JP2003122000A - Pattern forming material and image forming method - Google Patents
Pattern forming material and image forming methodInfo
- Publication number
- JP2003122000A JP2003122000A JP2001314363A JP2001314363A JP2003122000A JP 2003122000 A JP2003122000 A JP 2003122000A JP 2001314363 A JP2001314363 A JP 2001314363A JP 2001314363 A JP2001314363 A JP 2001314363A JP 2003122000 A JP2003122000 A JP 2003122000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrophilic
- image
- pattern
- polymer
- forming material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 64
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 13
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 13
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 44
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 2
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 2
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 2
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N n-ethenylformamide Chemical compound C=CNC=O ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N pent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 2
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- HUXJRTPIDCQELS-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbuta-1,3-diene-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C=C)=CC1=CC=CC=C1 HUXJRTPIDCQELS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1-(2-ethoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCC MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCC=C ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical group 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N bis(2-cyclohexyl-3-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1CCCCC1C=1C(O)=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC(O)=C1C1CCCCC1 ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- MCPLVIGCWWTHFH-UHFFFAOYSA-L methyl blue Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C1NC1=CC=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[NH+]C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=2C=CC(NC=3C=CC(=CC=3)S([O-])(=O)=O)=CC=2)C=C1 MCPLVIGCWWTHFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001017 thiazole dye Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はパターン形成材料及
びそれを用いた画像形成方法に関し、特に、解像度に優
れた画像を容易に形成することができるパターン形成材
料、及び、それを用いたディスプレイ材料等に有用な画
像形成方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern forming material and an image forming method using the same, and in particular, a pattern forming material capable of easily forming an image having excellent resolution, and a display material using the same. The present invention relates to a useful image forming method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、種々の画像形成材料が、ディスプ
レイ材料やパターン形成材料として使用されている。こ
れらは通常、紙媒体などの白色の受像材料表面にインク
などの有色材料を像様に付着させたり、プラスチックフ
ィルムなどの透明な受像材料に顔料などの光非透過性の
材料を像様に付着させることで画像形成を行っている。
画像形成は、例えば、受像材料にインクジェット印刷に
よりインクを付着させたり、コピー機に代表されるよう
に、静電的に有色材料を受像材料の表面に付着させ、加
熱定着させる、感熱記録材料を用いて加熱により像様に
染料前駆体を発色させるなどの種々の方法で行われてい
る。また、配向が制御された緻密なパターンを形成する
方法として、例えば、特開２０００−２４７７９９号に
は、機能性有機分子薄膜の製造方法が提案されている。
この方法によれば、緻密なパターンを形成することがで
きるが、像様の書込みには、従来の平版印刷版原版の画
像形成方法の如く、リスフィルムのようなマスクを介し
てＵＶ露光を行うものであり、画像形成方法としては工
程が煩雑である。また、従来の一般的な画像形成方法で
は、大面積の受像材料に高解像度の画像を形成したり、
薄膜の受像材料に高濃度の画像を形成することが困難で
あった。2. Description of the Related Art Conventionally, various image forming materials have been used as display materials and pattern forming materials. These are usually colored images such as ink adhered to the surface of a white image receiving material such as a paper medium, or non-transparent materials such as pigments attached to a transparent image receiving material such as a plastic film. By doing so, an image is formed.
For image formation, for example, an ink is attached to the image receiving material by inkjet printing, or a color material is electrostatically attached to the surface of the image receiving material as represented by a copying machine and heat-fixed. It is carried out by various methods such as image-wise developing a dye precursor by heating. Further, as a method for forming a dense pattern with controlled orientation, for example, JP-A-2000-247799 proposes a method for producing a functional organic molecular thin film.
According to this method, a fine pattern can be formed, but for imagewise writing, UV exposure is performed through a mask such as a lith film as in the conventional image forming method of a lithographic printing plate precursor. However, the process is complicated as an image forming method. Further, in the conventional general image forming method, a high resolution image is formed on a large area image receiving material,
It has been difficult to form a high-density image on a thin image receiving material.
【０００３】一方、近年、画像形成材料として、ディジ
タル化された画像データーからリスフィルムなどの媒介
を用いずに直接、受像材料上に画像形成する方法が注目
され、種々提案されてきている。このようなデジタル化
された画像形成方法を利用すれば、受像材料の面積や特
性に係わらず、鮮明な画像を形成することが期待される
が、所望の受像材料に、このデジタル化されたデータに
基づいて光非透過性材料や有色材料を安定に定着させる
技術は未だ確立されていないのが、現状である。On the other hand, in recent years, as an image forming material, a method of directly forming an image on an image receiving material from a digitized image data without using a medium such as a lith film has attracted attention and various proposals have been made. If such a digitized image forming method is used, it is expected that a clear image will be formed regardless of the area or characteristics of the image receiving material. At present, the technology for stably fixing the light non-transmissive material and the colored material based on the above is not established yet.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術の欠点
を考慮してなされた本発明の目的は、露光或いは加熱に
より高感度で画像を形成することができ、画像形成材料
の面積に係わらず、高解像度で、鮮鋭度の高い画像が得
られ、且つ、赤外線レーザ等を操作することによりデジ
タルデータに基づき直接画像形成が可能な、応用範囲の
広いパターン形成材料及びそれを用いた画像形成方法を
提供することにある。The object of the present invention made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art is that an image can be formed with high sensitivity by exposure or heating, regardless of the area of the image forming material. A pattern forming material having a wide range of applications and an image forming method using the same, which can obtain an image with high resolution and high sharpness and can directly form an image based on digital data by operating an infrared laser or the like. To provide.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
した結果、露光、加熱、赤外線レーザの照射などのエネ
ルギー付与により、疎水性ポリマー層の表面に親水性ポ
リマー層を直接結合させることで親疎水性パターンを形
成し得る材料を用いることで上記目的が達成されること
を見いだし本発明を完成するに至った。すなわち、本発
明のパターン形成材料は、疎水性ポリマー含有層上に、
重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接
触させてなるパターン形成材料であって、該パターン形
成材料に画像様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー
含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを直接化
学結合させて親水性パターンを形成することを特徴とす
る。このパターン形成材料は、疎水性ポリマー含有層上
に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物
からなる上層を積層してなる構成を有することが好まし
く、また、疎水性ポリマー含有層には、エネルギー付与
により重合開始能を発現する化合物を含有することが感
度、画像強度の観点から好ましい。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the hydrophilic polymer layer is directly bonded to the surface of the hydrophobic polymer layer by applying energy such as exposure, heating, and infrared laser irradiation. It was found that the above object can be achieved by using a material capable of forming a hydrophilic / hydrophobic pattern, and the present invention has been completed. That is, the pattern forming material of the present invention, on the hydrophobic polymer-containing layer,
A pattern-forming material obtained by contacting a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group, wherein the pattern-forming material is imparted with image-wise energy to form a polymerizable group on the hydrophobic polymer-containing layer. A hydrophilic pattern is formed by directly chemically bonding the hydrophilic polymer contained therein. This pattern forming material preferably has a constitution in which an upper layer made of a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group is laminated on a hydrophobic polymer-containing layer, and the hydrophobic polymer-containing layer is From the viewpoint of sensitivity and image strength, it is preferable that the compound contains a compound that exhibits a polymerization initiation ability when energy is applied.
【０００６】また、このパターン形成材料を利用した、
本発明の請求項４に係る画像形成方法は、疎水性ポリマ
ー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有
する組成物を接触させてなるパターン形成材料に、画像
様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー含有層上に、
重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合させて
親水性パターンを形成し、該親水性パターン、或いはエ
ネルギーを付与されていない疎水性領域のいずれかに可
視画像を形成可能な有機又は無機分子を付着させること
を特徴とする。Further, using this pattern forming material,
The image forming method according to claim 4 of the present invention provides imagewise energy to a pattern-forming material obtained by bringing a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group into contact with a hydrophobic polymer-containing layer. On the hydrophobic polymer containing layer,
Organic or inorganic molecule capable of forming a visible image on either the hydrophilic pattern or a hydrophobic region to which energy is not applied, by forming a hydrophilic pattern by directly chemically bonding a hydrophilic polymer having a polymerizable group Is attached.
【０００７】本発明のパターン形成材料は、所望の支持
体基板上に、疎水性ポリマー含有層を形成するか、又
は、疎水性ポリマー含有層自体を支持体とし、そこに重
合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触
させてなるものであり、該親水性ポリマー含有組成物
は、溶液浸漬により接触させてもよいが、親水性ポリマ
ー含有組成物を塗布することにより親水性ポリマー含有
層を形成することもでき、このようにすれば製造が容易
となり、また、親水性部材の表面を形成する親水性ポリ
マー含有層は、皮膜形成能のある重合成性基を有する親
水性ポリマーを含有する組成物からなるため、塗布面状
が均一で表面平滑性の高い親水性表面を形成することが
できるという利点を有する。このパターン形成材料にエ
ネルギーを付与することで、親水性ポリマーの重合性基
と疎水性ポリマー含有層とが直接結合して、強固な結合
と、高い運動性を有する親水性ポリマーの層を形成し、
耐久性、親水性に優れた親水性パターンが形成される。
ここで、該疎水性ポリマー含有層に重合開始能を有する
化合物が含まれる場合、エネルギー付与により疎水性ポ
リマー含有層にも活性化による反応サイトが形成され、
ここに親水性ポリマーの重合性基が結合して、より効率
的に強固な結合が達成される。The pattern forming material of the present invention forms a hydrophobic polymer-containing layer on a desired support substrate, or uses the hydrophobic polymer-containing layer itself as a support, and a hydrophilic group having a polymerizable group therein. The composition containing a hydrophilic polymer is brought into contact with the composition, and the hydrophilic polymer-containing composition may be contacted by solution immersion, but the hydrophilic polymer-containing composition is applied by applying the hydrophilic polymer-containing composition. It is also possible to form a layer, which facilitates the production, and the hydrophilic polymer-containing layer forming the surface of the hydrophilic member is formed of a hydrophilic polymer having a polysynthetic group capable of forming a film. Since it is composed of the contained composition, it has an advantage that a hydrophilic surface having a uniform coated surface state and high surface smoothness can be formed. By applying energy to this pattern forming material, the polymerizable group of the hydrophilic polymer and the hydrophobic polymer-containing layer are directly bonded to each other to form a hydrophilic polymer layer having a strong bond and high mobility. ,
A hydrophilic pattern having excellent durability and hydrophilicity is formed.
Here, when the hydrophobic polymer-containing layer contains a compound having a polymerization initiating ability, a reaction site due to activation is also formed in the hydrophobic polymer-containing layer by energy application,
A polymerizable group of the hydrophilic polymer is bonded to this to more efficiently and firmly bond.
