JP2003201411A - スルホンアミド化合物およびその製造方法 - Google Patents

スルホンアミド化合物およびその製造方法

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JP2003201411A
JP2003201411A JP2002002100A JP2002002100A JP2003201411A JP 2003201411 A JP2003201411 A JP 2003201411A JP 2002002100 A JP2002002100 A JP 2002002100A JP 2002002100 A JP2002002100 A JP 2002002100A JP 2003201411 A JP2003201411 A JP 2003201411A
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Yuji Ueda
裕治 植田
Kazuhiro Machiguchi
和宏 町口
Hirotake Marumichi
博毅 円道
Yoshinori Uchida
好則 内田
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Sony Corp
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sony Corp
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】十分な耐熱性を有するマゼンタ色フィルタ層を
与え得る感光性樹脂組成物用の色素を提供する。 【解決手段】 一般式(I) 〔式中、R11は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
は一般式(11) で示される置換基を示し、R21は水素原子、メチル基、
ブチル基または一般式(21) −SO2NHY (21) で示される置換基を示し、R31は水素原子、塩素原子、
メチル基、エチル基または一般式(21)で示される置
換基を示し、R41は水素原子または一般式(21)で示
される置換基を示す。ただし、R11、R21、R31、R41
のうちの少なくとも一つは一般式(11)または一般式
(21)で示す置換基である。R5、R6はそれぞれ独立
に水素原子またはメチル基を示し、R7は水素原子、ア
セチル基またはベンゾイル基を示す。〕で示されるスル
ホンアミド化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はスルホンアミド化合
物およびその製造方法に関し、詳しくは色フィルタアレ
イの色フィルタ層の形成に用いられる感光性樹脂組成物
の色素として好適に使用されるスルホンアミド化合物に
関する。
【0002】
【従来の技術】固体撮像素子や液晶表示素子をカラー化
するために素子上に形成される色フィルタアレイとし
て、基体(1)上の同一平面に隣接して形成された黄色
フィルタ層(Y)、マゼンタ色フィルタ層(M)および
シアン色フィルタ層(C)からなる色フィルタアレイ
(2)が知られている(図1)。こうした色フィルタア
レイ(2)において各フィルタ層(Y、M、C)は帯状
のパターン(図2)や、格子状(モザイク状)のパター
ン(図3)で形成されている。こうした色フィルタアレ
イの製造方法としては種々の方法が提案されており、中
でも色素を含有する感光性樹脂組成物からなる層を露光
し、現像することによってパターンニングする工程を所
要の回数だけ繰返しおこなう、いわゆるカラーレジスト
法は、広く実用化されている方法である。こうした方法
においては、色フィルタ層の機械的強度を向上するため
に、通常は各色フィルタ層を形成した後に加熱処理が行
われている。
【0003】カラーレジスト法に用いられる感光性樹脂
組成物としては、色素として顔料を含有するものが広く
普及している。しかし、顔料は粒状であり感光性樹脂組
成物に溶解しないために現像残渣が生じるという問題が
あり、微細なパターンの形成には不向きであった。そこ
で、微細なパターンの色フィルタアレイを得ることがで
きる感光性樹脂組成物として、色素として染料を用いた
感光性樹脂組成物が提案されている。しかし、従来のマ
ゼンタ色フィルタ層の形成に用いられる感光性樹脂組成
物に含有される色素はその耐熱性が必ずしも十分である
とは言えなかった。そのため、色フィルタ層を形成した
後の加熱処理において変色したり、色フィルタアレイの
使用中に変色したりする懸念があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、十分な耐熱性を有するマゼンタ色フィルタ層を与え
得る感光性樹脂組成物用の色素を開発するべく鋭意検討
した結果、スルホン酸基を有するアンスラピリドン化合
物からなる染料をスルホンアミド化して得られるスルホ
ンアミド化合物は、色フィルタ層を構成する色素として
より高い耐熱性を備えていることを見出し、本発明に至
った。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式(I) 〔式中、R11は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
は一般式(11) (式中、Qはブチル基、ブトキシ基、ペンチル基または
1,1,3,3−テトラメチルブチル基を示し、Yはア
ルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルコキシル
基、アルコキシアルキル基またはアリール基を示す。)
