JPH10274845A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
   式中、Ｒ₁ 〜Ｒ₃ は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又は−Ｓ−Ｒ₄基を示す。Ｒ₄ はアルキル基又はアリール基を示す。Ｘ^- は、炭素数８個以上のアルキル基又はアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも１個有するか、炭素数４〜７個のアルキル基又はアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも２個有するか、もしくは炭素数１〜３個のアルキル基又はアルコキシ基の群の中から選ばれる基を少なくとも３個有するベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、又はアントラセンスルホン酸のアニオンを示す。ｌ、ｍ及びｎは、同じでも異なってもよく、１〜３の整数を示す。ｌ、ｍ及びｎが各々２又は３の場合、２〜３個のＲ₁ 〜Ｒ₃ のうちの各々の２個が互いに結合して、炭素環、複素環又は芳香環を含む５〜８個の元素から成る環を形成しても良い。
2. 酸により分解し得る基を有し、アルカル現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物を含有することを特徴とする請求項１に記載のポジ型感光性組成物。
3. 水に不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感光性組成物。
4. 活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物、酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量３０００以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、及び水に不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、該膜を露光、現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。