JP2003122025A - ポジ型感光性平版印刷版の作製方法 - Google Patents
ポジ型感光性平版印刷版の作製方法Info
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外線レーザ光ビームの走査記録方式に適合
し、経時安定性、即ち保存性、耐傷性等の現像前の状態
が安定なものとなり、画像形成時の現像の際、感光層露
光部の溶解性が良く、現像許容性に優れ、良好な画像を
形成し得るポジ型感光性平版印刷版を、高い生産性で、
効率よく連続製造が可能な作製方法を提供する。 【解決手段】 光熱変換物質及びフェノール性水酸基を
有するアルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光層
を有するポジ型感光性平版印刷版に、60秒以内の蒸気
処理を行うことを特徴とする。
し、経時安定性、即ち保存性、耐傷性等の現像前の状態
が安定なものとなり、画像形成時の現像の際、感光層露
光部の溶解性が良く、現像許容性に優れ、良好な画像を
形成し得るポジ型感光性平版印刷版を、高い生産性で、
効率よく連続製造が可能な作製方法を提供する。 【解決手段】 光熱変換物質及びフェノール性水酸基を
有するアルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光層
を有するポジ型感光性平版印刷版に、60秒以内の蒸気
処理を行うことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できるポジ型感光性平版印刷版の作製方
法に関するものであり、特にコンピュータ等のディジタ
ル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の
赤外線レーザ用ポジ型感光性平版印刷版の作製方法に関
する。
ターとして使用できるポジ型感光性平版印刷版の作製方
法に関するものであり、特にコンピュータ等のディジタ
ル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の
赤外線レーザ用ポジ型感光性平版印刷版の作製方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。
【0003】赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料は、
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等(光熱変換物質)とを必須成分
とし、光熱変換物質等が、未露光部(画像部)では、バ
インダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解
性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部
(非画像部)では、発生した熱により光熱変換物質等と
バインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に
溶解して平版印刷版を形成する。例えば特開平6−43
633号公報には、特定のスクリリウム色素に光酸発生
剤およびバインダーを組合せた感光材料が開示されてい
る。更にこれに類する技法として赤外線吸収色素、潜伏
性ブレンステッド酸、レゾール樹脂およびノボラック樹
脂を含む感光層を半導体レーザ等により像状に露光し平
版印刷版を作製する技術が提案されており(特開平7−
20629号公報)、更に、前記潜伏性ブレンステッド
酸に代えs−トリアジン化合物を用いる技術も開示され
ている(特開平7−271029号公報)。
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等(光熱変換物質)とを必須成分
とし、光熱変換物質等が、未露光部(画像部)では、バ
インダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解
性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部
(非画像部)では、発生した熱により光熱変換物質等と
バインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に
溶解して平版印刷版を形成する。例えば特開平6−43
633号公報には、特定のスクリリウム色素に光酸発生
剤およびバインダーを組合せた感光材料が開示されてい
る。更にこれに類する技法として赤外線吸収色素、潜伏
性ブレンステッド酸、レゾール樹脂およびノボラック樹
脂を含む感光層を半導体レーザ等により像状に露光し平
版印刷版を作製する技術が提案されており(特開平7−
20629号公報)、更に、前記潜伏性ブレンステッド
酸に代えs−トリアジン化合物を用いる技術も開示され
ている(特開平7−271029号公報)。
【0004】これら従来の方法は、実用上、感度や保存
性が必ずしも充分ではなく、更に製版工程時において露
光後のプレーヒート(加熱処理)が必要であり、作業時
間および機器のスペースならびに設備コストにおいて問
題があった。またプレーヒートの温度が感度や耐刷性、
耐薬性に大きく影響するため、ユーザーでの温度管理が
厳しく求められた。こういった問題を解決すべく加熱処
理の要らない熱変換型のポジ型感光性平版印刷版とし
て、特開平8−207013号公報が提案されており、
ノボラック樹脂とシアニン色素ならびに溶解抑止スルホ
ン酸エステル類の組み合わせによるアルカリ性現像液に
不溶解な感光層膜を形成し、レーザを走査することによ
り可溶解性に変化させ画像を形成するという技術も開示
されている。また、これと同様な技術が、WO97/3
9384にも開示されている。
性が必ずしも充分ではなく、更に製版工程時において露
光後のプレーヒート(加熱処理)が必要であり、作業時
間および機器のスペースならびに設備コストにおいて問
題があった。またプレーヒートの温度が感度や耐刷性、
耐薬性に大きく影響するため、ユーザーでの温度管理が
厳しく求められた。こういった問題を解決すべく加熱処
理の要らない熱変換型のポジ型感光性平版印刷版とし
て、特開平8−207013号公報が提案されており、
ノボラック樹脂とシアニン色素ならびに溶解抑止スルホ
ン酸エステル類の組み合わせによるアルカリ性現像液に
不溶解な感光層膜を形成し、レーザを走査することによ
り可溶解性に変化させ画像を形成するという技術も開示
されている。また、これと同様な技術が、WO97/3
9384にも開示されている。
【0005】従来のレーザー露光ポジ型感光性平版印刷
版は、上述のように、光酸発生剤等を感光剤に配合し、
レーザ光のエネルギーを用いて添加剤を化学変化させる
ことによって感光層の溶解性を上げる方法が採用されて
いるのに対し、特開平8−207013号公報に開示さ
れたポジ型感光性平版印刷版は、感光層のアルカリ可溶
性が、レーザー光照射によって生じる熱そのものによっ
て増大することが最大の特徴であり、感光層のアルカリ
可溶性が増大する際に、実質的に化学変化を生じないも
のである。また、溶解抑止剤その他の添加剤に、紫外線
(UV)非感光性のものを使用すれば、感光層がUVに
非感光となり、白色灯下でも作業を行うことができると
いう利点を有する。
版は、上述のように、光酸発生剤等を感光剤に配合し、
レーザ光のエネルギーを用いて添加剤を化学変化させる
ことによって感光層の溶解性を上げる方法が採用されて
いるのに対し、特開平8−207013号公報に開示さ
れたポジ型感光性平版印刷版は、感光層のアルカリ可溶
性が、レーザー光照射によって生じる熱そのものによっ
て増大することが最大の特徴であり、感光層のアルカリ
可溶性が増大する際に、実質的に化学変化を生じないも
のである。また、溶解抑止剤その他の添加剤に、紫外線
(UV)非感光性のものを使用すれば、感光層がUVに
非感光となり、白色灯下でも作業を行うことができると
いう利点を有する。
【0006】しかしながら、このような赤外線レーザ用
ポジ型平版印刷版用原版では、様々な使用条件における
未露光部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光
部(非画像部)の溶解性との間の差が未だ十分とは言え
ず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きや
すいという問題があった。光エネルギーを熱に変換して
熱により化学変化を進める場合、照射時間が極めて短い
ことから、光熱変換物質の添加量を増加して熱変換量を
多くしようとすると、感光層の表面近傍で光が吸収され
てしまい、内部の層では、光は、減衰するため反応が極
端に悪くなる。その結果、溶解スピードが膜の下層部に
向かって減衰してしまい照射部全体の溶解時間は促進さ
れず感度を上げることに対し限界が生じるという問題が
あった。
ポジ型平版印刷版用原版では、様々な使用条件における
未露光部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光
部(非画像部)の溶解性との間の差が未だ十分とは言え
ず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きや
すいという問題があった。光エネルギーを熱に変換して
熱により化学変化を進める場合、照射時間が極めて短い
ことから、光熱変換物質の添加量を増加して熱変換量を
多くしようとすると、感光層の表面近傍で光が吸収され
てしまい、内部の層では、光は、減衰するため反応が極
端に悪くなる。その結果、溶解スピードが膜の下層部に
向かって減衰してしまい照射部全体の溶解時間は促進さ
れず感度を上げることに対し限界が生じるという問題が
あった。
【0007】この問題に対し該感光層の膜厚を薄くする
ことが考えられるが、熱変換型の感光層の場合、薄くし
すぎると支持体等への熱拡散量が増えるため逆に感度が
低下する問題があった。
ことが考えられるが、熱変換型の感光層の場合、薄くし
すぎると支持体等への熱拡散量が増えるため逆に感度が
低下する問題があった。
【0008】更に、現像ラチチュードについて、赤外線
レーザ用ポジ型平版印刷版用原版材料においては、光熱
変換物質(赤外線吸収剤等)は、未露光部(画像部)の
溶解阻止剤として働くのみで、露光部(非画像部)の溶
解を促進するものではない。従って、赤外線レーザ用ポ
ジ型平版印刷版用原版材料において、未露光部と露光部
との溶解性の差を出すためには、バインダー樹脂とし
て、あらかじめアルカリ現像液に対する溶解性の高いも
のを使用せざるを得ず、るといった問題を抱えていた。
特に耐薬品性や耐刷性を向上させるために感光層の中の
バインダー成分(高分子物質)の分子量等を変更すると
アルカリ溶解性が悪くなり現像性に難を与えた。このよ
うに常に該耐薬品性および保存性ならびに耐刷性は、感
度や現像性といった性能に対して相反し、ポジ型感光性
平版印刷版として要求される性能としては、満足いくも
のではなかった。
レーザ用ポジ型平版印刷版用原版材料においては、光熱
変換物質(赤外線吸収剤等)は、未露光部(画像部)の
溶解阻止剤として働くのみで、露光部(非画像部)の溶
解を促進するものではない。従って、赤外線レーザ用ポ
ジ型平版印刷版用原版材料において、未露光部と露光部
との溶解性の差を出すためには、バインダー樹脂とし
て、あらかじめアルカリ現像液に対する溶解性の高いも
のを使用せざるを得ず、るといった問題を抱えていた。
特に耐薬品性や耐刷性を向上させるために感光層の中の
バインダー成分(高分子物質)の分子量等を変更すると
アルカリ溶解性が悪くなり現像性に難を与えた。このよ
うに常に該耐薬品性および保存性ならびに耐刷性は、感
度や現像性といった性能に対して相反し、ポジ型感光性
平版印刷版として要求される性能としては、満足いくも
のではなかった。
【0009】更に上記のような問題を解決するため、特
開2001−133965号公報において、支持体上に
感光性組成物を塗布した後、エージング工程として、水
分含有量が1〜7重量%である保護材と重ね合わせた状
態で、加熱下に保持する等の処理を好ましくは10時間
以上処理することにより、感光層中に拡散反応する水分
を供給する方法が考案されているが、エージング処理に
長時間を要し、生産性の面で問題がある。
開2001−133965号公報において、支持体上に
感光性組成物を塗布した後、エージング工程として、水
分含有量が1〜7重量%である保護材と重ね合わせた状
態で、加熱下に保持する等の処理を好ましくは10時間
以上処理することにより、感光層中に拡散反応する水分
を供給する方法が考案されているが、エージング処理に
長時間を要し、生産性の面で問題がある。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記の問題を解決することであり、赤外線レーザ光
ビームの走査記録方式に適合し、経時安定性、即ち保存
性、耐傷性等の現像前の状態が安定なものとなり、画像
形成時の現像の際、感光層露光部の溶解性が良く、現像
許容性に優れ、良好な画像を形成し得るポジ型感光性平
版印刷版を提供することである。本発明の他の目的は、
高い生産性で、効率よく連続製造が可能なポジ型感光性
平版印刷版の作製方法を提供することにある。
は、上記の問題を解決することであり、赤外線レーザ光
ビームの走査記録方式に適合し、経時安定性、即ち保存
性、耐傷性等の現像前の状態が安定なものとなり、画像
形成時の現像の際、感光層露光部の溶解性が良く、現像
許容性に優れ、良好な画像を形成し得るポジ型感光性平
