフリット含有樹脂層からなる積層体
のうち、形成される隔壁の頂部に該当する層（レジスト
膜との接触層）のみに黒色顔料を含有することがさらに
好ましい。形成される隔壁の頂部に該当する層のみに黒
色顔料を含有することにより、白色隔壁の頂部のみを黒
色化することが可能となり、プラズマディスプレイパネ
ルにおける表示コントラスト向上と発光効率の向上を両
立させることができる。さらに、本発明の製造方法にお
いては、サンドブラストに対して切削性が異なる複数の
ガラスフリット含有樹脂層からなる積層体を基板上に転
写形成することが好ましい。これにより、所望の断面形
状を有する隔壁の形成が可能となる。ここに、複数のガ
ラスフリット含有樹脂層からなる積層体を基板上に形成
する方法としては、 支持フィルム上に形成されたガ
ラスフリット含有樹脂層（単層）を複数回にわたって転
写する方法、 複数層のガラスフリット含有樹脂層か
らなる積層体を一括転写する方法のいずれの方法であっ
てもよいが、転写工程の簡略化の観点からは前記の方
法が好ましい。

【００２２】＜隔壁を形成するための他の方法＞本発明
のプラズマディスプレイパネルの製造方法における隔壁
の形成方法は、図１および図２に示したような方法に限
定されるものではない。ここに、隔壁を形成するための
他の方法として、下記（１）〜（３）の工程による形成
方法を挙げることができる。 （１）支持フィルム上にレジスト膜を形成した後、当該
レジスト膜上にガラスフリット含有樹脂層を積層形成す
る。ここに、レジスト膜およびガラスフリット含有樹脂
層を形成する際には、ロールコータなどを使用すること
ができ、これにより、膜厚の均一性に優れた積層膜を支
持フィルム上に形成することができる。 （２）支持フィルム上に形成されたレジスト膜とガラス
フリット含有樹脂層との積層膜を基板上に転写する。こ
こに、転写条件としては前記『ガラスフリット含有樹脂
層の転写工程』における条件と同様でよい。 （３）前記『レジスト膜の露光工程』、『レジスト膜の
現像工程』、『ガラスフリット含有樹脂層のサンドブラ
スト工程』および『ガラスフリット含有樹脂層パターン
の焼成工程』と同様の操作を行う。 以上のような方法によれば、ガラスフリット含有樹脂層
とレジスト膜とが基板上に一括転写されるので、工程の
簡略化による製造効率を更に向上させることができる。

【００２３】本発明の製造方法によって形成される隔壁
は、一般的に、パネルの表示セル（表示単位）の横方向
を区画するものである。隔壁によって区画される表示セ
ルの横方向ピッチの大きさは、例えば０．１０〜１．０
０ｍｍとされる。隔壁の断面形状、幅、高さ、隔壁の離
間距離等の寸法は、目的とするプラズマディスプレイパ
ネルの特性に応じて適宜選定することができる。具体的
には、隔壁の断面形状における底面の幅が１０〜３００
μｍ、高さが１０〜５００μｍ、隔壁の離間距離が５０
〜１０００μｍとされ、当該隔壁間に配置される電極の
幅が５０〜５００μｍとされる。特に典型的な一例にお
いては、隔壁の断面形状における底面の幅が５０μｍ、
高さが１５０μｍ、隔壁の離間距離が３００μｍとさ
れ、当該隔壁間に配置される電極の幅が１００μｍとさ
れる。

【００２４】以下に、前記の各工程に用いられる材料、
各種条件などについて説明する。 ＜基板＞プラズマ発生用の電極が多数配列されるととも
に、隔壁が形成される基板は、例えばガラス、シリコ
ン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、
ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からな
る板状部材である。この板状部材の表面には、必要に応
じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラ
ズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング
法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理の
ような適宜の前処理が施されていてもよい。なお、本発
明においては、基板として、耐熱性を有するガラスを用
いることが好ましい。ガラス基板としては、例えば旭硝
子（株）製ＰＤ２００を好ましいものとして挙げること
ができる。

【００２５】＜転写フィルム＞本発明の製造方法に用い
られる転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィ
ルム上に形成されたガラスフリット含有樹脂層とを有し
てなり、当該ガラスフリット含有樹脂層の表面に保護フ
ィルム層が設けられていてもよい。また、本発明の隔壁
形成用転写フィルムは、支持フィルム上に、アルカリ可
溶性の樹脂成分を含有するレジスト膜およびアルカリ不
溶性または難溶性の樹脂成分を含有するガラスフリット
含有樹脂層を含む積層膜が形成されてなる。また、上記
本発明の転写フィルムとしては、 レジスト膜または
ガラスフリット含有樹脂層が黒色顔料を含有するもの、
支持フィルム上に、レジスト膜、黒色顔料を含有す
るガラスフリット含有樹脂層および黒色顔料を含有しな
いガラスフリット含有樹脂層を含む積層膜が形成されて
なるもの、 支持フィルム上に、レジスト膜および複
数のガラスフリット含有樹脂層を含む積層膜が形成され
てなる転写フィルムにおいて、転写面に該当するガラス
フリット含有樹脂層におけるガラスフリット含有率がそ
れ以外のガラスフリット含有樹脂層におけるガラスフリ
ット含有率よりも小さいものなどが挙げられる。これら
のうち、に挙げた本発明の転写フィルムは、転写フィ
ルムの可撓性ならびに転写性に特に優れるものであり、
特に好ましいものとすることができる。なお、これらの
転写フィルムは、本発明の製造方法に好適に使用するこ
とができる。

【００２６】（１）支持フィルム：転写フィルムを構成
する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると
共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好まし
い。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロール
コータ等によってペースト状組成物を塗布することがで
き、ガラスフリット含有層をロール状に巻回した状態で
保存し、供給することができる。支持フィルムを形成す
る樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化
ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイ
ロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィ
ルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされ
る。

