JP2003122000A - パターン形成材料及び画像形成方法 - Google Patents
パターン形成材料及び画像形成方法Info
- Publication number
- JP2003122000A JP2003122000A JP2001314363A JP2001314363A JP2003122000A JP 2003122000 A JP2003122000 A JP 2003122000A JP 2001314363 A JP2001314363 A JP 2001314363A JP 2001314363 A JP2001314363 A JP 2001314363A JP 2003122000 A JP2003122000 A JP 2003122000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrophilic
- image
- pattern
- polymer
- forming material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 64
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 58
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 13
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 13
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 44
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 2
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920001213 Polysorbate 20 Polymers 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 2
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 2
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N n-ethenylformamide Chemical compound C=CNC=O ZQXSMRAEXCEDJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N pent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 239000000256 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Substances 0.000 description 2
- 235000010486 polyoxyethylene sorbitan monolaurate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- HUXJRTPIDCQELS-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbuta-1,3-diene-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C=C)=CC1=CC=CC=C1 HUXJRTPIDCQELS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1-(2-ethoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCC MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCC=C ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical group 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N bis(2-cyclohexyl-3-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1CCCCC1C=1C(O)=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC(O)=C1C1CCCCC1 ZNAAXKXXDQLJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- MCPLVIGCWWTHFH-UHFFFAOYSA-L methyl blue Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C1NC1=CC=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[NH+]C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=2C=CC(NC=3C=CC(=CC=3)S([O-])(=O)=O)=CC=2)C=C1 MCPLVIGCWWTHFH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001017 thiazole dye Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
き、高解像度で、鮮鋭度の高い画像が得られ、且つ、赤
外線レーザ等によりデジタルデータに基づいた画像形成
が可能なパターン形成材料及びそれを用いた画像形成方
法を提供する。 【解決手段】 疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を
有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてな
るパターン形成材料であって、該パターン形成材料に画
像様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー含有層上
に、重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合さ
せて親水性パターンを形成することを特徴とする。この
パターン形成材料は平版印刷版原版としても有用であ
り、親/疎水性パターンに可視画像形成可能な有機又は
無機分子を付着させて、画像を形成することもできる。
Description
びそれを用いた画像形成方法に関し、特に、解像度に優
れた画像を容易に形成することができるパターン形成材
料、及び、それを用いたディスプレイ材料等に有用な画
像形成方法に関する。
レイ材料やパターン形成材料として使用されている。こ
れらは通常、紙媒体などの白色の受像材料表面にインク
などの有色材料を像様に付着させたり、プラスチックフ
ィルムなどの透明な受像材料に顔料などの光非透過性の
材料を像様に付着させることで画像形成を行っている。
画像形成は、例えば、受像材料にインクジェット印刷に
よりインクを付着させたり、コピー機に代表されるよう
に、静電的に有色材料を受像材料の表面に付着させ、加
熱定着させる、感熱記録材料を用いて加熱により像様に
染料前駆体を発色させるなどの種々の方法で行われてい
る。また、配向が制御された緻密なパターンを形成する
方法として、例えば、特開2000−247799号に
