JP2003243761A - 半導体パッケージ - Google Patents
半導体パッケージInfo
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Abstract
的かつ確実に分解・除去することができ、かつ発光素子
の光学特性を妨げることなくアウトガス等の汚染物質を
分解・除去することができる半導体パッケージを提供す
る。 【解決手段】 半導体又は半導体を用いた部品を含む発
光素子を固定する半導体パッケージであって、内壁の少
なくとも一表面、又は内部に固定される半導体又は半導
体を用いた部品の少なくとも一表面に酸化チタンあるい
は酸化チタンの混合物を形成する。
Description
を用いた部品を含む発光素子を固定する半導体パッケー
ジに関する。
ケージ内において固定する方法として、いわゆる銀ペー
ストに代表される導電性接着材等の接着材が用いられる
ことが多くなってきている。これは、例えば金錫接着の
ような従来の接着方法に比べ、低温で接着を実現するこ
とが可能であり、半導体に加わる歪を低減させることが
できるからである。
いることから、製造工程において接着材が十分に固体硬
化できてない場合や、あるいは接着対象である半導体が
長期間加熱された状態で使用している場合等において
は、接着材は「アウトガス」と呼ばれるガスを発生する
ことになる。
た当該アウトガスが、熱や光等の何らかの理由により分
解すると有機物を生成し、その有機物が内部に存在する
半導体あるいは半導体複合素子の表面に付着することに
なる。一般にメモリやマイコン等の半導体素子について
は、表面がパッシベーション膜により保護されているこ
とから、たとえアウトガス成分である有機物が半導体表
面に付着し、被膜を形成した場合であっても何ら問題が
生じることはない。
合、アウトガス成分である有機物によって発光面に被膜
が形成されてしまうと、当該被膜によって出射面の反射
率あるいは透過率が変化してしまうことになる。このた
め、例えば半導体レーザの場合であれば、しきい値電
流、光出力効率、雑音特性等、発光素子における諸特性
が変化してしまうことから、パッケージの内部に接着材
を用いた半導体パッケージにおいては、発光素子として
の信頼性を確保することが極めて困難であるという問題
点があった。
00−349389号公報においては、酸化チタンに青
紫光や紫外線を照射すると光触媒効果が生じ、アウトガ
スの主成分である有機物を二酸化炭素や水に分解するこ
とができるという特性を利用して、酸化チタン又は酸化
チタンの混合物を発光素子自体の出射面に形成し、発光
素子自体の強い出射青紫光を用いて、アウトガス等のパ
ッケージ内部に生じる汚染物質を取り除く方法が開示さ
れている。
説明する。図7においては、半導体レーザ81の出射端
面に酸化チタン膜82が形成されている。このようにす
ることで、半導体レーザ81からの出射青紫光83が酸
化チタン膜82を通過することによって光触媒作用が生
じ、付着している有機物等のパッケージ内部に生じる汚
染物質を二酸化炭素や水に分解することができるように
なる。
いては、図8に示すように、パッケージ84の光透過窓
85に光触媒効果を有する材料を貼り付け、紫外線を外
部から照射することによって光触媒作用を生じさせ、ア
ウトガス等のパッケージ内部に生じる汚染物質を二酸化
炭素や水に分解する方法が開示されている。
−349389号公報に開示されている方法では、酸化
チタンの屈折率が約2であることから、反射率制御の観
点からは、酸化チタン膜82を設けることによって、最
適な光出力特性を得ることが物理的に困難になってしま
うという問題点があった。
いて開示されている方法では、紫外線照射により、例え
ば製造工程後にパッケージ内に残留するアウトガスにつ
いては二酸化炭素や水に分解して取り除くことができる
ものの、製造工程完了後、長期間使用している間にパッ
ケージ内部に発生するアウトガスについては取り除くこ
とができないという問題点があった。
スのみならず、完了後に発生したアウトガスに対しても
効果的に分解・除去することができ、かつ発光素子の光
学特性を妨げることなくアウトガス等の汚染物質を分解
・除去することができる半導体パッケージを提供するこ
とを目的とする。
に本発明にかかる半導体パッケージは、半導体又は半導
体を用いた部品を含む発光素子を固定する半導体パッケ
ージであって、内壁の少なくとも一表面、又は内部に固
定される半導体又は半導体を用いた部品の少なくとも一
表面に酸化チタンあるいは酸化チタンの混合物が形成さ
れていることを特徴とする。
妨げることなく光触媒効果を生じさせることができるこ
とから、物理的な配置上の制約を受けることなくアウト
ガス等の汚染物質を分解・除去することが可能となる。
