JPH11144628A

JPH11144628A - 隔壁形成用転写フィルムおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法

Info

Publication number: JPH11144628A
Application number: JP9310837A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Masuko; 英明増子; Tadahiko Udagawa; 忠彦宇田川; Hiroaki Nemoto; 宏明根本; Nobuo Bessho; 信夫別所
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 1997-11-12
Filing date: 1997-11-12
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】新規な隔壁の形成工程を有するプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法を提供すること。従
来の製造方法に比べて、隔壁形成における工程数が実質
的に少なく、製造効率に優れたプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法を提供すること。【解決手段】〔１〕隔壁形成材料層の転写工程、
〔２〕レジスト膜の形成工程、〔３〕レジスト膜の露光
工程、〔４〕レジスト膜の現像工程、〔５〕隔壁形成材
料層のエッチング工程、〔６〕隔壁パターンの焼成工程
により、基板の表面に隔壁を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示セルを区画す
る隔壁の形成工程に特徴を有するプラズマディスプレイ
パネルの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、大型のパネルを容易に製造することができること、
視野角が広いこと、自発光タイプで表示品位が高いこと
などの理由から、フラットパネル表示技術において注目
されている。特に、カラープラズマディスプレイパネル
は、２０インチ以上の壁掛けＴＶ用の表示デバイスとし
て将来主流になるものと期待されている。カラープラズ
マディスプレイパネルは、ガス放電により発生する紫外
線を螢光体に照射することによってカラー表示が可能に
なる。そして、一般に、カラープラズマディスプレイパ
ネルにおいては、赤色発光用の螢光体部位、緑色発光用
の螢光体部位および青色発光用の螢光体部位が基板上に
形成されることにより、各色の発光表示セルが全体に均
一に混在した状態に構成されている。具体的には、ガラ
ス基板の表面上に、バリアリブと称される絶縁性材料か
らなる隔壁が設けられており、この隔壁によって多数の
表示セルが区画され、当該表示セルの内部がプラズマ作
用空間となる。ここに、隔壁の高さは、通常１００〜２
００μｍとされる。そして、このプラズマ作用空間に螢
光体部位が設けられるとともに、この螢光体部位にプラ
ズマを作用させる電極が設けられることにより、各々の
表示セルを表示単位とするプラズマディスプレイパネル
が構成される。

【０００３】このようなプラズマディスプレイパネルを
構成する隔壁の形成方法としては、（１）ペースト状の
隔壁形成用組成物を基板上にスクリーン印刷して隔壁パ
ターンを得、これを焼成して隔壁を形成するスクリーン
印刷法、（２）感光性の隔壁形成用組成物の膜を基板上
に形成し、この膜にフォトマスクを介して紫外線を選択
的に照射した上で現像することにより基板の表面に隔壁
パターンを残存させ、これを焼成して隔壁を形成するフ
ォトリソグラフィー法、（３）隔壁形成用組成物の膜を
基板上に形成し、この膜上にレジスト膜のパターンから
なる現像用マスクを形成後、研磨材粒子を吹き付けて隔
壁形成用組成物の膜をエッチングして隔壁パターンを残
存させ、これを焼成して隔壁を形成するサンドブラスト
法などが知られている。

【０００４】しかしながら、前記スクリーン印刷法で
は、１回の印刷により形成できる膜厚は１０〜２０μｍ
程度であり、所望の高さ（例えば１００〜２００μｍ）
の隔壁を形成するためには、通常数回〜１０数回の多重
印刷を行わなければならない。そして、パネルの大型化
および高精細化に伴って、多重印刷を行う際に要求され
る位置精度が非常に厳しくなり、通常のスクリーン印刷
では対応できないという問題がある。また、前記フォト
リソグラフィー法においても、所望の高さ（例えば１０
０〜２００μｍ）の隔壁を形成するために、数回の塗布
と露光工程が必要となる。さらに、サンドブラスト法で
は、製造工程が煩雑になるとともに、形成される隔壁の
側面に研磨材粒子が残留したり、過剰なエッチングによ
って下地の誘電体層や電極が損傷したりすることによ
り、蛍光体部位の輝度が低下するという問題がある。

【０００５】上記のような問題を解決するための手段と
して、本発明者らは、（４）ガラス粉末を含有するペー
スト状組成物（隔壁形成用組成物）を基板上に塗布して
隔壁形成用組成物の膜を形成する工程と、この膜上にレ
ジスト膜を形成する工程と、当該レジスト膜の露光工程
と、形成されるレジストパターンの現像工程と、前記隔
壁形成用組成物の膜のエッチング工程と、形成される隔
壁パターンの焼成工程とを有する隔壁の形成方法につい
て提案している（特開平９−９２１３７号公報参照）。
このような形成方法によれば、上記（１）〜（３）のよ
うな方法に比べて作業性の向上を図ることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
（４）の方法によっても、隔壁形成用組成物の膜を基板
上に形成する際にスクリーン印刷などによる多重印刷を
行なわなければならず、このような多重印刷によって形
成される塗膜は、十分に均一な膜厚（例えば公差が５％
以内）を有するものとならない。そして、膜厚均一性が
不十分な塗膜（隔壁形成用組成物の膜）から形成される
隔壁は、高さにバラツキが生じ、前面基板と背面基板と
のギャップが一定にならないため、隔壁の上面を研磨す
る工程が必要となり、作業が煩雑になるという問題点が
あった。

【０００７】本発明の第１の目的は、新規な隔壁の形成
工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法を
提供することにある。本発明の第２の目的は、従来の製
造方法に比べて、隔壁形成における工程数が実質的に少
なく、製造効率に優れたプラズマディスプレイパネルの
製造方法を提供することにある。本発明の第３の目的
は、寸法精度の高い隔壁を形成することができるプラズ
マディスプレイの製造方法を提供することにある。本発
明の第４の目的は、新規な隔壁の形成工程に好適に使用
することのできる隔壁形成用転写フィルムを提供するこ
とにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の隔壁形成用転写
フィルムは、ガラス粉末および結着樹脂を含有する隔壁
形成材料層が支持フィルム上に形成されていることを特
徴とする。本発明のプラズマディスプレイパネルの製造
方法は、支持フィルム上に形成された隔壁形成材料層を
基板上に転写し、基板上に転写された隔壁形成材料層上
にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して
レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現
像処理してレジストパターンを顕在化させ、隔壁形成材
料層をエッチング処理してレジストパターンに対応する
隔壁パターンを形成し、当該隔壁パターンを焼成処理し
て隔壁を形成する工程を含む方法により、表示セルを区
画する隔壁を基板上に形成することを特徴とする。

