JP2003121994A - ペリクルおよびペリクル付きマスクの製造方法 - Google Patents
ペリクルおよびペリクル付きマスクの製造方法Info
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
の場合にはマスクとペリクルが容易に剥離できので再使
用に供することも可能であり、合格であれば容易に剥離
することのないペリクルを提供する。 【解決手段】 ペリクル枠の一方の開口部にペリクル膜
が張設され,もう一方の枠の開口部にマスクへ装着する
ための粘着層が設けられているペリクルにおいて,環境
の温度により粘着力が変化する感温性粘着材を粘着層に
使用する事を特徴とするペリクル。
Description
あるいはレチクル(以下、単に「マスク」ともいう。)
等の基板に貼付する方法および該方法によって得られる
ペリクル貼付マスクに関する。さらに詳しくは、ペリク
ルをマスクに貼付した後、必要であれば、それを剥離さ
せて、ペリクルおよびマスクをリサイクル可能とするペ
リクルに関する。
表面にクロム等の蒸着膜で回路パターンを形成したフォ
トマスクやレチクル(以下「マスク」という)を使用
し、レジストを塗布したシリコンウエハー上にその回路
パターンを露光により転写する作業が行われる。この工
程ではマスク上の回路パターンに塵埃等の異物が付着し
た状態で露光が行われると、ウエハー上にも上記異物が
転写されて不良製品のウエハーとなってしまう。特に、
露光をステッパーで行う場合には、ウエハー上に形成さ
れる全てのチップが不良となる可能性が高くなり、マス
クの回路パターンへの異物の付着は大きな問題となる。
そこで、露光用の光をよく通過させるペリクルを装着
し、マスクに塵埃が付着するのを防止している。
ている。 (1)マスクの洗浄が行われる工程 (2)マスクの検査を行う工程 すなわち、設計通りの
回路ができているかどうかというほかに、異物の付着は
ないかを検査する。 (3)ペリクルを貼り付ける工程 (4)ペリクル付きマスクを検査する工程 (5)出荷する工程 の5段階で行われる。通常、工程(2)においては,マ
スクが設計通りに出来ているのかどうか,異物が付着し
ていないかどうかについて検査される。そして,検査に
合格したものだけが工程(3)に進む。その後工程
(4)においては,ペリクルを貼り付ける際に,マスク
に欠陥が発生していないかどうか、異物が混入していな
いかどうか、について検査され,合格と判定されたもの
が出荷の工程に回されるが,不合格品は廃棄される。
システムが用いられているが,最終的には人によって判
断せざるを得ない。そして、同様の人による検査を,出
荷までに2回も行うことは,工業的にコスト高となる。
また,工程(4)の検査で不合格となったマスクに貼り
付けられたペリクルは,再利用できないため廃棄せざる
を得ないのが実状である。
り不合格となっても、マスクからペリクルを剥がそうと
すると,接着材がマスクから容易に剥離させることがで
きないため,ペリクルの変形や時々、マスクの破壊が起
こり,結局のところ再使用することはできないからであ
る。
チック基板を支持基板に粘着材を貼りつけた後、所定の
処理を行ない、その所定の処理が終了した後、プラスチ
ック基板を剥離することを特徴とするプラスチックパネ
ルの製造方法が開示されているが、最終的にはすべて剥
離させることが前提となっている。
段剥離させる必要はないが、例外的に不合格となったと
きのみ容易に剥離させることができるペリクルが求めら
れていた。
おいて合格すれば剥離しない程度の強固さによりペリク
ルがマスクに付き、不合格となった場合に予備的にペリ
クル付きマスクからペリクルを容易に剥離させ、マスク
およびペリクルを再使用することを可能ならしめるペリ
クルを提供するものである。
徴がある。
部にペリクル膜が張設され,もう一方の枠の開口部にマ
スクへを装着するための粘着層が設けられているペリク
ルにおいて,環境の温度により粘着力が変化する感温性
粘着材を粘着層に使用する事を特徴とするペリクルであ
る。
が他の樹脂を介してペリクル枠に積層されており、粘着
材として感温性粘着材を用いる事を特徴とする上記
(1)に記載のペリクルである。
においては剥離できないが、室温よりも高温または低温
において剥離することができる ペリクル付きマスクに
用いられる上記(1)または(2)に記載のペリクルで
ある。
いて、ペリクル付きマスクの異物検査において不合格と
なった場合、マスクからペリクルを両者とも破壊しない
ように剥離させ、再使用することを特徴とする上記
(1)乃至(3)のペリクルである。
は、図1に示すように、ペリクル枠1の一方の開口部に
ペリクル膜3が張設される。本発明に用いられるペリク
ル枠としては、ステンレス、エンジニアリングプラスチ
ック、黒色アルマイト処理したアルミニウム合金等から
なるものが挙げられる。また、これらのペリクル枠の表
面全体を非晶性フッ素系ポリマー等でコーティングした
ものを用いても良い。これらの中でも好ましくは、アル
マイト処理した黒色アルミニウム等からなるペリクル枠
が挙げられる。