は、機能性有機分子薄膜の製造方法が提案されている。
この方法によれば、緻密なパターンを形成することがで
きるが、像様の書込みには、従来の平版印刷版原版の画
像形成方法の如く、リスフィルムのようなマスクを介し
てUV露光を行うものであり、画像形成方法としては工
程が煩雑である。また、従来の一般的な画像形成方法で
は、大面積の受像材料に高解像度の画像を形成したり、
薄膜の受像材料に高濃度の画像を形成することが困難で
あった。
タル化された画像データーからリスフィルムなどの媒介
を用いずに直接、受像材料上に画像形成する方法が注目
され、種々提案されてきている。このようなデジタル化
された画像形成方法を利用すれば、受像材料の面積や特
性に係わらず、鮮明な画像を形成することが期待される
が、所望の受像材料に、このデジタル化されたデータに
基づいて光非透過性材料や有色材料を安定に定着させる
技術は未だ確立されていないのが、現状である。
を考慮してなされた本発明の目的は、露光或いは加熱に
より高感度で画像を形成することができ、画像形成材料
の面積に係わらず、高解像度で、鮮鋭度の高い画像が得
られ、且つ、赤外線レーザ等を操作することによりデジ
タルデータに基づき直接画像形成が可能な、応用範囲の
広いパターン形成材料及びそれを用いた画像形成方法を
提供することにある。
した結果、露光、加熱、赤外線レーザの照射などのエネ
ルギー付与により、疎水性ポリマー層の表面に親水性ポ
リマー層を直接結合させることで親疎水性パターンを形
成し得る材料を用いることで上記目的が達成されること
を見いだし本発明を完成するに至った。すなわち、本発
明のパターン形成材料は、疎水性ポリマー含有層上に、
重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接
触させてなるパターン形成材料であって、該パターン形
成材料に画像様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー
含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを直接化
学結合させて親水性パターンを形成することを特徴とす
る。このパターン形成材料は、疎水性ポリマー含有層上
に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物
からなる上層を積層してなる構成を有することが好まし
く、また、疎水性ポリマー含有層には、エネルギー付与
により重合開始能を発現する化合物を含有することが感
度、画像強度の観点から好ましい。
本発明の請求項4に係る画像形成方法は、疎水性ポリマ
ー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有
する組成物を接触させてなるパターン形成材料に、画像
様にエネルギーを付与して疎水性ポリマー含有層上に、
重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合させて
親水性パターンを形成し、該親水性パターン、或いはエ
ネルギーを付与されていない疎水性領域のいずれかに可
視画像を形成可能な有機又は無機分子を付着させること
を特徴とする。
体基板上に、疎水性ポリマー含有層を形成するか、又
は、疎水性ポリマー含有層自体を支持体とし、そこに重
合性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触
させてなるものであり、該親水性ポリマー含有組成物
は、溶液浸漬により接触させてもよいが、親水性ポリマ
ー含有組成物を塗布することにより親水性ポリマー含有
層を形成することもでき、このようにすれば製造が容易
となり、また、親水性部材の表面を形成する親水性ポリ
マー含有層は、皮膜形成能のある重合成性基を有する親
水性ポリマーを含有する組成物からなるため、塗布面状
が均一で表面平滑性の高い親水性表面を形成することが
できるという利点を有する。このパターン形成材料にエ
ネルギーを付与することで、親水性ポリマーの重合性基
と疎水性ポリマー含有層とが直接結合して、強固な結合
と、高い運動性を有する親水性ポリマーの層を形成し、
耐久性、親水性に優れた親水性パターンが形成される。
ここで、該疎水性ポリマー含有層に重合開始能を有する
化合物が含まれる場合、エネルギー付与により疎水性ポ
リマー含有層にも活性化による反応サイトが形成され、
ここに親水性ポリマーの重合性基が結合して、より効率
的に強固な結合が達成される。
は、疎水性ポリマー含有層が露出して疎水性パターンと
なる。したがって、このパターン形成後に、可視画像形
成可能な物質を親水性領域或いは疎水性領域に、その親
和性にしたがって付着させることにより、鮮鋭な可視画
像を容易に形成することができる。本発明によれば、エ
ネルギー付与にデジタルデータから直接描画可能な、例
えば、赤外線レーザなどを用いれば、デジタルデータに
基づく鮮鋭な画像を容易に形成することができる。ま
た、本発明の親水性ポリマーが末端に重合性基を有する
ものであれば、親水性ポリマーが運動性の高いグラフト
鎖の状態で疎水性ポリマー含有層に結合するため、高い
親水性が達成でき、さらに側鎖にも重合性基を有するも
のを添加した場合には、側鎖の重合性基と他の親水性ポ
リマー末端の重合性基との間にも結合が生じ、親水性の
グラフト鎖がさらに枝分かれ構造を有するグラフト鎖と
なるため、グラフト鎖の枝分かれ構造において、それぞ
れの分岐した枝にも親水性基が存在することになり、枝
分かれ構造を有しない通常のグラフト鎖に比較して、単
位面積あたりに存在する親水性基の密度が増すととも
に、それぞれのグラフトの運動性も著しく向上し、高い
親水性を有する親水性グラフト構造に比較しても、飛躍
的に親水性が向上するという利点を有する。
水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリ
マーを含有する組成物を接触させてなる構成を有する。
まず、疎水性ポリマー含有層について、説明する。本発
明における疎水性ポリマー含有層は、その主成分が疎水
性ポリマーであれば、特に制限はなく、このパターン形
成材料の支持体が疎水性ポリマーを主成分とするもので
あれば、支持体自体が、疎水性ポリマー含有層となる場
合があり、また、所望の支持体基板上に疎水性ポリマー
層を設けたものであってもよい。本発明に適用し得る疎
水性ポリマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レー卜、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなど
が挙げられ、これらをフィルム上に成形したものをその
まま支持体(兼、疎水性ポリマー含有層)として使用し
てもよく、これらを後述する任意の支持体上に塗布して
疎水性ポリマー含有層を形成してもよい。
マー層に、エネルギー付与を付与することにより重合開
始能を発現する化合物を添加することが好ましい。疎水
性ポリマーをエネルギー付与により重合開始能を発現す
る層(以下、適宜、重合性下層と称する)とするために
は、この層に、重合開始剤と重合性化合物とを含有する
ことが好ましい。重合性下層は、必要な成分を、それら
を溶解可能な溶媒に溶解し、塗布などの方法で基材(支
持体)上に設け、加熱または光照射により硬膜すること
により形成することができる。
重合性化合物は、基板との密着性が良好であり、且つ、
活性光線照射などのエネルギー付与により上層に含まれ
る、少なくとも末端に重合性基を含有する親水性ポリマ
ーが付加し得るものであれば特に制限はないが、なかで