【０００９】本発明の製造方法における好ましい実施形
態は次のとおりである。（ａ）エッチング液に対して溶解性が異なる複数の隔壁
形成材料層からなる積層体を基板上に転写形成するこ
と。（ｂ）支持フィルム上に形成された隔壁形成材料層をｎ
回（但し、ｎ＝２〜２０の整数である。）にわたって転
写することにより、ｎ層の隔壁形成材料層からなる積層
体を基板上に形成すること。（ｃ）支持フィルム上に形成されたｎ層（但し、ｎ＝２
〜２０の整数である。）の隔壁形成材料層からなる積層
体を一括転写することにより、当該積層体を基板上に形
成すること。（ｄ）支持フィルム上に形成されたレジスト膜を転写す
ることにより、隔壁形成材料層上にレジスト膜を形成す
ること。（ｅ）エッチング液がアルカリ性溶液であること。（ｆ）現像処理に使用する現像液と、エッチング処理に
使用するエッチング液が同一の溶液であること。

【００１０】また、本発明の隔壁形成用転写フィルム
は、レジスト膜と隔壁形成材料層との積層膜が支持フィ
ルム上に形成されていることを特徴とする。また、本発
明の製造方法は、レジスト膜と隔壁形成材料層との積層
膜を支持フィルム上に形成し、支持フィルム上に形成さ
れた積層膜を基板上に転写し、当該積層膜を構成するレ
ジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成
し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを
顕在化させ、隔壁形成材料層をエッチング処理してレジ
ストパターンに対応する隔壁パターンを形成し、当該隔
壁パターンを焼成処理して隔壁を形成する工程を含む方
法により、表示セルを区画する隔壁を基板上に形成する
ことを特徴とする。

【００１１】

【作用】本発明の製造方法において、隔壁形成材料層
は、ガラス粉末を含有するペースト状組成物（隔壁形成
用組成物）を、剛性を有する基板上に直接塗布して形成
されるのではなく、可撓性を有する支持フィルム上に塗
布することにより形成される。このため、当該ペースト
状組成物の塗布方法として、ロールコータなどによる塗
布方法を採用することができ、これにより、膜厚が大き
くて、かつ、膜厚の均一性に優れた隔壁形成材料層（例
えば１００μｍ±５μｍ）を支持フィルム上に形成する
ことが可能となる。そして、このようにして形成された
隔壁形成材料層を基板の表面に対して一括転写するとい
う簡単な操作により、当該隔壁形成材料層を基板上に確
実に形成することができる。従って本発明の製造方法に
よれば、隔壁形成材料層の形成工程における工程改善
（高効率化）を図ることができるとともに、形成される
隔壁の品質の向上（膜厚均一性）を図ることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の製造方法について
詳細に説明する。本発明の製造方法においては、〔１〕
隔壁形成材料層の転写工程、〔２〕レジスト膜の形成工
程、〔３〕レジスト膜の露光工程、〔４〕レジスト膜の
現像工程、〔５〕隔壁形成材料層のエッチング工程、
〔６〕隔壁パターンの焼成工程により、基板の表面に隔
壁が形成される。

【００１３】＜隔壁形成材料層の転写工程＞図１および
図２は、本発明の製造方法における隔壁の形成工程の一
例を示す概略断面図である。図１（イ）において、１１
はガラス基板であり、このガラス基板上には、プラズマ
を発生させるための電極１２が等間隔に配列されてい
る。

【００１４】本発明の製造方法は、転写フィルムを使用
し、当該転写フィルムを構成する隔壁形成材料層を、電
極が固定されたガラス基板の表面に転写する点に特徴を
有するものである。ここに、転写フィルムは、支持フィ
ルムと、この支持フィルム上に形成された隔壁形成材料
層とを有してなり、当該隔壁形成材料層の表面には保護
フィルム層が設けられていてもよい。転写フィルムの具
体的構成については後述する。

【００１５】転写工程の一例を示せば以下のとおりであ
る。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィル
ム層を剥離した後、図１（ロ）に示すように、ガラス基
板１１の表面に、隔壁形成用材料層２１の表面が当接さ
れるように転写フィルム２０を重ね合わせ、この転写フ
ィルム２０を加熱ローラなどにより熱圧着した後、隔壁
形成用材料層２１から支持フィルム２２を剥離除去す
る。これにより、図１（ハ）に示すように、ガラス基板
１１の表面に隔壁形成用材料層２１が転写されて密着し
た状態となる。ここで、転写条件としては、例えば、加
熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによ
るロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ²、加熱ローラの移動速
度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。ま
た、ガラス基板１１は予熱されていてもよく、予熱温度
としては例えば４０〜１００℃とすることができる。

【００１６】＜レジスト膜の形成工程＞この工程におい
ては、図１（ニ）に示すように、転写された隔壁形成材
料層２１の表面にレジスト膜３１を形成する。このレジ
スト膜３１を構成するレジストとしては、ポジ型レジス
トおよびネガ型レジストのいずれであってもよく、その
具体的組成については後述する。レジスト膜（３１）
は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流
延塗布法など種々の方法によってレジストを塗布した
後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。
ここに、塗膜の乾燥温度は、通常６０〜１３０℃程度と
される。また、支持フィルム上に形成されたレジスト膜
を隔壁形成材料層（２１）の表面に転写することによっ
て形成してもよい。このような形成方法によれば、レジ
スト膜の形成工程数を減らすことができるとともに、得
られるレジスト膜の膜厚均一性が優れたものとなるた
め、当該レジスト膜の現像処理および隔壁形成材料層の
エッチング処理が均一に行われ、形成される隔壁の高さ
および形状が均一なものとなる。レジスト膜（３１）の
膜厚としては、通常０．１〜４０μｍとされ、好ましく
は０．５〜２０μｍとされる。

【００１７】＜レジスト膜の露光工程＞この工程におい
ては、図１（ホ）に示すように、隔壁形成材料層２１上
に形成されたレジスト膜３１の表面に、露光用マスクＭ
を介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）
して、レジストパターンの潜像を形成する。同図におい
て、ＭＡおよびＭＢは、それぞれ、露光用マスクＭにお
ける光透過部および遮光部である。ここに、放射線照射
装置としては、前記フォトリソグラフィー法で使用され
ている紫外線照射装置、半導体および液晶表示装置を製
造する際に使用されている露光装置など特に限定される
ものではない。

【００１８】＜レジスト膜の現像工程＞この工程におい
ては、露光されたレジスト膜を現像処理することによ
り、レジストパターン（潜像）を顕在化させる。ここ
に、現像処理条件としては、レジスト膜（３１）の種類
などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、
現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー
法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択
することができる。この現像工程により、図２（ヘ）に
示すように、レジスト残留部３５Ａと、レジスト除去部
３５Ｂとから構成されるレジストパターン３５（露光用
マスクＭに対応するパターン）が形成される。このレジ
ストパターン３５は、次工程（エッチング工程）におけ
るエッチングマスクとして作用するものであり、レジス
ト残留部３５Ａの構成材料（光硬化されたレジスト）
は、隔壁形成用材料層２１の構成材料よりもエッチング
液に対する溶解速度が小さいことが必要である。