【００２７】（２）ガラスフリット含有樹脂層：転写フ
ィルムを構成するガラスフリット含有樹脂層は、ガラス
フリット、結着樹脂および溶剤を必須成分として含有す
るペースト状の組成物（ガラスフリット含有樹脂組成
物）を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶
剤の一部又は全部を除去することにより形成することが
できる。

【００２８】（３）ガラスフリット含有樹脂組成物：転
写フィルムを作製するために使用されるガラスフリット
含有樹脂組成物は、（ａ）低融点ガラスフリット、
（ｂ）結着樹脂および（ｃ）溶剤を含有してなるペース
ト状の組成物である。

【００２９】ガラスフリット含有樹脂組成物を構成する
低融点ガラスフリットの具体例としては、 酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（Ｚｎ
Ｏ−Ｂ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂系）、 酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ
−Ｂ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ 系）、 酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ムの混合物（ＰｂＯ−Ｂ ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ −Ａｌ₂ Ｏ₃
系）、 酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合
物（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ ₂ Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ 系） などを挙げることができる。なお、上記以外にもプラズ
マディスプレイの隔壁形成に好適な組成のガラスフリッ
トを用いることができる。

【００３０】ガラスフリットの軟化点としては、通常、
４００〜６００℃の範囲内である。ガラスフリットの軟
化点が４００℃未満である場合には、本発明のプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法による焼成工程におい
て、ガラスフリット含有樹脂層に含まれる結着樹脂など
の有機物質が完全に分解除去されない段階でガラスフリ
ットが溶融してしまうため、形成される隔壁中に有機物
質の一部が残留する傾向があるとともに、隔壁の形状が
保持できなくなる恐れがある。一方、ガラスフリットの
軟化点が６００℃を超える場合には、隔壁と基板との密
着力を保持させるために６００℃より高温で焼成する必
要があり、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。

【００３１】ガラスフリットの平均粒径（メジアン径）
としては、通常、０．１〜１０μｍのものが用いられる
が、好ましくは０．１〜１０μｍである。ガラスフリッ
トの平均粒径が０．１μｍ未満の場合には、ガラスフリ
ット含有樹脂組成物中においてガラスフリットの凝集が
生じやすくなる。またガラスフリットの平均粒径が１０
μｍを超える場合には、形成される隔壁のパーターン精
度が損なわれる恐れがある。なお、ガラスフリットの平
均粒径は、より好ましくは０．５〜３．０μｍである。
ここで、「ガラスフリットの平均粒径」は、レーザー回
折散乱法により測定された粒子径から求められる値を指
すものとする。

【００３２】ガラスフリット含有樹脂組成物を構成する
結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができる
が、アクリル樹脂であることが好ましい。結着樹脂とし
てアクリル樹脂が含有されていることにより、本発明の
製造方法に好ましく用いられる転写フィルムが、基板に
対する優れた（加熱）接着性を有するものとなる。従っ
て、ガラスフリット含有樹脂組成物を支持フィルム上に
塗布して転写フィルムを製造する場合において、得られ
る転写フィルムは、ガラスフリット含有樹脂層の転写性
（基板への加熱接着性）に優れたものとなる。ガラスフ
リット含有樹脂組成物を構成するアクリル樹脂として
は、適度な粘着性を有して低融点ガラスフリットを結着
させることができ、焼成処理（４００℃〜６００℃）に
よって完全に焼失除去される（共）重合体の中から選択
される。また、上記アクリル樹脂は、アルカリ不溶性ま
たはアルカリ難溶性の樹脂であることが好ましい。ここ
で言う「アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性」とは、
本発明におけるレジスト膜の現像条件下で、当該ガラス
フリット含有樹脂層の代わりに上記アクリル樹脂のみを
用いた被膜を現像した場合に、当該被膜の初期膜厚の５
０％以上、特に好ましくは９０％以上が現像後に残存す
る性質を意味する。かかるアクリル樹脂には、下記一般
式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物の単独
重合体、下記一般式（１）で表される（メタ）アクリレ
ート化合物の２種以上の共重合体、および下記一般式
（１）で表される（メタ）アクリレート化合物と共重合
性単量体との共重合体が含まれる。

【００３３】

【００３４】〔式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を
示し、Ｒ² は１価の有機基を示す。〕

【００３５】上記一般式（１）で表される（メタ）アク
リレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペン
チル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレー
ト、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メ
タ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オ
クチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノ
ニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレー
ト、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メ
タ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アク
リレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどの
アルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート；フェノキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メ
タ）アクリレート；２−メトキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２
−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル
（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メ
タ）アクリレート；ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプ
ロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポ
リプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニル
フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレ
ートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレ
ート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチ
ルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
タニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）ア
クリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メ
タ）アクリレートなどのシクロアルキル（メタ）アクリ
レート；ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることがで
きる。

【００３６】これらのうち、上記一般式（１）中、Ｒ²
で示される基が、アルキル基またはアルコキシアルキル
基を含有する基であることが好ましく、特に好ましい
（メタ）アクリレート化合物として、ブチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アク
リレートおよび２−エトキシエチル（メタ）アクリレー
トを挙げることができる。他の共重合性単量体として
は、上記（メタ）アクリレート化合物と共重合可能な化
合物ならば特に制限はないが、例えば、（メタ）アクリ
ル酸、ビニル安息香酸、マイレン酸、ビニルフタル酸な
どの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメチルエーテ
ル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチル
スチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビニル基含有
ラジカル重合性化合物が挙げられる。ガラスフリット含
有樹脂組成物を構成するアクリル樹脂における、上記一
般式（ｉ）で表される（メタ）アクリレート化合物由来
の共重合成分は、通常７０質量％以上、好ましくは９０
質量％以上である。また、上記一般式（１）中、Ｒ²で
示される基がアルキル基またはアルコキシアルキル基を
含有する基である（メタ）アクリレート化合物由来の共
重合成分が５０％以上、特に好ましくは８０％以上含ま
れるアクリル樹脂がさらに好ましい。特に好ましいアク
リル樹脂の具体例としては、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリブチルメタクリレート、メチルメタクリレート
−ブチルメタクリレート共重合体などを例示することが
できる。