も、分子内に重合性基を有する疎水性ポリマーが好まし
い。このような疎水性ポリマーとしては、具体的には、
ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリぺンタジエンな
どのジエン系単独重合体、アリル(メタ)アクリレー
卜、2−アリルオキシエチルメタクリレー卜などのアリ
ル基含有モノマーの単独重合体;さらには、前記のポリ
ブタジエン、ポリイソプレン、ポリペンタジエンなどの
ジエン系単量体またはアリル基含有モノマーを構成単位
として含む、スチレン、(メタ)アクリル酸エステル、
(メタ)アクリロニトリルなどとの二元または多元共重
合体;不飽和ポリエステル、不飽和ポリエポキシド、不
飽和ポリアミド、不飽和ポリアクリル、高密度ポリエチ
レンなどの分子中に炭素−炭素二重結合を有する線状高
分子または3次元高分子類;などが挙げられる。なお、
本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いは
いずれかを指す場合、「(メタ)アクリル」と表記する
ことがある。
ー付与により重合開始能を発現させるための重合開始剤
を含有する。ここで用いられる重合開始剤は、所定のエ
ネルギー、例えば、活性光線の照射、加熱、電子線の照
射などにより、重合開始能を発現し得る公知の熱重合開
始剤、光重合開始剤などを目的に応じて、適宜選択して
用いることができる。なかでも、熱重合よりも反応速度
(重合速度)が高い光重合を利用することが製造適性の
観点から好適であり、このため、光重合開始剤を用いる
ことが好ましい。本発明に用い得る光重合開始剤は、照
射される活性光線に対して活性であり、下層に含まれる
重合性基を有する疎水性ポリマーと、上層に含まれる末
端に重合性基を有する親水性ポリマーとを重合させるこ
とが可能なものであれば、特に制限はなく、例えば、ラ
ジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合
開始剤などを用いることができる。
には、例えば、p−tert−ブチルトリクロロアセト
フェノン、2,2′−ジエトキシアセトフェノン、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−
オンの如きアセトフェノン類;ベンゾフェノン(4,
4′−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、2−クロロ
チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、
の如きケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテルの如きベンゾインエーテル類;ベンジル
ジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトンの如きベンジルケタール類、などが挙げられる。
重合開始剤の含有量は、重合性下層中、固形分で0.0
1〜20重量%の範囲が好ましく、0.1〜10重量%
の範囲が特に好ましい。
媒は、主成分である疎水性ポリマー、重合性基を有する
疎水性の化合物、或いは、重合開始剤などの成分が溶解
するものであれば特に制限されない。乾燥の容易性、作
業性の観点からは、沸点が高すぎない溶媒が好ましく、
具体的には、沸点40℃〜150℃程度のものを選択す
ればよい。具体的には、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサン、酢酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、メタノ
ール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、
3−メトキシプロパノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピ
ルアセテートなどが挙げられる。これらの溶媒は、単独
あるいは混合して使用することができる。そして塗布溶
液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
合の塗布量は、乾燥後の重量で、0.1〜20g/m2
が好ましく、さらに、1〜15g/m2が好ましい。塗
布量0.lg/m2未満では十分な重合開始能を発現で
きず、親水性ポリマーのグラフト化が不十分となり、所
望の親水性を得られない懸念があり、塗布量が20g/
m2を超えると膜性が低下する傾向になり、膜剥がれを
起こしやすくなるため、いずれも好ましくない。
性下層形成用の組成物を塗布などにより配置し、溶剤を
除去することにより成膜させて下層を形成するが、この
とき、加熱及び/又は光照射を行って硬膜することが好
ましい。特に、加熱により乾燥した後、光照射を行って
予備硬膜しておくと、疎水性ポリマーのある程度の硬化
が予め行なわれるので、親水性ポリマーのグラフト化を
達成した後に下層である疎水性ポリマー層ごと脱落する
といった事態を効果的に抑制し得るため好ましい。ここ
で、予備硬化に光照射を利用するのは、前記光重合開始
剤の項で述べたのと同様の理由による。加熱温度と時間
は、塗布溶剤が十分乾燥しうる条件を選択すればよい
が、製造適正の点からは、温度が100℃以下、乾燥時
間は30分以内が好ましく、乾燥温度40〜80℃、乾
燥時間10分以内の範囲の加熱条件を選択することがよ
り好ましい。
は、後述する親水性グラフトポリマーの結合の生成に用
いる光源を用いることができるが、引き続き行われる親
水性ポリマー層の形成と、エネルギー付与により実施さ
れる下層の活性点とグラフト鎖との結合の形成を阻害し
ないという観点から、下層中に存在する重合性化合物が
部分的にラジカル重合しても、完全にはラジカル重合し
ない程度に光照射することが好ましく、光照射時間につ
いては光源の強度により異なるが、一般的には30分以
内であることが好ましい。このような予備硬化の目安と
しては、溶剤洗浄後の膜残存率が10%以上となり、且
つ、予備硬化後の開始剤残存率が1%以上であること
が、挙げられる。
性ポリマー含有層表面に重合性基を有する親水性ポリマ
ー接触させ、エネルギーを付与することで重合性基を有
する親水性ポリマーが疎水性ポリマーに化学的に結合
し、強固で耐久性に優れ、高い親水性を有する親水性領
域を形成することができる。このような結合の形成を表
面グラフトと称する。この接触は、疎水性ポリマー含有
層を、重合性の親水性ポリマーを含有する液状の組成物
中に浸漬することで行ってもよいが、パターン形成材料
の取り扱い性や製造効率の観点からは、後述するよう
に、重合性の親水性ポリマーを含有する組成物を主成分
とする層を疎水性ポリマー含有層表面に、塗布法により
形成することが好ましい。
トの形成について説明する。本発明においては、親水性
領域の形成は、表面グラフト重合と呼ばれる方法により
行われる。グラフト重合とは高分子化合物鎖上に光、電
子線、熱などの従来公知の方法にてエネルギーを付与す
ることにより活性種を与え、これによって重合を開始す
る別の重合性化合物をさらに重合させ、グラフト(接ぎ
木)重合体を合成する方法で、特に活性種を与える高分
子化合物が表面を形成するときには表面グラフト重合と
呼ばれる。また、表面グラフトとは、下層を構成する重
合開始能を有する高分子層の表面上に重合性化合物がグ
ラフトされた表面を示す。
性ポリマー含有層表面を直接、プラズマ、もしくは電子
線にて処理し、表面にラジカルを発生させて重合開始能
を発現させ、その後、その活性表面と親水性官能基を有
するモノマーとを反応させることによりグラフトポリマ