で示される置換基を示し、R21は水素原子、メチル基、
ブチル基または一般式(21) −SO2NHY (21) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される置換
基を示し、R31は水素原子、塩素原子、メチル基、エチ
ル基または一般式(21)で示される置換基を示し、R
41は水素原子または一般式(21)で示される置換基を
示す。ただし、R11、R21、R31、R41のうちの少なく
とも一つは一般式(11)または一般式(21)で示す
置換基である。R5、R6はそれぞれ独立に水素原子また
はメチル基を示し、R7は水素原子、アセチル基または
ベンゾイル基を示す。〕で示されるスルホンアミド化合
物を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の化合物において、置換基
11は水素原子、メトキシ基または一般式(11)で示
される置換基を示し、置換基R21は水素原子、メチル
基、ブチル基または一般式(21)で示される置換基を
示し、置換基R31は水素原子、塩素原子、メチル基、エ
チル基または一般式(21)で示される置換基を示し、
置換基R 41は水素原子または一般式(21)で示される
置換基を示し、一般式(11)で示される置換基および
一般式(21)で示される置換基において置換基Yはア
ルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルコキシル
基、アルコキシアルキル基またはアリール基を示すが、
ここで置換基Yにおけるアルキル基としてはn−プロピ
ル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、1,5−ジメチ
ルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル
基、2−エチルヘキシル基などが、シクロアルキルアル
キル基としてはシクロヘキシルエチル基、シクロヘキシ
ルブチル基などが、アルコキシル基としてはプロポキシ
基、ブトキシ基などが、アルコキシアルキル基としては
プロポキシプロピル基、プロポキシブチル基などが、ア
リール基としてはエチルフェニル基、ブチルフェニル基
などが、それぞれ例示される。4つの置換基R11
21、R31およびR41のうちの少なくとも一つは一般式
(11)で示される置換基または一般式(21)で示す
置換基である。置換基R11が一般式(11)で示される
置換基であってもよいし、置換基R21、R31およびR41
のうちの少なくとも一つが一般式(21)で示される置
換基であってもよい。R5、R6、R7はそれぞれ前記と
同じ意味を示す。
【0007】こうしたスルホンアミド化合物としては、
例えば、一般式(I−1) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(I−2) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(I−3) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(I−4) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(I−5) (式中、R151は水素原子または一般式(21)で示さ
れる置換基を示し、Yは前記と同じ意味を示す。)で示
される化合物などが挙げられる。
【0008】こうした本発明のスルホンアミド化合物
は、例えば、一般式(III) 〔式中、R13は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
は一般式(13) (式中、Qは前記と同じ意味を示し、Mは水素原子、ア
ルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子または4級アン
モニウムを示す。)で示される置換基を示し、R23は水
素原子、メチル基、ブチル基または一般式(23) −SO3M (23) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される置換
基を示し、R33は水素原子、塩素原子、メチル基、エチ
ル基または一般式(23)で示される置換基を示し、R
43は水素原子または一般式(23)で示される置換基を
示す。ただし、R13、R23、R33、R43のうちの少なく
とも一つは一般式(13)または一般式(23)で示す
置換基である。R5、R6、R7はそれぞれ前記と同じ意
味を示す。〕で示されるアンスラピリドン化合物と一般
式(4) SOX2 (4) (式中、Xはハロゲン原子を示す。)で示されるハロゲ
ン化チオニル化合物とを反応させて一般式(II) 〔式中、R12は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
は一般式(12) (式中、Qは前記と同じ意味を示し、Xは前記と同じ意
味を示す。)で示される置換基を示し、R22は水素原
子、メチル基、ブチル基または一般式(22) −SO2X (22) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示される置換
基を示し、R32は水素原子、塩素原子、メチル基、エチ
ル基または一般式(22)で示される置換基を示し、R
42は水素原子または一般式(22)で示される置換基を
示す。ただし、R12、R22、R32、R42のうちの少なく
とも一つは一般式(12)または一般式(22)で示す
置換基である。R5、R6、R7はそれぞれ前記と同じ意