【００３７】ガラスフリット含有樹脂組成物を構成する
アクリル樹脂の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチ
レン換算の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」ともいう）
として４，０００〜３００，０００であることが好まし
く、さらに好ましくは１０，０００〜２００，０００と
される。ガラスフリット含有樹脂組成物における結着樹
脂の含有割合としては、定融点ガラスフリット１００質
量部に対して、１〜５０質量部であることが好ましく、
さらに好ましくは３〜２０質量部とされる。結着樹脂の
割合が過小である場合には、低融点ガラスフリットを確
実に結着保持することができず、一方、この割合が過大
である場合には、サンドブラスト処理時のガラスフリッ
ト含有樹脂層の切削や、焼成時における有機成分の除去
が困難になる。

【００３８】ガラスフリット含有樹脂組成物を構成する
溶剤は、当該ガラスフリット含有樹脂組成物に、適当な
流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために
含有される。ガラスフリット含有樹脂組成物を構成する
溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えばエ
ーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン
類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、
ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン
類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などを挙げるこ
とができる。かかる溶剤の具体例としては、テトラヒド
ロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコー
ルモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジア
ルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキル
エーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル
類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アル
コキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒド
ロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン
酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸
エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢
酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド
類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジア
ルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピ
ネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げるこ
とができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせ
て使用することができる。ガラスフリット含有樹脂組成
物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性
（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜
選択することができる。

【００３９】上記成分以外に、ガラスフリット含有樹脂
組成物には、低融点ガラスフリットの分散安定性向上の
目的で、シリル基含有化合物が含有されていてもよい。
当該シリル基含有化合物としては、下記一般式（２）で
表されるシリル基含有化合物〔飽和アルキル基含有（ア
ルキル）アルコキシシラン〕が好ましい。

【００４０】

【化１】

【００４１】（式中、ｐは３〜２０の整数、ｍは１〜３
の整数、ｎは１〜３の整数、そしてａは１〜３の整数で
ある。）

【００４２】上記一般式（２）において、飽和アルキル
基の炭素数を示すｐは３〜２０の整数とされ、好ましく
は４〜１６の整数とされる。ｐが３未満である飽和アル
キル基含有（アルキル）アルコキシシランを含有させて
も、得られるガラスフリット含有樹脂層において十分な
可撓性が発現されない場合がある。一方、ｐの値が２０
を超える飽和アルキル基含有（アルキル）アルコキシシ
ランは分解温度が高く、本発明のプラズマディスプレイ
の製造方法による焼成工程において、有機物質（前記シ
ラン誘導体）が完全に分解除去されない状態で、形成さ
れる隔壁中に有機物質の一部が残留する場合がある。

【００４３】上記一般式（２）で表されるシリル基含有
化合物の具体例としては、ｎ−プロピルジメチルメトキ
シシラン、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−デ
シルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチ
ルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルメトキシシ
ランなどの飽和アルキルジメチルメトキシシラン類（ａ
＝１，ｍ＝１，ｎ＝１）；ｎ−プロピルジエチルメトキ
シシラン、ｎ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｎ−デ
シルジエチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジエチ
ルメトキシシラン、ｎ−エイコシルジエチルメトキシシ
ランなどの飽和アルキルジエチルメトキシシラン類（ａ
＝１，ｍ＝１，ｎ＝２）；ｎ−ブチルジプロピルメトキ
シシラン、ｎ−デシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−
ヘキサデシルジプロピルメトキシシラン、ｎ−エイコシ
ルジプロピルメトキシシランなどの飽和アルキルジプロ
ピルメトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝１，ｎ＝３）；ｎ
−プロピルジメチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジメチ
ルエトキシシラン、ｎ−デシルジメチルエトキシシラ
ン、ｎ−ヘキサデシルジメチルエトキシシラン、ｎ−エ
イコシルジメチルエトキシシランなどの飽和アルキルジ
メチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝１）；
ｎ−プロピルジエチルエトキシシラン、ｎ−ブチルジエ
チルエトキシシラン、ｎ−デシルジエチルエトキシシラ
ン、ｎ−ヘキサデシルジエチルエトキシシラン、ｎ−エ
イコシルジエチルエトキシシランなどの飽和アルキルジ
エチルエトキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝２，ｎ＝２）；
ｎ−ブチルジプロピルエトキシシラン、ｎ−デシルジプ
ロピルエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピルエ
トキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルエトキシシラ
ンなどの飽和アルキルジプロピルエトキシシラン類（ａ
＝１，ｍ＝２，ｎ＝３）；ｎ−プロピルジメチルプロポ
キシシラン、ｎ−ブチルジメチルプロポキシシラン、ｎ
−デシルジメチルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシル
ジメチルプロポキシシラン、ｎ−エイコシルジメチルプ
ロポキシシランなどの飽和アルキルジメチルプロポキシ
シラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝１）；ｎ−プロピルジ
エチルプロポキシシラン、ｎ−ブチルジエチルプロポキ
シシラン、ｎ−デシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−
ヘキサデシルジエチルプロポキシシラン、ｎ−エイコシ
ルジエチルプロポキシシランなどの飽和アルキルジエチ
ルプロポキシシラン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝２）；ｎ
−ブチルジプロピルプロポキシシラン、ｎ−デシルジプ
ロピルプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジプロピル
プロポキシシラン、ｎ−エイコシルジプロピルプロポキ
シシランなどの飽和アルキルジプロピルプロポキシシラ
ン類（ａ＝１，ｍ＝３，ｎ＝３）；