【０００８】さらに、エネルギーを付与されない領域
は、疎水性ポリマー含有層が露出して疎水性パターンと
なる。したがって、このパターン形成後に、可視画像形
成可能な物質を親水性領域或いは疎水性領域に、その親
和性にしたがって付着させることにより、鮮鋭な可視画
像を容易に形成することができる。本発明によれば、エ
ネルギー付与にデジタルデータから直接描画可能な、例
えば、赤外線レーザなどを用いれば、デジタルデータに
基づく鮮鋭な画像を容易に形成することができる。ま
た、本発明の親水性ポリマーが末端に重合性基を有する
ものであれば、親水性ポリマーが運動性の高いグラフト
鎖の状態で疎水性ポリマー含有層に結合するため、高い
親水性が達成でき、さらに側鎖にも重合性基を有するも
のを添加した場合には、側鎖の重合性基と他の親水性ポ
リマー末端の重合性基との間にも結合が生じ、親水性の
グラフト鎖がさらに枝分かれ構造を有するグラフト鎖と
なるため、グラフト鎖の枝分かれ構造において、それぞ
れの分岐した枝にも親水性基が存在することになり、枝
分かれ構造を有しない通常のグラフト鎖に比較して、単
位面積あたりに存在する親水性基の密度が増すととも
に、それぞれのグラフトの運動性も著しく向上し、高い
親水性を有する親水性グラフト構造に比較しても、飛躍
的に親水性が向上するという利点を有する。Further, in the region to which energy is not applied, the hydrophobic polymer-containing layer is exposed to form a hydrophobic pattern. Therefore, after forming this pattern, a sharp visible image can be easily formed by attaching a substance capable of forming a visible image to the hydrophilic region or the hydrophobic region according to its affinity. According to the present invention, a sharp image based on digital data can be easily formed by using an infrared laser or the like that can be directly drawn from digital data for energy application. Further, when the hydrophilic polymer of the present invention has a polymerizable group at the terminal, the hydrophilic polymer is bonded to the hydrophobic polymer-containing layer in the state of a highly movable graft chain, so that high hydrophilicity can be achieved. When a polymer having a polymerizable group on the side chain is further added, a bond also occurs between the polymerizable group on the side chain and the polymerizable group at the end of another hydrophilic polymer, resulting in a hydrophilic graft chain. Since is a graft chain having a further branched structure, in the branched structure of the graft chain, each branched branch also has a hydrophilic group, compared to a normal graft chain having no branched structure, The density of hydrophilic groups existing per unit area is increased, and the mobility of each graft is also significantly improved, and the hydrophilicity is dramatically improved even when compared with a hydrophilic graft structure having high hydrophilicity. It has the advantage of that.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】本発明のパターン形成材料は、疎
水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリ
マーを含有する組成物を接触させてなる構成を有する。
まず、疎水性ポリマー含有層について、説明する。本発
明における疎水性ポリマー含有層は、その主成分が疎水
性ポリマーであれば、特に制限はなく、このパターン形
成材料の支持体が疎水性ポリマーを主成分とするもので
あれば、支持体自体が、疎水性ポリマー含有層となる場
合があり、また、所望の支持体基板上に疎水性ポリマー
層を設けたものであってもよい。本発明に適用し得る疎
水性ポリマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レー卜、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなど
が挙げられ、これらをフィルム上に成形したものをその
まま支持体（兼、疎水性ポリマー含有層）として使用し
てもよく、これらを後述する任意の支持体上に塗布して
疎水性ポリマー含有層を形成してもよい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The pattern forming material of the present invention has a constitution in which a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group is brought into contact with a hydrophobic polymer containing layer.
First, the hydrophobic polymer-containing layer will be described. The hydrophobic polymer-containing layer in the present invention is not particularly limited as long as its main component is a hydrophobic polymer, and if the support of this pattern forming material has a hydrophobic polymer as its main component, the support itself However, it may be a hydrophobic polymer-containing layer, and a hydrophobic polymer layer may be provided on a desired support substrate. As the hydrophobic polymer applicable to the present invention, polyethylene, polypropylene, polystyrene, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. The film formed from these may be used as it is as a support (and also as a hydrophobic polymer-containing layer). The hydrophobic polymer-containing layer may be obtained by coating these on any support described later. May be formed.
【００１０】なお、本発明においては、この疎水性ポリ
マー層に、エネルギー付与を付与することにより重合開
始能を発現する化合物を添加することが好ましい。疎水
性ポリマーをエネルギー付与により重合開始能を発現す
る層（以下、適宜、重合性下層と称する）とするために
は、この層に、重合開始剤と重合性化合物とを含有する
ことが好ましい。重合性下層は、必要な成分を、それら
を溶解可能な溶媒に溶解し、塗布などの方法で基材（支
持体）上に設け、加熱または光照射により硬膜すること
により形成することができる。In the present invention, it is preferable to add to the hydrophobic polymer layer a compound that exerts energy to give a polymerization initiation ability. In order to make the hydrophobic polymer a layer that exhibits a polymerization initiation ability by applying energy (hereinafter, appropriately referred to as a polymerizable lower layer), it is preferable that this layer contains a polymerization initiator and a polymerizable compound. The polymerizable lower layer can be formed by dissolving the necessary components in a solvent capable of dissolving them, providing them on a substrate (support) by a method such as coating, and hardening the film by heating or light irradiation. .
【００１１】（重合性化合物）重合性下層に用いられる
重合性化合物は、基板との密着性が良好であり、且つ、
活性光線照射などのエネルギー付与により上層に含まれ
る、少なくとも末端に重合性基を含有する親水性ポリマ
ーが付加し得るものであれば特に制限はないが、なかで
も、分子内に重合性基を有する疎水性ポリマーが好まし
い。このような疎水性ポリマーとしては、具体的には、
ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリぺンタジエンな
どのジエン系単独重合体、アリル（メタ）アクリレー
卜、２−アリルオキシエチルメタクリレー卜などのアリ
ル基含有モノマーの単独重合体；さらには、前記のポリ
ブタジエン、ポリイソプレン、ポリペンタジエンなどの
ジエン系単量体またはアリル基含有モノマーを構成単位
として含む、スチレン、（メタ）アクリル酸エステル、
（メタ）アクリロニトリルなどとの二元または多元共重
合体；不飽和ポリエステル、不飽和ポリエポキシド、不
飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリル、高密度ポリエチ
レンなどの分子中に炭素−炭素二重結合を有する線状高
分子または３次元高分子類；などが挙げられる。なお、
本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いは
いずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と表記する
ことがある。(Polymerizable Compound) The polymerizable compound used in the polymerizable lower layer has good adhesion to the substrate, and
There is no particular limitation as long as the hydrophilic polymer contained in the upper layer and containing a polymerizable group at least at the end can be added by the application of energy such as actinic ray irradiation, but among others, it has a polymerizable group in the molecule. Hydrophobic polymers are preferred. As such a hydrophobic polymer, specifically,
Diene homopolymers such as polybutadiene, polyisoprene, and polypentadiene; homopolymers of allyl group-containing monomers such as allyl (meth) acrylate and 2-allyloxyethyl methacrylic acid; Styrene, (meth) acrylic acid ester containing a diene-based monomer such as isoprene or polypentadiene or an allyl group-containing monomer as a constitutional unit,
Binary or multi-component copolymers with (meth) acrylonitrile, etc .; linear polyester having carbon-carbon double bond in the molecule such as unsaturated polyester, unsaturated polyepoxide, unsaturated polyamide, unsaturated polyacryl, high density polyethylene, etc. Polymers or three-dimensional polymers; and the like. In addition,
In this specification, "(meth) acrylic" may be used when referring to both or either of "acrylic and methacrylic".
【００１２】（重合開始剤）本発明の下層にはエネルギ
ー付与により重合開始能を発現させるための重合開始剤
を含有する。ここで用いられる重合開始剤は、所定のエ
ネルギー、例えば、活性光線の照射、加熱、電子線の照
射などにより、重合開始能を発現し得る公知の熱重合開
始剤、光重合開始剤などを目的に応じて、適宜選択して
用いることができる。なかでも、熱重合よりも反応速度
（重合速度）が高い光重合を利用することが製造適性の
観点から好適であり、このため、光重合開始剤を用いる
ことが好ましい。本発明に用い得る光重合開始剤は、照
射される活性光線に対して活性であり、下層に含まれる
重合性基を有する疎水性ポリマーと、上層に含まれる末
端に重合性基を有する親水性ポリマーとを重合させるこ
とが可能なものであれば、特に制限はなく、例えば、ラ
ジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合
開始剤などを用いることができる。(Polymerization Initiator) The lower layer of the present invention contains a polymerization initiator for exhibiting a polymerization initiation ability by applying energy. The polymerization initiator used here has a predetermined energy, for example, irradiation of active rays, heating, irradiation of an electron beam, or the like, is a known thermal polymerization initiator capable of exhibiting a polymerization initiation ability, a photopolymerization initiator and the like. It can be appropriately selected and used according to the above. Among them, it is preferable to use photopolymerization, which has a higher reaction rate (polymerization rate) than thermal polymerization, from the viewpoint of production suitability. Therefore, it is preferable to use a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator that can be used in the present invention is active with respect to actinic rays to be irradiated, and is a hydrophobic polymer having a polymerizable group contained in the lower layer and a hydrophilic polymer having a polymerizable group contained in the upper layer. There is no particular limitation as long as it can polymerize with a polymer, and for example, a radical polymerization initiator, an anionic polymerization initiator, a cationic polymerization initiator or the like can be used.
【００１３】そのような光重合開始剤としては、具体的
には、例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセト
フェノン、２，２′−ジエトキシアセトフェノン、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オンの如きアセトフェノン類；ベンゾフェノン（４，
４′−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、２−クロロ
チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチ
ルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、
の如きケトン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテルの如きベンゾインエーテル類；ベンジル
ジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトンの如きベンジルケタール類、などが挙げられる。
重合開始剤の含有量は、重合性下層中、固形分で０．０
１〜２０重量％の範囲が好ましく、０．１〜１０重量％
の範囲が特に好ましい。Specific examples of such a photopolymerization initiator include p-tert-butyltrichloroacetophenone, 2,2'-diethoxyacetophenone and 2-
Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-
Acetophenones such as on; benzophenone (4,
4'-bisdimethylaminobenzophenone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone,
Examples thereof include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and other benzoin ethers; benzyl dimethyl ketal, hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and other benzyl ketals.
The content of the polymerization initiator is 0.0 in terms of solid content in the polymerizable lower layer.
The range of 1 to 20% by weight is preferable, and 0.1 to 10% by weight
Is particularly preferred.