味を示す。〕で示されるスルホニル化合物を得て、得ら
れた一般式(II)で示されるスルホニル化合物を一般
式(5) Y−NH2 (5) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される1級
アミン化合物と反応させる方法により製造することがで
きる。
【0009】一般式(III)で示されるアンスラピリ
ドン化合物において一般式(13)で示される置換基お
よび一般式(23)で示される置換基におけるMは、水
素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子また
は4級アンモニウムを示すが、こうしたアルカリ金属原
子としては、例えば、リチウム原子、ナトリウム原子、
カリウム原子などが、アルカリ土類金属原子としては、
例えば、マグネシウム原子、カルシウム原子などが、4
級アンモニウムとしては例えば、テトラメチルアンモニ
ウム、テトラブチルアンモニウムなどがそれぞれ例示さ
れる。4つの置換基R13、R23、R33およびR43のうち
の少なくとも一つは一般式(13)で示す置換基または
一般式(23)で示す置換基である。置換基R13が一般
式(13)で示す置換基であってもよいし、置換基
23、R33およびR43の少なくとも一が一般式(23)
で示す置換基であってもよい。
【0010】こうした一般式(III)で示されるアン
スラピリドン化合物としては、例えば、一般式(III
−1) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物〔C.I.アシッド・レッド80として市販されてい
る。〕、一般式(III−2) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(III−3) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(III−4) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(III−5) (式中、R351は水素原子または一般式(23)で示さ
れる置換基を示し、Mは前記と同じ意味を示す。)で示
される化合物〔C.I.アシッド・レッド143として
市販されている。〕(特開平3−100502号公報)
などが挙げられる。
【0011】一般式(4)で示されるハロゲン化チオニ
ル化合物としては、例えば、塩化チオニルが挙げられ
る。こうしたハロゲン化チオニル化合物の使用量は通常
アンスラピリドン化合物に対して通常1〜10モル倍程
度であるが、用いるアンスラピリドン化合物の含水量が
多い場合などのように、反応系内に水が持ち込まれる場
合には、さらに過剰量を用いて水を分解することが好ま
しく、こうした水に対して1モル以上のハロゲン化チオ
ニル化合物をさらに加えればよい。
【0012】こうした反応は通常、N,N−ジアルキル
ホルムアミドの存在下に行われる。N,N−ジアルキル
ホルムアミドとしては、通常N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどが使用され、
その使用量は、ハロゲン化チオニルに対して通常0.0
5〜1モル倍程度である。
【0013】反応は通常、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶
媒中で行われる。ハロゲン化脂肪族炭化水素としては、
例えば、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、
1,2−ジクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクロ
ロエチレン、パークロロエチレン、ジクロロプロパン、
塩化アミル、1、2−ジブロモエタンなどが挙げられ、
好ましくはクロロホルムである。ハロゲン化脂肪族炭化
水素の使用量は通常アンスラピリドン化合物に対して3
〜10重量倍、好ましくは5〜8重量倍程度である。
【0014】反応は、例えば、アンスラピリドン化合
物、N,N−ジアルキルホルムアミドおよびハロゲン化
脂肪族炭化水素を混合し、得られた混合物にハロゲン化
チオニルを滴下して加えればよい。反応温度は通常0〜
70℃、好ましくは30〜60℃の範囲である。反応時
間は通常0.5〜8時間、好ましくは3〜5時間程度で
ある。
【0015】こうして得られた一般式(II)で示され
るスルホニル化合物において、4つの置換基R12
22、R32およびR42のうちの少なくとも一つは一般式
(12)で示す置換基または一般式(22)で示す置換
基である。用いた一般式(III)で示されるアンスラ
ピリドン化合物の置換基R13が一般式(13)で示され
る置換基である場合には、一般式(II)で示されるス
ルホニル化合物の置換基R 12が一般式(12)で示され
る置換基となり、置換基R23が一般式(23)で示され
る置換基である場合には、置換基R22が一般式(22)
で示される置換基となり、置換基R33が一般式(23)
で示される置換基である場合には、置換基R 32が一般式
(22)で示される置換基となり、置換基R43が一般式
(23)で示される置換基である場合には、置換基R42
が一般式(22)で示される置換基となる。
【0016】こうした一般式(II)で示されるスルホ
ニル化合物としては、例えば、一般式(II−1) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(II−2) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(II−3) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(II−4) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物、一般式(II−5) (式中、R251は水素原子または一般式(22)で示さ