【００１９】＜隔壁形成材料層のエッチング工程＞この
工程においては、隔壁形成材料層をエッチング処理し、
レジストパターンに対応する隔壁パターンを形成する。
すなわち、図２（ト）に示すように、隔壁形成用材料層
２１のうち、レジストパターン３５のレジスト除去部
（３５Ｂ）に対応する部分がエッチング液に溶解されて
選択的に除去される。ここに、図２（ト）は、エッチン
グ処理中の状態を示している。そして、更にエッチング
処理を継続すると、図２（チ）に示すように、隔壁形成
用材料層（２１）における電極１２の周辺部分が完全に
除去されて当該電極１２が露出する。これにより、材料
層残留部２５Ａと、材料層除去部２５Ｂとから構成され
る隔壁パターン２５が形成される。ここに、エッチング
処理条件としては、隔壁形成用材料層（２１）の種類な
どに応じて、エッチング液の種類・組成・濃度、処理時
間、処理温度、処理方法（例えば浸漬法、揺動法、シャ
ワー法、スプレー法、パドル法）、処理装置などを適宜
選択することができる。なお、エッチング液として、現
像工程で使用した現像液と同一の溶液を使用することが
できるよう、レジスト膜（３１）および隔壁形成用材料
層（２１）の種類を選択することにより、現像工程と、
エッチング工程とを連続的に実施することが可能とな
り、工程の簡略化による製造効率の向上を図ることがで
きる。ここに、レジストパターン（３５）を構成するレ
ジスト残留部（３５Ａ）は、エッチング処理の際に徐々
に溶解され、隔壁パターン（２５）が形成された段階
（エッチング処理の終了時）で完全に除去されるもので
あることが好ましい。なお、エッチング処理後にレジス
ト残留部（３５Ａ）の一部または全部が残留していて
も、当該レジスト残留部（３５Ａ）は、次の焼成工程で
除去される。

【００２０】＜隔壁パターンの焼成工程＞この工程にお
いては、隔壁パターン（２５）を焼成処理して隔壁を形
成する。これにより、材料層残留部２５Ａ中の有機物質
が焼失して隔壁が形成され、図２（リ）に示すような、
ガラス基板１１の表面に隔壁４０が形成されてなるパネ
ル材料５０を得ることができる。そして、このパネル材
料５０において、隔壁４０により区画される空間（材料
層除去部２５Ｂに由来する空間）はプラズマ作用空間と
なる。ここに、焼成処理の温度としては、材料層残留部
（２５Ａ）中の有機物質が焼失される温度であることが
必要であり、通常４００〜６００℃とされる。また、焼
成時間は、通常１０〜６０分間とされる。

【００２１】＜好ましい実施形態＞本発明の製造方法に
おいては、エッチング液に対して溶解性が異なる複数の
隔壁形成材料層からなる積層体を基板上に転写形成する
ことが好ましい。このような積層体をエッチング処理す
ることにより、エッチングに対する深さ方向の異方性が
生じるため、高いアスペクト比（断面視による隔壁の
「縦÷横」の値。例えば２〜５程度が高アスペクト比で
ある。）の材料層残留部（延いては隔壁）を形成するこ
とができる。このようにして得られる積層体をエッチン
グ処理することにより、矩形状または矩形に近い断面形
状を有する材料層残留部（延いては隔壁）を形成するこ
とができる。なお、隔壁形成材料層の積層数は、通常２
０以下とされ、好ましくは３〜１０とされる。ここに、
ｎ層の隔壁形成材料層からなる積層体を基板上に形成す
る方法としては、支持フィルム上に形成された隔壁
形成材料層（１層）をｎ回にわたって転写する方法、
ｎ層の隔壁形成材料層からなる積層体を一括転写する
方法のいずれの方法であってもよいが、転写工程の簡略
化の観点からは前記の方法が好ましい。

【００２２】＜隔壁を形成するための他の方法＞本発明
における隔壁の形成方法は、図１および図２に示したよ
うな方法に限定されるものではない。ここに、隔壁を形
成するための他の方法として、下記（１）〜（３）の工
程による形成方法を挙げることができる。（１）支持フィルム上にレジスト膜を形成した後、当該
レジスト膜上に隔壁形成材料層を積層形成する。ここ
に、レジスト膜および隔壁形成材料層を形成する際に
は、ロールコータなどを使用することができ、これによ
り、膜厚の均一性に優れた積層膜を支持フィルム上に形
成することができる。（２）支持フィルム上に形成されたレジスト膜と隔壁形
成材料層との積層膜を基板上に転写する。ここに、転写
条件としては前記『隔壁形成材料層の転写工程』におけ
る条件と同様でよい。（３）前記『レジスト膜の露光工程』、『レジスト膜の
現像工程』、『隔壁形成材料層のエッチング工程』およ
び『隔壁パターンの焼成工程』と同様の操作を行う。以上のような方法によれば、隔壁形成材料層とレジスト
膜とが基板上に一括転写されるので、工程の簡略化によ
る製造効率を更に向上させることができる。

【００２３】本発明の製造方法によって形成される隔壁
は、一般的に、パネルの表示セル（表示単位）の横方向
を区画するものである。隔壁によって区画される表示セ
ルの横方向ピッチの大きさは、例えば０．１０〜１．０
０ｍｍとされる。隔壁の断面形状、幅、高さ、隔壁の離
間距離等の寸法は、目的とするプラズマディスプレイパ
ネルの特性に応じて適宜選定することができる。具体的
には、隔壁の断面形状における底面の幅が１０〜３００
μｍ、高さが１０〜５００μｍ、隔壁の離間距離が５０
〜１０００μｍとされ、当該隔壁間に配置される電極の
幅が５０〜５００μｍとされる。特に典型的な一例にお
いては、隔壁の断面形状における底面の幅が５０μｍ、
高さが１５０μｍ、隔壁の離間距離が３００μｍとさ
れ、当該隔壁間に配置される電極の幅が１００μｍとさ
れる。

【００２４】以下に、前記の各工程に用いられる材料、
各種条件などについて説明する。＜基板＞プラズマ発生用の電極が多数配列されるととも
に、隔壁が形成される基板は、例えばガラス、シリコ
ン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、
ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からな
る板状部材である。この板状部材の表面には、必要に応
じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラ
ズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング
法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理の
ような適宜の前処理が施されていてもよい。

【００２５】＜転写フィルム＞本発明の製造方法に用い
られる転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィ
ルム上に形成された隔壁形成材料層とを有してなり、当
該隔壁形成材料層の表面に保護フィルム層が設けられて
いてもよい。