【００１４】疎水性ポリマー層を塗布する際に用いる溶
媒は、主成分である疎水性ポリマー、重合性基を有する
疎水性の化合物、或いは、重合開始剤などの成分が溶解
するものであれば特に制限されない。乾燥の容易性、作
業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、
具体的には、沸点４０℃〜１５０℃程度のものを選択す
ればよい。具体的には、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサン、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、メタノ
ール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、
３−メトキシプロパノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテートなどが挙げられる。これらの溶媒は、単独
あるいは混合して使用することができる。そして塗布溶
液中の固形分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。The solvent used for applying the hydrophobic polymer layer is particularly preferably a solvent that dissolves the main component, the hydrophobic polymer, the hydrophobic compound having a polymerizable group, or a component such as a polymerization initiator. Not limited. From the viewpoint of ease of drying and workability, a solvent whose boiling point is not too high is preferable,
Specifically, a material having a boiling point of about 40 ° C to 150 ° C may be selected. Specifically, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, methanol, Ethanol, 1-methoxy-2-propanol,
Examples thereof include 3-methoxypropanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and 3-methoxypropyl acetate. These solvents can be used alone or as a mixture. Then, the concentration of the solid content in the coating solution is appropriately 2 to 50% by weight.
【００１５】疎水性ポリマー層を支持体上に形成する場
合の塗布量は、乾燥後の重量で、０．１〜２０ｇ／ｍ2
が好ましく、さらに、１〜１５ｇ／ｍ2が好ましい。塗
布量０．ｌｇ／ｍ2未満では十分な重合開始能を発現で
きず、親水性ポリマーのグラフト化が不十分となり、所
望の親水性を得られない懸念があり、塗布量が２０ｇ／
ｍ2を超えると膜性が低下する傾向になり、膜剥がれを
起こしやすくなるため、いずれも好ましくない。When the hydrophobic polymer layer is formed on the support, the coating amount is 0.1 to 20 g / m 2 by weight after drying.
Is preferable, and 1 to 15 g / m 2 is more preferable. Coating amount 0. If it is less than 1 g / m 2 , sufficient polymerization initiating ability cannot be expressed and grafting of the hydrophilic polymer may be insufficient, so that desired hydrophilicity may not be obtained.
When it exceeds m 2 , the film property tends to be deteriorated, and film peeling tends to occur.
【００１６】上記のように、支持体基材上に上記の重合
性下層形成用の組成物を塗布などにより配置し、溶剤を
除去することにより成膜させて下層を形成するが、この
とき、加熱及び／又は光照射を行って硬膜することが好
ましい。特に、加熱により乾燥した後、光照射を行って
予備硬膜しておくと、疎水性ポリマーのある程度の硬化
が予め行なわれるので、親水性ポリマーのグラフト化を
達成した後に下層である疎水性ポリマー層ごと脱落する
といった事態を効果的に抑制し得るため好ましい。ここ
で、予備硬化に光照射を利用するのは、前記光重合開始
剤の項で述べたのと同様の理由による。加熱温度と時間
は、塗布溶剤が十分乾燥しうる条件を選択すればよい
が、製造適正の点からは、温度が１００℃以下、乾燥時
間は３０分以内が好ましく、乾燥温度４０〜８０℃、乾
燥時間１０分以内の範囲の加熱条件を選択することがよ
り好ましい。As described above, the composition for forming the polymerizable lower layer is placed on the support substrate by coating, etc., and the solvent is removed to form a film to form the lower layer. At this time, It is preferable that the film is hardened by heating and / or irradiation with light. In particular, after drying by heating and pre-hardening by irradiating with light, the hydrophobic polymer is cured to some extent in advance, so that after the grafting of the hydrophilic polymer is achieved, the hydrophobic polymer of the lower layer is obtained. This is preferable because it is possible to effectively suppress the situation in which the layers are dropped. Here, the reason why the light irradiation is used for the pre-curing is for the same reason as described in the section of the photopolymerization initiator. The heating temperature and time may be selected such that the coating solvent can be sufficiently dried, but from the viewpoint of manufacturing suitability, the temperature is 100 ° C. or lower, the drying time is preferably within 30 minutes, and the drying temperature is 40 to 80 ° C. It is more preferable to select a heating condition within a drying time within 10 minutes.
【００１７】加熱乾燥後に所望により行われる光照射
は、後述する親水性グラフトポリマーの結合の生成に用
いる光源を用いることができるが、引き続き行われる親
水性ポリマー層の形成と、エネルギー付与により実施さ
れる下層の活性点とグラフト鎖との結合の形成を阻害し
ないという観点から、下層中に存在する重合性化合物が
部分的にラジカル重合しても、完全にはラジカル重合し
ない程度に光照射することが好ましく、光照射時間につ
いては光源の強度により異なるが、一般的には３０分以
内であることが好ましい。このような予備硬化の目安と
しては、溶剤洗浄後の膜残存率が１０％以上となり、且
つ、予備硬化後の開始剤残存率が１％以上であること
が、挙げられる。The light irradiation optionally carried out after heating and drying can be carried out by using the light source used for forming the bond of the hydrophilic graft polymer described later, but by carrying out the subsequent formation of the hydrophilic polymer layer and energy application. From the viewpoint of not inhibiting the formation of the bond between the active site and the graft chain of the lower layer, even if the polymerizable compound existing in the lower layer is partially radically polymerized, it should be irradiated with light to such an extent that radical polymerization does not occur completely. The light irradiation time varies depending on the intensity of the light source, but it is generally preferably 30 minutes or less. As a guideline for such pre-curing, the film residual rate after solvent cleaning is 10% or more, and the initiator residual rate after pre-curing is 1% or more.
【００１８】本発明のパターン形成材料では、前記疎水
性ポリマー含有層表面に重合性基を有する親水性ポリマ
ー接触させ、エネルギーを付与することで重合性基を有
する親水性ポリマーが疎水性ポリマーに化学的に結合
し、強固で耐久性に優れ、高い親水性を有する親水性領
域を形成することができる。このような結合の形成を表
面グラフトと称する。この接触は、疎水性ポリマー含有
層を、重合性の親水性ポリマーを含有する液状の組成物
中に浸漬することで行ってもよいが、パターン形成材料
の取り扱い性や製造効率の観点からは、後述するよう
に、重合性の親水性ポリマーを含有する組成物を主成分
とする層を疎水性ポリマー含有層表面に、塗布法により
形成することが好ましい。In the pattern forming material of the present invention, the hydrophilic polymer having a polymerizable group is chemically converted into a hydrophobic polymer by bringing the hydrophilic polymer having a polymerizable group into contact with the surface of the hydrophobic polymer-containing layer and applying energy thereto. Can be bonded to each other to form a hydrophilic region that is strong, has excellent durability, and has high hydrophilicity. The formation of such bonds is called surface grafting. This contact may be performed by immersing the hydrophobic polymer-containing layer in a liquid composition containing a polymerizable hydrophilic polymer, but from the viewpoint of handleability and production efficiency of the pattern forming material, As described below, it is preferable that a layer containing a composition containing a polymerizable hydrophilic polymer as a main component is formed on the surface of the hydrophobic polymer-containing layer by a coating method.
【００１９】以下に、エネルギー付与による表面グラフ
トの形成について説明する。本発明においては、親水性
領域の形成は、表面グラフト重合と呼ばれる方法により
行われる。グラフト重合とは高分子化合物鎖上に光、電
子線、熱などの従来公知の方法にてエネルギーを付与す
ることにより活性種を与え、これによって重合を開始す
る別の重合性化合物をさらに重合させ、グラフト（接ぎ
木）重合体を合成する方法で、特に活性種を与える高分
子化合物が表面を形成するときには表面グラフト重合と
呼ばれる。また、表面グラフトとは、下層を構成する重
合開始能を有する高分子層の表面上に重合性化合物がグ
ラフトされた表面を示す。The formation of a surface graft by applying energy will be described below. In the present invention, the hydrophilic region is formed by a method called surface graft polymerization. Graft polymerization is a method of giving energy to the polymer compound chain by a conventionally known method such as light, electron beam, and heat to give an active species, thereby further polymerizing another polymerizable compound which initiates polymerization. , A method of synthesizing a graft (grafting) polymer, particularly when a polymer compound giving an active species forms a surface, it is called surface graft polymerization. Further, the surface graft means a surface obtained by grafting a polymerizable compound on the surface of the polymer layer having a polymerization initiation ability which constitutes the lower layer.
【００２０】通常は、基材を構成するＰＥＴなどの疎水
性ポリマー含有層表面を直接、プラズマ、もしくは電子
線にて処理し、表面にラジカルを発生させて重合開始能
を発現させ、その後、その活性表面と親水性官能基を有
するモノマーとを反応させることによりグラフトポリマ
ー表面層、即ち、親水性基を有する表面層を得ることが
できる。本発明の好ましい態様では前記のように、疎水
性ポリマー含有層に予め重合開始能を有する化合物を添
加することで、このような活性点の形成が低エネルギー
で容易に行うことができ、且つ、生成する活性点も多い
ため、簡易な方法により、より高い親水性を有する表面
を形成することができる。Usually, the surface of a layer containing a hydrophobic polymer such as PET which constitutes the substrate is directly treated with plasma or electron beam to generate radicals on the surface to exhibit a polymerization initiation ability, and thereafter, By reacting the active surface with a monomer having a hydrophilic functional group, a graft polymer surface layer, that is, a surface layer having a hydrophilic group can be obtained. In a preferred embodiment of the present invention, as described above, by adding a compound having a polymerization initiation ability to the hydrophobic polymer-containing layer in advance, formation of such active sites can be easily performed with low energy, and, Since many active points are generated, a surface having higher hydrophilicity can be formed by a simple method.
【００２１】光照射などによりグラフト重合を生じさせ
る方法自体は、公知の方法を適用することができる。光
グラフト重合法の具体的方法としては特開昭６３−９２
６５８号公報、特開平１０−２９６８９５号公報および
特開平１１−１１９４１３号公報に記載の方法を本発明
においても使用することができる。具体的には、基材上
に光開始剤と重合性化合物からなる重合成組成物をあら
かじめ下塗りしておき、その上に重合性化合物を接触さ
せ光照射する方法である。表面グラフトを作成する方法
のなかでも、エネルギー付与を光照射により行う光グラ
フト法をとることが好ましい。A known method can be applied to the method itself for causing graft polymerization by light irradiation or the like. As a specific method of the photograft polymerization method, there is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-92
The methods described in JP 658, JP 10-296895 and JP 11-119413 can also be used in the present invention. Specifically, it is a method in which a polysynthetic composition comprising a photoinitiator and a polymerizable compound is undercoated on a substrate in advance, and the polymerizable compound is brought into contact with the composition to perform light irradiation. Among the methods for forming a surface graft, it is preferable to use a photografting method in which energy is applied by irradiation with light.