ー表面層、即ち、親水性基を有する表面層を得ることが
できる。本発明の好ましい態様では前記のように、疎水
性ポリマー含有層に予め重合開始能を有する化合物を添
加することで、このような活性点の形成が低エネルギー
で容易に行うことができ、且つ、生成する活性点も多い
ため、簡易な方法により、より高い親水性を有する表面
を形成することができる。
る方法自体は、公知の方法を適用することができる。光
グラフト重合法の具体的方法としては特開昭63−92
658号公報、特開平10−296895号公報および
特開平11−119413号公報に記載の方法を本発明
においても使用することができる。具体的には、基材上
に光開始剤と重合性化合物からなる重合成組成物をあら
かじめ下塗りしておき、その上に重合性化合物を接触さ
せ光照射する方法である。表面グラフトを作成する方法
のなかでも、エネルギー付与を光照射により行う光グラ
フト法をとることが好ましい。
れる重合性基を含有する親水性ポリマーとは、重合性基
として、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリル基など
のエチレン付加重合性不飽和基を導入したラジカル重合
性基含有親水性ポリマーを指し、このポリマーは、少な
くとも末端に重合性基を有するものが好ましく、さら
に、末端及び側鎖に重合性基を有するものが好ましい。
導入したラジカル重合性基含有親水性ポリマーは以下の
ように合成できる。合成方法としては、親水性モノマー
とエチレン付加重合性不飽和基を有するモノマーを共重
合する方法、親水性モノマーと二重結合前駆体を有する
モノマーを共重合させ、次に塩基などの処理により二重
結合を導入する方法、親水性ポリマーの官能基とエチレ
ン付加重合性不飽和基を有するモノマーとを反応させる
方法が挙げられる。特に好ましいのは、合成適性の観点
から、親水性ポリマーの官能基とエチレン付加重合性不
飽和基を有するモノマーとを反応させる方法である。
くはさらに側鎖に有する親水性ポリマーの合成に用いら
れる親水性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸もし
くはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、イタコン酸も
しくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルア
ミド、N−モノメチロール(メタ)アクリルアミド、N
−ジメチロール(メタ)アクリルアミド、アリルアミン
もしくはそのハロゲン化水素酸塩、3−ビニルプロピオ
ン酸もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、ビニ
ルスルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン
塩、2−スルホエチル(メタ)アクリレート、ポリオキ
シエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2−
アクリルアミド−2−メチルプロバンスルホン酸、アシ
ッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレートなどのカルボキシル基、スルホン
酸基、リン酸基、アミノ基もしくはそれらの塩、水酸
基、アミド基およびエーテル基などの親水性基を有する
モノマーが挙げられる。
マーから選ばれる少なくとも一種を用いて得られる親水
性ホモポリマーもしくはコポリマーが挙げられる。ま
た、親水性モノマ−と共重合するアリル基含有モノマー
としては、アリル(メタ)アクリレート、2−アリルオ
キシエチルメタクリレートが挙げられる。また、二重結
合前駆体を有するモノマーとしては2−(3−クロロ−
1−オキソプロポキシ)エチルメタクリレー卜が挙げら
れる。親水性ポリマー中のカルボキシル基、アミノ基も
しくはそれらの塩、水酸基およびエポキシ基などの官能
基との反応を利用して不飽和基を導入するために用いら
れる付加重合性不飽和基を有するモノマーとしては、
(メタ)アクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレー
ト、アリルグリシジルユーテル、2−イソシアナトエチ
ル(メタ)アクリレートなどがある。
マーとしては、親水性マクロモノマーが挙げられる。本
発明に用いられるマクロモノマーの製造方法は、例えば
平成1年9月20日にアイピーシー出版局発行の「マク
ロモノマーの化学と工業」(編集者 山下雄也)の第2
章「マクロモノマーの合成」に各種の製法が提案されて
いる。本発明で用いられる親水性のマクロモノマーで特
に有用なものとしては、アクリル酸、メタクリル酸など
のカルホキシル基含有のモノマーから誘導されるマクロ
モノマー、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸、ビニルステレンスルホン酸、およびその塩の
モノマーから誘導されるスルホン酸系マクロモノマー、
(メタ)アクリルアミド、N−ビニルアセトアミド、N
−ビニルホルムアミド、N−ビニルカルボン酸アミドモ
ノマーから誘導されるアミド系マクロモノマー、ヒドロ
キシエチルメタクリレー卜、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、グリセロールモノメタクリレートなどの水酸基含
有モノマーから誘導されるマクロモノマー、メトキシエ
チルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールア
クリレート、ポリエチレングリコールアクリレートなど
のアルコキシ基もしくはエチレンオキシド基含有モノマ
ーから誘導されるマクロモノマーである。またポリエチ
レングリコール鎖もしくはポリプロピレングリコール鎖
を有するモノマーも本発明のマクロモノマーとして有用
に使用することができる。
量は250〜10万の範囲で、特に好ましい範囲は40
0〜3万である。また、上層の形成にあたって、上記重
合性基を有する親水性ポリマーに、さらに、親水性モノ
マーを添加しても良い。親水性モノマーを添加すること
により重合率を上げることができる。親水性モノマーの
添加量は0〜60重量%が好ましい。60重量%以上で
は塗布性が悪く均一に塗布できないので不適である。
重合性基を有する親水性ポリマーと併用するのに有用
な、親水性モノマーとしては、アンモニウム、ホスホニ
ウムなどの正の荷電を有するモノマー、もしくは、スル
ホン酸基、カルボキシル基、リン酸基、ホスホン酸基な
どの負の荷電を有するか負の荷電に解離しうる酸性基を
有するモノマーが挙げられるが、その他にも、例えば、
水酸基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシ基、
シアノ基などの非イオン性の基を有する親水性モノマー
を用いることもできる。本発明において、親水性ポリマ
ーとの併用に、特に有用な親水性モノマーの具体例とし
ては、次のモノマーを挙げることが出来る。
アルカリ金属塩およびアミン塩、イタコン酸もしくはそ
のアルカリ金属塩およびアミン酸塩、アリルアミンもし
くはそのハロゲン化水素酸塩、3−ビニルプロピオン酸
もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、ビニルス
ルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、
ビニルスチレンスルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩
およびアミン塩、2−スルホエチレン(メタ)アクリレ
ート、3―スルホプロピレン(メタ)アクリレー卜もし
くはそのアルカリ金属塩およびアミン塩、2−アクリル
アミド−2−メチルプロバンスルホン酸もしくはそのア
ルカリ金属塩およびアミン塩、アシッドホスホオキシポ
リオキンエチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩等
の、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基
もしくはそれらの塩、2−トリメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレートもしくはそのハロゲン化水素酸塩等
の、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基
もしくはそれらの塩、などを使用することができる。ま
た2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アクリルアミド、N−モノメチロール(メタ)アク
リルアミド、N―ジメチロール(メタ)アクリルアミ
ド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルアセトアミド、
アリルアミンもしくはそのハロゲン化水素酸塩、ポリオ
キシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、N
−メタクリロイルオキシエナルカルバミン酸アスパラギ
ン酸の如き分子中にアミノ酸骨格を有するモノマー、グ
リコキシエチルメタクリレートの如き分子中に糖骨格を
有するモノマーなども有用である。
物に使用する溶剤は、主成分である前記親水性マクロモ
ノマーや親水性モノマーなどが溶解可能ならば特に制限
はないが、水、水溶性溶剤などの水性溶剤が好ましく、
これらの混合物や、溶剤にさらに界面活性剤を添加した
ものなどが好ましい。水溶性溶剤は、水と任意の割合で
混和しうる溶剤を言い、そのような水溶性溶剤として
は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、
エチレングリコール、グリセリンの如きアルコール系溶
剤、酢酸の如き酸、アセトンの如きケトン系溶剤、ホル
ムアミドの如きアミド系溶剤、などが挙げられる。
界面活性剤は、溶剤に溶解するものであればよく、その
ような界面活性剤としては、例えば、n−ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムの如きアニオン性界面活性剤
や、n−ドデシルトリメチルアンモニウムクロライドの
如きカチオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンノニル
フェノールエーテル(市販品としては、例えば、エマル
ゲン910、花王(株)製など)、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノラウレート(市販品としては、例えば、
商品名「ツイーン20」など)、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテルの如き非イオン性界面活性剤等が挙げら
れる。組成物を液状のまま接触させる場合には、任意に
行うことができるが、塗布法により親水性ポリマー組成
物塗布層を形成する場合の塗布量は固形分換算で0.1
〜1.0g/m2が好ましく、特に1〜5g/m2が好ま
しい。0.lg/m2未満では十分な表面親水性を得る
ことができず、また10g/m2を超えると均一な塗布
膜が得にくいため、いずれも好ましくない。
材料によりパターン形成を行う場合のエネルギー付与方
法には特に制限はなく、疎水性ポリマー含有層表面に活
性点を生じさせ、重合性基を有する親水性ポリマーとの
結合し得るエネルギーを付与できる方法であれば、いず
れも使用できるが、コスト、装置の簡易性の観点からは
活性光線を照射する方法が好ましい。画像様の露光に活
性光線の照射を適用する場合、デジタルデータに基づく
走査露光、リスフィルムを用いたパターン露光のいずれ
も使用することができる。画像形成に用いる方法として
は、加熱、露光等の輻射線照射により書き込みを行う方
法が挙げられる。例えば、赤外線レーザ、紫外線ラン
プ、可視光線などによる光照射、γ線などの電子線照
射、サーマルヘッドによる熱的な記録などが可能であ
る。これらの光源としては、例えば、水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カー
ボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、X
線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、i
線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レー
ザービーム)も使用される。一般的に用いられる具体的
な態様としては、熱記録ヘッド等による直接画像様記
録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯など
の高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが好適
に挙げられる。コンピュータのデジタルデータによるダ
イレクト画像形成を行うためには、レーザ露光により極
性変換を生起させる方法が好ましい。レーザとしては、
炭酸ガスレーザ、窒素レーザ、Arレーザ、He/Ne
レーザ、He/Cdレーザ、Krレーザ等の気体レー
ザ、液体(色素)レーザ、ルビーレーザ、Nd/YAG
レーザ等の固体レーザ、GaAs/GaAlAs、In
GaAsレーザ等の半導体レーザ、KrFレーザ、Xe
Clレーザ、XeFレーザ、Ar2等のエキシマレーザ
等を使用することができる。なかでも、波長700〜1
200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレ
ーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適であ
る。
水性ポリマー含有層に発生した活性点と、重合性基を有
する親水性ポリマーとが重合して、運動性の高い親水性
グラフト鎖を有する表面が形成される。また、好ましい
態様として、側鎖に重合性基を有する親水性ポリマーを
添加することで、疎水性ポリマー含有層と結合したグラ
フト鎖の側鎖の重合性基にさらに、親水性グラフト鎖が
結合することで、枝分かれを有するグラフト鎖構造が形
成され、運動性が高い親水性グラフトの形成密度、運動
性ともに飛躍的に向上するため、さらなる高い親水性が
発現するものである。
水性グラフトによる親水性パターンが形成され、エネル
ギーを付与されない領域では、疎水性ポリマー含有層表
面が疎水性領域となる。この親/疎水性パターンに可視
画像形成可能な有機又は無機分子を付着させることで可
視画像が形成される。ここで、親/疎水性パターンに吸
着させる有機又は無機分子は、可視画像を形成しうる物
質であれば、低分子化合物であっても高分子化合物であ
ってもよい。なお、可視像を形成可能であるとは、可視
波長領域に吸収を有する物質を指し、具体的には、例え
ば、有色の染料或いは顔料、光非透過性の各種顔料、金
属微粒子などが挙げられる。
機分子との関係)具体的には、親水性ポリマーの親水性
基がスルホン酸塩やカルボン酸塩などの負の電荷を有す
る場合、正の電荷を有する分子、例えば、カチオン染料