れる置換基を示し、Xは前記と同じ意味を示す。)で示
される化合物などが挙げられる。
【0017】こうして得られた一般式(II)で示され
るスルホニル化合物は、反応後の反応混合物から取り出
して一般式(5)で示される1級アミンとの反応に用い
られてもよいが、通常は反応後の反応混合物から取り出
されることなく、1級アミンとの反応に用いられる。
【0018】一般式(5)で示される1級アミン化合物
としては、例えば、n−プロピルアミン、n−ブチルア
ミン、n−ヘキシルアミン、1,5−ジメチルヘキシル
アミン、1,1,3,3−テトラメチルブチルアミン、
2−エチルヘキシルアミン、3−アミノ−1−フェニル
ブタン、イソプロポキシプロピルアミンなどが挙げられ
る。こうした1級アミンは、それぞれ単独または2種以
上を混合して用いてもよく、その使用量は一般式(I
I)で示されるスルホニル化合物の一般式(21)で示
される置換基および一般式(22)で示される置換基の
合計量に対して1〜5モル倍、好ましくは1.1〜3モ
ル倍程度である。
【0019】こうした反応は通常、塩基性触媒の存在下
に行われる。塩基性触媒としては、例えば、トリエチル
アミン、トリエタノールアミンなどの脂肪族3級アミ
ン、ピペリジンなどの芳香族3級アミンなどの3級アミ
ン、ジエチルアミンなどの脂肪族2級アミン、ピリジン
などの芳香族2級アミンなどの2級アミンなどが挙げら
れるが、3級アミン、さらには脂肪族3級アミン、特に
はトリエチルアミンが好ましく用いられる。塩基性触媒
の使用量は1級アミンおよび先の反応で使用したハロゲ
ン化チオニル化合物の合計量に対して通常3〜6モル倍
の範囲である。反応は、例えば、先の反応の後のスルホ
ニル化合物を含む反応混合物に、1級アミンおよび塩基
性触媒を加えればよい。1級アミンおよび塩基性触媒は
予め混合して加えられてもよいし、それぞれ独立に加え
られてもよい。1級アミンを加える際の温度は、30℃
以下が好ましい。反応温度は、通常0〜50℃程度、好
ましくは0〜30℃程度であり、反応時間は通常1〜5
時間程度である。
【0020】こうして一般式(I)で示されるスルホン
アミド化合物を得るが、こうしたスルホンアミド化合物
において、4つの置換基R11、R21、R31およびR41
うちの少なくとも一つは一般式(11)で示す置換基ま
たは一般式(21)で示す置換基である。用いた一般式
(II)で示されるスルホニル化合物の置換基R12が一
般式(12)で示される置換基である場合には、一般式
(I)で示されるスルホンアミド化合物の置換基R11
一般式(11)で示される置換基となり、置換基R22
一般式(22)で示される置換基である場合には、置換
基R21が一般式(21)で示される置換基となり、置換
基R32が一般式(22)で示される置換基である場合に
は、置換基R31が一般式(21)で示される置換基とな
り、置換基R42が一般式(22)で示される置換基であ
る場合には、置換基R41が一般式(21)で示される置
換基となる。
【0021】反応後の反応混合物から得られたスルホン
アミド化合物を取り出すには、例えば、固形物を濾別し
たのち溶媒留去して、得られた残渣をアルコール溶媒に
溶解した後、水と混合すればよい。反応混合物を濾別す
ることにより、1級アミンと塩基性触媒との塩を濾別す
ることができる。溶媒留去により、反応に用いたハロゲ
ン化脂肪族炭化水素を留去することができる。得られた
残渣を混合溶媒に溶解した後、水と混合することによ
り、スルホンアミド化合物が析出する。溶媒留去により
得られた残渣は、アルコール溶媒に溶解されるが、ここ
でアルコール溶媒としてはメタノールが好ましく用いら
れる。また、アルコール溶媒は脂肪族カルボン酸類を溶
解していることが好ましい。こうした脂肪族カルボン酸
としては、例えば、酢酸が挙げられる。脂肪族カルボン
酸を用いる場合、その使用量はアルコール溶媒に対して
0.05〜0.25倍、好ましくは0.08〜0.13
倍程度である。こうしたアルコール溶媒の使用量は、用
いたアンスラピリドン化合物に対して通常1〜5重量
倍、好ましくは2.5〜3.5重量倍程度である。
【0022】残渣を溶解した後のアルコール溶媒は、水
と混合されるが、水の使用量はアルコール溶媒の使用量
に対して通常5〜100重量倍程度であり、水の温度は
通常10〜35℃、好ましくは20〜30℃程度であ
る。混合後、0.5〜2時間程度攪拌することが好まし
い。
【0023】こうして目的とするスルホンアミド化合物
が析出するが、析出したスルホンアミド化合物は通常の
方法、例えば、濾別後、水洗し、乾燥する方法により取
り出すことができる。
【0024】こうして得られる一般式(I)で示される
スルホンアミド化合物は、染料、特に色フィルタアレイ
の色フィルタ層に用いられる染料として有用であり、こ
うしたスルホンアミド化合物を色素として含有する感光
性樹脂組成物は、色フィルタ層形成用の感光性樹脂組成
物として好適に使用される。
【0025】こうした感光性樹脂組成物は、色素として
一般式(I)で示されるスルホンアミド化合物を含有す
るが、他の色素を含有していてもよい。例えば、上記ス
ルホンアミド化合物を色素として含有すると通常はマゼ
ンタ色の色フィルタ層を形成するが、他の色の色素を含
有させて、マゼンタとは異なった色の色フィルタ層を形
成するための感光性樹脂組成物としてもよい。