【００２６】（１）支持フィルム：転写フィルムを構成
する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると
共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好まし
い。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロール
コータによってペースト状組成物を塗布することがで
き、隔壁形成材料層をロール状に巻回した状態で保存
し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹
脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
エステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
ル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロ
ン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィル
ムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。

【００２７】（２）隔壁形成材料層：転写フィルムを構
成する隔壁形成材料層は、ガラス粉末、結着樹脂および
溶剤を必須成分として含有するペースト状の組成物（隔
壁形成用組成物）を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜
を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形
成することができる。

【００２８】（３）隔壁形成用組成物：転写フィルムを
作製するために使用される隔壁形成用組成物は、（ａ）
低融点ガラスフリット、（ｂ）バインダーおよび（ｃ）
溶剤を含有してなるペースト状の組成物である。

【００２９】隔壁形成用組成物を構成する低融点ガラス
フリットの具体例としては、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（Ｚｎ
Ｏ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合物（ＰｂＯ
−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ムの混合物（ＰｂＯ−Ｂ ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃
系）、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素の混合
物（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）などを挙げることができる。

【００３０】隔壁形成用組成物を構成するバインダーと
しては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ
可溶性樹脂を３０〜１００重量％の割合で含有するバイ
ンダーを用いることが特に好ましい。ここに、「アルカ
リ可溶性」とは、後述するアルカリ性のエッチング液に
溶解し、目的とするエッチング処理が遂行される程度の
溶解性を有する性質をいう。かかるアルカリ可溶性樹脂
の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒ
ドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル
樹脂などを挙げることができる。特に好ましいものアル
カリ可溶性樹脂として、下記のモノマー（ｉ）と、モノマー（ii）との共重
合体、下記のモノマー（ｉ）と、モノマー（ii）と、モノ
マー（iii)との共重合体を挙げることができる。

【００３１】モノマー（ｉ）：アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、
シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸などのカルボキシ
ル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピ
ル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの
水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−
ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフ
ェノール性水酸基含有モノマー類などに代表されるアル
カリ可溶性官能基含有モノマー類。

【００３２】モノマー（ii）：（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブ
チル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリ
レートなどのモノマー（ｉ）以外の（メタ）アクリル酸
エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香
族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの
共役ジエン類などに代表されるモノマー（ｉ）と共重合
可能なモノマー類。

【００３３】モノマー（iii)：ポリスチレン、ポリ（メ
タ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチ
ル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジルなどのポリマー鎖
の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基などの重合性
不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマク
ロモノマー類：

【００３４】隔壁形成用組成物におけるバインダーの含
有割合としては、低融点ガラスフリット１００重量部に
対して、通常１〜５０重量部とされ、好ましくは１〜４
０重量部とされる。

【００３５】隔壁形成用組成物を構成する溶剤は、当該
隔壁形成用組成物に、適当な流動性または可塑性、良好
な膜形成性を付与するために含有される。隔壁形成用組
成物を構成する溶剤としては、特に制限されるものでは
なく、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステ
ル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミド
エステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド
類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類な
どを挙げることができる。かかる溶剤の具体例として
は、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エ
チレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレン
グリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコー
ルモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジア
ルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エ
ステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エ
ステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコ
キシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレ
ングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロ
ピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、
アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケト
ン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラ
クトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスル
ホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以
上を組み合わせて使用することができる。隔壁形成用組
成物における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性
（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜
選択することができる。

【００３６】隔壁形成用組成物には、任意成分として、
可塑剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、
保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィ
ラー、蛍光体、顔料、染料などの各種添加剤が含有され
ていてもよい。

【００３７】隔壁形成用組成物を支持フィルム上に塗布
する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい
（例えば３０μｍ以上）塗膜を効率よく形成することが
できるものであることが必要とされ、具体的には、ロー
ルコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布
方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコー
ターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げるこ
とができる。なお、隔壁形成用組成物が塗布される支持
フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ま
しい。これにより、後述する転写工程において、支持フ
ィルムの剥離操作を容易に行うことができる。

【００３８】塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜
１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後に形成
される隔壁形成材料層における溶剤の残存割合は、通常
２重量％以下とされる。

【００３９】上記のようにして支持フィルム上に形成さ
れる隔壁形成材料層の厚さとしては、ガラス粉末の含有
率、パネルの種類やサイズなどによっても異なるが、例
えば１０〜２００μｍとされ、好ましくは３０〜１００
μｍとされる。なお、隔壁形成材料層の表面に設けられ
ることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフ
ィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げる
ことができる。

【００４０】＜レジスト膜（レジスト組成物）＞本発明
の製造方法においては、基板上に転写された隔壁形成材
料層上にレジスト膜が形成され、当該レジスト膜に露光
処理および現像処理を施すことにより、前記隔壁形成材
料層上にレジストパターンが形成される。レジスト膜を
形成するために使用するレジスト組成物としては、
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、有機溶
剤現像型感放射線性レジスト組成物、水性現像型感
放射線性レジスト組成物などを例示することができる。
以下、これらのレジスト組成物について説明する。

【００４１】（１）アルカリ現像型感放射線性レジスト
組成物：アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物は、
アルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分とを必須成分とし
て含有してなる。アルカリ現像型感放射線性レジスト組
成物を構成するアルカリ可溶性樹脂としては、隔壁形成
用組成物のバインダー成分を構成するものとして例示し
たアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。アルカリ
現像型感放射線性レジスト組成物を構成する感放射線性
成分としては、例えば、多官能性モノマーと光重合
開始剤との組合せ、メラミン樹脂と、放射線照射に
より酸を形成する光酸発生剤との組合せなどを好ましい
ものとして例示することができ、上記の組合せのう
ち、多官能性（メタ）アクリレートと光重合開始剤との
組合せが特に好ましい。

【００４２】感放射線性成分を構成する多官能性（メ
タ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコー
ル、プロピレングリコールなどのアルキレングリコール
のジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレング
リコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキ
シポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、
両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒド
ロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセ
リン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロール
アルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリス
リトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メ
タ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリ
アルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレー
ト類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベン
ゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）ア
クリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エ
ポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリ
レート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコー
ン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）ア
クリレートなどのオリゴ（メタ）アクリレート類などを
挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用することができる。

【００４３】また、感放射線性成分を構成する光重合開
始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾ
フェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−
（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プ
ロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなど
のカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−ア
ジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物またはアジド化
合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合
物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパ
ーオキシド、ｔｒｅｔ−ブチルハイドロパーオキシド、
クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパー
オキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリ
クロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチ
レニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，
３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’
−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テ
トラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾ
ール二量体などを挙げることができ、これらは単独でま
たは２種以上を組み合わせて使用することができる。