などを吸着させることで可視画像を形成することができ
る。
の有機または無機分子としては、カチオン染料やカチオ
ン性に帯電させた無機顔料、金属微粒子及び表面にカチ
オン性の表面層を形成してなる被覆顔料、被覆金属微粒
子などが挙げられる。ここで、用い得るカチオン染料と
しては、公知の染料を色調や画像濃度などの目的に応じ
て適宜選択して使用することができる。このようなカチ
オン染料は前記極性変換基である酸性基(スルホン酸
基、カルボン酸基など)の機能により電気的に画像記録
層表面に引き寄せられ、表面のみならず内部へも浸透し
て最終的に酸性基と結合して画像が形成されるものと考
えられる。この画像はイオン性の相互作用によるため、
強固に吸着し、少ない染料で堅牢度の高い高濃度の画像
が形成される。
ルキルアミノ、アラルキルアミノ結合を有する染料、ス
ルホン酸アルキルアミド結合などの酸アミド結合を有す
る染料、カチオンを形成し得る基を有するアゾ染料、メ
チン染料、チアゾール・アゾ染料などの複素環化合物な
どが挙げられる。カチオン染料の骨格としては、トリフ
ェニルメタン、ジフェニルメタン、キサンテン、アクリ
ジン、アジン、チアジン、チアゾール、オキサジン、ア
ゾなどが挙げられ、このような染料は例えば、「新染料
化学」細田 豊著、技報堂、(1957年)の第316
頁〜322頁に詳述されている。
ポリマーの親水性基がアンモニウム基などのカチオン性
の電荷をもつ場合、負の電荷をもつ分子、例えば、酸性
染料などを吸着して可視画像が形成される。
の有機または無機分子としては、酸性染料やアニオン性
に帯電させた無機顔料、金属微粒子及び表面にアニオン
性の表面層を形成してなる被覆顔料、被覆金属微粒子な
どが挙げられる。ここで、用い得る酸性染料としては、
公知の染料を色調や画像濃度などの目的に応じて適宜選
択して使用することができる。このような酸性染料とし
ては、アゾ系、アントラキノン系、トリフェニルメタン
系、キサンテン系、アジン、キノリンなどの染料が挙げ
られ、これらのいずれでも任意に用いることができる。
具体的には、例えば、C.I.Acid Yellow 1、C.I.Acid O
range 33、C.I.Acid Red 80、C.I.Acid Violet 7、C.
I.Acid Blue 93などが挙げられ、このような染料は例え
ば、「染料便覧」有機合成化学協会編、丸善、(197
0年)の第392頁〜471頁に詳述されている。
無機分子は1種のみならず、必要に応じて複数種を併用
することができる。また、所望の色調を得るため、予め
複数の材料を混合して用いることもできる。有機又は無
機分子を親/疎水性領域に吸着させる方法としては、有
機又は無機分子を溶解又は分散させた液を露光などによ
り像様にパターン形成されたパターン形成材料表面に塗
布する方法、及び、これらの溶液又は分散液中に像様に
パターン形成されたパターン形成材料を浸漬する方法な
どが挙げられる。塗布、浸漬のいずれの場合にも、過剰
量の有機又は無機分子を供給し、所望の親/疎水性パタ
ーン領域との間に十分な付着がなされるために、溶液又
は分散液とパターン形成材料表面との接触時間は、10
秒から60分程度であることが好ましく、1分から20
分程度であることがさらに好ましい。有機又は無機分子
は、パターン形成領域に吸着し得る最大量結合されるこ
とが、画像の鮮鋭度、色調及び耐久性の点で好ましい。
また、吸着の効率からは、溶液、分散液の濃度は、少な
くとも10〜20重量%程度が好ましい。
形成機構やその目的に応じて適宜選択することができる
が、イオン性の吸着により導入される場合には、一般的
な画像形成材料に用いる発色材料、有色材料の使用量に
比較して、少量で、高濃度、高鮮鋭度の画像を形成する
ことができる。また、疎水性ポリマー含有層が支持体を
兼ねる樹脂フィルムを用いて、無機顔料や金属顔料など
の光非透過性の材料を吸着させた場合、或いは、光透過
性の有色染料を吸着させた場合には、OHPや街頭にお
ける電飾のごとき光透過性のパターン形成材料、ディス
プレイ材料をも容易に得ることができる。
域に、例えば、油性インクの如き疎水性の材料を付着さ
せる方法が挙げられる。このような画像形成機構を用い
る場合には、未露光部の疎水性領域表面のみに有機又は
無機分子が吸着するため、単色の画像形成に適する画像
形成方法となる。
方法を用いれば、本発明のパターン形成材料を平版印刷
版原版として用いることもできる。すなわち、パターン
形成後に湿し水と油性インクとを供給することで、湿し
水は形成された親水性パターン領域に吸着して非画像部
を形成し、疎水性ポリマー含有層表面は疎水性の油性イ
ンク受容領域となり、画像部を形成する。親水性パター
ン領域は親水性グラフト構造による高い親水性が発現す
るため、非画像部に汚れの生じない、優れた画質の画像
を形成することができる。本発明のパターン形成材料と
して、疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親
水性ポリマーを含有する組成物からなる上層を積層して
なる構成をとる場合においても、上層はインクと湿し水
を供給して印刷を開始するとその初期の段階で容易に除
去されて疎水性ポリマー含有層表面が露出するため、機
上現像可能な平版印刷版原版としても好適に使用し得
る。
では、前記したように、支持体基板としてプラスチック
フィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)を用
いることにより、疎水性ポリマー含有層が支持体を兼ね
ることもできるが、所望の他の支持体上に前記のような
疎水性ポリマー含有層を形成することもできる。本発明
に適用可能な支持体(基板)としては、寸度的に安定な
板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチッ
ク(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アル
ミニウム、亜鉛、銅等)、上記の如き金属がラミネート
若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等
が含まれる。本発明に使用される支持体としては、ポリ
エステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その
中でも、前記疎水性ポリマー含有層を兼ねることができ
るポリエステルフィルムが特に好ましい。また、平版印
刷版原版に用いる場合には、寸度安定性の観点からアル
ミニウム板が好適に用いられる。
の基材表面に比較的簡易な処理で、鮮鋭な画像を形成す
ることが可能であり、さらには、形成された画像の耐久
性が良好であるため、多用な目的に好適に使用しうると
いう利点を有する。また、本発明の画像形成方法によれ
ば、種々のパターン形成、あるいは、ディスプレイ形成
が容易に得られ、広い用途が期待される。
するが、本発明はこれに制限されるものではない。 (重合性基を持つ親水性ポリマーの合成)ポリアクリル
酸(平均分子量25,000)18g、をDMAC30
0gに溶解し、ハイドロキノン0.41g、2−メタク
リロイルオキシエチルイソシアネート19.4g、とジ
ブチルチンジラウレート0.25gを添加し、65℃、
4時間反応させた。得られたポリマーの酸価は7.02
meq/gであった。1N水酸化ナトリウム水溶液でカ
ルボキシル基を中和し、酢酸エチルに加えポリマーを沈
殿させ、よく洗浄し、側鎖に重合性基を持つ親水性ポリ
マー18.4g(P−1)を得た。
して、膜厚0.188mmのPETフィルム(東洋紡
(株)M4100)を用い、その表面に下記の重合性下