【0026】感光性樹脂組成物は、色素のほか、例え
ば、アルカリ可溶性樹脂、感光剤および架橋剤を含有す
る。
【0027】アルカリ可溶性樹脂はアルカリに溶解し得
る樹脂であって、例えば、フェノール性水酸基またはカ
ルボキシル基を有する樹脂、p−ヒドロキシスチレンと
p−アセトキシメチルスチレンとの共重合体などのよう
にヒドロキシスチレン構造を有する共重合体などが挙げ
られる。
【0028】フェノール性水酸基を有する樹脂として
は、例えば、ノボラック樹脂、フェノール樹脂などが挙
げられる。ノボラック樹脂としては、フェノール類とア
ルデヒド類とを縮重合させて得られる樹脂が挙げられ、
フェノール類としては、例えば、フェノール、クレゾー
ル、エチルフェノール、ブチルフェノール、キシレノー
ル、フェニルフェノール、カテコール、レゾルシン、ピ
ロガロール、ナフトール、ビスフェノールA、p−ヒド
ロキシスチレンおよびその2量体などが、アルデヒド類
としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドなどの脂肪族アルデヒド、ベ
ンズアルデヒドなどの芳香族アルデヒドなどがそれぞれ
挙げられる。フェノール類およびアルデヒド類はそれぞ
れ単独または2種以上を混合して用いられる。縮重合
は、通常、酸触媒の存在下に行われる。こうしたアルカ
リ可溶性樹脂は、分別などの方法により分子量分布が調
整されていてもよい。
【0029】感光剤としては、例えば、O−ナフトキノ
ンアジド−5−スルホン酸またはO−ナフトキノンアジ
ド−4−スルホン酸のエステルまたはアミドなどのキノ
ンアジド化合物が用いられる。
【0030】架橋剤としては、例えば、一般式(6) 〔式中、Zは一般式(56) −NR6566 (61) で示される置換基またはフェニル基を示す。R61
62、R63、R64、R65、R 66はそれぞれ独立に水素原
子、一般式(62) −(CH2n−OH (62) (式中、nは1〜4の整数を示す。)で示される置換基
または一般式(63) −(CH2)−OR67 (63) (式中、R67はアルキル基を示す。)で示される置換基
を示す。ただし、R61、R62、R63、R64、R65、R66
のうちの少なくとも一つは一般式(62)で示される置
換基または一般式(63)で示される置換基である。〕
で示されるメラミン化合物が挙げられる。こうしたメラ
ミン化合物としては、例えば、ヘキサメトキシメチロー
ル、ヘキサメトキシエチロール、ヘキサメトキシプロピ
ロールなどが好ましい。
【0031】こうした感光性樹脂組成物において、色
素、アルカリ可溶性樹脂、感光剤および架橋剤の含有量
は、色素、アルカリ可溶性樹脂、感光剤および架橋剤の
合計量100重量部あたり、色素の含有量が通常2〜5
0重量部、好ましくは5〜30重量部、アルカリ可溶性
樹脂の含有量が通常2〜30重量部、好ましくは5〜2
0重量部、感光剤の含有量が通常2〜30重量部、好ま
しくは5〜20重量部、硬化剤の含有量が通常2〜30
重量部、好ましくは3〜25重量部である。
【0032】感光性樹脂組成物は、溶剤で希釈されてい
てもよい。溶剤としては、例えば、メチルセルソルブ、
エチルセルソルブ、メチルセルソルブアセテート、エチ
ルセルソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、N,
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、γ
−ブチルラクトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢
酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、ピルピン酸エチル、
N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。これ
らの溶剤はそれぞれ単独または2種以上を混合して用い
られる。こうした溶剤で希釈する場合、その使用量は色
素、アルカリ可溶性樹脂、感光剤および硬化剤の合計量
1重量部あたり通常1〜20重量倍、好ましくは1.5
〜10重量倍である。
【0033】こうした感光性樹脂組成物を用いて色フィ
ルタアレイを得るには、通常と同様に、例えば、該感光
性樹脂組成物を用いてパターンニングして色フィルタ層
を形成すればよい。パターンニングするには、基体上に
上記感光性樹脂組成物からなる被膜を設け、該被膜を露
光してのち現像すればよい。基体上に感光性樹脂組成物
からなる皮膜を設けるには、感光性樹脂組成物を溶剤に
希釈した溶液をスピンコートすればよい。露光は、レク
チルを介して光線を照射することにより行われる。現像
は、アルカリ現像液を用いて行われる。その後、全面に
露光して残留する感光剤を分解し、次いで加熱して熱硬
化させることにより、目的とするパターンで色フィルタ
層を得ることができる。こうして得られる色フィルタア
レイは、基体上に色フィルタ層を有してなり、該色フィ
ルタ層は本発明のスルホンアミド化合物を含有してい
る。
【0034】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例により限定されるもので
はない。
【0035】参考例1(アルカリ可溶性樹脂Aの合成) 化学式(70) で示される化合物53.6重量部、メチルイソブチルケ
トン50.4重量部およびシュウ酸6.08重量部を混
合し、80℃で攪拌しながら1時間かけて37%ホルマ
リン13重量部を滴下して加えた。次いで、110℃で
10時間保持して反応させ、反応終了後、中和し、水
洗、脱水してノボラック樹脂の溶液を得た。得られたノ