【００４４】アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物
における感放射線性成分の含有割合としては、アルカリ
可溶性樹脂１００重量部あたり、通常１〜３００重量部
とされ、好ましくは１０〜２００重量部とされる。ま
た、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物には、良
好な膜形成性を付与するために、通常有機溶剤が含有さ
れる。かかる有機溶剤としては、隔壁形成用組成物を構
成するものとして例示した溶剤を挙げることができる。

【００４５】（２）有機溶剤現像型感放射線性レジスト
組成物：有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物は、
天然ゴム、合成ゴム、およびこれらを環化させてなる環
化ゴムから選ばれた少なくとも１種と、アジド化合物と
を必須成分として含有してなる。有機溶剤現像型感放射
線性レジスト組成物を構成するアジド化合物の具体例と
しては、４，４’−ジアジドベンゾフェノン、４，４’
−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジアジドスチ
ルベン、４，４’−ジアジドカルコン、４，４’−ジア
ジドベンザルアセトン、２，６−ジ（４’−アジドベン
ザル）シクロヘキサノン、２，６−ジ（４’−アジドベ
ンザル）−４−メチルシクロヘキサノンなどを挙げるこ
とができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせ
て使用することができる。また、有機溶剤現像型感放射
線性レジスト組成物には、良好な膜形成性を付与するた
めに、通常有機溶剤が含有される。かかる有機溶剤とし
ては、隔壁形成用組成物を構成するものとして例示した
溶剤を挙げることができる。

【００４６】（３）水性現像型感放射線性レジスト組成
物：水性現像型感放射線性レジスト組成物は、例えばポ
リビニルアルコールなどの水溶性樹脂と、ジアゾニウム
化合物および重クロム酸化合物から選ばれた少なくとも
１種とを必須成分として含有してなる。

【００４７】本発明の製造方法において使用するレジス
ト組成物には、任意成分として、現像促進剤、接着助
剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤、フィラー、蛍光体、顔料、染料な
どの各種添加剤が含有されていてもよい。

【００４８】＜露光用マスク＞レジスト膜の露光工程に
おいて使用される露光用マスク（Ｍ）の露光パターンと
しては、所期のプラズマ作用空間を形成させる観点か
ら、３０〜５００μｍ幅のストライプであることが好ま
しく、典型的な一例においては、７０μｍ幅のストライ
プである。

【００４９】＜現像液＞レジスト膜の現像工程で使用さ
れる現像液としては、レジスト膜（レジスト組成物）の
種類に応じて適宜選択することができる。具体的には、
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物によるレジス
ト膜にはアルカリ現像液を使用することができ、有機溶
剤現像型感放射線性レジスト組成物によるレジスト膜に
は有機溶剤現像液を使用することができ、水性現像型感
放射線性レジスト組成物によるレジスト膜には水性現像
液を使用することができる。

【００５０】アルカリ現像液の有効成分としては、例え
ば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウ
ム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、
リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リ
ン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウ
ム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性
化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリ
メチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙
げることができる。レジスト膜の現像工程で使用される
アルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または
２種以上を水などに溶解させることにより調製すること
ができる。ここに、アルカリ現像液におけるアルカリ性
化合物の濃度は、通常０．００１〜１０重量％とされ、
好ましくは０．０１〜５重量％とされる。なお、アルカ
リ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処
理が施される。

【００５１】有機溶剤現像液の具体例としては、トルエ
ン、キシレン、酢酸ブチルなどの有機溶剤を挙げること
ができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて
使用することができる。なお、有機溶剤現像液による現
像処理がなされた後は、必要に応じて貧溶媒によるリン
ス処理が施される。水性現像液の具体例としては、水、
アルコールなどを挙げることができる。

【００５２】＜エッチング液＞隔壁形成材料層のエッチ
ング工程で使用されるエッチング液としては、アルカリ
性溶液であることが好ましい。これにより、隔壁形成用
材料層に含有されるアルカリ可溶性樹脂を容易に溶解除
去することができる。なお、隔壁形成用材料層に含有さ
れる低融点ガラスフリットは、アルカリ可溶性樹脂に均
一に分散されているため、アルカリ性溶液でバインダー
であるアルカリ可溶性樹脂を溶解させ、洗浄することに
より除去される。ここに、エッチング液として使用され
るアルカリ性溶液としては、アルカリ現像液と同一組成
の溶液を挙げることができる。そして、エッチング液
が、現像工程で使用するアルカリ現像液と同一の溶液で
ある場合には、現像工程と、エッチング工程とを連続的
に実施することが可能となり、工程の簡略化による製造
効率の向上を図ることができる。なお、アルカリ性溶液
によるエッチング処理がなされた後は、通常、水洗処理
が施される。

【００５３】また、エッチング液として、隔壁形成材料
層のバインダーを溶解することのできる有機溶剤を使用
することもできる。かかる有機溶剤としては、隔壁形成
用組成物を構成するものとして例示した溶剤を挙げるこ
とができる。なお、有機溶剤によるエッチング処理がな
された後は、必要に応じて貧溶媒によるリンス処理が施
される。

【００５４】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において、「部」および「％」は、それぞれ
「重量部」および「重量％」を示す。また、重量平均分
子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミィエーションクロマトグラ
フィー（ＧＰＣ）「ＨＬＣ−８０２Ａ」（東ソー株式会
社製）により測定したポリスチレン換算の平均分子量で
ある。

【００５５】〔合成例１〕Ｎ−メチル−２−ピロリドン
２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、メタクリ
ル酸３０部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる
単量体組成物を、攪拌基付きオートクレーブに仕込み、
窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した
後、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間
重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液
を得た。ここに、重合転化率は９８％であり、このポリ
マー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー
（Ａ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は７０，
０００であった。

【００５６】〔合成例２〕Ｎ−メチル−２−ピロリドン
２００部、ｎ−ブチルメタクリレート８０部、メタクリ
ル酸２０部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる
単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外は合
成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合
転化率は９７％であり、このポリマー溶液から析出させ
た共重合体〔以下、「ポリマー（Ｂ）」という。〕の重
量平均分子量（Ｍｗ）は１００，０００であった。

【００５７】〔合成例３〕Ｎ−メチル−２−ピロリドン
２００部、ｎ−ブチルメタクリレート９０部、メタクリ
ル酸１０部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる
単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外は合
成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合
転化率は９７％であり、このポリマー溶液から析出させ
た共重合体〔以下、「ポリマー（Ｃ）」という。〕の重
量平均分子量（Ｍｗ）は９０，０００であった。