【００２２】重合性の親水性ポリマー含有組成物に含ま
れる重合性基を含有する親水性ポリマーとは、重合性基
として、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリル基など
のエチレン付加重合性不飽和基を導入したラジカル重合
性基含有親水性ポリマーを指し、このポリマーは、少な
くとも末端に重合性基を有するものが好ましく、さら
に、末端及び側鎖に重合性基を有するものが好ましい。The hydrophilic group-containing hydrophilic polymer contained in the polymerizable hydrophilic polymer-containing composition means an ethylene addition polymerizable group such as a vinyl group, an allyl group or a (meth) acryl group as the polymerizable group. This refers to a radically polymerizable group-containing hydrophilic polymer having a saturated group introduced, and this polymer preferably has a polymerizable group at least at the terminal, and more preferably has a polymerizable group at the terminal and side chains.
【００２３】このようなエチレン付加重合性不飽和基を
導入したラジカル重合性基含有親水性ポリマーは以下の
ように合成できる。合成方法としては、親水性モノマー
とエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーを共重
合する方法、親水性モノマーと二重結合前駆体を有する
モノマーを共重合させ、次に塩基などの処理により二重
結合を導入する方法、親水性ポリマーの官能基とエチレ
ン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる
方法が挙げられる。特に好ましいのは、合成適性の観点
から、親水性ポリマーの官能基とエチレン付加重合性不
飽和基を有するモノマーとを反応させる方法である。The radical-polymerizable group-containing hydrophilic polymer having such an ethylene addition-polymerizable unsaturated group introduced therein can be synthesized as follows. As a synthesis method, a method of copolymerizing a hydrophilic monomer and a monomer having an ethylene addition-polymerizable unsaturated group, a method of copolymerizing a hydrophilic monomer and a monomer having a double bond precursor, and then treating with a base or the like Examples thereof include a method of introducing a heavy bond and a method of reacting a functional group of a hydrophilic polymer with a monomer having an ethylene addition-polymerizable unsaturated group. Particularly preferred is a method of reacting a functional group of a hydrophilic polymer with a monomer having an ethylene addition polymerizable unsaturated group from the viewpoint of synthesis suitability.
【００２４】上記ラジカル重合性基を主鎖末端、好まし
くはさらに側鎖に有する親水性ポリマーの合成に用いら
れる親水性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸もし
くはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、イタコン酸も
しくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ−モノメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−ジメチロール（メタ）アクリルアミド、アリルアミン
もしくはそのハロゲン化水素酸塩、３−ビニルプロピオ
ン酸もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、ビニ
ルスルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン
塩、２−スルホエチル（メタ）アクリレート、ポリオキ
シエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−
アクリルアミド−２−メチルプロバンスルホン酸、アシ
ッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基、スルホン
酸基、リン酸基、アミノ基もしくはそれらの塩、水酸
基、アミド基およびエーテル基などの親水性基を有する
モノマーが挙げられる。The hydrophilic monomer used in the synthesis of the hydrophilic polymer having the above radical polymerizable group at the main chain terminal, preferably at the side chain, is (meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid. Alternatively, alkali metal salts and amine salts thereof, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N
Dimethylol (meth) acrylamide, allylamine or its hydrohalide, 3-vinylpropionic acid or its alkali metal salt and amine salt, vinylsulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-sulfoethyl (meth) acrylate, Polyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-
Acrylamido-2-methylprobansulfonic acid, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate and other carboxyl groups, sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, amino groups or salts thereof, hydroxyl groups, amide groups and ether groups, etc. The monomer which has a hydrophilic group is mentioned.
【００２５】親水性ポリマーとしては、上記親水性モノ
マーから選ばれる少なくとも一種を用いて得られる親水
性ホモポリマーもしくはコポリマーが挙げられる。ま
た、親水性モノマ−と共重合するアリル基含有モノマー
としては、アリル（メタ）アクリレート、２−アリルオ
キシエチルメタクリレートが挙げられる。また、二重結
合前駆体を有するモノマーとしては２−（３−クロロ−
１−オキソプロポキシ）エチルメタクリレー卜が挙げら
れる。親水性ポリマー中のカルボキシル基、アミノ基も
しくはそれらの塩、水酸基およびエポキシ基などの官能
基との反応を利用して不飽和基を導入するために用いら
れる付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、
（メタ）アクリル酸、グリシジル（メタ）アクリレー
ト、アリルグリシジルユーテル、２−イソシアナトエチ
ル（メタ）アクリレートなどがある。Examples of the hydrophilic polymer include hydrophilic homopolymers and copolymers obtained by using at least one kind selected from the above-mentioned hydrophilic monomers. Examples of the allyl group-containing monomer copolymerizable with the hydrophilic monomer include allyl (meth) acrylate and 2-allyloxyethyl methacrylate. Further, as a monomer having a double bond precursor, 2- (3-chloro-
1-oxopropoxy) ethyl methacrylate. As a monomer having an addition-polymerizable unsaturated group used for introducing an unsaturated group by utilizing the reaction with a functional group such as a carboxyl group, an amino group or a salt thereof, a hydroxyl group and an epoxy group in a hydrophilic polymer Is
(Meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl eutel, 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate and the like.
【００２６】末端又は側鎖に重合性基を持つ親水性ポリ
マーとしては、親水性マクロモノマーが挙げられる。本
発明に用いられるマクロモノマーの製造方法は、例えば
平成１年９月２０日にアイピーシー出版局発行の「マク
ロモノマーの化学と工業」（編集者 山下雄也）の第２
章「マクロモノマーの合成」に各種の製法が提案されて
いる。本発明で用いられる親水性のマクロモノマーで特
に有用なものとしては、アクリル酸、メタクリル酸など
のカルホキシル基含有のモノマーから誘導されるマクロ
モノマー、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンス
ルホン酸、ビニルステレンスルホン酸、およびその塩の
モノマーから誘導されるスルホン酸系マクロモノマー、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ
−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルカルボン酸アミドモ
ノマーから誘導されるアミド系マクロモノマー、ヒドロ
キシエチルメタクリレー卜、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、グリセロールモノメタクリレートなどの水酸基含
有モノマーから誘導されるマクロモノマー、メトキシエ
チルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールア
クリレート、ポリエチレングリコールアクリレートなど
のアルコキシ基もしくはエチレンオキシド基含有モノマ
ーから誘導されるマクロモノマーである。またポリエチ
レングリコール鎖もしくはポリプロピレングリコール鎖
を有するモノマーも本発明のマクロモノマーとして有用
に使用することができる。Examples of the hydrophilic polymer having a polymerizable group at the terminal or side chain include hydrophilic macromonomers. The method for producing the macromonomer used in the present invention is described, for example, in "Macromonomer Chemistry and Industry" (editor Yuya Yamashita) No. 2 published on September 20, 1991, published by PC Publishing.
Various production methods have been proposed in the chapter "Synthesis of macromonomers". Among the hydrophilic macromonomers used in the present invention, particularly useful are macromonomers derived from monomers containing a carboxyl group such as acrylic acid and methacrylic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, and vinyl ester. Sulfonic acid-based macromonomers derived from monomers of rufonic acid and its salts,
(Meth) acrylamide, N-vinylacetamide, N
-Vinylformamide, amide-based macromonomer derived from N-vinylcarboxylic acid amide monomer, macromonomer derived from hydroxyl group-containing monomer such as hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, glycerol monomethacrylate, methoxyethyl acrylate, methoxy It is a macromonomer derived from an alkoxy group- or ethylene oxide group-containing monomer such as polyethylene glycol acrylate or polyethylene glycol acrylate. Also, a monomer having a polyethylene glycol chain or a polypropylene glycol chain can be usefully used as the macromonomer of the present invention.
【００２７】これらのマクロモノマーのうち有用な分子
量は２５０〜１０万の範囲で、特に好ましい範囲は４０
０〜３万である。また、上層の形成にあたって、上記重
合性基を有する親水性ポリマーに、さらに、親水性モノ
マーを添加しても良い。親水性モノマーを添加すること
により重合率を上げることができる。親水性モノマーの
添加量は０〜６０重量％が好ましい。６０重量％以上で
は塗布性が悪く均一に塗布できないので不適である。Among these macromonomers, the useful molecular weight is in the range of 250 to 100,000, and the particularly preferable range is 40.
It is 0 to 30,000. In forming the upper layer, a hydrophilic monomer may be further added to the hydrophilic polymer having a polymerizable group. The polymerization rate can be increased by adding a hydrophilic monomer. The addition amount of the hydrophilic monomer is preferably 0 to 60% by weight. When it is 60% by weight or more, the coating property is poor and uniform coating cannot be performed, which is not suitable.
【００２８】（親水性モノマー）末端及び／又は側鎖に
重合性基を有する親水性ポリマーと併用するのに有用
な、親水性モノマーとしては、アンモニウム、ホスホニ
ウムなどの正の荷電を有するモノマー、もしくは、スル
ホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基な
どの負の荷電を有するか負の荷電に解離しうる酸性基を
有するモノマーが挙げられるが、その他にも、例えば、
水酸基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシ基、
シアノ基などの非イオン性の基を有する親水性モノマー
を用いることもできる。本発明において、親水性ポリマ
ーとの併用に、特に有用な親水性モノマーの具体例とし
ては、次のモノマーを挙げることが出来る。(Hydrophilic Monomer) As the hydrophilic monomer useful in combination with a hydrophilic polymer having a polymerizable group at the terminal and / or side chain, a monomer having a positive charge such as ammonium or phosphonium, or , A sulfonic acid group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group and the like, a monomer having a negative charge or an acidic group capable of dissociating into a negative charge can be mentioned.
Hydroxyl group, amide group, sulfonamide group, alkoxy group,
A hydrophilic monomer having a nonionic group such as a cyano group can also be used. In the present invention, the following monomers can be mentioned as specific examples of hydrophilic monomers that are particularly useful in combination with the hydrophilic polymer.
【００２９】例えば、（メタ）アクリル酸もしくはその
アルカリ金属塩およびアミン塩、イタコン酸もしくはそ
のアルカリ金属塩およびアミン酸塩、アリルアミンもし
くはそのハロゲン化水素酸塩、３−ビニルプロピオン酸
もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、ビニルス
ルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、
ビニルスチレンスルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩
およびアミン塩、２−スルホエチレン（メタ）アクリレ
ート、３―スルホプロピレン（メタ）アクリレー卜もし
くはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、２−アクリル
アミド−２−メチルプロバンスルホン酸もしくはそのア
ルカリ金属塩およびアミン塩、アシッドホスホオキシポ
リオキンエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩等
の、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基
もしくはそれらの塩、２−トリメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレートもしくはそのハロゲン化水素酸塩等
の、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基
もしくはそれらの塩、などを使用することができる。ま
た２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−モノメチロール（メタ）アク
リルアミド、Ｎ―ジメチロール（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルアセトアミド、
アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩、ポリオ
キシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ
−メタクリロイルオキシエナルカルバミン酸アスパラギ
ン酸の如き分子中にアミノ酸骨格を有するモノマー、グ
リコキシエチルメタクリレートの如き分子中に糖骨格を
有するモノマーなども有用である。For example, (meth) acrylic acid or its alkali metal salt and amine salt, itaconic acid or its alkali metal salt and amine salt, allylamine or its hydrohalide salt, 3-vinylpropionic acid or its alkali metal salt. And amine salts, vinyl sulfonic acid or its alkali metal salts and amine salts,
Vinyl styrene sulfonic acid or its alkali metal salt and amine salt, 2-sulfoethylene (meth) acrylate, 3-sulfopropylene (meth) acrylate or its alkali metal salt and amine salt, 2-acrylamido-2-methylprobansulfonic acid Alternatively, an alkali metal salt and an amine salt thereof, acid phosphooxypolyokine ethylene glycol mono (meth) acrylate, allylamine or a hydrohalide thereof, a carboxyl group, a sulfonic acid group, phosphoric acid, an amino group or a salt thereof, A carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid, an amino group or a salt thereof such as 2-trimethylaminoethyl (meth) acrylate or a hydrohalide thereof can be used. In addition, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, N-dimethylol (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide,
Allylamine or its hydrohalide, polyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, N
-Methacryloyloxyenalcarbamic acid A monomer such as aspartic acid having an amino acid skeleton in the molecule and a monomer such as glycooxyethyl methacrylate having a sugar skeleton in the molecule are also useful.