ボラック樹脂の重量平均分子量(スチレン換算値)をG
PC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)によ
り測定したところ、3,000であった。この溶液を5
0℃に保温しながら、樹脂が分別されるまでn−ヘプタ
ンを加え、樹脂層を分液し、乳酸エチルを加えて濃縮
し、ノボラック樹脂(樹脂A)の乳酸エチル溶液(固形
分35重量%)を得た。この樹脂Aの重量平均分子量
(GPC、スチレン換算値)は6,000であった。
【0036】参考例2(アルカリ可溶性樹脂Bの合成) n−ヘプタンをさらに加えて樹脂層を分液する以外は実
施例1と同様に操作して、ノボラック樹脂(樹脂B)の
乳酸エチル溶液(固形分33重量%)を得た。この樹脂
Aの重量平均分子量(GPC、スチレン換算値)は1
4,000であった。
【0037】参考例3(アルカリ可溶性樹脂Cの合成) m−クレゾール10重量部、p−クレゾール10重量
部、メチルイソブチルケトン50重量部およびシュウ酸
1重量部を混合し、80℃で攪拌しながら1時間かけて
37%ホルマリン4重量部を滴下して加えた。次いで、
110℃で10時間保持して反応させ、反応終了後、中
和し、水洗、脱水してノボラック樹脂の溶液を得た。こ
の溶液を50℃に保温しながら樹脂が分別されるまでn
−ヘプタンを加え、樹脂層を分液し、乳酸エチルを加え
て濃縮し、ノボラック樹脂(樹脂C)の乳酸エチル溶液
(固形分27重量%)を得た。この樹脂Aの重量平均分
子量(GPC、スチレン換算値)は3,000であっ
た。
【0038】実施例1 (スルホンアミド化合物の合成)C.I.アシッド・レ
ッド143(アンスラピリドン化合物)(100g)、
クロロホルム(700g)、N,N−ジメチルホルムア
ミド(44g)を混合し、30℃以下を維持しながら塩
化チオニル(80g)を滴下して加え、次いで40〜5
0℃で2時間保持した。その後、30℃に冷却し、30
℃以下を維持しながら3−アミノ−1−フェニルブタン
(56g)を滴下して加え、その後30℃でトリエチル
アミン(150g)を滴下して加え、次いで20〜30
℃を維持しながら1時間攪拌した。次いで、減圧濃縮し
てクロロホルムを留去し、得られた残渣にメタノール
(100cm3)および酢酸(2g)を加えて残渣を溶
解し、イオン交換水(1500cm3)に加えて結晶を
得た。この結晶を濾取し、イオン交換水で洗浄後、減圧
乾燥器で50〜60℃で乾燥して化学式(71) で示されるスルホンアミド化合物〔1−ベンゾイル−6
−[(2−(1−メチル−3−フェニルプロピルスルフ
ァモイル)アニリノ−4−(4−ペンチルフェニル)−
3H−ジベンズ[f,i,j]イソキノリン−2,7−
ジオン〕(収量30g)を得た。
【0039】(色素の耐熱性の評価)上記で得たスルホ
ンアミド化合物0.35gを乳酸エチルに溶解して容積
を250cm3とし、そのうちの2cm3を乳酸エチルで
希釈して容積を100cm3として、分光光度計〔石英
セル、セルの長さは1cm〕を用いて吸収スペクトルを
測定した。図4に得られた吸収スペクトルを示す。この
化合物は、波長約535nmで最大の吸光度(0.46
3(任意単位))を示した。上記で得たスルホンアミド
化合物を乾燥器を用いて200℃に加熱した。同温度で
1時間経過後のスルホンアミド化合物の吸収スペクトル
を上記と同様にして測定した。吸収スペクトル(実線)
を試験前の吸収スペクトル(破線)と共に図5に示す。
試験後、この化合物は、波長約535nmで最大の吸光
度(0.456)を示した。試験前後の最大吸光度の比
は0.985(=0.456/0.463)である。
【0040】(感光性樹脂組成物の製造)上記で得た参
考例1で得た樹脂A10.7g、スルホンアミド化合物
6.5g、ヘキサメトキシメチロール化メラミン(4
g)、化学式(72) (式中、R70は式(73) で示される置換基を示す。)で示されるキノンアジド化
合物(7.6g)、化学式(74) (式中、R71は水素原子または式(73)で示される置
換基を示す。)で示されるキノンアジド化合物(1.9
g)、ジメチルホルムアミド(20.3g)、乳酸エチ
ル(6g)およびシリコーン液(0.2g)を混合した
のち、メンブランフィルターを用いて加圧濾過して、感
光性樹脂組成物を得た。
【0041】(色フィルタ層の形成)上記で得た感光性
樹脂組成物をシリコンウエハー上にスピンコートした
後、100℃で1分間加熱し、次いで露光した。露光に
はi線を用い、マスクパターンを介して照射した。その
後、アルカリ現像して、線幅0.8μmの線状パターン
を有するマゼンタ色の色フィルタ層を得た。その後、全
面に亘って紫外線を照射したのち180℃で3分間加熱
して硬化させた。
【0042】実施例2 樹脂Aに代えて参考例2で得た樹脂B(9.1g)を用
いる以外は実施例1と同様に操作して、感光性樹脂組成
物を得、色フィルタ層を形成した。
【0043】実施例3 樹脂Aに代えて参考例3で得た樹脂C(10.2g)を
用いる以外は実施例1と同様に操作して、感光性樹脂組
成物を得、色フィルタ層を形成した。
【0044】実施例4 3−アミノ−1−フェニルブタンに代えて2−エチルヘ
キシルアミン(48.4g)を用いる以外は実施例1と
同様な操作を行いスルホンアミド化合物を得た。収率は
59.8%であり、純度は98%であった。
【0045】比較例1 実施例1で得たスルホンアミド化合物に代えて化学式
(80) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される化合
物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、この化合