【００５８】〔合成例４〕３−エトキシプロピオン酸エ
チル２００部、ｎ−ブチルメタクリレート８５部、メタ
クリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル１部から
なる単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外
は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、
重合転化率は９８％であり、このポリマー溶液から析出
させた共重合体〔以下、「ポリマー（Ｄ）」という。〕
の重量平均分子量（Ｍｗ）は５０，０００であった。

【００５９】〔作製例１〕低融点ガラスフリットとして
鉛ホウケイ酸ガラス（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ ₂系の
混合物，軟化点：５４０℃。以下において同じ）７５０
部と、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）１５０
部と、可塑剤としてポリプロピレングリコール〔分子量
４００，和光純薬（株）製〕２０部と、溶剤としてＮ−
メチル−２−ピロリドン４００部とを混練することによ
り、ペースト状の隔壁形成用組成物〔以下、「隔壁形成
用組成物（１）」という。〕を調製した。次いで、得ら
れた隔壁形成用組成物（１）を、予め離型処理したポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支
持フィルム（幅２００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μ
ｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成した。
形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより
溶剤を完全に除去し、これにより、厚さ４０μｍの隔壁
形成材料層〔以下、「隔壁形成材料層（１）」とい
う。〕が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルム
〔以下、「転写フィルム（１）」という。〕を作製し
た。

【００６０】〔作製例２〕低融点ガラスフリットとして
鉛ホウケイ酸ガラス１０００部と、アルカリ可溶性樹脂
としてポリマー（Ｂ）１５０部と、可塑剤としてポリプ
ロピレングリコール〔分子量４００，和光純薬（株）
製〕２０部と、溶剤としてＮ−メチル−２−ピロリドン
４００部とを混練することにより、ペースト状の隔壁形
成用組成物〔以下、「隔壁形成用組成物（２）」とい
う。〕を調製した。次いで、得られた隔壁形成用組成物
（２）を用いたこと以外は作製例１と同様にして、隔壁
形成用組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤を完全に除
去することにより、厚さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以
下、「隔壁形成材料層（２）」という。〕が支持フィル
ム上に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィ
ルム（２）」という。〕を作製した。

【００６１】〔作製例３〕低融点ガラスフリットとして
鉛ホウケイ酸ガラス７５０部と、アルカリ可溶性樹脂と
してポリマー（Ｂ）１５０部と、可塑剤としてポリプロ
ピレングリコール〔分子量４００，和光純薬（株）製〕
２０部と、溶剤としてＮ−メチル−２−ピロリドン４０
０部とを混練することにより、ペースト状の隔壁形成用
組成物〔以下、「隔壁形成用組成物（３）」という。〕
を調製した。次いで、得られた隔壁形成用組成物（３）
を用いたこと以外は作製例１と同様にして、隔壁形成用
組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤を完全に除去する
ことにより、厚さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以下、
「隔壁形成材料層（３）」という。〕が支持フィルム上
に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィルム
（３）」という。〕を作製した。

【００６２】〔作製例４〕低融点ガラスフリットとして
鉛ホウケイ酸ガラス１０００部と、アルカリ可溶性樹脂
としてポリマー（Ｃ）１５０部と、可塑剤としてポリプ
ロピレングリコール〔分子量４００，和光純薬（株）
製〕２０部と、溶剤としてＮ−メチル−２−ピロリドン
４００部とを混練することにより、ペースト状の隔壁形
成用組成物〔以下、「隔壁形成用組成物（４）」とい
う。〕を調製した。次いで、得られた隔壁形成用組成物
（４）を用いたこと以外は作製例１と同様にして、隔壁
形成用組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤を完全に除
去することにより、厚さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以
下、「隔壁形成材料層（４）」という。〕が支持フィル
ム上に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィ
ルム（４）」という。〕を作製した。

【００６３】〔作製例５〕低融点ガラスフリットとして
鉛ホウケイ酸ガラス７５０部と、アルカリ可溶性樹脂と
してポリマー（Ｃ）１５０部と、可塑剤としてポリプロ
ピレングリコール〔分子量４００，和光純薬（株）製〕
２０部と、溶剤としてＮ−メチル−２−ピロリドン４０
０部とを混練することにより、ペースト状の隔壁形成用
組成物〔以下、「隔壁形成用組成物（５）」という。〕
を調製した。次いで、得られた隔壁形成用組成物（５）
を用いたこと以外は作製例１と同様にして、隔壁形成用
組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤を完全に除去する
ことにより、厚さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以下、
「隔壁形成材料層（５）」という。〕が支持フィルム上
に形成されてなる転写フィルム〔以下、「転写フィルム
（５）」という。〕を作製した。

【００６４】〔隔壁形成材料層の溶解性〕作製例１〜５
に係る隔壁形成材料層（１）〜（５）の各々について、
０．２重量％の水酸化カリウム水溶液に対する溶解性を
評価した。評価方法は以下のとおりであり、評価結果を
下記表１に示す。

【００６５】（評価方法）ソーダガラス基板（５ｃｍ
角、厚さ１．１ｍｍ）の表面に、バーコーターを用いて
隔壁形成用組成物を塗布し、１１０℃で５分間乾燥する
ことにより溶剤を完全に除去し、厚さ４０μｍの隔壁形
成材料層を有する試験片を作製した。得られた試験片を
０．２重量％の水酸化カリウム水溶液に浸漬し、マグネ
チックスターラーを用いて溶液の攪拌を行いながら試験
片表面を観察した。試験片表面の隔壁形成材料層の溶解
により、基板表面の半分が露出した時間を溶解時間とし
て測定し、以下の式により溶解速度を算出した。

【００６６】

【数１】式：溶解速度（μｍ／秒）＝膜厚（μｍ）／溶
解時間（秒）

【００６７】

【表１】

【００６８】〔作製例６〕アルカリ可溶性樹脂としてポ
リマー（Ｄ）５０部と、多官能性モノマー（感放射線性
成分）としてペンタエリスリトールテトラアクリレート
４０部と、光重合開始剤（感放射線性成分）として２−
ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリ
ノフェニル）−ブタン−１−オン５部と、溶剤として３
−エトキシプロピオン酸エチル１５０部とを混練するこ
とにより、ペースト状のアルカリ現像型感放射線性レジ
スト組成物を調製した。次いで、得られたレジスト組成
物を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍ
ｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロールコータによ
り塗布して塗膜を形成した。形成された塗膜を１１０℃
で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、これ
により、厚さ１０μｍのレジスト膜〔以下、「レジスト
膜（１）」という。〕が支持フィルム上に形成されてな
る転写フィルム〔以下、「転写フィルム（６）」とい
う。〕を作製した。