【００４４】ｎ−プロピルメチルジメトキシシラン、ｎ
−ブチルメチルジメトキシシラン、ｎ−デシルメチルジ
メトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジメトキシシ
ラン、ｎ−エイコシルメチルジメトキシシランなどの飽
和アルキルメチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝
１，ｎ＝１）；ｎ−プロピルエチルジメトキシシラン、
ｎ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｎ−デシルエチル
ジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジメトキシ
シラン、ｎ−エイコシルエチルジメトキシシランなどの
飽和アルキルエチルジメトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝
１，ｎ＝２）；ｎ−ブチルプロピルジメトキシシラン、
ｎ−デシルプロピルジメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシ
ルプロピルジメトキシシラン、ｎ−エイコシルプロピル
ジメトキシシランなどの飽和アルキルプロピルジメトキ
シシラン類（ａ＝２，ｍ＝１，ｎ＝３）ｎ−プロピルメ
チルジエトキシシラン、ｎ−ブチルメチルジエトキシシ
ラン、ｎ−デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサ
デシルメチルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルメチル
ジエトキシシランなどの飽和アルキルメチルジエトキシ
シラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝１）；ｎ−プロピルエ
チルジエトキシシラン、ｎ−ブチルエチルジエトキシシ
ラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサ
デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−エイコシルエチル
ジエトキシシランなどの飽和アルキルエチルジエトキシ
シラン類（ａ＝２，ｍ＝２，ｎ＝２）；ｎ−ブチルプロ
ピルジエトキシシラン、ｎ−デシルプロピルジエトキシ
シラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジエトキシシラン、
ｎ−エイコシルプロピルジエトキシシランなどの飽和ア
ルキルプロピルジエトキシシラン類（ａ＝２，ｍ＝２，
ｎ＝３）；ｎ−プロピルメチルジプロポキシシラン、ｎ
−ブチルメチルジプロポキシシラン、ｎ−デシルメチル
ジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルメチルジプロポ
キシシラン、ｎ−エイコシルメチルジプロポキシシラン
などの飽和アルキルメチルジプロポキシシラン類 （ａ
＝２，ｍ＝３，ｎ＝１）；ｎ−プロピルエチルジプロポ
キシシラン、ｎ−ブチルエチルジプロポキシシラン、ｎ
−デシルエチルジプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシル
エチルジプロポキシシラン、ｎ−エイコシルエチルジプ
ロポキシシランなどの飽和アルキルエチルジプロポキシ
シラン類（ａ＝２，ｍ＝３，ｎ＝２）；ｎ−ブチルプロ
ピルジプロポキシシラン、ｎ−デシルプロピルジプロポ
キシシラン、ｎ−ヘキサデシルプロピルジプロポキシシ
ラン、ｎ−エイコシルプロピルジプロポキシシランなど
の飽和アルキルプロピルジプロポキシシラン類（ａ＝
２，ｍ＝３，ｎ＝３）；

【００４５】ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブ
チルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラ
ン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−エイコ
シルトリメトキシシランなどの飽和アルキルトリメトキ
シシラン類（ａ＝３，ｍ＝１）；ｎ−プロピルトリエト
キシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシ
ルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシ
シラン、ｎ−エイコシルトリエトキシシランなどの飽和
アルキルトリエトキシシラン類（ａ＝３，ｍ＝２）；ｎ
−プロピルトリプロポキシシラン、ｎ−ブチルトリプロ
ポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−
ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ｎ−エイコシルト
リプロポキシシランなどの飽和アルキルトリプロポキシ
シラン類（ａ＝３，ｍ＝３）などを挙げることができ、
これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用す
ることができる。

【００４６】これらのうち、ｎ−ブチルトリメトキシシ
ラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシ
ルトリメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシ
ラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−
ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシ
ラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−デシ
ルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジ
エトキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ
−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリ
プロポキシシランなどが特に好ましい。

【００４７】ガラスフリット含有樹脂組成物におけるシ
リル基含有化合物の含有割合としては、低融点ガラスフ
リット１００質量部に対して、５質量部以下であること
が好ましく、さらに好ましくは１質量部以下とされる。
シリル基含有化合物の割合が過大である場合には、得ら
れる第一のガラスフリット含有樹脂組成物を保存する際
に粘度が経時的に上昇したり、シリル基含有化合物同士
で反応が起こり、焼成後に有機物質が残留する原因にな
ったりする場合がある。

【００４８】また、ガラスフリット含有樹脂組成物にお
いては、形成されるガラスフリット含有樹脂層に可撓性
と燃焼性とを発現させるために、可塑剤が含有されてい
てもよい。可塑剤としては、下記一般式（３）または
（４）で示される化合物からなる可塑剤が好ましい。

【００４９】

【化２】

【００５０】（式中、Ｒ³ およびＲ⁶ は、それぞれ、同
一または異なる炭素数１〜３０のアルキル基を示し、Ｒ
⁴ およびＲ⁵ は、それぞれ、同一または異なるメチレン
基または炭素数２〜３０のアルキレン基を示し、ｓは０
〜５の数であり、ｔは１〜１０の数である。）

【００５１】

【化３】

【００５２】（式中、Ｒ⁷ は炭素数１〜３０のアルキル
基またはアルケニル基を示す。）特に、上記一般式
（３）または（４）で示される化合物からなる可塑剤
は、熱により容易に分解除去されるため、当該ガラスフ
リット含有樹脂層を焼成して得られる隔壁中へ悪影響を
与えることはない。

【００５３】上記一般式（３）において、Ｒ³ またはＲ
⁶ で示されるアルキル基、並びにＲ ⁴ またはＲ⁵ で示さ
れるアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状であって
もよく、また、飽和基であっても不飽和基であってもよ
い。

【００５４】Ｒ³ またはＲ⁶ で示されるアルキル基の炭
素数は、１〜３０とされ、好ましくは２〜２０、さらに
好ましくは４〜１０とされる。当該アルキル基の炭素数
が３０を超える場合には、溶剤に対する可塑剤の溶解性
が低下し、良好な可撓性が得られない場合がある。

【００５５】上記構造式（３）で示される化合物の具体
例としては、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペ
ート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジ−２−エ
チルヘキシルアゼレート、ジブチルセバケート、ジブチ
ルジグリコールアジペートなどが挙げられる。好ましく
は、ｎが２〜６で表される化合物である。