層塗布液(光重合性組成物)をロッドバー17番を用い
て塗布し、80℃で2分間乾燥させた。次に、この塗布
されたフィルムを400W高圧水銀灯(UVL−400
P,理工科学産業(株)製)を使用し、10分間照射し
て硬膜させ、重合性下塗り層を形成した。
開始能を有する支持体上に、以下の親水性ポリマー含有
層塗布液1をロッドバー6番を用いて塗布し、80℃で
2分乾燥後し、パターン形成材料を得た。前記塗布液組
成物1の塗布面状は均一であった。
ーン形成材料1の表面に、以下のようにエネルギーを付
与し、画像様の親水性パターンを形成した。エネルギー
付与は、前記パターン形成材料に画像フィルムをかぶ
せ、アルゴン雰囲気下で400W高圧水銀灯(UVL−
400P,理工科学産業(株)製)を使用し、80分間
光照射することにより実施した。光照射後、得られたフ
ィルムをイオン交換水でよく洗浄することにより画像フ
ィルムに従った親水性パターンが形成された。次に、こ
のパターン形成材料をメチレンブルー(和光純薬製)
0.1重量%の水溶液に10分浸漬した後、蒸留水で洗
浄したところ、露光部に選択的にメチレンブルーが付着
して、青色の鮮明な画像が得られた。
クリルアミド30g、3−メルカプトプロピオン酸3.
8gをエタノール70gに溶解後、窒素雰囲気下60℃
に昇温し、AIBN(2,2−アゾビスイソブチルニト
リル)300mgを加えて6時間反応した。反応後白色
沈殿を濾過しメタノールで十分洗浄し末端カルボン酸プ
レポリマーを30.8g得た(酸価0.787meq/
g分子量1.29×103)。前記プレポリマー20g
をジメチルスルホキシド62gに溶解し、グリシジルメ
タクリレート6.71g、N,N−ジメチルドデシルア
ミン(触媒)504mg、ハイドロキノン(重合禁止
剤)62.4mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時
間反応した。反応溶液をアセトンに加え、ポリマーを沈
殿させ、よく洗浄して末端メタクリレートマクロモノマ
ーを23.4g(分子量1.43×103)得た(P‐
2)。
有層塗布液1を下記親水性ポリマー含有層塗布液2に代
えた以外は実施例1と同様にしてパターン形成材料2を
得た。製造過程における親水性ポリマー含有層塗布液2
の塗布面状は均一であった。 (親水性ポリマー含有層塗布液2) ・アクリルアミドマクロモノマー(P‐2) 2g ・水 18g
て得られたパターン形成材料2の表面を実施例1と同様
にしてエネルギーを付与し、画像様の親水性パターンを
形成した。次に、このパターン形成材料2をリスロン印
刷機に装着し、湿し水としてIF201(2.5%)、
IF202(0.75%)〔富士写真フイルム(株)
製〕、インクとしてGEOS−G墨〔大日本インキ化学
工業(株)製〕を供給して、通常通り印刷を行った。得
られた印刷物の画像部が良好に形成されているかどう
か、および非画像部に汚れが生じていないかを観察した
ところ、画像部のヌケや非画像部の汚れのない良好な画
質の印刷物が得られた。その後、1万枚の印刷を継続し
たが、1万枚の印刷が終了した時点でも、画像部のかす
れや非画像部の汚れの発生もなく、良好な印刷物が得ら
れ、本発明のパターン形成材料を平版印刷版原版として
用いた場合、印刷物の画質、耐刷性ともに良好であるこ
とがわかった。
ターン形成材料1の表面にエネルギーを付与し、画像様
の親水性パターンを形成したものを、実施例2と同様に
して平版印刷版原版として用い、印刷を行ったところ、
画像部のかすれや非画像部の汚れのない良好な印刷物が
1万枚得られ、印刷物の画質、耐刷性ともに良好である
ことがわかった。
光或いは加熱により高感度で画像を形成することがで
き、画像形成材料の面積に係わらず、高解像度で、鮮鋭
度の高い画像が得られ、且つ、赤外線レーザ等を操作す
ることによりデジタルデータに基づき直接画像形成が可
能であるという効果を奏する。また、このパターン形成
材料を用いた画像形成方法によれば、鮮鋭な画像を容易
に形成することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を
有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてな
るパターン形成材料であって、 該パターン形成材料に画像様にエネルギーを付与して疎
水性ポリマー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリ
マーを直接化学結合させて親水性パターンを形成するこ
とを特徴とするパターン形成材料。 - 【請求項2】 前記パターン形成材料が、疎水性ポリマ
ー含有層上に、重合性基を有する親水性ポリマーを含有
する組成物からなる上層を積層してなる構成を有するこ
とを特徴とする請求項1に記載のパターン形成材料。 - 【請求項3】 前記疎水性ポリマー含有層に、エネルギ
ー付与により重合開始能を発現する化合物を含有するこ
とを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のパターン
形成材料。 - 【請求項4】 疎水性ポリマー含有層上に、重合性基を
有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させてな
るパターン形成材料に、 画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層
上に重合性基を有する親水性ポリマーを直接化学結合さ
せて親水性パターンを形成し、 該親水性パターン、或いはエネルギーを付与されていな
い疎水性領域のいずれかに可視画像を形成可能な有機又
は無機分子を付着させることを特徴とする画像形成方
法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001314363A JP3768857B2 (ja) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | パターン形成材料及び画像形成方法 |
| US10/268,095 US7045276B2 (en) | 2001-10-11 | 2002-10-10 | Hydrophilic member precursor and pattern forming material that utilizes it, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor |
| EP02022949A EP1302504B1 (en) | 2001-10-11 | 2002-10-11 | Hydrophilic member precursor and pattern forming material that utilizes it, support for planographic printing plate, and planographic printing plate precursor |
| DE60232488T DE60232488D1 (de) | 2001-10-11 | 2002-10-11 | Vorläufer eines hydrophilen Elements und Bilderzeugungsmaterial welches dieses Element verwendet, Träger für Flachdruckplatte und Flachdruckplattenvorläufer |