【００３０】このような親水性ポリマーを含有する組成
物に使用する溶剤は、主成分である前記親水性マクロモ
ノマーや親水性モノマーなどが溶解可能ならば特に制限
はないが、水、水溶性溶剤などの水性溶剤が好ましく、
これらの混合物や、溶剤にさらに界面活性剤を添加した
ものなどが好ましい。水溶性溶剤は、水と任意の割合で
混和しうる溶剤を言い、そのような水溶性溶剤として
は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、
エチレングリコール、グリセリンの如きアルコール系溶
剤、酢酸の如き酸、アセトンの如きケトン系溶剤、ホル
ムアミドの如きアミド系溶剤、などが挙げられる。The solvent used in the composition containing such a hydrophilic polymer is not particularly limited as long as the above-mentioned hydrophilic macromonomer or hydrophilic monomer as the main component can be dissolved, but water or a water-soluble solvent is used. An aqueous solvent such as
A mixture of these and a solvent to which a surfactant is further added are preferable. Water-soluble solvent refers to a solvent that is miscible with water in any proportion, such water-soluble solvent, for example, methanol, ethanol, propanol,
Examples thereof include alcohol solvents such as ethylene glycol and glycerin, acids such as acetic acid, ketone solvents such as acetone, and amide solvents such as formamide.
【００３１】必要に応じて溶剤に添加することのできる
界面活性剤は、溶剤に溶解するものであればよく、その
ような界面活性剤としては、例えば、ｎ−ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムの如きアニオン性界面活性剤
や、ｎ−ドデシルトリメチルアンモニウムクロライドの
如きカチオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンノニル
フェノールエーテル（市販品としては、例えば、エマル
ゲン９１０、花王（株）製など）、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノラウレート（市販品としては、例えば、
商品名「ツイーン２０」など）、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテルの如き非イオン性界面活性剤等が挙げら
れる。組成物を液状のまま接触させる場合には、任意に
行うことができるが、塗布法により親水性ポリマー組成
物塗布層を形成する場合の塗布量は固形分換算で０．１
〜１．０ｇ／ｍ2が好ましく、特に１〜５ｇ／ｍ2が好ま
しい。０．ｌｇ／ｍ2未満では十分な表面親水性を得る
ことができず、また１０ｇ／ｍ2を超えると均一な塗布
膜が得にくいため、いずれも好ましくない。The surfactant which can be added to the solvent as required may be one which is soluble in the solvent, and examples of such a surfactant include anions such as sodium n-dodecylbenzenesulfonate. -Based surfactants, cationic surfactants such as n-dodecyltrimethylammonium chloride, polyoxyethylene nonylphenol ethers (commercially available products include, for example, Emulgen 910, manufactured by Kao Corporation), polyoxyethylene sorbitan monolaurate. Rate (for commercial products, for example,
Trade name "Tween 20"), non-ionic surfactants such as polyoxyethylene lauryl ether, and the like. When the composition is brought into contact in a liquid state, it can be optionally performed, but the coating amount in the case of forming the hydrophilic polymer composition coating layer by the coating method is 0.1 in terms of solid content.
Preferably to 1.0 g / m 2, especially 1 to 5 g / m 2 is preferred. 0. If it is less than 1 g / m 2 , sufficient surface hydrophilicity cannot be obtained, and if it exceeds 10 g / m 2 , it is difficult to obtain a uniform coating film.
【００３２】（エネルギー付与）本発明のパターン形成
材料によりパターン形成を行う場合のエネルギー付与方
法には特に制限はなく、疎水性ポリマー含有層表面に活
性点を生じさせ、重合性基を有する親水性ポリマーとの
結合し得るエネルギーを付与できる方法であれば、いず
れも使用できるが、コスト、装置の簡易性の観点からは
活性光線を照射する方法が好ましい。画像様の露光に活
性光線の照射を適用する場合、デジタルデータに基づく
走査露光、リスフィルムを用いたパターン露光のいずれ
も使用することができる。画像形成に用いる方法として
は、加熱、露光等の輻射線照射により書き込みを行う方
法が挙げられる。例えば、赤外線レーザ、紫外線ラン
プ、可視光線などによる光照射、γ線などの電子線照
射、サーマルヘッドによる熱的な記録などが可能であ
る。これらの光源としては、例えば、水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カー
ボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、Ｘ
線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またｇ線、ｉ
線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レー
ザービーム）も使用される。一般的に用いられる具体的
な態様としては、熱記録ヘッド等による直接画像様記
録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯など
の高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが好適
に挙げられる。コンピュータのデジタルデータによるダ
イレクト画像形成を行うためには、レーザ露光により極
性変換を生起させる方法が好ましい。レーザとしては、
炭酸ガスレーザ、窒素レーザ、Ａｒレーザ、Ｈｅ／Ｎｅ
レーザ、Ｈｅ／Ｃｄレーザ、Ｋｒレーザ等の気体レー
ザ、液体（色素）レーザ、ルビーレーザ、Ｎｄ／ＹＡＧ
レーザ等の固体レーザ、ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ、Ｉｎ
ＧａＡｓレーザ等の半導体レーザ、ＫｒＦレーザ、Ｘｅ
Ｃｌレーザ、ＸｅＦレーザ、Ａｒ2等のエキシマレーザ
等を使用することができる。なかでも、波長７００〜１
２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレ
ーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適であ
る。(Energy application) There is no particular limitation on the energy application method for forming a pattern with the pattern forming material of the present invention, and an active site is generated on the surface of the hydrophobic polymer-containing layer to give a hydrophilic group having a polymerizable group. Any method can be used as long as it can impart energy capable of binding to the polymer, but the method of irradiating with actinic rays is preferable from the viewpoint of cost and simplicity of the apparatus. When irradiation with actinic rays is applied to imagewise exposure, either scanning exposure based on digital data or pattern exposure using a lith film can be used. Examples of the method used for image formation include a method of writing by irradiation with radiation such as heating and exposure. For example, light irradiation with an infrared laser, an ultraviolet lamp, visible light, etc., electron beam irradiation with γ-rays, thermal recording with a thermal head, etc. are possible. Examples of these light sources include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps and carbon arc lamps. Radiation is electron beam, X
Rays, ion beams, far infrared rays, etc. Also g line, i
Lines, Deep-UV light, high-density energy beams (laser beams) are also used. Specific examples that are generally used include direct imagewise recording with a thermal recording head or the like, scanning exposure with an infrared laser, high-intensity flash exposure with a xenon discharge lamp or infrared lamp exposure. In order to form a direct image with digital data of a computer, a method of causing polarity conversion by laser exposure is preferable. As a laser,
Carbon dioxide laser, nitrogen laser, Ar laser, He / Ne
Laser, gas laser such as He / Cd laser, Kr laser, liquid (dye) laser, ruby laser, Nd / YAG
Solid-state lasers such as lasers, GaAs / GaAlAs, In
Semiconductor laser such as GaAs laser, KrF laser, Xe
A Cl laser, a XeF laser, an excimer laser such as Ar 2 or the like can be used. Above all, the wavelength is 700-1
Exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits infrared rays of 200 nm is suitable.
【００３３】このようにエネルギー付与を行うことで疎
水性ポリマー含有層に発生した活性点と、重合性基を有
する親水性ポリマーとが重合して、運動性の高い親水性
グラフト鎖を有する表面が形成される。また、好ましい
態様として、側鎖に重合性基を有する親水性ポリマーを
添加することで、疎水性ポリマー含有層と結合したグラ
フト鎖の側鎖の重合性基にさらに、親水性グラフト鎖が
結合することで、枝分かれを有するグラフト鎖構造が形
成され、運動性が高い親水性グラフトの形成密度、運動
性ともに飛躍的に向上するため、さらなる高い親水性が
発現するものである。By applying energy in this way, the active sites generated in the hydrophobic polymer-containing layer are polymerized with the hydrophilic polymer having a polymerizable group, so that the surface having the hydrophilic graft chain with high mobility is formed. It is formed. Further, in a preferred embodiment, by adding a hydrophilic polymer having a polymerizable group in the side chain, the hydrophilic graft chain is further bonded to the side chain polymerizable group of the graft chain bonded to the hydrophobic polymer-containing layer. As a result, a graft chain structure having a branch is formed, and the formation density and mobility of the hydrophilic graft having high mobility are dramatically improved, so that higher hydrophilicity is exhibited.
【００３４】このように、エネルギー付与領域には、親
水性グラフトによる親水性パターンが形成され、エネル
ギーを付与されない領域では、疎水性ポリマー含有層表
面が疎水性領域となる。この親／疎水性パターンに可視
画像形成可能な有機又は無機分子を付着させることで可
視画像が形成される。ここで、親／疎水性パターンに吸
着させる有機又は無機分子は、可視画像を形成しうる物
質であれば、低分子化合物であっても高分子化合物であ
ってもよい。なお、可視像を形成可能であるとは、可視
波長領域に吸収を有する物質を指し、具体的には、例え
ば、有色の染料或いは顔料、光非透過性の各種顔料、金
属微粒子などが挙げられる。As described above, a hydrophilic pattern is formed by the hydrophilic graft in the energy application region, and the surface of the hydrophobic polymer-containing layer becomes the hydrophobic region in the region where the energy is not applied. A visible image is formed by attaching a visible imageable organic or inorganic molecule to the hydrophilic / hydrophobic pattern. Here, the organic or inorganic molecule to be adsorbed on the hydrophilic / hydrophobic pattern may be a low molecular compound or a high molecular compound as long as it is a substance capable of forming a visible image. The term "capable of forming a visible image" refers to a substance having absorption in the visible wavelength region, and specific examples thereof include colored dyes or pigments, various light-impermeable pigments, and metal fine particles. To be
【００３５】（表面グラフト重合の極性基と有機又は無
機分子との関係）具体的には、親水性ポリマーの親水性
基がスルホン酸塩やカルボン酸塩などの負の電荷を有す
る場合、正の電荷を有する分子、例えば、カチオン染料
などを吸着させることで可視画像を形成することができ
る。(Relationship between Polar Group of Surface Graft Polymerization and Organic or Inorganic Molecule) Specifically, when the hydrophilic group of the hydrophilic polymer has a negative charge such as sulfonate or carboxylate, it is positive. A visible image can be formed by adsorbing a charged molecule such as a cationic dye.