【００５６】上記一般式（４）において、Ｒ⁷ は炭素数
１〜３０のアルキル基またはアルケニル基を示し、Ｒ⁷
で示されるアルキル基およびアルケニル基は、直鎖状で
あっても分岐状であってもよく、また、飽和基であって
も不飽和基であってもよい。Ｒ⁷ で示されるアルキル基
またはアルケニル基の炭素数は、１〜３０とされ、好ま
しくは２〜２０、さらに好ましくは１０〜１８とされ
る。

【００５７】上記一般式（４）で示される化合物の具体
例としては、プロピレングリコールモノラウレート、プ
ロピレングリコールモノオレートなどが挙げられる。

【００５８】また、ガラスフリット含有樹脂層には、シ
リカ、アルミナ、酸化チタンなどのフィラーあるいは白
色顔料が含有されていてもよい。さらに、黒色顔料とし
て、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏなどの
金属、金属酸化物、Ｃｕ−Ｃｒ、Ｃｕ−Ｆｅ−Ｍｎ、Ｃ
ｕ−Ｃｒ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ
等の複合金属酸化物が含有されていてもよい。ガラスフ
リット含有樹脂組成物には、上記の成分のほかに、粘着
性付与剤、表面張力調整剤、安定剤、消泡剤、分散剤な
どの各種添加剤が任意成分として含有されていてもよ
い。分散剤としては、脂肪酸が好ましく用いられる。特
に、炭素数８〜３０の脂肪酸が好ましい。上記脂肪酸の
好ましい具体例としては、オクタン酸、ウンデシル酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ペンタデカ
ン酸、ステアリン酸、アラキン酸等の飽和脂肪酸；エラ
イジン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラ
キドン酸、カルボキシポリカプロラクトン（ｎ＝２）モ
ノアクリレートなどの不飽和脂肪酸を挙げることがで
き、これらは、単独でまたは２種以上を組み合わせて使
用することができる。ガラスフリット含有樹脂組成物に
おける分散剤の含有割合としては、低融点ガラスフリッ
ト１００質量部に対して、５質量部以下であることが好
ましく、さらに好ましくは１質量部以下とされる。ガラ
スフリット含有樹脂組成物は、通常、上記（ａ）低融点
ガラスフリット、（ｂ）結着樹脂、（ｃ）溶剤およびそ
の他の任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキ
サー、サンドミルなどの混練・分散機を用いて混練する
ことにより調製することができる。当該ガラスフリット
含有樹脂組成物の粘度としては、５００〜５００００ｍ
Ｐａ・ｓ^ー1であることが好ましい。

【００５９】ガラスフリット含有樹脂組成物を支持フィ
ルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた
膜厚の大きい（例えば３０μｍ以上）塗膜を効率よく形
成することができるものであることが必要とされ、具体
的には、ロールコーターによる塗布方法、ドクターブレ
ードによる塗布方法、ダイコーターによる塗布方法、カ
ーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによ
る塗布方法などを好ましいものとして挙げることができ
る。なお、ガラスフリット含有樹脂組成物が塗布される
支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが
好ましい。これにより、前述の転写工程において、支持
フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。

【００６０】塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜
１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後に形成
されるガラスフリット含有樹脂層における溶剤の残存割
合は、通常２質量％以下とされる。

【００６１】上記のようにして支持フィルム上に形成さ
れるガラスフリット含有樹脂層の厚さとしては、ガラス
粉末の含有率、パネルの種類やサイズなどによっても異
なるが、例えば１０〜５００μｍとされ、好ましくは５
０〜２００μｍとされる。なお、ガラスフリット含有樹
脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層とし
ては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを
挙げることができる。

【００６２】＜レジスト膜（レジスト組成物）＞レジス
ト膜を形成するために使用するレジスト組成物として
は、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、有機溶
剤現像型感放射線性レジスト組成物、水性現像型感放射
線性レジスト組成物などを例示することができるが、好
ましくはアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物が用
いられる。なお、「感放射線性」とは、可視光線、紫外
線、遠紫外線、電子線、Ｘ線などを含むものである。

【００６３】アルカリ現像型レジスト組成物は、アルカ
リ可溶性樹脂と感放射線性成分を必須成分として含有し
てなる。アルカリ現像型レジスト組成物を構成するアル
カリ可溶性樹脂としては、例えば（メタ）アクリル系樹
脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエ
ステル樹脂などを挙げることができる。このようなアル
カリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下
記のモノマー（イ）とモノマー（ハ）との共重合体、モ
ノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモノマー（ハ）の
共重合体などのアクリル樹脂を挙げることができる。

【００６４】モノマー（イ）：カルボキシル基含有モノ
マー類 アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、ク
ロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケ
イ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシ
エチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ
（メタ）アクリレートなど。 モノマー（ロ）：ＯＨ含有モノマー類 （メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）ア
クリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸
３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ
−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モ
ノマー類など。 モノマー（ハ）：その他の共重合可能なモノマー類 （メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチ
ル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル
酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリ
ル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸
グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルな
どのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル
類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル
系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエ
ン類；ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、
ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル
酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に（メタ）アク
リロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマ
ー類など。

【００６５】上記モノマー（イ）とモノマー（ハ）との
共重合体や、モノマー（イ）、モノマー（ロ）およびモ
ノマー（ハ）の共重合体は、モノマー（イ）に由来する
共重合成分の存在により、アルカリ可溶性を有するもの
となる。中でもモノマー（イ）、モノマー（ロ）および
モノマー（ハ）の共重合体は、アルカリ現像液への溶解
性の観点から特に好ましい。この共重合体におけるモノ
マー（イ）に由来する共重合成分の含有率は、好ましく
は５〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％で
あり、モノマー（ロ）に由来する共重合成分の含有率
は、好ましくは１〜５０質量％、特に好ましくは５〜３
０質量％である。

【００６６】上記アルカリ可溶性樹脂の分子量として
は、Ｍｗが５，０００〜５，０００，０００であること
が好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜３００，
０００とされる。アルカリ現像型レジスト組成物を構成
する成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと
光重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放
射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わ
せ、（ハ）放射線照射によりアルカリ難溶性のものがア
ルカリ可溶性になる化合物などを例示することができ、
上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アク
リレートと光重合開始剤との組み合わせが特に好まし
い。