物(80)の耐熱性の評価を行った。この化合物の吸収
スペクトルを図6に示す。この化合物は波長約525n
mで最大の吸光度(2.67)を示した。この化合物を
乾燥器内で200℃に加熱した。同温度で1時間経過後
のスルホンアミド化合物の吸収スペクトルを実施例1と
同様にして測定した。吸収スペクトル(実線)を試験前
の吸収スペクトル(破線)と共に図7に示す。試験後、
この化合物は波長約525nmで最大の吸光度(2.5
6)を示した。試験前後の最大吸光度の比は0.959
(=2.56/2.67)である。
【0046】
【発明の効果】本発明のスルホンアミド化合物は耐熱性
に優れているので、これを色素として用いることによ
り、耐熱性に優れ高温下でも変色しない色フィルタ層を
有する色フィルタアレイを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】黄色フィルタ層、マゼンタ色フィルタ層および
シアン色フィルタ層からなる色フィルタアレイの断面模
式図である。
【図2】各フィルタ層が帯状のパターンで形成された色
フィルタアレイを示す上面図である。
【図3】各フィルタ層が格子状のパターンで形成された
色フィルタアレイを示す上面図である。
【図4】実施例1で得たスルホンアミド化合物の吸収ス
ペクトルを示す図であり、横軸は波長(nm)、縦軸は
吸光度(任意単位)をそれぞれ示す。
【図5】実施例1で得たスルホンアミド化合物の耐熱試
験(200℃、1時間)後の吸収スペクトルを示す図で
あり、横軸は波長(nm)、縦軸は吸光度(任意単位)
をそれぞれ示す。実線は耐熱試験後の吸収スペクトルを
示し、破線は耐熱試験前の吸収スペクトルを示す。
【図6】比較例1で用いた化合物の吸収スペクトルを示
す図であり、横軸は波長(nm)、縦軸は吸光度(任意
単位)をそれぞれ示す。
【図7】比較例1で用いた化合物の耐熱試験(200
℃、1時間)後の吸収スペクトルを示す図であり、横軸
は波長(nm)、縦軸は吸光度(任意単位)をそれぞれ
示す。実線は耐熱試験後の吸収スペクトルを示し、破線
は耐熱試験前の吸収スペクトルを示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 町口 和宏 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友化学工業株式会社内 (72)発明者 円道 博毅 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 内田 好則 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA45 BA47 BA48 BB42 BB46 CA04 CA09 CA14 CA19 4C034 CJ07 4H039 CA71 CA80 CD50

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I) 〔式中、R11は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
    は一般式(11) (式中、Qはブチル基、ブトキシ基、ペンチル基または
    1、1,3,3−テトラメチルブチル基を示し、Yはア
    ルキル基、シクロアルキルアルキル基、アルコキシル
    基、アルコキシアルキル基またはアリール基を示す。)
    で示される置換基を示し、R21は水素原子、メチル基、
    ブチル基または一般式(21) −SO2NHY (21) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される置換
    基を示し、R31は水素原子、塩素原子、メチル基、エチ
    ル基または一般式(21)で示される置換基を示し、R
    41は水素原子または一般式(21)で示される置換基を
    示す。ただし、R11、R21、R31、R41のうちの少なく
    とも一つは一般式(11)または一般式(21)で示す
    置換基である。R5、R6はそれぞれ独立に水素原子また
    はメチル基を示し、R7は水素原子、アセチル基または
    ベンゾイル基を示す。〕で示されるスルホンアミド化合
    物。
  2. 【請求項2】一般式(II) 〔式中、R12は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
    は一般式(12) (式中、Qは前記と同じ意味を示し、Xはハロゲン原子
    を示す。)で示される置換基を示し、R22は水素原子、
    メチル基、ブチル基または一般式(22) −SO2X (22) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示される置換
    基を示し、R32は水素原子、塩素原子、メチル基、エチ
    ル基または一般式(22)で示される置換基を示し、R
    42は水素原子または一般式(22)で示される置換基を
    示す。ただし、R12、R22、R32、R42のうちの少なく
    とも一つは一般式(12)または一般式(22)で示す
    置換基である。R5、R6、R7はそれぞれ前記と同じ意
    味を示す。〕で示されるスルホニル化合物を一般式
    (5) Y−NH2 (5) (式中、Yは前記と同じ意味を示す。)で示される1級
    アミン化合物と反応させることを特徴とする請求項1に
    記載のスルホンアミド化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】一般式(5)で示される1級アミン化合物
    の使用量が、一般式(II)で示されるスルホニル化合
    物の一般式(12)で示される置換基および一般式(2
    2)で示される置換基の合計量に対して1〜5モル倍で
    ある請求項2に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】塩基性触媒の存在下に反応させる請求項2
    に記載の製造方法。
  5. 【請求項5】ハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒中で反応さ
    せる請求項2に記載の製造方法。
  6. 【請求項6】一般式(II)で示されるスルホニル化合
    物を、一般式(III) 〔式中、R13は水素原子、メトキシ基、エトキシ基また
    は一般式(13) (式中、Qは前記と同じ意味を示し、Mは水素原子、ア
    ルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子または4級アン
    モニウムを示す。)で示される置換基を示し、R23は水
    素原子、メチル基、ブチル基または一般式(23) −SO3M (23) (式中、Mは前記と同じ意味を示す。)で示される置換
    基を示し、R33は水素原子、塩素原子、メチル基、エチ
    ル基または一般式(23)で示される置換基を示し、R
    43は水素原子または一般式(23)で示される置換基を
    示す。ただし、R13、R23、R33、R43のうちの少なく
    とも一つは一般式(13)または一般式(23)で示す
    置換基である。R5、R6、R7はそれぞれ前記と同じ意
    味を示す。〕で示されるアンスラピリドン化合物と一般
    式(4) SOX2 (4) (式中、Xは前記と同じ意味を示す。)で示されるハロ
    ゲン化チオニル化合物とを反応させて得る請求項2に記
    載の製造方法。
  7. 【請求項7】一般式(4)で示されるハロゲン化チオニ
    ル化合物の使用量が一般式(III)で示されるアンス
    ラピリドン化合物に対して1〜10モル倍である請求項
    6に記載の製造方法。
  8. 【請求項8】N,N−ジアルキルホルムアミドの存在下
    に一般式(III)で示されるアンスラピリドン化合物
    と一般式(4)で示されるハロゲン化チオニル化合物と
    を反応させる請求項6に記載の製造方法。
  9. 【請求項9】N,N−ジアルキルホルムアミドの使用量
    が一般式(4)で示されるハロゲン化チオニルに対して
    0.05〜1モル倍である請求項8に記載の製造方法。
  10. 【請求項10】ハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒中で一般
    式(III)で示されるアンスラピリドン化合物と一般
    式(4)で示されるハロゲン化チオニル化合物とを反応
    させる請求項6に記載の製造方法。
  11. 【請求項11】前記一般式(II)で示されるスルホニ
    ル化合物。
  12. 【請求項12】前記一般式(III)で示されるアンス
    ラピリドン化合物と前記一般式(4)で示されるハロゲ
    ン化チオニル化合物とを反応させることを特徴とする請
    求項11に記載のスルホニル化合物の製造方法。
  13. 【請求項13】一般式(4)で示されるハロゲン化チオ
    ニル化合物の使用量が一般式(III)で示されるアン
    スラピリドン化合物に対して1〜10モル倍である請求
    項12に記載の製造方法。
  14. 【請求項14】N,N’−ジアルキルホルムアミドの存
    在下に一般式(III)で示されるアンスラピリドン化
    合物と一般式(4)で示されるハロゲン化チオニル化合
    物とを反応させる請求項12に記載の製造方法。
  15. 【請求項15】N,N−ジアルキルホルムアミドの使用
    量が一般式(4)で示されるハロゲン化チオニルに対し
    て0.05〜1モル倍である請求項14に記載の製造方
    法。
  16. 【請求項16】ハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒中で一般
    式(III)で示されるアンスラピリドン化合物と一般
    式(4)で示されるハロゲン化チオニル化合物とを反応
    させる請求項12に記載の製造方法。
  17. 【請求項17】色素として請求項1に記載のスルホンア
    ミド化合物を含有する感光性樹脂組成物。
  18. 【請求項18】アルカリ可溶性樹脂、感光剤および硬化
    剤を含有し、色素、感光剤およびアルカリ可溶性樹脂の
    合計量100質量部あたりの色素含有量が2〜50質量
    部であり、アルカリ可溶性樹脂の含有量が2〜30質量
    部であり、感光剤の含有量が2〜30質量部であり、硬
    化剤の含有量が2〜30質量部である請求項17に記載
    の感光性樹脂組成物。
  19. 【請求項19】請求項17に記載の感光性樹脂組成物を
    用いてパターンニングして色フィルタ層を形成する工程
    を有することを特徴とする色フィルタアレイの製造方
    法。
  20. 【請求項20】基体上に色フィルタ層を有してなり、該
    色フィルタ層は請求項1に記載のスルホンアミド化合物
    を含有することを特徴とする色フィルタアレイ。
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