【００３６】このような画像形成に用い得るカチオン性
の有機または無機分子としては、カチオン染料やカチオ
ン性に帯電させた無機顔料、金属微粒子及び表面にカチ
オン性の表面層を形成してなる被覆顔料、被覆金属微粒
子などが挙げられる。ここで、用い得るカチオン染料と
しては、公知の染料を色調や画像濃度などの目的に応じ
て適宜選択して使用することができる。このようなカチ
オン染料は前記極性変換基である酸性基（スルホン酸
基、カルボン酸基など）の機能により電気的に画像記録
層表面に引き寄せられ、表面のみならず内部へも浸透し
て最終的に酸性基と結合して画像が形成されるものと考
えられる。この画像はイオン性の相互作用によるため、
強固に吸着し、少ない染料で堅牢度の高い高濃度の画像
が形成される。Examples of the cationic organic or inorganic molecule that can be used for such image formation include a cationic dye, a cationically charged inorganic pigment, metal fine particles and a coated pigment formed by forming a cationic surface layer on the surface. , Coated metal fine particles and the like. Here, as the cationic dye that can be used, a known dye can be appropriately selected and used according to the purpose such as color tone and image density. Such a cationic dye is electrically attracted to the surface of the image recording layer due to the function of the acidic group (sulfonic acid group, carboxylic acid group, etc.) as the polarity conversion group, and penetrates not only to the surface but also to the inside to finally It is considered that an image is formed by bonding with an acidic group on. Because this image is due to ionic interactions,
Strongly adsorbs and forms a high-density image with high fastness with less dye.
【００３７】カチオン染料としては、発色団の末端にア
ルキルアミノ、アラルキルアミノ結合を有する染料、ス
ルホン酸アルキルアミド結合などの酸アミド結合を有す
る染料、カチオンを形成し得る基を有するアゾ染料、メ
チン染料、チアゾール・アゾ染料などの複素環化合物な
どが挙げられる。カチオン染料の骨格としては、トリフ
ェニルメタン、ジフェニルメタン、キサンテン、アクリ
ジン、アジン、チアジン、チアゾール、オキサジン、ア
ゾなどが挙げられ、このような染料は例えば、「新染料
化学」細田 豊著、技報堂、（１９５７年）の第３１６
頁〜３２２頁に詳述されている。As the cationic dye, a dye having an alkylamino or aralkylamino bond at the end of the chromophore, a dye having an acid amide bond such as a sulfonic acid alkylamide bond, an azo dye having a group capable of forming a cation, or a methine dye. And heterocyclic compounds such as thiazole and azo dyes. Examples of the skeleton of the cationic dye include triphenylmethane, diphenylmethane, xanthene, acridine, azine, thiazine, thiazole, oxazine, azo, and the like. Examples of such a dye include “New Dye Chemistry”, Yutaka Hosoda, Gihodo, ( 316 of 1957)
See pages 322 to 322.
【００３８】他の画像形成機構として、例えば、親水性
ポリマーの親水性基がアンモニウム基などのカチオン性
の電荷をもつ場合、負の電荷をもつ分子、例えば、酸性
染料などを吸着して可視画像が形成される。As another image forming mechanism, for example, when the hydrophilic group of the hydrophilic polymer has a cationic charge such as an ammonium group, a molecule having a negative charge, for example, an acid dye is adsorbed to form a visible image. Is formed.
【００３９】このような画像形成に用い得るアニオン性
の有機または無機分子としては、酸性染料やアニオン性
に帯電させた無機顔料、金属微粒子及び表面にアニオン
性の表面層を形成してなる被覆顔料、被覆金属微粒子な
どが挙げられる。ここで、用い得る酸性染料としては、
公知の染料を色調や画像濃度などの目的に応じて適宜選
択して使用することができる。このような酸性染料とし
ては、アゾ系、アントラキノン系、トリフェニルメタン
系、キサンテン系、アジン、キノリンなどの染料が挙げ
られ、これらのいずれでも任意に用いることができる。
具体的には、例えば、C.I.Acid Yellow １、C.I.Acid O
range 33、C.I.Acid Red 80、C.I.Acid Violet ７、C.
I.Acid Blue 93などが挙げられ、このような染料は例え
ば、「染料便覧」有機合成化学協会編、丸善、（１９７
０年）の第３９２頁〜４７１頁に詳述されている。Examples of the anionic organic or inorganic molecule which can be used for such image formation include acidic dyes, anionically charged inorganic pigments, metal fine particles and coated pigments having an anionic surface layer formed on the surface thereof. , Coated metal fine particles and the like. Here, as the acid dye that can be used,
Known dyes can be appropriately selected and used according to purposes such as color tone and image density. Examples of such an acid dye include dyes such as azo, anthraquinone, triphenylmethane, xanthene, azine, and quinoline, and any of these can be used.
Specifically, for example, CIAcid Yellow 1, CIAcid O
range 33, CIAcid Red 80, CIAcid Violet 7, C.
I. Acid Blue 93, etc., and such dyes are described, for example, in "Handbook of Dyes" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, Maruzen, (197).
(Year 0), pages 392-471.
【００４０】可視画像の形成に用いられる前記有機又は
無機分子は１種のみならず、必要に応じて複数種を併用
することができる。また、所望の色調を得るため、予め
複数の材料を混合して用いることもできる。有機又は無
機分子を親／疎水性領域に吸着させる方法としては、有
機又は無機分子を溶解又は分散させた液を露光などによ
り像様にパターン形成されたパターン形成材料表面に塗
布する方法、及び、これらの溶液又は分散液中に像様に
パターン形成されたパターン形成材料を浸漬する方法な
どが挙げられる。塗布、浸漬のいずれの場合にも、過剰
量の有機又は無機分子を供給し、所望の親／疎水性パタ
ーン領域との間に十分な付着がなされるために、溶液又
は分散液とパターン形成材料表面との接触時間は、１０
秒から６０分程度であることが好ましく、１分から２０
分程度であることがさらに好ましい。有機又は無機分子
は、パターン形成領域に吸着し得る最大量結合されるこ
とが、画像の鮮鋭度、色調及び耐久性の点で好ましい。
また、吸着の効率からは、溶液、分散液の濃度は、少な
くとも１０〜２０重量％程度が好ましい。The organic or inorganic molecule used for forming a visible image is not limited to one type, but a plurality of types may be used in combination if necessary. Further, in order to obtain a desired color tone, a plurality of materials may be mixed and used in advance. As a method of adsorbing an organic or inorganic molecule to a hydrophilic / hydrophobic region, a method of applying a liquid in which an organic or inorganic molecule is dissolved or dispersed onto a pattern forming material surface which is imagewise patterned by exposure or the like, and Examples include a method of immersing an imagewise pattern forming material in these solutions or dispersions. In either case of coating or dipping, an excessive amount of organic or inorganic molecule is supplied, and sufficient adhesion is made between a desired hydrophilic / hydrophobic pattern region. Contact time with surface is 10
Seconds to 60 minutes are preferable, and 1 minute to 20 minutes
It is even more preferable that it is about a minute. It is preferable that the organic or inorganic molecule is bonded in the maximum amount capable of being adsorbed to the pattern formation region in terms of image sharpness, color tone and durability.
From the viewpoint of adsorption efficiency, the concentration of the solution or dispersion is preferably at least about 10 to 20% by weight.
【００４１】これら有機又は無機分子の使用量は、画像
形成機構やその目的に応じて適宜選択することができる
が、イオン性の吸着により導入される場合には、一般的
な画像形成材料に用いる発色材料、有色材料の使用量に
比較して、少量で、高濃度、高鮮鋭度の画像を形成する
ことができる。また、疎水性ポリマー含有層が支持体を
兼ねる樹脂フィルムを用いて、無機顔料や金属顔料など
の光非透過性の材料を吸着させた場合、或いは、光透過
性の有色染料を吸着させた場合には、ＯＨＰや街頭にお
ける電飾のごとき光透過性のパターン形成材料、ディス
プレイ材料をも容易に得ることができる。The amount of these organic or inorganic molecules to be used can be appropriately selected depending on the image forming mechanism and its purpose, but when they are introduced by ionic adsorption, they are used for general image forming materials. It is possible to form an image of high density and high sharpness with a small amount as compared with the amounts of the coloring material and the colored material used. Further, when a non-light-transmitting material such as an inorganic pigment or a metal pigment is adsorbed by using a resin film whose hydrophobic polymer-containing layer also serves as a support, or when a light-transmitting colored dye is adsorbed. In addition, it is possible to easily obtain a light-transmissive pattern forming material such as OHP or street lighting and a display material.
【００４２】また、他の画像形成機構として、疎水性領
域に、例えば、油性インクの如き疎水性の材料を付着さ
せる方法が挙げられる。このような画像形成機構を用い
る場合には、未露光部の疎水性領域表面のみに有機又は
無機分子が吸着するため、単色の画像形成に適する画像
形成方法となる。As another image forming mechanism, there is a method of attaching a hydrophobic material such as oil-based ink to the hydrophobic area. When such an image forming mechanism is used, an organic or inorganic molecule is adsorbed only on the surface of the hydrophobic region of the unexposed portion, so that the image forming method is suitable for monochromatic image formation.
【００４３】（平版印刷版原版への応用）この画像形成
方法を用いれば、本発明のパターン形成材料を平版印刷
版原版として用いることもできる。すなわち、パターン
形成後に湿し水と油性インクとを供給することで、湿し
水は形成された親水性パターン領域に吸着して非画像部
を形成し、疎水性ポリマー含有層表面は疎水性の油性イ
ンク受容領域となり、画像部を形成する。親水性パター
ン領域は親水性グラフト構造による高い親水性が発現す
るため、非画像部に汚れの生じない、優れた画質の画像
を形成することができる。本発明のパターン形成材料と
して、疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親
水性ポリマーを含有する組成物からなる上層を積層して
なる構成をとる場合においても、上層はインクと湿し水
を供給して印刷を開始するとその初期の段階で容易に除
去されて疎水性ポリマー含有層表面が露出するため、機
上現像可能な平版印刷版原版としても好適に使用し得
る。(Application to planographic printing plate precursor) By using this image forming method, the pattern forming material of the present invention can be used as a planographic printing plate precursor. That is, by supplying the dampening water and the oil-based ink after the pattern formation, the dampening water is adsorbed to the formed hydrophilic pattern area to form a non-image portion, and the hydrophobic polymer-containing layer surface has a hydrophobic surface. It becomes an oil-based ink receiving area and forms an image area. Since the hydrophilic pattern region exhibits high hydrophilicity due to the hydrophilic graft structure, it is possible to form an image with excellent image quality in which the non-image area is not stained. Even when the pattern forming material of the present invention has a constitution in which an upper layer made of a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group is laminated on a hydrophobic polymer-containing layer, the upper layer is wet with ink. When water is supplied to start printing, it is easily removed at the initial stage and the surface of the hydrophobic polymer-containing layer is exposed, so that it can be suitably used as an on-press developable lithographic printing plate precursor.