【００６７】感放射線性成分を構成する多官能性（メ
タ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコールなどのアルキレングリコール
のジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレング
リコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキ
シポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、
両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒド
ロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセ
リン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロール
アルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリ
トール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価
アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の
多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポ
リ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジ
オール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオ
ールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）ア
クリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、ス
ピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）ア
クリレート類などを挙げることができ、これらは単独で
または２種以上を組み合わせて使用することができる。

【００６８】また、感放射線性成分を構成する光重合開
始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾ
フェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなど
のカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−ア
ジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド
化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合
物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパ
ーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、
クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパー
オキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリ
クロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチ
レニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，
３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’
−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テ
トラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾ
ール二量体などを挙げることができる。これらは単独で
または２種以上を組み合わせて使用することができる。
このアルカリ現像型レジスト組成物における感放射線性
成分の含有割合としては、アルカリ可溶性樹脂１００重
量部当たり、通常１〜２００重量部とされ、好ましくは
５〜１００重量部である。また、アルカリ現像型感放射
線性レジスト組成物については、良好な膜形成性付与す
るために、適宜溶剤が含有される。かかる溶剤として
は、ガラスフリット含有樹脂組成物を構成するものとし
て例示した溶剤を挙げることができる。本発明において
使用するレジスト組成物には、任意成分として、上述の
ガラスフリット含有樹脂組成物で示した黒色顔料や、現
像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定
剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍
光体、顔料、染料などの各種添加剤が含有されていても
よい。

【００６９】＜露光用マスク＞レジスト膜の露光工程に
おいて使用される露光用マスク（Ｍ）の露光パターンと
しては、所期のプラズマ作用空間を形成させる観点か
ら、３０〜５００μｍ幅のストライプであることが好ま
しく、典型的な一例においては、７０μｍ幅のストライ
プである。

【００７０】＜現像液＞レジスト膜の現像工程で使用さ
れる現像液としては、レジスト膜（レジスト組成物）の
種類に応じて適宜選択することができる。具体的には、
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物によるレジス
ト膜にはアルカリ現像液を使用することができ、有機溶
剤現像型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜に
は有機溶剤現像液を使用することができ、水性現像型感
放射線性レジスト組成物によるレジスト膜には水性現像
液を使用することができる。

【００７１】アルカリ現像液の有効成分としては、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウ
ム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、
リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リ
ン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性
化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリ
メチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙
げることができる。レジスト膜の現像工程で使用される
アルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または
２種以上を水などに溶解させることにより調製すること
ができる。ここに、アルカリ現像液におけるアルカリ性
化合物の濃度は、通常０．００１〜１０重量％とされ、
好ましくは０．０１〜５重量％とされる。なお、アルカ
リ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処
理が施される。

【００７２】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において、「部」および「％」は、それぞれ
「重量部」および「重量％」を示す。また、重量平均分
子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミィエーションクロマトグラ
フィー（ＧＰＣ）「ＨＬＣ−８０２Ａ」（東ソー株式会
社製）により測定したポリスチレン換算の平均分子量で
ある。

【００７３】〔合成例１〕攪拌機を備えた反応容器に、
トリレンジイソシアネート５．５部、テトラヒドロフラ
ンと３−メチルテトラヒドロフランとの開環共重合体
（数平均分子量２０００）４２．０部、および添加剤と
して重合禁止剤である２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−ク
レゾール０．０１部を仕込んだ。これらを攪拌しながら
液温度が１０℃以下になるまで氷冷した。液温度が１０
℃以下になった時、ジブチル錫ジラウレート０．０４部
を添加し、液温度を２０〜３０℃で制御しながら２時間
攪拌した。その後、ヒドロキシエチルアクリレート２．
５部を加え、液温度５０〜６０℃にて４時間攪拌を継続
させ、残留イソシアネートが０．１％以下になった時を
反応終了とし、ウレタンジアクリレート（Ａ）を合成し
た。

【００７４】＜実施例１＞ （１）ガラスフリット含有樹脂組成物の調製： （ａ）低融点ガラスフリットとしてＰｂＯ−Ｂ₂ Ｏ₃ −
ＳｉＯ₂ 系ガラスフリット（軟化点５７０℃、平均粒径
１．５μｍ）１００部、（ｂ）結着樹脂としてｎ−ブチ
ルメタクリレート／メチルメタクリレート／２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート＝６０質量％／３０質量％
／１０質量％共重合体（重量平均分子量：１００，００
０）７部、（ｃ）溶剤としてプロピレングリコールモノ
メチルエーテル２０部、フィラーとしてアルミナ粉末２
０部および可塑剤として、プロピレングリコールモノオ
レート１部を分散機を用いて混練することにより、粘度
が１０，０００ｍＰａ・ｓ^-1であるガラスフリット含有
樹脂組成物（１）を調製した。

【００７５】（２）アルカリ現像型感放射線性レジスト
組成物の調製：アルカリ可溶性樹脂としてイソプレン／
メタクリル酸／ｎ−ブチルアクリレート／メトキシジプ
ロピレングリコールアクリレート／ｎ−ヘキシルメタア
クリレート＝５／２０／１５／１５／４５（質量％）共
重合体（Ｍｗ＝５０，０００）５０部、多官能性モノマ
ー（感放射線性成分）としてウレタンアクリレート
（Ａ）５０部、光重合開始剤（感放射線性成分）として
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキサイド２．５部および溶剤としてプロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート１００部を混練
りすることにより、アルカリ現像型感放射線性レジスト
組成物（１）（以下、「レジスト組成物（１）」とい
う。）を調製した。