には、マスクに装着させるための粘着材2を用いる事が
できる。また、本発明で用いられる粘着材は、図2に示
すように、他の樹脂4を介して用いても良い。
として用いられる薄膜は、通常ペリクル膜として用いら
れているもので良い。例えば、ペリクル膜として用いら
れる薄膜としては、ニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、非晶性フッ素系重合体等が挙げられる。薄膜がペリ
クル枠の一方の開口部に張設されて、ペリクル膜が形成
される。ペリクル膜は、例えば膜接着材によりペリクル
枠に固定することができる。
着するときに用いられる本発明のペリクル粘着材は、室
温付近においては強力な粘着性を示すので手などにより
ペリクルとマスクを破壊することなく剥離させることは
できないが、室温よりも高温、あるいは低温とした場合
には、粘着性が弱くなるため手などにより両者を破壊す
ることなく剥離させることのできる粘着材である。
及び通常、ペリクル付きマスクが露光工程等において使
用される温度をいう。ペリクル付きマスクの製造工程に
おける温度は、通常10〜35℃、好ましくは15〜3
0℃である。また、ペリクル付きマスクが使用される温
度は、通常10〜35℃、好ましくは15〜30℃であ
る。
り、経験する温度は、上記の製造工程における温度や、
使用される温度よりも少し広く、10〜50℃であるか
ら、この温度においてはマスクとペリクルが実用上剥離
しないことが必要である。そして、剥離させる場合に
は、マスクとペリクルを洗浄後、再使用するためにほと
んど力を入れずに、好ましくは容易に手で剥離できる程
度の粘着力となっている事が好ましい。
する温度は、高温側で剥離する場合には、通常50℃よ
り高い温度、好ましくは60℃より高い温度に設定され
ている事が好ましい。一方、低温側で剥離する場合に
は、10℃未満、好ましくは0℃未満である。
0〜50℃においては、マスクからペリクルが自然に落
下しない程度の十分な粘着力を示し、60℃より高い温
度、あるいは0℃より低い温度においては、マスクから
ペリクルを手で極めて容易に剥離できる程度の十分に低
い粘着力を持っていることが望ましい。
着力は、室温において簡単に剥離できない程度の十分な
粘着力を示し、室温よりも高い温度において、例えば6
0℃においては粘着力は低下し、室温における粘着力の
30%以下、好ましくは20%以下であるか、あるいは
室温よりも低い温度において、例えば0℃においては室
温における粘着力の30%以下、好ましくは20%以下
である。
な方法で測定することができる。まず、洗浄された石英
基板6に30kgで3分間の加重でペリクル5を貼り付
ける。その後、ペリクル長辺方向側面の治具穴に剥離治
具7を差し込み、剥離治具の端を5mm/分で下降させ
ていき、剥離したときの加重をロードセル8で読み取る
ことができる。
異なるので、粘着力も異なることも知られている。温度
の変化によって粘着力はなだらかに変化するのが一般的
であるが、 本発明における粘着材は、米国特許538
7450で例示される様な、温度変化により、粘着力が
大きく変化する感温性粘着材を使用し、且つマスクと接
する部分に本材料を適用する事を特徴としている。
ヘキサデシルアクリレートとアクリル酸エチルの共重合
体、ヘキサデシルアクリレートとメチルアクリレート及
びアクリル酸の共重合体等を例示する事ができる。本材
料1層構造としては、ぺリクル枠/感温性粘着材の順
に、また、他材料との積層構造ではぺリクル枠/樹脂材
料/感温性粘着材の順に積層される。
いて粘着材を溶解させ、例えば、ロボットを用いて、ペ
リクル枠に塗布し、一定厚の粘着層を塗布形成し、ペリ
クル形状を作成する。
が減衰するタイプ(以下、ウォームオフタイプと言う)
と温度が低下すると粘着力が減衰するタイプ(以下、ク
ールオフタイプと言う)の2種類がある。
製)の粘着テープをにより抽出し、濃縮後、ペリクル枠
に塗布し乾燥し、マスクに装着する。
着材を用いたそれぞれのペリクル付きマスクに対し、例
えば、板状ヒーターやドライヤー等で温度をかけたり、
冷凍庫や氷等でマスクを冷却する事で、マスクからの、
軽く容易なペリクル剥離を可能とする。 それぞれの剥
離状態を(表1)、及び(表2)に示した。
剥ぎができないペリクルもウォームオフタイプでは加熱
する、またクールオフタイプでは冷却する等、温度変化
を与える事で、マスクを殆ど汚さない軽いペリクル剥離
ができる様になる。また、剥離後のペリクルは再使用可
能となる。
の装着に感温性粘着材を用いているため、,ペリクル付
きマスクの異物等の検査において不合格であった場合に
は熱をかけたり、冷やしたりする事で簡単に両者を剥が
してマスクとペリクルを再利用することが可能である。
また,合格であった場合、ペリクル粘着材1層構造や縦
方向積層構造とも、そのままラインへの使用が可能とな
る。
クル剥離が簡単に行えるため、マスクのみの異物検査は
不要となり,ペリクル付きマスクの製造工程において,
異物検査を1回で済ませることが出来る。
す断面図である。
クルを表わす断面図である。
11)