【００６９】＜実施例１＞〔隔壁形成材料層の転写工程〕プラズマを発生させるた
めの電極（１００μｍ幅）が配列されてなる６インチパ
ネル用のガラス基板の表面に、隔壁形成材料層（１）の
表面が当接されるよう転写フィルム（１）を重ね合わ
せ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにより熱圧着
した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温
度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ²、加熱ローラ
の移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了
後、隔壁形成材料層（１）から支持フィルムを剥離除去
した。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成材料層
（１）が転写されて密着した状態となった。この隔壁形
成材料層（１）について膜厚を測定したところ４０μｍ
±１μｍの範囲にあった。

【００７０】次いで、隔壁形成材料層（１）の表面に、
隔壁形成材料層（２）の表面が当接されるよう転写フィ
ルム（２）を重ね合わせ、この転写フィルム（２）を加
熱ローラにより上記と同一の圧着条件により熱圧着し
た。熱圧着処理の終了後、隔壁形成材料層（２）から支
持フィルムを剥離除去した。これにより、隔壁形成材料
層（１）の表面に隔壁形成材料層（２）が転写されて密
着した状態となった。ガラス基板上に形成された隔壁形
成材料層（１）〜（２）の積層体について膜厚を測定し
たところ８０μｍ±２μｍの範囲にあった。

【００７１】次いで、隔壁形成材料層（２）の表面に、
隔壁形成材料層（３）の表面が当接されるよう転写フィ
ルム（３）を重ね合わせ、この転写フィルム（３）を加
熱ローラにより上記と同一の圧着条件により熱圧着し
た。熱圧着処理の終了後、隔壁形成材料層（３）から支
持フィルムを剥離除去した。これにより、隔壁形成材料
層（２）の表面に隔壁形成材料層（３）が転写されて密
着した状態となった。ガラス基板上に形成された隔壁形
成材料層（１）〜（３）の積層体について膜厚を測定し
たところ１２０μｍ±３μｍの範囲にあった。

【００７２】次いで、隔壁形成材料層（３）の表面に、
隔壁形成材料層（４）の表面が当接されるよう転写フィ
ルム（４）を重ね合わせ、この転写フィルム（４）を加
熱ローラにより上記と同一の圧着条件により熱圧着し
た。熱圧着処理の終了後、隔壁形成材料層（４）から支
持フィルムを剥離除去した。これにより、隔壁形成材料
層（３）の表面に隔壁形成材料層（４）が転写されて密
着した状態となった。ガラス基板上に形成された隔壁形
成材料層（１）〜（４）の積層体について膜厚を測定し
たところ１６０μｍ±４μｍの範囲にあった。

【００７３】次いで、隔壁形成材料層（４）の表面に、
隔壁形成材料層（５）の表面が当接されるよう転写フィ
ルム（５）を重ね合わせ、この転写フィルム（５）を加
熱ローラにより上記と同一の圧着条件により熱圧着し
た。熱圧着処理の終了後、隔壁形成材料層（５）から支
持フィルムを剥離除去した。これにより、隔壁形成材料
層（４）の表面に隔壁形成材料層（５）が転写されて密
着した状態となった。ガラス基板上に形成された隔壁形
成材料層（１）〜（５）の積層体について膜厚を測定し
たところ２００μｍ±５μｍの範囲にあった。

【００７４】〔レジスト膜の形成工程〕隔壁形成材料層
（５）の表面に、レジスト膜（１）の表面が当接される
よう転写フィルム（６）を重ね合わせ、この転写フィル
ム（６）を加熱ローラにより上記と同一の圧着条件によ
り熱圧着した。熱圧着処理の終了後、レジスト膜（１）
から支持フィルムを剥離除去した。これにより、隔壁形
成材料層（５）の表面にレジスト膜（１）が転写されて
密着した状態となった。隔壁形成材料層（５）の表面に
転写されたレジスト膜（１）について膜厚を測定したと
ころ１０μｍ±１μｍの範囲にあった。

【００７５】〔レジスト膜の露光工程〕隔壁形成材料層
の積層体上に形成されたレジスト膜（１）に対して、露
光用マスク（５０μｍ幅のストライプパターン）を介し
て、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外
線）を照射した。ここに、照射量は４００ｍＪ／ｃｍ²
とした。

【００７６】〔レジスト膜の現像工程〕露光処理された
レジスト膜（１）に対して、０．２重量％の水酸化カリ
ウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法による
現像処理を３０秒間かけて行った。次いで、超純水によ
る水洗処理を行い、これにより、紫外線が照射されてい
ない未硬化のレジストを除去し、レジストパターンを形
成した。

【００７７】〔隔壁形成材料層のエッチング工程〕上記
の工程に連続して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶
液（２５℃）をエッチング液とするシャワー法によるエ
ッチング処理を５分間かけて行った。次いで、超純水に
よる水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、材
料層残留部と、材料層除去部とから構成される隔壁パタ
ーンを形成した。

【００７８】〔隔壁パターンの焼成工程〕隔壁パターン
が形成されたガラス基板を１８０℃のクリーンオーブン
内で３０分間加熱した。次いで、このガラス基板を焼成
炉内に移し、５２０℃の温度雰囲気下で３０分間にわた
り隔壁パターンを焼成処理を行った。これにより、ガラ
ス基板の表面に隔壁（ガラス焼結体）が形成されてなる
パネル材料が得られた。得られたパネル材料における隔
壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断
面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の
幅が５０μｍ±３μｍ、高さが１５０μｍ±４μｍであ
り、当該隔壁の寸法精度はきわめて高いものであった。
また、アスペクト比も３と高いものであった。また、当
該パネル材料を使用し、常法に従ってプラズマディスプ
レイパネルを製造した。このプラズマディスプレイパネ
ルは、蛍光体部位において高い輝度を有するものであ
り、品質の高いカラー画像を表示するものであった。

【００７９】＜実施例２＞〔転写フィルムの作製〕下記〜の操作により、レジ
スト膜と、隔壁形成材料層（５層）との積層膜が支持フ
ィルム上に形成されてなる転写フィルムを作製した。実施例１で使用したレジスト組成物を、離型処理し
たＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍ
ｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にロールコータを用
いて塗布し、塗膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完
全に除去し、厚さ１０μｍのレジスト膜〔以下、「レジ
スト膜（1'）」という。〕を支持フィルム上に形成し
た。実施例１で使用した隔壁形成用組成物（５）をレジ
スト膜（1'）上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を
１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ４
０μｍの隔壁形成材料層〔以下、「隔壁形成材料層
（5'）」という。〕をレジスト膜（1'）上に形成した。実施例１で使用した隔壁形成用組成物（４）を隔壁
形成材料層（5'）上にロールコータを用いて塗布し、塗
膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚
さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以下、「隔壁形成材料層
（4'）」という。〕を隔壁形成材料層（5'）上に形成し
た。実施例１で使用した隔壁形成用組成物（３）を隔壁
形成材料層（4'）上にロールコータを用いて塗布し、塗
膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚
さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以下、「隔壁形成材料層
（3'）」という。〕を隔壁形成材料層（4'）上に形成し
た。実施例１で使用した隔壁形成用組成物（２）を隔壁
形成材料層（3'）上にロールコータを用いて塗布し、塗
膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚
さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以下、「隔壁形成材料層
（2'）」という。〕を隔壁形成材料層（3'）上に形成し
た。実施例１で使用した隔壁形成用組成物（１）を隔壁
形成材料層（2'）上にロールコータを用いて塗布し、塗
膜を１１０℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚
さ４０μｍの隔壁形成材料層〔以下、「隔壁形成材料層
（1'）」という。〕を隔壁形成材料層（2'）上に形成し
た。