| AT02022949T ATE432958T1 (de) | 2001-10-11 | 2002-10-11 | Vorläufer eines hydrophilen elements und bilderzeugungsmaterial welches dieses element verwendet, träger für flachdruckplatte und flachdruckplattenvorläufer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001314363A JP3768857B2 (ja) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | パターン形成材料及び画像形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003122000A true JP2003122000A (ja) | 2003-04-23 |
| JP3768857B2 JP3768857B2 (ja) | 2006-04-19 |
Family
ID=19132691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001314363A Expired - Fee Related JP3768857B2 (ja) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | パターン形成材料及び画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3768857B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007237517A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3980351B2 (ja) * | 2001-08-03 | 2007-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法 |
-
2001
- 2001-10-11 JP JP2001314363A patent/JP3768857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007237517A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3768857B2 (ja) | 2006-04-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3847381B2 (ja) | 感光性組成物、感光性平版印刷版及びそれを用いた画像形成方法 | |
| US4034183A (en) | Process for the production of planographic printing forms by means of laser beams | |
| AU2002333253B2 (en) | Photosensitive, flexo printing element and method for the production of newspaper flexo printing plates | |
| EP0771645B1 (en) | On-press development of a lithographic printing plate having an aryldiazosulfonate resin in a photosensitive layer | |
| JP6718020B2 (ja) | 感熱保護層を有する感熱性無処理型平版印刷版材料及びその使用方法 | |
| JP2002249504A (ja) | 光重合性組成物 | |
| CN104985914B (zh) | 包含两层感光层的可水显影的光聚合型平版印刷版材料及其应用 | |
| JPS585798B2 (ja) | 平版印刷版用不感脂化液およびそれを用いる平版印刷版の製造方法 | |
| JP2003114525A (ja) | 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法 | |
| JP2009063873A (ja) | 感光性印刷版原版 | |
| US20060073417A1 (en) | Photopolymer plate and method for imaging the surface of a photopolymer plate | |
| EP0934825B1 (en) | Screen printing stencil production | |
| JP2003188498A (ja) | 導電性パターン材料及び導電性パターン形成方法 | |
| JP3768857B2 (ja) | パターン形成材料及び画像形成方法 | |
| JP3882811B2 (ja) | 感光性平版印刷版及びその製版方法 | |
| JPH11194500A (ja) | スクリーン印刷ステンシル | |
| JP2003345028A (ja) | パターン形成方法 | |
| JP3470254B2 (ja) | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 | |
| US5912105A (en) | Thermally imageable material | |
| JPH0958143A (ja) | 平版印刷用原版及び平版印刷版の作製方法 | |
| WO2002011996A1 (fr) | Materiau de bloc lithographique du type a enregistrement thermosensible, procede de preparation de ce bloc et un tel bloc ainsi realise | |
| JPS60263141A (ja) | 光重合性感光材料 | |
| JP2003287885A (ja) | 画像形成方法 | |
| EP0851296B1 (en) | Thermally imageable material | |
| JPH0456863A (ja) | 平版印刷版の製版方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040302 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060119 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060131 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060202 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090210 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100210 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110210 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120210 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130210 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |