JP2003149791A - 自動露光装置のマスク自動クリーニング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクに付着するレジストのカスなどを自動
的にクリーニング可能にし、クリーニング作業の簡便化
を図ることができる露光装置のマスク自動クリーニング
装置を提供する 【解決手段】 自動露光装置１の各露光処理部１Ａ，１
Ｂの基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂに保持された基板Ｗに、
各露光機構５Ａ，５Ｂに保持されたマスクＭを接触さ
せ、このマスクＭを通して基板Ｗ上に所定のパターンを
自動的に露光処理する。露光処理後のマスクＭの表面を
マスク自動クリーニング装置１０にてクリーニング可能
にする。このマスク自動クリーニング装置１０は、マス
クＭの縦横幅方向に移動制御されるクリーニングユニッ
ト２０と、このクリーニングユニット２０に回転自在に
軸支されてマスクＭの表面に当接可能なクリーニングロ
ーラ２３とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線により基板
上に所定のパターンがマスクを通して露光処理される自
動露光装置のマスク自動クリーニング装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来の自動露光装置では、所定波長の紫
外線をマスクを通して照射することにより、基板搬送機
構にて搬送された基板上に所定のパターンを自動的に露
光処理することが行われている。このような自動露光装
置としては、基板及びマスクを垂直状態で保持して、そ
の整合作業及び露光作業を行うようにしてなる、所謂、
縦型の露光装置、あるいは、基板及びマスクを水平状態
で整合作業及び露光作業を行う横型の露光装置が提案さ
れている。

【０００３】そして、このような自動露光装置は、多数
の基板を一枚のマスクにより露光処理するため、マスク
に塵や埃、また、レジストのカスなどが付着する場合が
あり、マスクのクリーニング作業を定期的に行う必要が
あった。

【０００４】そのため、従来では、マスクをマスクホル
ダ用フレーム枠などから取り外すか、あるいは、マスク
ホルダ用フレーム枠にセットしたマスクをクリーニング
可能な状態にしてから、マスクの表面をハンディタイプ
のクリーニングローラを用いて一々人手により手動的に
クリーニングしているのが現状である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
自動露光装置においては、クリーニング作業を行う場
合、マスクをマスクホルダ用フレーム枠などから取り外
して行っていたため、クリーニング後、再度、マスクと
基板との整合調整を行う必要が発生するなど、マスクホ
ルダ用フレーム枠からマスクを取り外すことに伴う余分
な調整作業が発生してしまった。

【０００６】また、人手によりマスクに対するクリーニ
ングを行っているため、クリーニング作業を行う作業者
のクリーニングに対する基準がまちまちとなり、安定し
た基準でもってクリーニングを行うことができなかっ
た。

【０００７】さらに、マスクを取り出して表面のクリー
ニングを定期的に行う場合、作業者がクリーニング作業
を行うに十分な作業スペースがないため、そのクリーニ
ング作業が非常に面倒であるという問題があった。

【０００８】本発明は、前記の事情に鑑みてなされたも
のであり、マスクを取り出すことなく自動的なクリーニ
ングを可能にし、クリーニング作業の簡便化を図ること
ができる自動露光装置のマスク自動クリーニング装置を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ために、本発明は、露光処理部の基板搬送部側に保持さ
れた基板を、その基板撮像部側に保持されたマスクに対
向させ、このマスクを通して前記基板上に所定のパター
ンを露光処理してなる自動露光装置に用いられるマスク
自動クリーニング装置であって、マスクの表面に当接さ
せてクリーニングするクリーニングユニットと、このク
リーニングユニットを移動制御する駆動制御手段を備え
たことを特徴とする。

【００１０】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニングユニットがマスクの表面
に当接した状態で、そのマスク表面を駆動制御手段によ
って移動可能になる。このため、マスクの表面に付着す
るレジストのカスなどが自動的にクリーニングされる。

【００１１】また、本発明は、前記露光装置のマスク自
動クリーニング装置において、駆動制御手段は、クリー
ニングユニットをマスクの縦幅寸法範囲に応じて移動さ
せる第１の移動手段と、クリーニングユニットをマスク
の横幅寸法範囲に応じて移動させる第２の移動手段を備
えたことを特徴とする。

【００１２】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、マスクの面積が大きな部分に第１の移
動手段によりクリーニングユニットを、マスクの縦幅寸
法範囲に応じて縦方向に移動させ、次いで、第２の移動
手段によりクリーニングユニットを、マスクの横幅寸法
範囲に応じて横方向に移動させることが可能になる。

【００１３】さらに、本発明は、前記自動露光装置のマ
スク自動クリーニング装置において、クリーニングユニ
ットは、マスクが保持されるマスクホルダ用フレーム枠
と、このマスクホルダ用フレーム枠に保持されたマスク
が対面するように基板を保持する基板ホルダ用フレーム
枠との間に出没自在に設置されていることを特徴とす
る。

【００１４】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、マスクホルダ用フレーム枠と基板ホル
ダ用フレーム枠との間に対応位置させて設置されるクリ
ーニングユニットが、待機時に、マスクホルダ用フレー
ム枠内から離れた位置に配置され、マスクをクリーニン
グするときに、マスクに対面する位置に移動して、マス
クをクリーニングすることが可能になる。

【００１５】さらにまた、本発明は、前記自動露光装置
のマスク自動クリーニング装置において、クリーニング
ユニットは、クリーニングローラと、このクリーニング
ローラの両端軸部を独立して揺動可能に軸支して懸架す
る一対の揺動アームとを備えてなることを特徴とする。

【００１６】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニングローラをマスクの表面状
態に応じて常に均一に当接させることが可能になる。

【００１７】また、本発明は、前記露光装置のマスク自
動クリーニング装置において、マスクホルダ用フレーム
枠とクリーニングユニットのいずれか一方を、マスクと
クリーニングローラとの接離方向に移動させてなること
を特徴とする。

【００１８】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、特に、基板の縦幅方向のクリーニング
後に、クリーニングユニットを基板の横幅方向に移動さ
せる際、クリーニングローラをマスクの表面から離間さ
せることが可能になる。これにより、クリーニングユニ
ットの基板の横幅方向に対する移動が円滑にかつ容易に
行える。

【００１９】さらに、本発明は、前記露光装置のマスク
自動クリーニング装置において、クリーニングローラ
は、揺動アームを介してマスク面を押圧する方向に付勢
する付勢手段を介してクリーニングユニットに軸支して
なることを特徴とする。

【００２０】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニング時、クリーニングローラ
をマスクの表面に付勢手段を介して密着させることが可
能になる。これにより、マスクとクリーニングローラと
を当接させる際の衝撃が吸収緩和される。

【００２１】さらにまた、本発明は、前記自動露光装置
のマスク自動クリーニング装置において、クリーニング
ユニットの待機位置で、クリーニングローラの表面に接
離する汚れ除去手段を備えてなることを特徴とする。

【００２２】すなわち、本発明は、前記した構成を採用
することにより、クリーニングローラによるマスクのク
リーニング後、クリーニングユニットを待機位置まで移
動させると、クリーニングローラが汚れ除去機構、例え
ば、粘着テープローラに接触する。この状態で、粘着テ
ープローラを回転させると、クリーニングローラの表面
に付着するレジストのカスなどのゴミを自動的に除去す
ることが可能になる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図１は、自動露光装置の一
実施形態としての縦型自動露光装置の全体構成を概略的
に示す平面図である。図２は、縦型自動露光装置の要部
拡大側面図である。図３は、マスク自動クリーニング装
置の概略的正面図である。図４は、クリーニングユニッ
トの全体構成を示す要部斜視図である。図５（ａ），
（ｂ）は、クリーニングユニットのマスクへの接触状態
を示す概略的要部側面図である。

【００２４】図１に示すように、自動露光装置１は、基
板Ｗの表面側を露光処理する第１の露光処理部１Ａと、
基板Ｗの裏面側を露光処理する第２の露光処理部１Ｂ
と、これら第１及び第２の露光処理部１Ａ，１Ｂにそれ
ぞれ設置されてマスクＭを自動的にクリーニングするマ
スク自動クリーニング装置１０、１０とを備えている。

【００２５】すなわち、前記自動露光装置１は、基板搬
送機構２Ａにて基板搬送方向Ｘ１から搬入された基板Ｗ
を水平状態から垂直状態として第１の基板ホルダ機構３
Ａの基板ホルダ用フレーム枠４Ａに保持して、この第１
の基板ホルダ機構３Ａを水平回転させることで、第１の
露光機構５Ａの露光位置、第２の基板ホルダ機構３Ｂに
対する受け渡し搬入位置に搬送するように構成されてい
る。一方、第２の基板ホルダ機構３Ｂもまた同様に、第
１の基板ホルダ機構３Ａからの基板Ｗを基板ホルダ用フ
レーム枠４Ｂに垂直状態として保持する。この状態で、
第２の基板ホルダ機構３Ｂが水平回転することで、第２
の露光機構５Ｂに露光位置に搬送され、露光処理後の基
板Ｗを基板搬出機構２Ｂに受け渡して基板搬出方向Ｘ２
に向け搬出させるように構成されている。

【００２６】第１または第２の露光機構５Ａ，５Ｂに
は、マスクＭがマスクホルダ用フレーム枠６Ａ，６Ｂを
介して垂直状態で保持され、このマスクＭには、第１ま
たは第２の基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂから搬送された基
板Ｗが対面状態で対向するようになっている。また、露
光時及び整合時には、マスクＭが基板Ｗに当接するよう
に第１または第２の駆動機構７Ａ，７Ｂにて接離方向Ｙ
に移動制御される。そして、このような基板Ｗへのマス
クＭの密着状態において、光学系８にて基板Ｗへの露光
処理が行われる。

【００２７】さらに、前記した自動露光装置１の第１及
び第２の露光処理部１Ａ，１Ｂには、第１及び第２の露
光機構５Ａ，５Ｂのマスクホルダ用フレーム枠６Ａ，６
Ｂに保持されたマスクＭの表面を自動的にクリーニング
するマスク自動マスク自動クリーニング装置１０がそれ
ぞれ設けられている。

【００２８】このマスク自動クリーニング装置１０は、
図３に示すように、後記するクリーニングユニット２０
が第１及び第２の基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂの基板ホル
ダ用フレーム枠４Ａ，４Ｂと、マスクＭが保持された第
１及び第２の露光機構５Ａ，５Ｂのマスクホルダ用フレ
ーム枠６Ａ，６Ｂとの間に対応して位置するようにそれ
ぞれ設置されている。

【００２９】すなわち、このクリーニングユニット２０
は、基板ホルダ用フレーム枠３Ａ，３Ｂとマスクホルダ
用フレーム枠６Ａ，６Ｂとの間に出没自在に設置され、
クリーニングユニット２０の待機時には、マスクホルダ
用フレーム枠６Ａ，６Ｂの移動を妨げることがないよう
にしている。

【００３０】図３に示すように、マスク自動クリーニン
グ装置１０は、左右一対のガイドフレーム１１Ａ，１１
Ｂと、これらガイドフレーム１１Ａ，１１Ｂ間にマスク
Ｍの縦幅方向Ｚ１に沿う上下方向に昇降自在に横架され
る昇降フレーム１２と、この昇降フレーム１２を左右一
対のタイミングベルト１３Ａ，１３Ｂを介して昇降駆動
させる第１のサーボモータ１４Ａと、昇降フレーム１２
に横架したガイドシャフト１５と、このガイドシャフト
１５に支持されてマスクＭの横幅方向Ｚ２に摺動自在な
左右一対の摺動フレーム１６Ａ，１６Ｂと、この一方の
摺動フレーム１６ＢをマスクＭの横幅方向Ｚ２に移動制
御するボールネジ１７と、このボールネジ１７を回転駆
動させる第２のサーボモータ１４Ｂとで、後記するクリ
ーニングユニット２０を移動する駆動制御手段を構成し
ている。

【００３１】前記クリーニングユニット２０は、図４に
示すように、左右一対の摺動フレーム１６Ａ，１６Ｂ
（図３参照）に横架された支点軸２１と、この支点軸２
１に揺動自在に軸支された左右一対の揺動アーム２２
Ａ，２２Ｂと、これら揺動アーム２２Ａ，２２Ｂ間に回
転自在に懸架されたクリーニングローラ２３とを備えて
いる。

【００３２】図５（ａ）に示すように、クリーニングユ
ニット２０のクリーニングローラ２３を軸支する揺動ア
ーム２２Ａ，２２Ｂに横架される支点軸２１には、ブラ
ケット２４が固定されている。このブラケット２４に
は、ストッパ片２５が設けられ、このストッパ片２５を
間に介して揺動アーム２２Ａ，２２Ｂ側に設けた上下一
対のストッパ２６Ａ，２６Ｂが間隔調整自在に対向させ
て配置されている。これらストッパ２６Ａ，２６Ｂは、
揺動アーム２２Ａ，２２Ｂの揺動によるクリーニングロ
ーラ２３の回動範囲を規制している。また、揺動アーム
２２Ａ，２２Ｂ側とブラケット２４のストッパ片２５と
の間には、スプリング２７が介装され、このスプリング
２７の付勢力により、クリーニングローラ２３をマスク
Ｍの表面に接触状態が維持されるように付勢している。

【００３３】すなわち、左右一対の揺動アーム２２Ａ，
２２Ｂ間に懸架されたクリーニングローラ２３は、図５
（ｂ）に示すように、マスクＭが、第１または第２の駆
動機構７Ａ，７Ｂ（図１参照）を介して第１または第２
の露光機構５Ａ，５Ｂのマスクホルダ用フレーム枠６
Ａ，６Ｂの移動により接触すると、その押圧力を吸収す
るように回動するクッション作用を有する。また、クリ
ーニングローラ２３の両端軸部を軸支する各揺動アーム
２２Ａ，２２Ｂは、互いに独立して揺動するように支点
軸２１に軸支されている。これにより、クリーニングロ
ーラ２３の表面がが、マスクＭの表面に対して平行に対
接していない場合が発生した状態であっても、揺動アー
ム２２Ａ，２２Ｂの揺動作用により、クリーニングロー
ラ２３を常にマスクＭの表面に平行にかつ均一に密着さ
せることが可能になる。

【００３４】一方、マスク自動クリーニング装置１０の
最下部、すなわち、第１及び第２の露光機構５Ａ，５Ｂ
から離れてクリーニングユニット２０のクリーニングロ
ーラ２３に対応する位置には、図３に示すように、マス
クＭのクリーニング後に、クリーニングユニット２０の
クリーニングローラ２３に付着するレジストのカスなど
を除去する汚れ除去機構３０が設置されている。

【００３５】この汚れ除去機構３０は、クリーニングユ
ニット２０の下降移動にてクリーニングローラ２３が接
触する粘着テープローラ３１と、この粘着テープローラ
３１を回転自在に軸支する支持フレーム３２と、この支
持フレーム３２を上下駆動させる加圧シリンダ３３と、
支持フレーム３２に軸支された粘着テープローラ３１を
回転駆動させる第３のサーボモータ１４Ｃとで構成され
ている。

【００３６】この場合、加圧シリンダ３３は、クリーニ
ングローラ２３と粘着テープローラ３１との接触時、支
持フレーム３２を上昇させることにより、クリーニング
ローラ２３に対する粘着テープローラ３１の接触圧を調
整するようになっている。また、粘着テープローラ３１
としては、例えば、ローラ体に粘着テープを一枚、また
は、複数枚重ね合わせ巻回して剥ぎ取り交換自在にして
もよい。

【００３７】次に、前記したマスク自動クリーニング装
置１０によるマスクＭの表面のクリーニング手順を図６
及び図７に基づいて説明する。図６は、マスク表面のク
リーニング制御状態を要部拡大して示す概略的正面図で
ある。図７は、マスククリーニング時の露光機構の移動
によるクリーニングローラに対するマスクの接離方向の
移動制御状態を概略的に示す説明図である。

【００３８】この場合、第１及び第２の露光機構５Ａ，
５Ｂに設置した各々のマスク自動クリーニング装置１０
の動作は、同じであるため、一方のみを説明する。ま
ず、光学系８による基板Ｗの露光終了後、第１の駆動機
構７Ａによる第１の露光機構５Ａと第１の基板ホルダ機
構３Ａとの離間状態において、図示しないコントローラ
パネルにマスクＭの縦幅及び横幅の寸法範囲を設定した
データを入力し、これにより、マスクＭの縦幅及び横幅
の寸法範囲に応じたクリーニングユニット２０によるク
リーニング動作を設定する。

【００３９】このとき、クリーニングユニット２０は、
第１の露光機構５Ａのマスクホルダ用フレーム枠６Ａか
ら離れた位置、例えば、図３及び図６に示すクリーニン
グローラ２３と粘着テープローラ３１との接触位置近
傍、すなわち、図３及び図６に二点鎖線で示すような第
１露光機構５Ａの下方に位置させて、マスクホルダ用フ
レーム枠６Ａに保持されたマスクＭの表面に向けて出没
自在に待機している。

【００４０】この待機位置において、第１のサーボモー
タ１４Ａの駆動にてタイミングベルト１３Ａ，１３Ｂを
介して昇降フレーム１２を上昇させる。これにより、昇
降フレーム１２に設けたクリーニングユニット２０も上
昇し、このクリーニングユニット２０に軸支したクリー
ニングローラ２３をマスクＭの最上端まで上昇させる。
次いで、第２のサーボモータ１４Ｂの駆動にてボールネ
ジ１７を回転させることにより、クリーニングユニット
２０をマスクＭの横幅方向Ｚ２の一方の最端側に対応位
置させる。

【００４１】そして、第１露光機構５Ａを第１の駆動機
構７Ａにて第１の基板ホルダ機構３Ａ側に向け前進移動
させ、マスクホルダ用フレーム枠６Ａに保持されたマス
クＭをクリーニングローラ２３にスプリング２７の付勢
力に抗して当接させた後、第１のサーボモータ１４Ａの
駆動にてタイミングベルト１３Ａ，１３Ｂを駆動させ
て、昇降フレーム１２を下降させる。このとき、昇降フ
レーム１２に設けたクリーニングユニット２０も下降し
て、クリーニングローラ２３がマスクＭの表面にスプリ
ング２７の付勢力により弾性的に接触したまま追従回転
する。次いで、クリーニングユニット２０をマスクＭの
最下端側まで下降させることにより、マスクＭの表面の
クリーニングが行われる。

【００４２】クリーニングユニット２０がマスクＭの最
下端側まで到達すると、第１のサーボモータ１４Ａの駆
動を停止して、クリーニングユニット２０によるクリー
ニング動作を一旦停止する。

【００４３】この場合、クリーニングローラ２３の長さ
がマスクＭの横幅方向Ｚ２の寸法よりも短いときには、
図７に示すように、第１の駆動機構７Ａにて第１の露光
機構５Ａを駆動させて一旦後退させ、マスクＭをクリー
ニングローラ２３から離間させて、それらの接触状態を
開放する。そして、この状態で、第１のサーボモータ１
４Ａにてタイミングベルト１３Ａ，１３Ｂを駆動させ、
クリーニングユニット２０を上昇させて、マスクＭの最
下端の位置にあるクリーニングローラ２３を、再びマス
クＭの最上端まで上昇させる。次いで、第２のサーボモ
ータ１４Ｂの駆動にてボールネジ１７を回転させること
により、クリーニングユニット２０をマスクＭの横幅方
向Ｚ２の他方の側に向け移動させ、クリーニングローラ
２３を残りのクリーニング範囲まで移動させてマスクＭ
の表面に対応位置させる。

【００４４】そして、第１の露光機構５Ａを第１の駆動
機構７Ａの駆動にて再び前進させ、マスクＭをリーニン
グローラ２３に再び接触させる。次いで、第１のサーボ
モータ１４Ａにてタイミングベルト１３Ａ，１３Ｂを駆
動させ、クリーニングユニット２０をマスクＭの縦幅方
向Ｚ１に下降させて、クリーニングローラ２３を再び追
従回転させることにより、マスクＭの横幅方向Ｚ２の残
りのクリーニング範囲のクリーニングが行われる。これ
により、マスクＭの全表面がクリーニングされるように
なっている。

【００４５】このようなクリーニング作業の終了後、図
６及び図７に示すように、クリーニングユニット２０を
第１の露光機構５Ａ外の最下部に対応する位置（待機位
置）まで下降させて、クリーニングローラ２３を汚れ除
去機構３０の粘着テープローラ３１に接触させて停止す
る。この状態で、第３のサーボモータ１４Ｃの駆動にて
粘着テープローラ３１を回転させ、この粘着テープロー
ラ３１の回転にクリーニングローラ２３を追従回転させ
ることにより、クリーニングローラ２３の表面に付着し
たレジストのカスなどのゴミを粘着テープローラ３１側
に転写除去して、クリーニングローラ２３のクリーニン
グを行う。

【００４６】この場合、クリーニングローラ２３と粘着
テープローラ３１との接触圧は、粘着テープローラ３１
を軸支する支持フレーム３２を昇降させる加圧シリンダ
３３による昇降動作にて調整するようになっている。

【００４７】また、マスクＭの横幅方向Ｚ２の寸法がク
リーニングローラ２３の長さよりも短いときには、クリ
ーニングローラ２３をマスクＭの横幅方向Ｚ２に移動さ
せることなく、そのまま下降させて、マスクＭの表面の
復方向のクリーニングを行う。そして、クリーニング後
は、クリーニングユニット２０をクリーニングローラ２
３が粘着テープローラ３１に接触する最下部に対応する
位置で停止させる。この状態で、第３のサーボモータ１
４Ｃの駆動にて粘着テープローラ３１を回転させ、クリ
ーニングローラ２３の表面に付着したレジストのカスな
どのゴミを粘着テープローラ３１に転写除去して、クリ
ーニングローラ２３のクリーニングを行う。

【００４８】ところで、前記クリーニングローラ２３
は、長さが３００ｍｍ、径が５０ｍｍで、粘着テープロ
ーラ３１の径の１／２程度に設定され、粘着テープロー
ラ３１によるクリーニングローラ２３の表面に付着する
ゴミ等の転写除去を効率よく行われるようにしている。
また、マスクＭの形態は、厚さが１００〜２００μで、
基板Ｗの最大寸法、例えば、５３０×６３０ｍｍよりも
全周が１インチ程度大きな寸法に設定されているととも
に、マスクホルダ用フレーム枠６Ａに対して縦長あるい
は横長に配置される。

【００４９】さらに、図６及び図７に示すように、第１
の露光機構５Ａのマスクホルダ用フレーム枠６Ａに保持
したマスクＭの表面に、基板Ｗの寸法に応じて添設され
る各スペーサＳは、マスクＭの厚さ１００〜２００μに
対して数ミリの厚さのものが配置される。この場合、ク
リーニングローラ２３は、マスクＭの表面に添設された
スペーサＳを避ける位置で走行するように運転パネルに
より設定される。

【００５０】なお、前記した実施形態においては、第１
及び第２の露光機構５Ａ，５Ｂのマスクホルダ用フレー
ム枠６Ａ，６Ｂに保持したマスクＭとクリーニングユニ
ット２０のクリーニングローラ２３との接離動作を、第
１及び第２の基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂの基板ホルダ用
フレーム枠４Ａ，４Ｂに保持した基板Ｗに対する第１及
び第２の露光機構５Ａ，５Ｂの移動制御を利用した例を
挙げて説明した。しかしながら、本発明は、これには限
定されず、マスク自動クリーニング装置１０またはクリ
ーニングユニット２０を別途の駆動機構により移動制御
し、マスクＭに対してクリーニングユニット２０のクリ
ーニングローラ２３が接離するように移動制御してなる
構成にしてもよい。

【００５１】また、前記した実施形態では、マスク自動
クリーニング装置１０のクリーニングユニット２０をマ
スクＭの縦幅方向Ｚ１に対応する上下方向に移動させて
出没させたが、基板横幅方向Ｚ２に対応する左右方向に
移動させて出没させるようにしてもよい。

【００５２】さらに、前記した実施形態では、縦型の自
動露光装置を例にして説明したが、横型の自動露光装置
にも適用することが可能である。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で種々変更実施可能なことは云うまで
もない。

【００５３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る自動
露光装置のマスク自動クリーニング装置では、以下に示
すような優れた効果を奏する。

【００５４】自動露光装置のマスク自動クリーニング装
置は、マスクの表面に当接させてクリーニングするクリ
ーニングユニットと、クリーニングユニットを移動制御
する駆動制御手段とを備えてなるため、マスクホルダ用
フレーム枠から取り外すことなく、マスクに付着するレ
ジストのカスなどが自動的にクリーニングすることがで
きる。これにより、従前のように、人手による定期的な
クリーニング作業が省略されるため、クリーニング作業
の簡便化を図ることができる。また、常に安定したクリ
ーニング条件により、マスクをクリーニングすることが
できる。

【００５５】また、自動露光装置のマスク自動クリーニ
ング装置は、駆動制御手段が、クリーニングユニットを
マスクの縦横幅寸法範囲に応じて移動させる第１及び第
２の移動手段を備えてなるため、マスクの大きさに拘わ
らず、その表面を適切にクリーニングすることができ
る。

【００５６】さらに、自動露光装置のマスク自動クリー
ニング装置は、クリーニングユニットがマスクホルダ用
フレーム枠と対面する基板ホルダ用フレーム枠との間に
出没自在に設置されていることから、クリーニングユニ
ットの待機時に、マスクホルダ用フレーム枠内から離れ
た位置に配置させることができ、マスクホルダ用フレー
ム枠の移動を妨げることがない。

【００５７】さらにまた、自動露光装置のマスク自動ク
リーニング装置は、クリーニングローラを揺動アームに
より揺動可能に軸支しているため、クリーニングローラ
がマスクの表面状態に応じて常に均一に当接させた状態
でクリーニングすることができる。

【００５８】また、自動露光装置のマスク自動クリーニ
ング装置は、マスクホルダ用フレーム枠とクリーニング
ユニットのいずれか一方を、マスクとクリーニングロー
ラとの接離方向に移動させてなることから、特に、マス
クの縦幅方向のクリーニング後に、クリーニングユニッ
トをマスクの横幅方向に移動させる際に、クリーニング
ローラをマスクの表面から離間させることができる。こ
れにより、クリーニングユニットのマスクの横幅方向に
対する移動を円滑にかつ容易に行うことができる。

【００５９】さらに、自動露光装置のマスク自動クリー
ニング装置は、クリーニングローラが揺動アームを介し
てマスク面を押圧する方向に付勢する付勢手段を介して
クリーニングユニットに軸支してなることから、クリー
ニング時、クリーニングローラをマスクの表面に均一に
密着させることができるとともに、マスクとクリーニン
グローラとを当接させる際の衝撃を吸収緩和することが
でき、マスクの表面を傷付けることがない。

【００６０】さらにまた、自動露光装置のマスク自動ク
リーニング装置は、クリーニングユニットの待機位置
で、クリーニングローラの表面に接離する汚れ除去手段
を備えてなることから、クリーニングローラによるマス
クのクリーニング後、クリーニングローラの表面に付着
するレジストのカスなどのゴミを自動的に除去すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に適用される自動露光装置の一実施形
態としての縦型自動露光装置の全体構成を概略的に示す
平面図である。

【図２】 本発明に係る縦型自動露光装置の要部拡大側
面図である。

【図３】 本発明に係るマスク自動クリーニング装置の
全体構成を概略的に示す要部拡大説明図である。

【図４】 本発明に係るクリーニングユニットの全体構
成を示すよう要部斜視図である。

【図５】 本発明に係るクリーニングユニットを拡大し
て示し、（ａ）は概略的要部側面図、（ｂ）はクリーニ
ングローラのマスクへの接離状態を示す概略的要部側面
図である。

【図６】 本発明に係るクリーニングユニットのクリー
ニングローラによるマスク表面のクリーニング制御状態
を要部拡大して示す概略的正面図である。

【図７】 本発明に係るマスククリーニング時の露光機
構の移動によるクリーニングローラに対するマスクの接
離方向の移動制御状態を概略的に示す説明図である。

【符号の説明】

１……自動露光装置 １Ａ……第１の露光処理部 １Ｂ……第２の露光処理部 ２Ａ……基板搬送機構 ２Ｂ……基板搬出機構 ３Ａ……第１の基板ホルダ機構 ３Ｂ……第２の基板ホルダ機構 ４Ａ……基板ホルダ用フレーム枠 ４Ｂ……基板ホルダ用フレーム枠 ５Ａ……第１の露光機構 ５Ｂ……第２の露光機構 ６Ａ……マスクホルダ用フレーム枠 ６Ｂ……マスクホルダ用フレーム枠 ７Ａ……第１の駆動機構 ７Ｂ……第２の駆動機構 ８……光学系 １０……マスク自動クリーニング装置 １１Ａ……ガイドフレーム １１Ｂ……ガイドフレーム １２……昇降フレーム １３Ａ……タイミングベルト １３Ｂ……タイミングベルト １４Ａ……第１のサーボモータ １４Ｂ……第２のサーボモータ １４Ｃ……第３のサーボモータ １５……ガイドシャフト １６Ａ……摺動フレーム １６Ｂ……摺動フレーム １７……ボールネジ ２０……クリーニングユニット ２１……支点軸 ２２Ａ……揺動アーム ２２Ｂ……揺動アーム ２３……クリーニングローラ ２４……ブラケット ２５……ストッパ片 ２６Ａ……ストッパ ２６Ｂ……ストッパ ２７……付勢手段（スプリング） ３０……汚れ除去手段（汚れ除去機構） ３１……粘着テープローラ ３２……支持フレーム ３３……加圧シリンダ Ｍ……マスク Ｓ……スペーサ Ｗ……基板 Ｘ１……基板搬送方向 Ｘ２……基板搬出方向 Ｙ……接離方向 Ｚ１……マスク縦幅方向 Ｚ２……マスク横幅方向

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光処理部の基板搬送部側に保持された
   基板を、その基板撮像部側に保持されたマスクに対向さ
   せ、このマスクを通して前記基板上に所定のパターンを
   露光処理してなる自動露光装置に用いられるマスク自動
   クリーニング装置であって、 前記マスクの表面に当接させてクリーニングするクリー
   ニングユニットと、 このクリーニングユニットを移動制御する駆動制御手段
   を備えたことを特徴とする自動露光装置のマスク自動ク
   リーニング装置。
2. 【請求項２】 前記駆動制御手段は、前記クリーニング
   ユニットを前記マスクの縦幅寸法範囲に応じて移動させ
   る第１の移動手段と、 前記クリーニングユニットを前記マスクの横幅寸法範囲
   に応じて移動させる第２の移動手段を備えたことを特徴
   とする請求項１に記載の自動露光装置のマスク自動クリ
   ーニング装置。
3. 【請求項３】 前記クリーニングユニットは、前記マス
   クが保持されるマスクホルダ用フレーム枠と、このマス
   クホルダ用フレーム枠に保持された前記マスクが対面す
   るように前記基板を保持する基板ホルダ用フレーム枠と
   の間に出没自在に設置されていることを特徴とする請求
   項１または請求項２に記載の自動露光装置のマスク自動
   クリーニング装置。
4. 【請求項４】 前記クリーニングユニットは、クリーニ
   ングローラと、このクリーニングローラの両端軸部を独
   立して揺動可能に軸支して懸架する一対の揺動アームと
   を備えてなることを特徴とする請求項１から請求項３ま
   でのいずれか１項に記載の自動露光装置のマスク自動ク
   リーニング装置。
5. 【請求項５】 前記マスクホルダ用フレーム枠と前記ク
   リーニングユニットのいずれか一方を、前記マスクとク
   リーニングローラとの接離方向に移動させてなることを
   特徴とする請求項３または請求項４に記載の自動露光装
   置のマスク自動クリーニング装置。
6. 【請求項６】 前記クリーニングローラは、前記揺動ア
   ームを介してマスク面を押圧する方向に付勢する付勢手
   段を介して前記クリーニングユニットに軸支してなるこ
   とを特徴とする請求項４または請求項５に記載の自動露
   光装置のマスク自動クリーニング装置。
7. 【請求項７】 前記クリーニングユニットの待機位置に
   おいて前記クリーニングローラの表面に接離する汚れ除
   去手段を備えてなることを特徴とする請求項４から請求
   項６までのいずれか１項に記載の自動露光装置のマスク
   自動クリーニング装置。