版印刷版を提供することである。本発明の他の目的は、
高い生産性で、効率よく連続製造が可能なポジ型感光性
平版印刷版の作製方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、以下の作成方法を採
用することにより、上記課題が解決されることを見出し
た。即ち本発明は以下の通りである。 (1)光熱変換物質及びフェノール性水酸基を有するア
ルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光層を有する
ポジ型感光性平版印刷版に、60秒以内の蒸気処理を行
うことを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の作製方
法。 (2)光熱変換物質及びフェノール性水酸基を有するア
ルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光性組成物の
塗布液を、支持体上に塗布・乾燥後、連続して蒸気処理
を行うことを特徴とする前記(1)記載のポジ型感光性
平版印刷版の作製方法。 (3)蒸気処理後、更に乾燥を行うことを特徴とする前
記(1)または(2)記載のポジ型感光性平版印刷版の
作製方法。
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、以下の作成方法を採
用することにより、上記課題が解決されることを見出し
た。即ち本発明は以下の通りである。 (1)光熱変換物質及びフェノール性水酸基を有するア
ルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光層を有する
ポジ型感光性平版印刷版に、60秒以内の蒸気処理を行
うことを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の作製方
法。 (2)光熱変換物質及びフェノール性水酸基を有するア
ルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光性組成物の
塗布液を、支持体上に塗布・乾燥後、連続して蒸気処理
を行うことを特徴とする前記(1)記載のポジ型感光性
平版印刷版の作製方法。 (3)蒸気処理後、更に乾燥を行うことを特徴とする前
記(1)または(2)記載のポジ型感光性平版印刷版の
作製方法。
【0012】本発明のポジ型感光性平版印刷版の作製方
法は、支持体上に感光層塗布液を塗布・乾燥後、60秒
以内の蒸気付与処理を行うことにより、赤外線レーザ記
録方式に適合し、経時安定性、即ち保存性、耐傷性等の
現像前の状態が安定なものとなり、画像形成時の現像の
際、感光層露光部の溶解性が良く、現像許容性に優れ、
良好な画像を形成し得るポジ型感光性平版印刷版を得る
ことができる。その理由である作用機構は、推測の域を
でないが、蒸気付与処理(蒸気処理ともいう)により、
光熱変換物質及びフェノール性水酸基を有するアルカリ
可溶性有機高分子物質が水分によつて安定した状態とな
り、アルカリ現像液に対する溶解性が変化するものと考
えられる。なお、本発明のポジ型感光性平版印刷版の作
製方法は、従来技術に示した特開2001−13396
5号公報におけるポジ型感光性平版印刷版、その製造方
法に比較して、効率よく連続製造が可能であり、生産性
が高く、コスト面で有利な製造方法である。
法は、支持体上に感光層塗布液を塗布・乾燥後、60秒
以内の蒸気付与処理を行うことにより、赤外線レーザ記
録方式に適合し、経時安定性、即ち保存性、耐傷性等の
現像前の状態が安定なものとなり、画像形成時の現像の
際、感光層露光部の溶解性が良く、現像許容性に優れ、
良好な画像を形成し得るポジ型感光性平版印刷版を得る
ことができる。その理由である作用機構は、推測の域を
でないが、蒸気付与処理(蒸気処理ともいう)により、
光熱変換物質及びフェノール性水酸基を有するアルカリ
可溶性有機高分子物質が水分によつて安定した状態とな
り、アルカリ現像液に対する溶解性が変化するものと考
えられる。なお、本発明のポジ型感光性平版印刷版の作
製方法は、従来技術に示した特開2001−13396
5号公報におけるポジ型感光性平版印刷版、その製造方
法に比較して、効率よく連続製造が可能であり、生産性
が高く、コスト面で有利な製造方法である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に本発明のポジ型感光性平版
印刷版の作製方法について詳細に説明する。本発明にお
けるポジ型感光性平版印刷版の作製方法は、支持体上に
感光層塗布液を塗布・乾燥後、60秒以内の蒸気付与処
理を行うことを特徴とする。本発明の蒸気付与処理は、
図1に配置図で示すように、感光層塗布機の乾燥部2の
下流側位置に設けられた、水分付与手段(蒸気付与装置
ともいう)3により行われ、塗布機に直結したオンライ
ン工程で実施される。従って、通常の乾燥部2を通過し
て搬送される平版印刷版用原版の連続シートに対して水
分を付与するため、効率よく水分を付与したポジ型感光
性平版印刷版の連続製造が可能であり、生産性が高い作
製方法であることが特徴である。
印刷版の作製方法について詳細に説明する。本発明にお
けるポジ型感光性平版印刷版の作製方法は、支持体上に
感光層塗布液を塗布・乾燥後、60秒以内の蒸気付与処
理を行うことを特徴とする。本発明の蒸気付与処理は、
図1に配置図で示すように、感光層塗布機の乾燥部2の
下流側位置に設けられた、水分付与手段(蒸気付与装置
ともいう)3により行われ、塗布機に直結したオンライ
ン工程で実施される。従って、通常の乾燥部2を通過し
て搬送される平版印刷版用原版の連続シートに対して水
分を付与するため、効率よく水分を付与したポジ型感光
性平版印刷版の連続製造が可能であり、生産性が高い作
製方法であることが特徴である。
【0014】前記蒸気付与装置は水蒸気をノズルから版
面へ直接当てるように構成されるものであるが、水蒸気
発生手段は特に限定するもではなく、種々の加熱方法で
水を水蒸気に変換する手段を適用することができる。蒸
気処理が60秒を超えると、版面への水分が過剰とな
り、ローラーや表面との接着の問題があり不適である。
また、感光層中に水分があると、経時での現像性変化が
起こりやすく好ましくないため、蒸気処理後、更に乾燥
を行うことが好ましい。蒸気処理における、蒸気圧は5
00〜2000mmAqの範囲が好ましいく、より好ま
しくは800〜1200mmAqの範囲である。
面へ直接当てるように構成されるものであるが、水蒸気
発生手段は特に限定するもではなく、種々の加熱方法で
水を水蒸気に変換する手段を適用することができる。蒸
気処理が60秒を超えると、版面への水分が過剰とな
り、ローラーや表面との接着の問題があり不適である。
また、感光層中に水分があると、経時での現像性変化が
起こりやすく好ましくないため、蒸気処理後、更に乾燥
を行うことが好ましい。蒸気処理における、蒸気圧は5
00〜2000mmAqの範囲が好ましいく、より好ま
しくは800〜1200mmAqの範囲である。
【0015】本発明において、ポジ型感光性平版印刷版
の感光層を構成するポジ型感光性組成物は、画像露光光
源の主として近赤外領域の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質を必須成分とする。ここで、この光熱変換物
質としては、吸収した光を熱に変換し得る化合物であれ
ば特に限定されないが、波長域650〜1300nmの
一部又は全部に吸収帯を有する光吸収色素が特に有効で
ある。これらの光吸収色素は、前記波長域の光を効率よ
く吸収する一方、紫外線領域の光は殆ど吸収しないか、
吸収しても実質的に感応せず、白色灯に含まれるような
弱い紫外線によっては感光性組成物を変性させる作用の
ない化合物である。
の感光層を構成するポジ型感光性組成物は、画像露光光
源の主として近赤外領域の光を吸収して熱に変換する光
熱変換物質を必須成分とする。ここで、この光熱変換物
質としては、吸収した光を熱に変換し得る化合物であれ
ば特に限定されないが、波長域650〜1300nmの
一部又は全部に吸収帯を有する光吸収色素が特に有効で
ある。これらの光吸収色素は、前記波長域の光を効率よ
く吸収する一方、紫外線領域の光は殆ど吸収しないか、
吸収しても実質的に感応せず、白色灯に含まれるような
弱い紫外線によっては感光性組成物を変性させる作用の
ない化合物である。
【0016】また感光層は、水不溶性且つアルカリ可溶
性樹脂を含有する。以下、本発明の製版方法が適用され
る平版印刷版用原版の各構成成分について説明する。 〔光熱変換物質〕本発明において、感光層に用いられる
光熱変換物質は、赤外光を吸収し熱を発生する染料であ
れば特に制限はなく、光熱変換物質として知られる種々
の染料を用いることができる。
性樹脂を含有する。以下、本発明の製版方法が適用され
る平版印刷版用原版の各構成成分について説明する。 〔光熱変換物質〕本発明において、感光層に用いられる
光熱変換物質は、赤外光を吸収し熱を発生する染料であ
れば特に制限はなく、光熱変換物質として知られる種々
の染料を用いることができる。
【0017】本発明に係る光熱変換物質としては、市販
の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会
編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利
用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、
ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシア
ニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチ
ン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明
において、これらの染料のうち赤外光、もしくは近赤外
光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光す
るレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会
編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利
用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、
ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシア
ニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチ
ン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。本発明
において、これらの染料のうち赤外光、もしくは近赤外
光を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光す
るレーザでの利用に適する点で特に好ましい。
【0018】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する染料としては例えば特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号公報等に記載され
ているナフトキノン染料、 特開昭58−112792
号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特
許434,875号記載のシアニン染料等を挙げること
ができる。
収する染料としては例えば特開昭58−125246
号、特開昭59−84356号、特開昭59−2028
29号、特開昭60−78787号等に記載されている
シアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭5
8−181690号、特開昭58−194595号等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号公報等に記載され
ているナフトキノン染料、 特開昭58−112792
号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特
許434,875号記載のシアニン染料等を挙げること
ができる。
【0019】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号公報に
記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−21
6146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,2
83,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩
等や特公平5−13514号、同5−19702号公報
に開示されているピリリウム化合物等が、市販品として
は、エポリン社製のEpolight III−178、E
polight III−130、Epolight III−
125等が、特に好ましく用いられる。
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号公報に
記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−21
6146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,2
83,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩
等や特公平5−13514号、同5−19702号公報
に開示されているピリリウム化合物等が、市販品として
は、エポリン社製のEpolight III−178、E
polight III−130、Epolight III−
125等が、特に好ましく用いられる。
【0020】感光層に用いられる光熱変換物質で特に好
ましいものとして米国特許第4,756,993号明細
書中に式(I)、(II)として記載されている近光熱変
換物質を挙げることができる。該色素はアルカリ可溶性
樹脂と非常に強い相互作用を示し、感光層の未露光部耐
アルカリ現像液性において優れる。感光層の光熱変換物
質の添加量は感光層重量に対し、3〜50%であり、好
ましくは5〜40%、更に好ましくは8〜35%であ
る。光熱変換物質の添加量が3%未満であると感度が低
くなり、また50%を超えると感光層の均一性が失わ
れ、感光層の耐久性が悪くなる。
ましいものとして米国特許第4,756,993号明細
書中に式(I)、(II)として記載されている近光熱変
換物質を挙げることができる。該色素はアルカリ可溶性
樹脂と非常に強い相互作用を示し、感光層の未露光部耐
アルカリ現像液性において優れる。感光層の光熱変換物
質の添加量は感光層重量に対し、3〜50%であり、好
ましくは5〜40%、更に好ましくは8〜35%であ
る。光熱変換物質の添加量が3%未満であると感度が低
くなり、また50%を超えると感光層の均一性が失わ
れ、感光層の耐久性が悪くなる。
【0021】以下に光熱変換物質の具体例を示すが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
【0022】
【化1】
【0023】〔アルカリ可溶性高分子〕本発明におい
て、感光層に使用される水不溶性且つアルカリ水溶性の
高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性高分子と称
する)とは、高分子中の主鎖および/または側鎖に酸性
基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれ
らの混合物を包含する。従って、本発明に係る高分子層
は、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有す
るものである。本発明の感光層に使用されるアルカリ可
溶性高分子は、従来公知のものであれば特に制限はない
が、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド
基、(3)活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に
有する高分子化合物であることが好ましい。例えば以下
のものが例示されるが、これらに限定されるものではな
い。
て、感光層に使用される水不溶性且つアルカリ水溶性の
高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性高分子と称
する)とは、高分子中の主鎖および/または側鎖に酸性
基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれ
らの混合物を包含する。従って、本発明に係る高分子層
は、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有す
るものである。本発明の感光層に使用されるアルカリ可
溶性高分子は、従来公知のものであれば特に制限はない
が、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド
基、(3)活性イミド基のいずれかの官能基を分子内に
有する高分子化合物であることが好ましい。例えば以下
のものが例示されるが、これらに限定されるものではな
い。
【0024】(1)フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロー
ルアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有
する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール
性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好まし
い。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物と
しては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合を
それぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モ
ノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。
化合物としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレ
ゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m
−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロー
ルアセトン樹脂が挙げられる。フェノール性水酸基を有
する高分子化合物としてはこの他に、側鎖にフェノール
性水酸基を有する高分子化合物を用いることが好まし
い。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物と
しては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽和結合を
それぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モ
ノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられ
る。
【0025】フェノール性水酸基を有する重合性モノマ
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルア
クリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、
m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、
2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。
ーとしては、フェノール性水酸基を有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられ
る。具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)アクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミ
ド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒドロ
キシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニルア
クリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレート、
m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒドロキ
シフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレン、
m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、2
−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、
2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート等を好適に使用することができる。かかるフェノー
ル性水酸基を有する樹脂は、2種類以上を組み合わせて
使用してもよい。更に、米国特許第4,123,279
号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体を併用してもよい。
【0026】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有す
る重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の
重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が
挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマー
としては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの
水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2−
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基
と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換ス
ルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
可溶性高分子化合物としては、スルホンアミド基を有す
る重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の
重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が
挙げられる。スルホンアミド基を有する重合性モノマー
としては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも1つの
水素原子が結合したスルホンアミド基−NH−SO2−
と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ1つ以上有する低
分子化合物からなる重合性モノマーが挙げられる。その
中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基
と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換ス
ルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好ましい。
【0027】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物は、活性イミド基を分子内に有するもの
が好ましく、この高分子化合物としては、1分子中に活
性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上
有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重
合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合さ
せて得られる高分子化合物が挙げられる。
性高分子化合物は、活性イミド基を分子内に有するもの
が好ましく、この高分子化合物としては、1分子中に活
性イミド基と重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上
有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重
合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合さ
せて得られる高分子化合物が挙げられる。
【0028】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
【0029】更に、本発明のアルカリ可溶性高分子化合
物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及
び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以
上を重合させた高分子化合物、或いはこれら2種以上の
重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得
られる高分子化合物を使用することが好ましい。フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を
有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら
成分の配合重量比は50:50から5:95の範囲にあ
ることが好ましく、40:60から10:90の範囲に
あることが特に好ましい。
物としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、及
び活性イミド基を有する重合性モノマーのうちの2種以
上を重合させた高分子化合物、或いはこれら2種以上の
重合性モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得
られる高分子化合物を使用することが好ましい。フェノ
ール性水酸基を有する重合性モノマーに、スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマー及び/又は活性イミド基を
有する重合性モノマーを共重合させる場合には、これら
成分の配合重量比は50:50から5:95の範囲にあ
ることが好ましく、40:60から10:90の範囲に
あることが特に好ましい。
【0030】本発明において、アルカリ可溶性高分子が
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの
共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモ
ノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル
%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10モル
%より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやす
く、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないこ
とがある。
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーと、他の重合性モノマーとの
共重合体である場合には、アルカリ可溶性を付与するモ
ノマーは10モル%以上含むことが好ましく、20モル
%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10モル
%より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやす
く、現像ラチチュードの向上効果が十分達成されないこ
とがある。
【0031】前記フェノール性水酸基を有する重合性モ
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、下記(m1)〜(m12)に挙
げる化合物を例示することができるが、これらに限定さ
れるものではない。 (m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキ
ルメタクリレート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
ノマー、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、又
は活性イミド基を有する重合性モノマーと共重合させる
モノマー成分としては、下記(m1)〜(m12)に挙
げる化合物を例示することができるが、これらに限定さ
れるものではない。 (m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキ
ルメタクリレート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【0032】(m5)エチルビニルエーテル、2−クロ
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 (m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等。 (m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 (m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等。 (m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【0033】アルカリ水可溶性高分子化合物としては、
赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点
で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例え
ば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/
p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂
等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ま
しく挙げられる。
赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点
で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例え
ば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/
p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂
等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ま
しく挙げられる。
【0034】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ水可溶性高分子化合物としては、更に、米国特許第
4,123,279号明細書に記載されているように、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜
8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
リ水可溶性高分子化合物としては、更に、米国特許第
4,123,279号明細書に記載されているように、
t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜
8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
【0035】アルカリ水可溶性高分子化合物の共重合の
方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、
ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることが
できる。
方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、
ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることが
できる。
【0036】本発明においてアルカリ可溶性高分子が、
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体
の場合、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子
量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重
量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均
分子量が800〜250,000であり、分散度(重量
平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。また、本発明においてアルカリ可溶性高分子がフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹
脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜
20,000であり、数平均分子量が200〜10,0
00のものが好ましい。
前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、スル
ホンアミド基を有する重合性モノマー、又は活性イミド
基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体
の場合、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子
量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重
量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均
分子量が800〜250,000であり、分散度(重量
平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。また、本発明においてアルカリ可溶性高分子がフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹
脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜
20,000であり、数平均分子量が200〜10,0
00のものが好ましい。
【0037】これらアルカリ可溶性高分子化合物は、そ
れぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用して
もよく、前記感光層全固形分中、30〜99重量%、好
ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90
重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性高分子の
添加量が30重量%未満であると感光層の耐久性が悪化
し、また、99重量%を超えると感度、耐久性の両面で
好ましくない。
れぞれ1種類或いは2種類以上を組み合わせて使用して
もよく、前記感光層全固形分中、30〜99重量%、好
ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90
重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性高分子の
添加量が30重量%未満であると感光層の耐久性が悪化
し、また、99重量%を超えると感度、耐久性の両面で
好ましくない。
【0038】〔その他の成分〕前記ポジ型感光層を形成
するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果
を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の
添加剤を添加することができる。以下に、添加剤の例を
挙げて説明する。例えばオニウム塩、o−キノンジアジ
ド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エ
ステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態では
アルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下
させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解
阻止性の向上、及び表面硬度の向上を図る点では好まし
い。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム
塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム
塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることが
できる。
するにあたっては、上記の必須成分の他、本発明の効果
を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の
添加剤を添加することができる。以下に、添加剤の例を
挙げて説明する。例えばオニウム塩、o−キノンジアジ
ド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エ
ステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態では
アルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低下
させる物質を併用することは、画像部の現像液への溶解
阻止性の向上、及び表面硬度の向上を図る点では好まし
い。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム
塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム
塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることが
できる。
【0039】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng.,18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al,Macromolecule
s, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.O
rg.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. Po
lymer Sci., Polymer Chem.Ed.,22, 1789 (1984) 、J.
V. Crivello et al,Polymer Bull., 14, 279 (1985) 、
J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,1141
(1981)、J. V. Crivelloet al, J. PolymerSci., Polym
er Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第370,693
号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442 号、米国
特許第4,933,377号、同3,902,114 号、同410,201 号、
同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,
833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580
号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J. V. Cr
ivello et al,Macromorecules, 10(6), 1307 (1977)、
J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Che
m.Ed.,17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C.
S. Wen et al, Teh,Proc.Conf.Rad. Curing ASIA, p478
Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等があげら
れる。オニウム塩のなかでも、表面硬度の向上の点から
ジアゾニウム塩及びアンモニウム塩が特に好ましい。ま
た、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−15
8230号公報記載のもの、特に好適なアンモニウム塩
としては特願2001-029890号記載のものがあげられる。
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng.,18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056 号、特開平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al,Macromolecule
s, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国
特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニ
ウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049
号、同第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-2965
14号に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello et al, P
olymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J.O
rg.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. Po
lymer Sci., Polymer Chem.Ed.,22, 1789 (1984) 、J.
V. Crivello et al,Polymer Bull., 14, 279 (1985) 、
J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,1141
(1981)、J. V. Crivelloet al, J. PolymerSci., Polym
er Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第370,693
号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442 号、米国
特許第4,933,377号、同3,902,114 号、同410,201 号、
同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,
833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580
号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J. V. Cr
ivello et al,Macromorecules, 10(6), 1307 (1977)、
J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Che
m.Ed.,17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C.
S. Wen et al, Teh,Proc.Conf.Rad. Curing ASIA, p478
Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等があげら
れる。オニウム塩のなかでも、表面硬度の向上の点から
ジアゾニウム塩及びアンモニウム塩が特に好ましい。ま
た、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−15
8230号公報記載のもの、特に好適なアンモニウム塩
としては特願2001-029890号記載のものがあげられる。
【0040】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
【0041】表面硬度を0.50GPa以上にする手段
としてオニウム系溶解抑制剤、好ましくはアンモニウム
系溶解抑制剤を用いる場合、添加量は上部感光層の1〜1
5重量%、好ましくは3〜10重量%である。単層型の感光
層に本方法を適応すると感光層の感度が著しく低下し現
実的ではないが、アルカリ可溶性樹脂を有する下層との
組合せにおいては、感度を低下させることなく上部感光
層へ所定の溶解抑制剤の添加を行うことが出来る。但
し、添加量が15重量%を超えると重層系においても感
度低下の懸念がある。
としてオニウム系溶解抑制剤、好ましくはアンモニウム
系溶解抑制剤を用いる場合、添加量は上部感光層の1〜1
5重量%、好ましくは3〜10重量%である。単層型の感光
層に本方法を適応すると感光層の感度が著しく低下し現
実的ではないが、アルカリ可溶性樹脂を有する下層との
組合せにおいては、感度を低下させることなく上部感光
層へ所定の溶解抑制剤の添加を行うことが出来る。但
し、添加量が15重量%を超えると重層系においても感
度低下の懸念がある。
【0042】また、画像のディスクリミネーション(疎
水性/親水性の識別性)の強化や表面のキズに対する抵
抗力を強化する目的で、特開2000−187318号
公報に記載されているような、分子中に炭素数3〜20
のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)
アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用する
こと好ましい。このような化合物は、下層、上部感光層
のどちらに含有させてもよいが、より効果的なのは上部
に位置する感光層に含有させることである。添加量とし
ては、感光層材料中に占める割合が0.1〜10重量%
が好ましく、より好ましくは0.5〜5重量%である。
水性/親水性の識別性)の強化や表面のキズに対する抵
抗力を強化する目的で、特開2000−187318号
公報に記載されているような、分子中に炭素数3〜20
のパーフルオロアルキル基を2又は3個有する(メタ)
アクリレート単量体を重合成分とする重合体を併用する
こと好ましい。このような化合物は、下層、上部感光層
のどちらに含有させてもよいが、より効果的なのは上部
に位置する感光層に含有させることである。添加量とし
ては、感光層材料中に占める割合が0.1〜10重量%
が好ましく、より好ましくは0.5〜5重量%である。
【0043】本発明における印刷版材料中には、キズに
対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低
下させる化合物を添加することもできる。具体的には、
US6117913号公報に用いられているような、長
鎖アルキルカルボン酸のエステルなどを挙げることが出
来る。添加量として好ましいのは、層を形成する材料中
に占める割合が0.1〜10重量%。より好ましくは
0.5〜5重量%である。
対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低
下させる化合物を添加することもできる。具体的には、
US6117913号公報に用いられているような、長
鎖アルキルカルボン酸のエステルなどを挙げることが出
来る。添加量として好ましいのは、層を形成する材料中
に占める割合が0.1〜10重量%。より好ましくは
0.5〜5重量%である。
【0044】また、本発明における感光層中には、必要
に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含んでもよ
い。酸性基としてはスルホン酸、カルボン酸、リン酸基
を挙げることが出来る。中でもスルホン酸基を有する化
合物が好ましい。具体的には、p−トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類や脂
肪族スルホン酸類を挙げることが出来る。このような化
合物の添加量として好ましいのは、層を形成する材料中
に占める割合が0.05〜5重量%。より好ましくは
0.1〜3重量%である。5%より多いと各層の現像液
に対する溶解性が増加してしまい、好ましくない。
に応じて低分子量の酸性基を有する化合物を含んでもよ
い。酸性基としてはスルホン酸、カルボン酸、リン酸基
を挙げることが出来る。中でもスルホン酸基を有する化
合物が好ましい。具体的には、p−トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類や脂
肪族スルホン酸類を挙げることが出来る。このような化
合物の添加量として好ましいのは、層を形成する材料中
に占める割合が0.05〜5重量%。より好ましくは
0.1〜3重量%である。5%より多いと各層の現像液
に対する溶解性が増加してしまい、好ましくない。
【0045】また、本発明においては、感光層の溶解性
を調節、感光層の表面硬度を上げる目的で前述したもの
以外の種々の溶解抑制剤を含んでもよい。それら溶解抑
制剤としては、特開平11−119418号公報に示さ
れるようなジスルホン化合物又はスルホン化合物が好適
に用いられる。このような化合物の添加量として好まし
いのは、層を構成する材料中に占める割合が0.05〜
20重量%。より好ましくは0.5〜10重量%であ
る。
を調節、感光層の表面硬度を上げる目的で前述したもの
以外の種々の溶解抑制剤を含んでもよい。それら溶解抑
制剤としては、特開平11−119418号公報に示さ
れるようなジスルホン化合物又はスルホン化合物が好適
に用いられる。このような化合物の添加量として好まし
いのは、層を構成する材料中に占める割合が0.05〜
20重量%。より好ましくは0.5〜10重量%であ
る。
【0046】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の層を構成す
る材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ま
しく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好まし
くは0.1〜10重量%である。
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類及びカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の層を構成す
る材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ま
しく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好まし
くは0.1〜10重量%である。
【0047】本発明における感光層中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
50−36209号、同53−8128号の各公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭5
3−36223号、同54−74728号、同60−3
626号、同61−143748号、同61−1516
44号及び同63−58440号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
50−36209号、同53−8128号の各公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭5
3−36223号、同54−74728号、同60−3
626号、同61−143748号、同61−1516
44号及び同63−58440号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。
【0048】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で印刷版材料中に添加することができる。更に本発明の
印刷版材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与す
るために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリ
ル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシ
ル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸
トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒ
ドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴ
マー及びポリマー等が用いられる。
【0049】本発明の方法が適用される平版印刷版用原
版の感光層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当
な支持体上に塗布することにより形成することができ
る。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこ
れに限定されるものではない。これらの溶媒は単独ある
いは混合して使用される。
版の感光層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当
な支持体上に塗布することにより形成することができ
る。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチロラクトン、トルエン等をあげることができるがこ
れに限定されるものではない。これらの溶媒は単独ある
いは混合して使用される。
【0050】感光層を塗布する場合の溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上
の感光層の塗布量(固形分)は、用途によって異なる
が、感光層は0.5〜3.0g/m2であることが好ま
しく、塗布量が0.5g/m2未満であると被膜特性が
低下し、3.0g/m2を超えると感度が低下する傾向
にある。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は
大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上
の感光層の塗布量(固形分)は、用途によって異なる
が、感光層は0.5〜3.0g/m2であることが好ま
しく、塗布量が0.5g/m2未満であると被膜特性が
低下し、3.0g/m2を超えると感度が低下する傾向
にある。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は
大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。
【0051】塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。本発明における感光層中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1709
50号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、下層或い
は上部感光層全固形分中0.01〜1重量%、さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。本発明における感光層中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1709
50号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、下層或い
は上部感光層全固形分中0.01〜1重量%、さらに好
ましくは0.05〜0.5重量%である。
【0052】〔支持体〕本発明に使用される平版印刷版
用原版の支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた
寸度的に安定な板状物が挙げられ、例えば、紙、プラス
チック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、
アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム
(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき
金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプ
ラスチックフィルム等が含まれる。
用原版の支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた
寸度的に安定な板状物が挙げられ、例えば、紙、プラス
チック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、
アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム
(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき
金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプ
ラスチックフィルム等が含まれる。
【0053】本発明の支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸
着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム
合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。
ィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合
金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸
着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム
合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。
【0054】本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
【0055】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。
【0056】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【0057】本発明の方法により作製されるポジ型感光
性平版印刷版は、支持体上に感光層を設けたものである
が、必要に応じて支持体と感光層との間に下塗層を設け
ることができる。下塗層成分としては種々の有機化合物
が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン
酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有し
てもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、ア
ルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホ
スホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ
−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミ
ンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩
等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
性平版印刷版は、支持体上に感光層を設けたものである
が、必要に応じて支持体と感光層との間に下塗層を設け
ることができる。下塗層成分としては種々の有機化合物
が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デ
キストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン
酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有し
てもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、ア
ルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホ
スホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ
−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミ
ンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩
等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
【0058】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。
【0059】上記のようにして作製されたポジ型感光性
平版印刷版は、画像様に露光され、その後、現像処理を
施される。像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度
エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられ
る。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。
平版印刷版は、画像様に露光され、その後、現像処理を
施される。像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度
エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられ
る。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。
【0060】本発明の方法によって作製されるポジ型感
光性平版印刷版の現像液および補充液としては、従来か
ら知られているアルカリ水溶液を使用すればよい。該現
像液及び補充液に適用可能な公知のアルカリ水溶液に用
いられるアルカリ化合物としては、例えば、ケイ酸ナト
リウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウ
ム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。
また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルア
ミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、
ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらの
アルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用い
られる。これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水
溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素
SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によっ
て現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開
昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に
記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用
いられる。
光性平版印刷版の現像液および補充液としては、従来か
ら知られているアルカリ水溶液を使用すればよい。該現
像液及び補充液に適用可能な公知のアルカリ水溶液に用
いられるアルカリ化合物としては、例えば、ケイ酸ナト
リウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウ
ム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。
また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルア
ミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、
ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらの
アルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用い
られる。これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水
溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素
SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によっ
て現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開
昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に
記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用
いられる。
【0061】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版用原版を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液および補充液に
は、現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版
画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々
の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活
性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系お
よび両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液および補
充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、
亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カ
リウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬
水軟化剤を加えることもできる。
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷版用原版を処
理できることが知られている。本発明においてもこの補
充方式が好ましく適用される。現像液および補充液に
は、現像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版
画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々
の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活
性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系お
よび両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液および補
充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、
亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カ
リウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬
水軟化剤を加えることもできる。
【0062】上記現像液及び補充液を用いて現像処理さ
れた印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用す
る場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。
れた印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用す
る場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。
【0063】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0064】本発明に係る平版印刷版用原版において
は、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/
又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部
(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある
場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。こ
のような消去は、例えば特公平2−13293号公報に
記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、
そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより
行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号
公報に記載されているようなオプティカルファイバーで
導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像す
る方法も利用できる。
は、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/
又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部
(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある
場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。こ
のような消去は、例えば特公平2−13293号公報に
記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、
そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより
行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号
公報に記載されているようなオプティカルファイバーで
導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像す
る方法も利用できる。
【0065】以上のようにして本発明の製版方法により
得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布し
たのち、印刷工程に供することができるが、より一層の
高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理
が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。その方法としては、該整面液を浸み
込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布す
るか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗
布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用され
る。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージ
ローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ま
しい結果を与える。
得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布し
たのち、印刷工程に供することができるが、より一層の
高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理
が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。その方法としては、該整面液を浸み
込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布す
るか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗
布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用され
る。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージ
ローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ま
しい結果を与える。
【0066】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
【0067】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0068】
〈感光性平版印刷版A、Bの作製〉アルミニウム板(厚
さ0.24mm)を、3重量%水酸化ナトリウム浴中で6
0℃で1分間脱脂処理を行った後、12g/リットルの濃度
の塩酸浴中で25℃、80A/dm2の電流密度で10秒
間電解エッチング処理を行い、水洗後、10g/リットルの
濃度の水酸化ナトリウム浴中で50℃で3秒間デスマッ
ト処理し、水洗後、30重量%硫酸浴中で30℃、10
A/dm2の電流密度で15秒間陽極酸化処理を行った。
更に、90℃、pH9にて熱水封孔処理し、水洗、乾燥
して平版印刷版支持体用のアルミニウム板を作製した。
得られたアルミニウム板支持体表面に、下記感光液Aを
ワイヤーバーを用いて塗布し、表1記載の乾燥後の工程
条件を用い、乾燥膜厚が2.5g/m2のポジ型感光性組
成物層を有するポジ型感光性平版印刷版を作製した(実
施例1、2及び比較例1、2)。同様に、下記感光液B
をワイヤーバーを用いて塗布し、表1記載の乾燥後の工
程条件を用い、乾燥膜厚が1.8g/m2のポジ型感光性
組成物層(感光層)を有するポジ型感光性平版印刷版を
作製した(実施例3、4及び比較例3、4)。
さ0.24mm)を、3重量%水酸化ナトリウム浴中で6
0℃で1分間脱脂処理を行った後、12g/リットルの濃度
の塩酸浴中で25℃、80A/dm2の電流密度で10秒
間電解エッチング処理を行い、水洗後、10g/リットルの
濃度の水酸化ナトリウム浴中で50℃で3秒間デスマッ
ト処理し、水洗後、30重量%硫酸浴中で30℃、10
A/dm2の電流密度で15秒間陽極酸化処理を行った。
更に、90℃、pH9にて熱水封孔処理し、水洗、乾燥
して平版印刷版支持体用のアルミニウム板を作製した。
得られたアルミニウム板支持体表面に、下記感光液Aを
ワイヤーバーを用いて塗布し、表1記載の乾燥後の工程
条件を用い、乾燥膜厚が2.5g/m2のポジ型感光性組
成物層を有するポジ型感光性平版印刷版を作製した(実
施例1、2及び比較例1、2)。同様に、下記感光液B
をワイヤーバーを用いて塗布し、表1記載の乾燥後の工
程条件を用い、乾燥膜厚が1.8g/m2のポジ型感光性
組成物層(感光層)を有するポジ型感光性平版印刷版を
作製した(実施例3、4及び比較例3、4)。
【0069】
(感光液A)
光熱変換物質:インドール系色素(日本化薬社製、「CY−10」下記)
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・4重量部
アルカリ可溶性有機高分子物質:フェノール/m-クレゾール/p-クレゾール
=50/30/20(モル比)の混合フェノールをホルムアルデヒドで重縮合したノボ
ラ
ック樹脂(Mw9400、住友デュレズ社製、「SK−188」)・・・100重量部
溶解抑制剤:ポリエチレングリコール(東邦化学工業社製、「PEG#2000
」)
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・4重量部
現像性改良剤:1,2−シクロヘキサンジカルボン酸 ・・・・・・・5重量部
溶媒:メチルセロソルブ ・・・・・・・・・・・・・・・・・1000重量部
【0070】
(感光液B)
光熱変換物質:インドール系色素(日本化薬社製、「CY−10」下記)
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・4重量部
アルカリ可溶性有機高分子物質:フェノール/m-クレゾール/p-クレゾール
=50/30/20(モル比)の混合フェノールをホルムアルデヒドで重縮合したノボ
ラ
ック樹脂(Mw9400、住友デュレズ社製、「SK−188」)・・・100重量部
溶解抑制剤:クリスタルバイオレットラクトン ・・・・・・・・・10重量部
添加剤1:サイメル300(三井サイテック(株)製) ・・・・・・10重量部
添加剤2:シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸 ・・・・・・・・5重量部
添加剤3:テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット・・・・・4重量部
溶媒1:メチルセロソルブ ・・・・・・・・・・・・・・・・・720重量部
溶媒2:エチルセロソルブ ・・・・・・・・・・・・・・・・・180重量部
【0071】
【化2】
【0072】〈感光性平版印刷版Cの作製〉厚み0.3
mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチ
レンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メ
ッシュのパミスー水懸濁液を用いこの表面を砂目立て
し、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化
ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、
水洗後、さらに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗し
た。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2
であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密
度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた
後、水洗し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、
塗膜を90℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は
10mg/m2であった。得られた基板に以下の感光液Cを
塗布し、表1記載の乾燥後の工程条件を用い、乾燥膜厚
が1.9g/m2のポジ型感光性組成物層(感光層)を有
するポジ型感光性平版印刷版を作製した(実施例5、6
及び比較例5)。
mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチ
レンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メ
ッシュのパミスー水懸濁液を用いこの表面を砂目立て
し、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化
ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、
水洗後、さらに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗し
た。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2
であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密
度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた
後、水洗し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、
塗膜を90℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は
10mg/m2であった。得られた基板に以下の感光液Cを
塗布し、表1記載の乾燥後の工程条件を用い、乾燥膜厚
が1.9g/m2のポジ型感光性組成物層(感光層)を有
するポジ型感光性平版印刷版を作製した(実施例5、6
及び比較例5)。
【0073】
(下塗り液)
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
【0074】
【化3】
【0075】
(感光液C)
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量7500
、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.75g
・ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート/ヘキサメチレンジイソシア
ネート/ポリプロピレングリコール(Mw=1000)/2,2−ビスヒドロキシメチ
ルプロピオン酸の縮合物(80:20:20:80モル比) 0.05g
・光熱変換物質(シアニン染料A) 0.04g
・p−トルエンスルホン酸 0.002g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレン
スルホン酸アニオンにした染料 0.015g
・2,4,6−トリス(ヘキシルオキシ)ベンゼンジアゾニウム−2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホネート 0.01g
・マグネシウム(II)アセチルアセトネート 0.02g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−176、
大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g
・γ−ブチルラクトン 8g
・メチルエチルケトン 7g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7g
【0076】
【化4】
【0077】〈感光性平版印刷版Dの作製〉厚み0.3
mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチ
レンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メ
ッシュのパミスー水懸濁液を用いこの表面を砂目立て
し、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化
ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、
水洗後、さらに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗し
た。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2
であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密
度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた
後、水洗し、乾燥し、さらに、上記下塗り液を塗布し、
塗膜を90℃で30秒乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量
は10mg/m2であった。得られた基板に以下の下層用塗
布液D1を塗布量が0.85g/m2になるよう塗布した
のち、140℃で50秒間乾燥し、その後、上層用塗布
液D2を塗布量が0.15g/m2になるよう塗布したの
ち、表1記載の乾燥後の工程条件を用い、2層型感光層
を有するポジ型感光性平版印刷版を作製した(実施例
7、8及び比較例6)。
mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチ
レンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メ
ッシュのパミスー水懸濁液を用いこの表面を砂目立て
し、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化
ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、
水洗後、さらに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗し
た。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2
であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密
度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた
後、水洗し、乾燥し、さらに、上記下塗り液を塗布し、
塗膜を90℃で30秒乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量
は10mg/m2であった。得られた基板に以下の下層用塗
布液D1を塗布量が0.85g/m2になるよう塗布した
のち、140℃で50秒間乾燥し、その後、上層用塗布
液D2を塗布量が0.15g/m2になるよう塗布したの
ち、表1記載の乾燥後の工程条件を用い、2層型感光層
を有するポジ型感光性平版印刷版を作製した(実施例
7、8及び比較例6)。
【0078】
(下部感光層用塗布液D1)
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル
/メタクリル酸メチル(36/34/30:重量平均分子量50000)
1.896g
・クレゾールノボラック(m/p=6/4、重量平均分子量4500、残存モノ
マー0.8wt%) 0.237g
・光熱変換物質(シアニン染料A) 0.109g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.063g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変え
たもの 0.05g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ工業(株)製)
0.035g
・メチルエチルケトン 26.6g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g
・γ−ブチロラクトン 13.8g
【0079】
〔上部感光層用塗布液D2〕
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量
4500、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.237g
・光熱変換物質(シアニン染料A) 0.047g
・ステアリン酸ドデシル 0.060g
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート
0.030g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ化学工業(株)製)
0.110g
・フッ素系界面活性剤(メガファックMCF312(30%)、大日本インキ工
業(株)製) 0.120g
・メチルエチルケトン 15.1g
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7g
【0080】〈感光性平版印刷版Eの作製〉感光性平版
印刷版Dと同じ基板に以下の塗布液Eを塗布量1.0g
/m2になるよう塗布したのち、表1記載の乾燥後の工程
条件を用い、るポジ型感光性平版印刷版を得た(実施例
9、10及び比較例7)。
印刷版Dと同じ基板に以下の塗布液Eを塗布量1.0g
/m2になるよう塗布したのち、表1記載の乾燥後の工程
条件を用い、るポジ型感光性平版印刷版を得た(実施例
9、10及び比較例7)。
【0081】
〔感光液E〕
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル
/メタクリル酸メチル(35/35/30:重量平均分子量50000)
1.896g
・クレゾールノボラック(m/p=6/4、重量平均分子量4500、残存モノ
マー0.8wt%) 0.332g
・光熱変換物質(シアニン染料A) 0.155g
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.063g
・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変え
たもの 0.05g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ工業(株)製)
0.145g
・フッ素系界面活性剤(メガファックMCF312(30%)、大日本インキ工
業(株)製) 0.120g
・メチルエチルケトン 26.6g
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g
・γ−ブチロラクトン 13.8g
【0082】(現像許容性の評価)上記感光性平版印刷
版をレーザー露光機(Creo社製、Trendsetterで200
mj/cm2で露光した後、アルカリ性現像液DP−4
(富士フイルム社製、ポジ型平版用)を7倍希釈し、2
8℃で5秒間ごと120秒までの現像を行い露光部が全
て溶解する時間からレーザの未露光部(ベタ部)が10
%溶解する時間までを測定し、その差をとった。その結
果を表1に示す。
版をレーザー露光機(Creo社製、Trendsetterで200
mj/cm2で露光した後、アルカリ性現像液DP−4
(富士フイルム社製、ポジ型平版用)を7倍希釈し、2
8℃で5秒間ごと120秒までの現像を行い露光部が全
て溶解する時間からレーザの未露光部(ベタ部)が10
%溶解する時間までを測定し、その差をとった。その結
果を表1に示す。
【0083】
【表1】
【0084】表1から明らかなように、本発明のポジ型
感光性平版印刷版の作製方法による各実施例は、優れた
現像許容性と効率の良い生産性が得られることが確認さ
れた。
感光性平版印刷版の作製方法による各実施例は、優れた
現像許容性と効率の良い生産性が得られることが確認さ
れた。
【0085】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のポジ型感
光性平版印刷版の作製方法は、支持体上に感光層塗布液
を塗布・乾燥後、60秒以内の蒸気付与処理を行うこと
により、赤外線レーザ記録方式に適合し、経時安定性、
即ち保存性、耐傷性等の現像前の状態が安定なものとな
り、画像形成時の現像許容性に優れ、良好な画像を形成
し得るポジ型感光性平版印刷版を得ることができる。な
お、本発明のポジ型感光性平版印刷版の作製方法は、蒸
気付与処理において効率よく連続処理によるものであ
り、生産性が高く、コスト面で有利な製造方法である。
光性平版印刷版の作製方法は、支持体上に感光層塗布液
を塗布・乾燥後、60秒以内の蒸気付与処理を行うこと
により、赤外線レーザ記録方式に適合し、経時安定性、
即ち保存性、耐傷性等の現像前の状態が安定なものとな
り、画像形成時の現像許容性に優れ、良好な画像を形成
し得るポジ型感光性平版印刷版を得ることができる。な
お、本発明のポジ型感光性平版印刷版の作製方法は、蒸
気付与処理において効率よく連続処理によるものであ
り、生産性が高く、コスト面で有利な製造方法である。
【図1】本発明のポジ型感光性平版印刷版の作製方法に
適用される塗布機の塗布・乾燥部での感光層塗布乾燥物
の排出側近傍に水蒸気発生手段を備えた乾燥部〜巻取り
部の配置図である。
適用される塗布機の塗布・乾燥部での感光層塗布乾燥物
の排出側近傍に水蒸気発生手段を備えた乾燥部〜巻取り
部の配置図である。
2 乾燥部
3 蒸気付与部
4 乾燥部(選択的)
5 巻取り部
Claims (3)
- 【請求項1】 光熱変換物質及びフェノール性水酸基を
有するアルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光層
を有するポジ型感光性平版印刷版に、60秒以内の蒸気
処理を行うことを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の
作製方法。 - 【請求項2】 光熱変換物質及びフェノール性水酸基を
有するアルカリ可溶性有機高分子物質を含有する感光性
組成物の塗布液を、支持体上に塗布・乾燥後、連続して
蒸気処理を行うことを特徴とする請求項1記載のポジ型
感光性平版印刷版の作製方法。 - 【請求項3】 蒸気処理後、更に乾燥を行うことを特徴
とする請求項1または2記載のポジ型感光性平版印刷版
の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001317122A JP2003122025A (ja) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | ポジ型感光性平版印刷版の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001317122A JP2003122025A (ja) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | ポジ型感光性平版印刷版の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003122025A true JP2003122025A (ja) | 2003-04-25 |
Family
ID=19135043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001317122A Pending JP2003122025A (ja) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | ポジ型感光性平版印刷版の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003122025A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005116767A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Think Laboratory Co., Ltd. | ポジ型感光性組成物 |
| KR100693357B1 (ko) * | 2005-04-19 | 2007-03-12 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
| KR20120093781A (ko) * | 2011-02-15 | 2012-08-23 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 |
-
2001
- 2001-10-15 JP JP2001317122A patent/JP2003122025A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005116767A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Think Laboratory Co., Ltd. | ポジ型感光性組成物 |
| KR100693357B1 (ko) * | 2005-04-19 | 2007-03-12 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
| KR20120093781A (ko) * | 2011-02-15 | 2012-08-23 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 |
| JP2012185485A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 |
| US9091914B2 (en) | 2011-02-15 | 2015-07-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resist composition and patterning process |
| KR101719834B1 (ko) * | 2011-02-15 | 2017-03-24 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 재료 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 |
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