【００４４】（支持体基板）本発明のパターン形成材料
では、前記したように、支持体基板としてプラスチック
フィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）を用
いることにより、疎水性ポリマー含有層が支持体を兼ね
ることもできるが、所望の他の支持体上に前記のような
疎水性ポリマー含有層を形成することもできる。本発明
に適用可能な支持体（基板）としては、寸度的に安定な
板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチッ
ク（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アル
ミニウム、亜鉛、銅等）、上記の如き金属がラミネート
若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等
が含まれる。本発明に使用される支持体としては、ポリ
エステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その
中でも、前記疎水性ポリマー含有層を兼ねることができ
るポリエステルフィルムが特に好ましい。また、平版印
刷版原版に用いる場合には、寸度安定性の観点からアル
ミニウム板が好適に用いられる。(Support Substrate) In the pattern forming material of the present invention, as described above, as the support substrate, a plastic film (for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, nitric acid) is used. By using cellulose, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), the hydrophobic polymer-containing layer can also serve as a support, but on the other desired support, the above-mentioned hydrophobic A polymer-containing layer can also be formed. The support (substrate) applicable to the present invention is preferably a dimensionally stable plate-like material, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), A metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), a paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals, and the like are included. The support used in the present invention is preferably a polyester film or an aluminum plate, and among them, a polyester film that can also serve as the hydrophobic polymer-containing layer is particularly preferable. When used for a lithographic printing plate precursor, an aluminum plate is preferably used from the viewpoint of dimensional stability.
【００４５】本発明のパターン形成材料によれば、任意
の基材表面に比較的簡易な処理で、鮮鋭な画像を形成す
ることが可能であり、さらには、形成された画像の耐久
性が良好であるため、多用な目的に好適に使用しうると
いう利点を有する。また、本発明の画像形成方法によれ
ば、種々のパターン形成、あるいは、ディスプレイ形成
が容易に得られ、広い用途が期待される。According to the pattern-forming material of the present invention, it is possible to form a sharp image on the surface of an arbitrary substrate by a relatively simple treatment, and further, the durability of the formed image is good. Therefore, it has an advantage that it can be suitably used for various purposes. Further, according to the image forming method of the present invention, various pattern formations or display formations can be easily obtained, and wide application is expected.
【００４６】[0046]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれに制限されるものではない。
（重合性基を持つ親水性ポリマーの合成）ポリアクリル
酸（平均分子量２５，０００）１８ｇ、をＤＭＡＣ３０
０ｇに溶解し、ハイドロキノン０．４１ｇ、２−メタク
リロイルオキシエチルイソシアネート１９．４ｇ、とジ
ブチルチンジラウレート０．２５ｇを添加し、６５℃、
４時間反応させた。得られたポリマーの酸価は７．０２
ｍｅｑ／ｇであった。１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でカ
ルボキシル基を中和し、酢酸エチルに加えポリマーを沈
殿させ、よく洗浄し、側鎖に重合性基を持つ親水性ポリ
マー１８．４ｇ（Ｐ−１）を得た。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. (Synthesis of Hydrophilic Polymer Having Polymerizable Group) Polyacrylic acid (average molecular weight 25,000) 18 g, DMAC30
Dissolve in 0 g, hydroquinone 0.41 g, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate 19.4 g, and dibutyltin dilaurate 0.25 g are added, and 65 ° C.
The reaction was carried out for 4 hours. The acid value of the obtained polymer is 7.02.
It was meq / g. The carboxyl group was neutralized with a 1N sodium hydroxide aqueous solution, and the polymer was precipitated by adding it to ethyl acetate and washed well to obtain 18.4 g (P-1) of a hydrophilic polymer having a polymerizable group on its side chain.
【００４７】〔実施例１〕
（表面に重合開始能を有する基材の作製）支持体基板と
して、膜厚０．１８８ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡
（株）Ｍ４１００）を用い、その表面に下記の重合性下
層塗布液（光重合性組成物）をロッドバー１７番を用い
て塗布し、８０℃で２分間乾燥させた。次に、この塗布
されたフィルムを４００Ｗ高圧水銀灯（ＵＶＬ−４００
Ｐ，理工科学産業（株）製）を使用し、１０分間照射し
て硬膜させ、重合性下塗り層を形成した。Example 1 (Preparation of Base Material Having Polymerization Initiation Ability on Surface) As a support substrate, a PET film having a thickness of 0.188 mm (Toyobo Co., Ltd. M4100) was used, and the following polymerization was performed on the surface thereof. The lower coating solution (photopolymerizable composition) was applied using Rod Bar No. 17 and dried at 80 ° C. for 2 minutes. Next, this coated film is treated with a 400 W high pressure mercury lamp (UVL-400
P, manufactured by Riko Kagaku Sangyo Co., Ltd., was used to irradiate for 10 minutes to harden the film to form a polymerizable undercoat layer.
【００４８】 （重合性下塗り層塗布液） ・アリルメタクリレート／メタクリル酸重合体 （モル比率８０／２０、分子量１０万） ４ｇ ・エチレンオキシド変性ビスフェノールＡ ジアクリレート（東亜合成（株）Ｍ２１０） ４ｇ ・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン １．６ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １６ｇ[0048] (Polymerizable undercoat layer coating liquid) ・ Allyl methacrylate / methacrylic acid polymer (Molar ratio 80/20, molecular weight 100,000) 4g ・ Ethylene oxide modified bisphenol A Diacrylate (Toagosei M210) 4g ・ 1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1.6 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 16 g
【００４９】（親水性ポリマー含有層の形成）上記重合
開始能を有する支持体上に、以下の親水性ポリマー含有
層塗布液１をロッドバー６番を用いて塗布し、８０℃で
２分乾燥後し、パターン形成材料を得た。前記塗布液組
成物１の塗布面状は均一であった。(Formation of Hydrophilic Polymer-Containing Layer) The following coating solution 1 for a hydrophilic polymer-containing layer was applied onto a support having the above-mentioned polymerization initiation ability by using a rod bar No. 6 and dried at 80 ° C. for 2 minutes. Then, a pattern forming material was obtained. The coating surface state of the coating liquid composition 1 was uniform.
【００５０】 （親水性ポリマー含有層塗布液１） ・側鎖に重合性基を有する親水性ポリマー（Ｐ−１） ２ｇ ・水 １８ｇ[0050] (Hydrophilic polymer-containing layer coating solution 1) 2 g of hydrophilic polymer (P-1) having a polymerizable group on its side chain ・ Water 18g
【００５１】（画像形成）このようにして得られたパタ
ーン形成材料１の表面に、以下のようにエネルギーを付
与し、画像様の親水性パターンを形成した。エネルギー
付与は、前記パターン形成材料に画像フィルムをかぶ
せ、アルゴン雰囲気下で４００Ｗ高圧水銀灯（ＵＶＬ−
４００Ｐ，理工科学産業（株）製）を使用し、８０分間
光照射することにより実施した。光照射後、得られたフ
ィルムをイオン交換水でよく洗浄することにより画像フ
ィルムに従った親水性パターンが形成された。次に、こ
のパターン形成材料をメチレンブルー（和光純薬製）
０．１重量％の水溶液に１０分浸漬した後、蒸留水で洗
浄したところ、露光部に選択的にメチレンブルーが付着
して、青色の鮮明な画像が得られた。(Image formation) Energy was applied to the surface of the pattern forming material 1 thus obtained in the following manner to form an image-like hydrophilic pattern. The energy is applied by covering the pattern forming material with an image film and applying a 400 W high pressure mercury lamp (UVL-
400P, manufactured by Riko Kagaku Sangyo Co., Ltd. was used and light irradiation was performed for 80 minutes. After irradiation with light, the resulting film was thoroughly washed with ion-exchanged water to form a hydrophilic pattern according to the image film. Next, this pattern forming material was changed to methylene blue (manufactured by Wako Pure Chemical Industries).
After immersion in a 0.1% by weight aqueous solution for 10 minutes and washing with distilled water, methylene blue selectively adhered to the exposed areas, and a clear blue image was obtained.
【００５２】〔実施例２〕
（末端重合性基を持つアミドマクロモノマーの合成）ア
クリルアミド３０ｇ、３−メルカプトプロピオン酸３．
８ｇをエタノール７０ｇに溶解後、窒素雰囲気下６０℃
に昇温し、ＡＩＢＮ（２，２−アゾビスイソブチルニト
リル）３００ｍｇを加えて６時間反応した。反応後白色
沈殿を濾過しメタノールで十分洗浄し末端カルボン酸プ
レポリマーを３０．８ｇ得た（酸価０．７８７ｍｅｑ／
ｇ分子量１．２９×１０3）。前記プレポリマー２０ｇ
をジメチルスルホキシド６２ｇに溶解し、グリシジルメ
タクリレート６．７１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルア
ミン（触媒）５０４ｍｇ、ハイドロキノン（重合禁止
剤）６２．４ｍｇを加え、窒素雰囲気下１４０℃で７時
間反応した。反応溶液をアセトンに加え、ポリマーを沈
殿させ、よく洗浄して末端メタクリレートマクロモノマ
ーを２３．４ｇ（分子量１．４３×１０3）得た（Ｐ‐
２）。Example 2 (Synthesis of amide macromonomer having terminal polymerizable group) 30 g of acrylamide, 3-mercaptopropionic acid
After dissolving 8 g in 70 g of ethanol, 60 ° C under nitrogen atmosphere
The temperature was raised to 300 mg, AIBN (2,2-azobisisobutylnitrile) 300 mg was added, and the reaction was carried out for 6 hours. After the reaction, the white precipitate was filtered and sufficiently washed with methanol to obtain 30.8 g of a terminal carboxylic acid prepolymer (acid value 0.787 meq /
g molecular weight 1.29 × 10 3 ). 20 g of the prepolymer
Was dissolved in 62 g of dimethylsulfoxide, 6.71 g of glycidyl methacrylate, 504 mg of N, N-dimethyldodecylamine (catalyst) and 62.4 mg of hydroquinone (polymerization inhibitor) were added, and the mixture was reacted at 140 ° C. for 7 hours in a nitrogen atmosphere. The reaction solution was added to acetone to precipitate the polymer, which was thoroughly washed to obtain 23.4 g (molecular weight 1.43 × 10 3 ) of a terminal methacrylate macromonomer (P-
2).