【００７６】（３）転写フィルムの製造：上記（１）で
調製したガラスフリット含有樹脂組成物（１）を予め離
型処理したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２
００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコー
ターを用いて塗布して、塗膜を１００℃で１５分間乾燥
して溶剤を完全に除去し、厚さ２００μｍのガラスフリ
ット含有樹脂層を支持フィルム上に形成した（以下、
「転写フィルム（１）」という）。さらに同様に、上記
（２）で調製したレジスト組成物（１）を予め離型処理
したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍ
ｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコーターを
用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を
完全に除去し、厚さ３０μｍのレジスト膜を支持フィル
ム上に形成した（以下、「転写フィルム（２）」とい
う）。

【００７７】（４）フィルムの転写工程：６インチパネ
ル用のガラス基板の表面に、ガラスフリット含有樹脂層
の表面が当接されるよう転写フィルム（１）を重ね合わ
せ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにて熱圧着し
た。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度
を１５０℃、ロール圧を１０ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの
移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、
支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板
の表面にガラスフリット含有樹脂層が転写されて密着し
た状態となった。次いで、ガラスフリット含有樹脂層上
にレジスト膜の表面が当接されるよう転写フィルム
（２）を重ね合わせ、この転写フィルム（２）を加熱ロ
ーラにて熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱
ローラの表面温度を１００℃、ロール圧を５ｋｇ／ｃ
ｍ、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。

【００７８】（５）レジスト膜の露光工程：ガラスフリ
ット含有樹脂層上に形成されたレジスト膜に対して、露
光用マスク（７０μｍ幅のストライプパターン）を介し
て、支持フィルム上より超高圧水銀灯により、ｉ線（波
長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。ここに、照射量は
４００ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００７９】（６）レジスト膜の現像工程：レジスト膜
から支持フィルムを剥離した後、露光処理されたレジス
ト膜に対して、０．６質量％の炭酸ナトリウム水溶液
（３０℃）を現像液とするシャワー法による現像処理お
よび超純水によるリンス処理を行い、これにより、紫外
線が照射されていない未硬化のレジスト膜を除去し、ガ
ラスフリット含有樹脂層上にレジストパターンを得るこ
とができた。

【００８０】（７）ガラスフリット含有樹脂層のサンド
ブラスト工程：現像処理されたレジストパターンをマス
クとして、ガラスフリット含有樹脂層に対して、研磨剤
としてアルミナを用いたサンドブラスト処理を吐出圧力
３ｋｇ／ｃｍ^２で行い、これにより、レジスト膜除去部
に対応するガラスフリット含有樹脂層を除去し、ガラス
フリット含有樹脂層のパターンを得ることができた。

【００８１】（８）焼成工程：ガラスフリット含有樹脂
層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９
０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行っ
た。これにより、レジストパターンおよびガラスフリッ
ト含有樹脂層パターン中の有機成分を除去し、ガラス基
板の表面にパターン幅７０μｍ、高さ１５０μｍの隔壁
が形成されてなるパネル材料を得ることができた。

【００８２】＜実施例２＞実施例１中（２）アルカリ現
像型感放射線性レジスト組成物の調製において、黒色顔
料としてＣｒ−Ｃｕ複合酸化物（平均粒径１．０μｍ）
１０部および低融点ガラスフリットとしてＰｂＯ−Ｂ₂
Ｏ₃ −ＳｉＯ₂ 系ガラスフリット（軟化点５７０℃、平
均粒径１．５μｍ）５部を添加した以外は実施例（１）
と同様にして、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成
物（２）（以下、「レジスト組成物（２）」という。）
を調製した。実施例１中（３）転写フィルムの製造にお
いて、上記レジスト組成物（２）を予め離型処理したＰ
ＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長
さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にリバースロールコーター
を用いて塗布して、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶
剤を完全に除去し、厚さ３０μｍのレジスト膜を支持フ
ィルム上に形成した。次いで、実施例１において調製し
たガラスフリット含有樹脂組成物（１）をレジスト膜上
にブレードコータを用いて塗布し、塗膜を１００℃で１
５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ２００μｍの
ガラスフリット含有樹脂層がレジスト膜上に形成された
本発明の転写フィルム（以下、「転写フィルム（３）」
という）を得た。実施例１中（４）フィルムの転写工程
において、６インチパネル用のガラス基板の表面に、ガ
ラスフリット含有樹脂層の表面が当接されるよう転写フ
ィルム（３）を重ね合わせ、この転写フィルム（３）を
加熱ローラにて熱圧着した。ここで、圧着条件として
は、加熱ローラの表面温度を１５０℃、ロール圧を１０
ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とし
た。実施例１と同様にしてレジスト膜の露光、現像工
程、ガラスフリット含有樹脂層のサンドブラスト工程お
よび焼成工程を行った。これにより、ガラス基板の表面
にパターン幅７０μｍ、高さ１５０μｍの頂部が黒色を
呈した隔壁が形成されてなるパネル材料を得ることがで
きた。

【００８３】＜実施例３＞実施例１中（１）ガラスフリ
ット含有樹脂組成物の調製において、黒色顔料としてＣ
ｒ−Ｃｕ複合酸化物（平均粒径１．０μｍ）４０部を添
加した以外は実施例（１）と同様にして、ガラスフリッ
ト含有樹脂組成物（２）を調製した。実施例１中（１）
ガラスフリット含有樹脂組成物の調製において、（ｂ）
結着樹脂としてｎ−ブチルメタクリレート／メチルメタ
クリレート／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート＝
６０質量％／３０質量％／１０質量％共重合体（重量平
均分子量：１００，０００）１４部を用いた以外は実施
例（１）と同様にして、ガラスフリット含有樹脂組成物
（３）を調製した。実施例１中（３）転写フィルムの製
造において、実施例１において調製したレジスト組成物
（１）を予め離型処理したＰＥＴフィルムよりなる支持
フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）
上にロールコーターを用いて塗布して、塗膜を１００℃
で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ３０μｍの
レジスト膜を支持フィルム上に形成した。次いで、上記
ガラスフリット含有樹脂組成物（２）をレジスト膜上に
ロールコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分
間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ３０μｍのガラス
フリット含有樹脂層をレジスト膜上に形成した。さら
に、実施例（１）で調製したガラスフリット含有樹脂組
成物（１）および上記ガラスフリット含有樹脂組成物
（３）をガラスフリット含有樹脂層にブレードコーター
で順次塗布、乾燥し、レジスト膜および複数のガラスフ
リット含有樹脂層からなる積層膜が支持フィルム上に形
成された本発明の転写フィルム（以下、「転写フィルム
（４）」という）を得た。ここで、ガラスフリット含有
樹脂組成物（１）の塗膜は１００℃で１５分間乾燥して
溶剤を完全に除去し、厚さ１５０μｍとし、ガラスフリ
ット含有樹脂組成物（３）の塗膜は１００℃で５分間乾
燥して溶剤を完全に除去し、厚さ３０μｍとした。実施
例１中（４）フィルムの転写工程において、６インチパ
ネル用のガラス基板の表面に、ガラスフリット含有樹脂
層の表面が当接されるよう転写フィルム（４）を重ね合
わせ、この転写フィルム（４）を加熱ローラにて熱圧着
した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温
度を１２０℃、ロール圧を５ｋｇ／ｃｍ、加熱ローラの
移動速度を０．５ｍ／分とした。実施例１と同様にして
レジスト膜の露光、現像工程、ガラスフリット含有樹脂
層のサンドブラスト工程および焼成工程を行った。これ
により、ガラス基板の表面にパターン幅７０μｍ、高さ
１５０μｍの頂部が黒色を呈した隔壁が形成されてなる
パネル材料を得ることができた。

【００８４】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば下記のような
効果が奏される。 （１）従来の製造方法に比べて、隔壁形成における工程
数が実質的に少なく、プラズマディスプレイパネルの製
造効率を向上させることができる。 （２）本発明の製造方法により得られるプラズマディス
プレイパネルの隔壁は、高い寸法精度を有する。 （３）本発明の製造方法により得られるプラズマディス
プレイパネルは、表示コントラストおよび発光効率に優
れる。 （４）本発明の隔壁形成用転写フィルムは、本発明の製
造方法における隔壁の形成工程に好適に使用することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法における隔壁の形成工程（転
写工程・レジスト膜の形成工程・露光工程）の一例を示
す概略断面図である。

【図２】本発明の製造方法における隔壁の形成工程（現
像工程・サンドブラスト工程、焼成工程）の一例を示す
概略断面図である。

【符号の説明】

１１ ガラス基板 １２ 電極 ２０ 転写フィルム ２１ ガラスフリット含有樹脂層 ２２ 支持フィルム ２５ ガラスフリット含有樹脂パターン ２５Ａ 樹脂層残留部 ２５Ｂ 樹脂層除去部 ３１ レジスト膜 ３５ レジストパターン ３５Ａ レジスト残留部 ３５Ｂ レジスト除去部 ４０ 隔壁 ５０ パネル材料 Ｍ 露光用マスク ＭＡ 光透過部 ＭＢ 遮光部

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（ｉ）〜（iv）の工程を含む方法に
   より隔壁を形成することを特徴とする、プラズマディス
   プレイパネルの製造方法。 （ｉ）支持フィルム上に形成されたガラスフリット含有
   樹脂層を転写することにより、基板上に、ガラスフリッ
   ト含有樹脂層を形成し、当該ガラスフリット含有樹脂層
   上にレジスト膜を形成する工程。 （ii）レジスト膜を露光・現像処理してガラスフリット
   含有樹脂層上にレジストパターンを形成する工程。 （iii）ガラスフリット含有樹脂層をサンドブラスト処
   理して、レジストパターンに対応するガラスフリット含
   有樹脂層のパターンを基板上に形成する工程。 （iv）ガラスフリット含有樹脂層のパターンを焼成する
   工程。
2. 【請求項２】 支持フィルム上に形成されたレジスト膜
   を転写することにより、ガラスフリット含有樹脂層上に
   レジスト膜を形成することを特徴とする、請求項１に記
   載のプラズマディスプレイの製造方法。
3. 【請求項３】 支持フィルム上に形成されたレジスト膜
   とガラスフリット含有樹脂層との積層膜を転写すること
   により、基板上にガラスフリット含有樹脂層およびレジ
   スト膜の積層膜を形成することを特徴とする、請求項１
   に記載のプラズマディスプレイの製造方法。
4. 【請求項４】 ガラスフリット含有樹脂層がアルカリ不
   溶性または難溶性の樹脂成分を含有し、レジスト膜がア
   ルカリ可溶性の樹脂成分を含有することを特徴とする、
   請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
   法。
5. 【請求項５】 複数のガラスフリット含有樹脂層からな
   る積層体を基板上に転写形成することを特徴とする、請
   求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
   法。
6. 【請求項６】 レジスト膜および／またはガラスフリッ
   ト含有樹脂層が黒色顔料を含有することを特徴とする、
   請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
   法。
7. 【請求項７】 支持フィルム上に、アルカリ可溶性の樹
   脂成分を含有するレジスト膜と、アルカリ不溶性または
   難溶性の樹脂成分を含有するガラスフリット含有樹脂層
   とを含む積層膜が形成されてなることを特徴とする、隔
   壁形成用転写フィルム。
8. 【請求項８】 レジスト膜および／またはガラスフリッ
   ト含有樹脂層が黒色顔料を含有することを特徴とする、
   請求項７に記載の隔壁形成用転写フィルム。
9. 【請求項９】 支持フィルム上に、レジスト膜、黒色顔
   料を含有するガラスフリット含有樹脂層および黒色顔料
   を含有しないガラスフリット含有樹脂層を含む積層膜が
   形成されてなることを特徴とする、請求項７に記載の隔
   壁形成用転写フィルム。
10. 【請求項１０】 支持フィルム上に、レジスト膜および
    複数のガラスフリット含有樹脂層を含む積層膜が形成さ
    れてなる転写フィルムにおいて、転写面に該当するガラ
    スフリット含有樹脂層におけるガラスフリット含有率が
    それ以外のガラスフリット含有樹脂層におけるガラスフ
    リット含有率よりも小さいことを特徴とする、請求項７
    に記載の隔壁形成用転写フィルム。