マスクの製造方法
Claims (4)
- 【請求項1】 ペリクル枠の一方の開口部にペリクル膜
が張設され,もう一方の枠の開口部にマスクへ装着する
ための粘着層が設けられているペリクルにおいて,環境
の温度により粘着力が変化する感温性粘着材を粘着層に
使用する事を特徴とするペリクル。 - 【請求項2】 マスクと接する粘着材層が他の樹脂を介
してペリクル枠に積層されており、粘着材として感温性
粘着材を用いる事を特徴とする請求項1に記載のペリク
ル。 - 【請求項3】 ペリクルとマスクが室温においては剥離
できないが、室温よりも高温または低温において剥離す
ることができる感温性粘着材を有する事を特徴とする請
求項1または2に記載のペリクル。 - 【請求項4】 ペリクル付きマスクの製造工程におい
て、ペリクル付きマスクの異物検査において不合格とな
った場合、マスクからペリクルを両者とも破壊しないよ
うに剥離させ、再使用することを特徴とする請求項1乃
至3のペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001319043A JP2003121994A (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | ペリクルおよびペリクル付きマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001319043A JP2003121994A (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | ペリクルおよびペリクル付きマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003121994A true JP2003121994A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19136651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001319043A Pending JP2003121994A (ja) | 2001-10-17 | 2001-10-17 | ペリクルおよびペリクル付きマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003121994A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005010700A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Toppan Printing Co Ltd | 露光用原板の検査装置及び検査方法 |
| JP2008032981A (ja) * | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Mtc:Kk | ペリクル枠剥離方法及びその装置並びにこれに使用される剥離治具 |
| CN102998898A (zh) * | 2011-09-09 | 2013-03-27 | 信越化学工业株式会社 | 光刻用防尘薄膜组件以及其制造方法 |
-
2001
- 2001-10-17 JP JP2001319043A patent/JP2003121994A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005010700A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-13 | Toppan Printing Co Ltd | 露光用原板の検査装置及び検査方法 |
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| CN102998898A (zh) * | 2011-09-09 | 2013-03-27 | 信越化学工业株式会社 | 光刻用防尘薄膜组件以及其制造方法 |
| JP2013057861A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-03-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法 |
| EP2568336A3 (en) * | 2011-09-09 | 2014-12-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A pellicle for lithography and a method of making thereof |
| KR101924361B1 (ko) | 2011-09-09 | 2018-12-03 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 펠리클 및 그 제조 방법 |
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