【００８０】〔積層膜の転写工程〕実施例で使用したと
同様のガラス基板の表面に、隔壁形成材料層（1'）の表
面が当接されるよう転写フィルムを重ね合わせ、この転
写フィルムを加熱ローラにより熱圧着した。ここで、圧
着条件としては、加熱ローラの表面温度を１００℃、ロ
ール圧を３ｋｇ／ｃｍ²、加熱ローラの移動速度を０．
５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、積層膜〔レジス
ト膜（1'）の表面〕から支持フィルムを剥離除去した。
これにより、ガラス基板の表面に積層膜が転写されて密
着した状態となった。この積層膜〔隔壁形成材料層（５
層）と、レジスト膜との積層膜〕について膜厚を測定し
たところ２１０μｍ±６μｍの範囲にあった。

【００８１】〔レジスト膜の露光工程・現像工程〕隔壁
形成材料層の積層体上に形成されたレジスト膜（1'）に
対して、実施例１と同様の条件で、露光処理（紫外線照
射）、水酸化カリウム水溶液による現像処理および水洗
処理を行うことにより、隔壁形成材料層の積層体上にレ
ジストパターンを形成した。

【００８２】〔隔壁形成材料層のエッチング工程〕上記
の工程に連続して、実施例１と同様の条件で、水酸化カ
リウム水溶液によるエッチング処理、水洗処理および乾
燥処理を行うことにより、隔壁パターンを形成した。

【００８３】〔隔壁パターンの焼成工程〕隔壁パターン
が形成されたガラス基板を１８０℃のクリーンオーブン
内で３０分間加熱した。次いで、このガラス基板を焼成
炉内に移し、５２０℃の温度雰囲気下で３０分間にわた
り隔壁パターンを焼成処理を行うことにより、ガラス基
板の表面に隔壁（ガラス焼結体）が形成されてなるパネ
ル材料を得た。得られたパネル材料における隔壁の断面
形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の
底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が５０
μｍ±３μｍ、高さが１５０μｍ±４μｍであり、当該
隔壁の寸法精度はきわめて高いものであった。また、ア
スペクト比も３と高いものであった。また、当該パネル
材料を使用し、常法に従ってプラズマディスプレイパネ
ルを製造した。このプラズマディスプレイパネルは、蛍
光体部位において高い輝度を有するものであり、品質の
高いカラー画像を表示するものであった。

【００８４】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば下記のような
効果が奏される。（１）従来の製造方法に比べて、隔壁形成における工程
数が実質的に少なく、プラズマディスプレイパネルの製
造効率を向上させることができる。（２）本発明の製造方法により得られるプラズマディス
プレイパネルは、蛍光体部位において高い輝度を有す
る。（３）本発明の製造方法により得られるプラズマディス
プレイパネルの隔壁は、高い寸法精度を有する。（４）請求項４〜請求項６に係る製造方法によれば、ア
スペクト比の高い隔壁を形成することができる。（５）請求項７〜請求項８に係る製造方法によれば、隔
壁形成における更なる工程の簡略化により、製造効率を
一層向上させることができる。（６）本発明の隔壁形成用転写フィルムは、本発明の製
造方法における隔壁の形成工程に好適に使用することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法における隔壁の形成工程（転
写工程・レジスト膜の形成工程・露光工程）の一例を示
す概略断面図である。

【図２】本発明の製造方法における隔壁の形成工程（現
像工程・エッチング工程、焼成工程）の一例を示す概略
断面図である。

【符号の説明】

１１ガラス基板１２電極２０転写フィルム２１隔壁形成用材料層２２支持フィルム２５隔壁パターン２５Ａ材料層残留部２５Ｂ材料層除去部３１レジスト膜３５レジストパターン３５Ａレジスト残留部３５Ｂレジスト除去部４０隔壁５０パネル材料Ｍ露光用マスクＭＡ光透過部ＭＢ遮光部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者別所信夫東京都中央区築地２丁目11番24号日本合成ゴム株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス粉末および結着樹脂を含有する隔
壁形成材料層が支持フィルム上に形成されていることを
特徴とする隔壁形成用転写フィルム。
【請求項２】レジスト膜と隔壁形成材料層との積層膜
が支持フィルム上に形成されていることを特徴とする隔
壁形成用転写フィルム。
【請求項３】支持フィルム上に形成された隔壁形成材
料層を基板上に転写し、基板上に転写された隔壁形成材
料層上にレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処
理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト
膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、隔壁
形成材料層をエッチング処理してレジストパターンに対
応する隔壁パターンを形成し、当該隔壁パターンを焼成
処理して隔壁を形成する工程を含む方法により、表示セ
ルを区画する隔壁を基板上に形成することを特徴とする
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】エッチング液に対して溶解性が異なる複
数の隔壁形成材料層からなる積層体を基板上に転写形成
することを特徴とする請求項３に記載のプラズマディス
プレイパネルの製造方法。
【請求項５】支持フィルム上に形成された隔壁形成材
料層をｎ回（但し、ｎ＝２〜２０の整数である。）にわ
たって転写することにより、ｎ層の隔壁形成材料層から
なる積層体を基板上に形成することを特徴とする請求項
４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】支持フィルム上に形成されたｎ層（但
し、ｎ＝２〜２０の整数である。）の隔壁形成材料層か
らなる積層体を一括転写することにより、当該積層体を
基板上に形成することを特徴とする請求項４に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】支持フィルム上に形成されたレジスト膜
を転写することにより、隔壁形成材料層上にレジスト膜
を形成することを特徴とする請求項３〜請求項６の何れ
かに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】レジスト膜と隔壁形成材料層との積層膜
を支持フィルム上に形成し、支持フィルム上に形成され
た積層膜を基板上に転写し、当該積層膜を構成するレジ
スト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成
し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを
顕在化させ、隔壁形成材料層をエッチング処理してレジ
ストパターンに対応する隔壁パターンを形成し、当該隔
壁パターンを焼成処理して隔壁を形成する工程を含む方
法により、表示セルを区画する隔壁を基板上に形成する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方
法。