【００５３】実施例１において用いた親水性ポリマー含
有層塗布液１を下記親水性ポリマー含有層塗布液２に代
えた以外は実施例１と同様にしてパターン形成材料２を
得た。製造過程における親水性ポリマー含有層塗布液２
の塗布面状は均一であった。
（親水性ポリマー含有層塗布液２）
・アクリルアミドマクロモノマー（Ｐ‐２） ２ｇ
・水 １８ｇA pattern forming material 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hydrophilic polymer-containing layer coating solution 1 used in Example 1 was replaced with the hydrophilic polymer-containing layer coating solution 2 described below. Hydrophilic polymer-containing layer coating liquid 2 in the manufacturing process
The coated surface state of was uniform. (Hydrophilic polymer-containing layer coating liquid 2) -Acrylamide macromonomer (P-2) 2g-Water 18g
【００５４】（平版印刷版原版への応用）このようにし
て得られたパターン形成材料２の表面を実施例１と同様
にしてエネルギーを付与し、画像様の親水性パターンを
形成した。次に、このパターン形成材料２をリスロン印
刷機に装着し、湿し水としてＩＦ２０１（２．５％）、
ＩＦ２０２（０．７５％）〔富士写真フイルム（株）
製〕、インクとしてＧＥＯＳ−Ｇ墨〔大日本インキ化学
工業（株）製〕を供給して、通常通り印刷を行った。得
られた印刷物の画像部が良好に形成されているかどう
か、および非画像部に汚れが生じていないかを観察した
ところ、画像部のヌケや非画像部の汚れのない良好な画
質の印刷物が得られた。その後、１万枚の印刷を継続し
たが、１万枚の印刷が終了した時点でも、画像部のかす
れや非画像部の汚れの発生もなく、良好な印刷物が得ら
れ、本発明のパターン形成材料を平版印刷版原版として
用いた場合、印刷物の画質、耐刷性ともに良好であるこ
とがわかった。(Application to lithographic printing plate precursor) Energy was applied to the surface of the pattern forming material 2 thus obtained in the same manner as in Example 1 to form an image-like hydrophilic pattern. Next, this pattern forming material 2 was mounted on a Lithrone printing machine, and IF201 (2.5%) was used as fountain solution.
IF202 (0.75%) [Fuji Photo Film Co., Ltd.
), And GEOS-G black ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was supplied as ink, and printing was performed as usual. Observing whether or not the image area of the obtained printed matter is well formed and whether the non-image area is stained, it is confirmed that the printed matter of good image quality without missing of the image area and stain of the non-image area is obtained. Was obtained. After that, the printing of 10,000 sheets was continued, but even when the printing of 10,000 sheets was completed, a good printed matter was obtained without generation of blurring of the image area and stain of the non-image area, and the pattern formation of the present invention. It was found that when the material was used as a lithographic printing plate precursor, the image quality and printing durability of the printed matter were good.
【００５５】〔実施例３〕実施例１において得られたパ
ターン形成材料１の表面にエネルギーを付与し、画像様
の親水性パターンを形成したものを、実施例２と同様に
して平版印刷版原版として用い、印刷を行ったところ、
画像部のかすれや非画像部の汚れのない良好な印刷物が
１万枚得られ、印刷物の画質、耐刷性ともに良好である
ことがわかった。Example 3 A planographic printing plate precursor was prepared by applying energy to the surface of the pattern forming material 1 obtained in Example 1 to form an image-like hydrophilic pattern in the same manner as in Example 2. I used it as a printout,
It was found that 10,000 good printed matters were obtained without blurring in the image area and stains in the non-image area, and the image quality and printing durability of the printed matter were good.
【００５６】[0056]
【発明の効果】本発明のパターン形成材料によれば、露
光或いは加熱により高感度で画像を形成することがで
き、画像形成材料の面積に係わらず、高解像度で、鮮鋭
度の高い画像が得られ、且つ、赤外線レーザ等を操作す
ることによりデジタルデータに基づき直接画像形成が可
能であるという効果を奏する。また、このパターン形成
材料を用いた画像形成方法によれば、鮮鋭な画像を容易
に形成することができる。According to the pattern forming material of the present invention, an image can be formed with high sensitivity by exposure or heating, and an image with high resolution and high sharpness can be obtained regardless of the area of the image forming material. In addition, it is possible to directly form an image based on digital data by operating an infrared laser or the like. Further, according to the image forming method using this pattern forming material, a sharp image can be easily formed.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AB03 AB09 AB20 AC01 AC08 AD05 BC13 BC81 BC92 DA37 DA40 FA23 FA37 2H114 AA04 AA22 AA24 AA30 BA01 BA10 DA43 DA47 DA52 DA53 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 2H025 AA02 AB03 AB09 AB20 AC01 AC08 AD05 BC13 BC81 BC92 DA37 DA40 FA23 FA37 2H114 AA04 AA22 AA24 AA30 BA01 BA10 DA43 DA47 DA52 DA53
Claims (4)
有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてな
るパターン形成材料であって、 該パターン形成材料に画像様にエネルギーを付与して疎
水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリ
マーを直接化学結合させて親水性パターンを形成するこ
とを特徴とするパターン形成材料。1. A pattern-forming material comprising a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group, which is brought into contact with a hydrophobic polymer-containing layer, the image-forming energy being applied to the pattern-forming material. And a hydrophilic polymer having a polymerizable group is directly chemically bonded to the hydrophobic polymer-containing layer to form a hydrophilic pattern.
ー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有
する組成物からなる上層を積層してなる構成を有するこ
とを特徴とする請求項１に記載のパターン形成材料。2. The pattern forming material has a constitution in which an upper layer made of a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group is laminated on a hydrophobic polymer-containing layer. 1. The pattern forming material as described in 1.
ー付与により重合開始能を発現する化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のパターン
形成材料。3. The pattern forming material according to claim 1, wherein the hydrophobic polymer-containing layer contains a compound capable of exhibiting a polymerization initiation ability by applying energy.
有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてな
るパターン形成材料に、 画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層
上に重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合さ
せて親水性パターンを形成し、 該親水性パターン、或いはエネルギーを付与されていな
い疎水性領域のいずれかに可視画像を形成可能な有機又
は無機分子を付着させることを特徴とする画像形成方
法。4. A pattern-forming material obtained by bringing a composition containing a hydrophilic polymer having a polymerizable group into contact with the hydrophobic polymer-containing layer to impart image-wise energy to the pattern-forming material to form the hydrophobic polymer-containing layer. An organic or organic compound capable of forming a visible image on either the hydrophilic pattern or a hydrophobic region to which energy is not applied is formed by directly chemically bonding a hydrophilic polymer having a polymerizable group thereon to form a hydrophilic pattern. An image forming method characterized in that an inorganic molecule is attached.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001314363A JP3768857B2 (en) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | Pattern forming material and image forming method |
| US10/268,095 US7045276B2 (en) | 2001-10-11 | 2002-10-10 | Hydrophilic member precursor and pattern forming material that utilizes it, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor |
| EP02022949A EP1302504B1 (en) | 2001-10-11 | 2002-10-11 | Hydrophilic member precursor and pattern forming material that utilizes it, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor |
| DE60232488T DE60232488D1 (en) | 2001-10-11 | 2002-10-11 | Hydrophilic element precursor and imaging material using this element, planographic printing plate and planographic printing plate precursor supports |
| AT02022949T ATE432958T1 (en) | 2001-10-11 | 2002-10-11 | PRECURSOR OF A HYDROPHILIC ELEMENT AND IMAGING MATERIAL USING SUCH ELEMENT, SUPPORT FOR PLANT PLATE PRINTING PLATE AND PLASTIC PLATE PRINTING PLATE PRECURSOR |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001314363A JP3768857B2 (en) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | Pattern forming material and image forming method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003122000A true JP2003122000A (en) | 2003-04-23 |
| JP3768857B2 JP3768857B2 (en) | 2006-04-19 |
Family
ID=19132691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001314363A Expired - Fee Related JP3768857B2 (en) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | Pattern forming material and image forming method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3768857B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007237517A (en) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | Planographic printing plate precursor and planographic printing method |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3980351B2 (en) * | 2001-08-03 | 2007-09-26 | 富士フイルム株式会社 | Conductive pattern material and method of forming conductive pattern |
-
2001
- 2001-10-11 JP JP2001314363A patent/JP3768857B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007237517A (en) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | Planographic printing plate precursor and planographic printing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3768857B2 (en) | 2006-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3847381B2 (en) | Photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and image forming method using the same | |
| US4034183A (en) | Process for the production of planographic printing forms by means of laser beams | |
| AU2002333253B2 (en) | Photosensitive, flexo printing element and method for the production of newspaper flexo printing plates | |
| EP0771645B1 (en) | On-press development of a lithographic printing plate having an aryldiazosulfonate resin in a photosensitive layer | |
| JP6718020B2 (en) | Heat-sensitive unprocessed lithographic printing plate material having heat-sensitive protective layer and method of using the same | |
| JP2002249504A (en) | Photopolymerizable composition | |
| CN104985914B (en) | Water-developable photopolymerizable lithographic printing plate material comprising two photosensitive layers and use thereof | |
| JPS585798B2 (en) | Desensitizing liquid for lithographic printing plates and method for producing lithographic printing plates using the same | |
| JP2003114525A (en) | Conductive pattern material and method for forming conductive pattern | |
| JP2009063873A (en) | Photosensitive printing plate precursor | |
| US20060073417A1 (en) | Photopolymer plate and method for imaging the surface of a photopolymer plate | |
| EP0934825B1 (en) | Screen printing stencil production | |
| JP2003188498A (en) | Conductive pattern material and conductive pattern forming method | |
| JP3768857B2 (en) | Pattern forming material and image forming method | |
| JP3882811B2 (en) | Photosensitive lithographic printing plate and plate making method thereof | |
| JPH11194500A (en) | Screen printing stencil | |
| JP2003345028A (en) | Pattern formation method | |
| JP3470254B2 (en) | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate | |
| US5912105A (en) | Thermally imageable material | |
| JPH0958143A (en) | Planographic printing original plate and production of planographic printing plate | |
| WO2002011996A1 (en) | Thermo-sensitive recording type lithographical block material, method of making up lithographical block, and lithographical block made up by the making up method | |
| JPS60263141A (en) | Photopolymerizable sensitive material | |
| JP2003287885A (en) | Image forming method | |
| EP0851296B1 (en) | Thermally imageable material | |
| JPH0456863A (en) | Plate making method for planographic printing plate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040302 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060119 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060131 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060202 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |