JP2003140331A5

JP2003140331A5 -

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Publication number: JP2003140331A5
Application number: JP2002231536A
Authority: JP
Filing date: 2002-08-08
Publication date: 2005-09-22
Anticipated expiration: 2022-08-08

Claims

（Ａ）外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。

一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒ₁〜Ｒ₃は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｒ₄及びＲ₅は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｙ₁及びＹ₂は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に複数個存在するＲ₁及びＲ₂は、同じでも異なっていてもよい。
Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂の内のいずれか２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の構造を２つ以上有していてもよい。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒ₁〜Ｒ₃は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｒ₄及びＲ₅は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｙ₁及びＹ₂は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に複数個存在するＲ₁及びＲ₂は、同じでも異なっていてもよい。
Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂の内のいずれか２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の構造を２つ以上有していてもよい。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物及び
（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒ₁〜Ｒ₃は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｒ₄及びＲ₅は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｙ₁及びＹ₂は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に複数個存在するＲ₁及びＲ₂は、同じでも異なっていてもよい。
Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂の内のいずれか２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の構造を２つ以上有していてもよい。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。
（Ｂ）成分の樹脂が、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有することを特徴とする請求項３に記載のポジ型感光性組成物。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物
（Ｃ）酸架橋剤及び
（Ｄ）アルカリ可溶性樹脂
を含有することを特徴とするネガ型感光性組成物。

一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒ₁〜Ｒ₃は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｒ₄及びＲ₅は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｙ₁及びＹ₂は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に複数個存在するＲ₁及びＲ₂は、同じでも異なっていてもよい。
Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂の内のいずれか２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の構造を２つ以上有していてもよい。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。
更に、塩基性化合物及びフッ素及び／又はシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の感光性組成物。
塩基性化合物が、イミダゾール構造、ジアザビシクロ構造、オニウムヒドロキシド構造、オニウムカルボキシレート構造、トリアルキルアミン構造及びアニリン構造から選ばれる構造を有する化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする請求項６に記載の感光性組成物。
更に、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する、分子量３０００以下の溶解阻止低分子化合物を含有することを特徴とする請求項１〜４及び６〜７のいずれかに記載の感光性組成物。
下記式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されることを特徴とする化合物。

一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、
Ｒ₁〜Ｒ₃は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｒ₄及びＲ₅は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。
Ｙ₁及びＹ₂は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に複数個存在するＲ₁及びＲ₂は、同じでも異なっていてもよい。
Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂の内のいずれか２つ以上が結合して環構造を形成してもよい。
また、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｙ₁及びＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）の構造を２つ以上有していてもよい。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。
請求項１〜８のいずれかに記載の感光性組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。