この場合、発光素子から出射される光が直接的又は間接
的に酸化チタンあるいは酸化チタンの混合物に照射され
ることから、発光素子を使用する限り光触媒作用が確実
に発生し、製造工程完了後に発生したアウトガス等の汚
染物質に対しても有効である。
は、発光素子における発光波長が450nm以下である
ことが好ましい。これは、波長が450nm以下である
いわゆる青紫光又は紫外光である方が、光触媒効果がよ
り顕著だからである。
は、波長450nm以下において低透過率となる波長域
を有する材料から構成される窓ガラスを少なくとも一部
に用いることが好ましい。当該窓ガラスを通じて、外部
から青紫光又は紫外光を半導体パッケージの内部へと導
入することができ、外部光によっても光触媒効果を生じ
ることができるからである。
は、窓ガラスの内側面に酸化チタン又は酸化チタンの混
合物が形成されていることが好ましい。製造工程完了時
において強い紫外光を照射することにより、製造工程中
にパッケージ内部に蓄積されたアウトガス成分を分解で
きるのみならず、製造工程完了後においても経時的にパ
ッケージ内部に放出されるアウトガス成分についても、
窓ガラスを通過する発光素子の光と酸化チタン又は酸化
チタンの混合物による光触媒効果により分解することが
できるからである。
は、発光素子から出射された光の一部を受ける受光素子
を内部に有し、受光素子における受光面に酸化チタン又
は酸化チタンの混合物が形成されていることが好まし
い。受光素子が製造工程において常に発光素子の光を受
けることができることから、受光素子表面の酸化チタン
等によって確実に光触媒効果を発生させることができる
からである。
は、発光素子を固定する部品、あるいは発光素子の機能
を増幅する部品を含み、発光素子を固定する部品あるい
は発光素子の機能を増幅する部品の表面に酸化チタン又
は酸化チタンの混合物が形成されることが好ましい。酸
化チタン又は酸化チタンの混合物は、光触媒効果を有す
るだけでなく、絶縁性や強度性等にも優れていることか
ら、発光素子を固定する部品あるいは発光素子の機能を
増加させる部品についても優れた絶縁性や強度性等を付
与することができるからである。
は、内壁の少なくとも一表面、又は内部に固定される半
導体又は半導体を用いた部品の少なくとも一表面と、一
表面に形成された酸化チタン又は酸化チタンの混合物と
の間に、光反射層が設けてあることが好ましい。酸化チ
タン又は酸化チタンの混合物を透過した光が光反射層で
反射され、再び酸化チタン又は酸化チタンの混合物を照
射することになることから、光触媒効果をより顕著に生
じさせることができるからである。
は、内壁の少なくとも一表面、又は内部に固定される半
導体又は半導体を用いた部品の少なくとも一表面に、発
光素子から出射された光を反射する機能が設けられ、反
射された光路に酸化チタン又は酸化チタンの混合物が形
成されていることが好ましい。発光素子からの出射光の
一部が常にパッケージ内部の酸化チタン又は酸化チタン
の混合物に照射されることになることから、常に光触媒
効果を生じさせることができるからである。
実施の形態1にかかる半導体パッケージについて、図面
を参照しながら説明する。図1は本発明の実施の形態1
にかかる半導体パッケージの代表例である青紫色レーザ
の断面図である。一般に、青紫色レーザは、非線形光学
効果を利用した第2次高調発生レーザ(Second Harmoni
c Generation:SHGレーザ)と呼ばれている。(例え
ばKitaoka et al., "Miniaturized Blue Laser using S
econd Harmonic Generation", Jpn. J. Appl. Phys. vo
l.39 (2000) pp.3416-3418 参照)。
ム砒素基板上にアルミニウムガリウム砒素が形成されて
いるダブルへテロ構造を有しており、発振波長は820
nmである。半導体レーザ1の出射側には、LiNbO
3から構成される波長変換素子2が、エポキシ系紫外線
硬化接着材5を介して、シリコン製のサブマウント3に
取り付けられている。当該サブマウント3は、銀を含有
したエポキシ系導電性接着材4を用いて銅ヒートシンク
6に接着されている。
換素子の導波路とは、約0.5μmの距離で隣接してお
り、半導体レーザ1の約98%のレーザ出射光が波長変
換素子2の導波路に結合するように設計されている。
よって、半導体レーザ1の赤外レーザ光(820nm)
を青紫レーザ光(410nm)に変換する。この時、波
長変換素子2が内部に周期的分極反転構造を有している
ことから、赤外レーザ光と青紫レーザ光とが疑似的に位
相整合し、波長変換が効率よく行われることになる。
り、一つはサブマウント3、導電性接着材4及び銅ヒー
トシンク6により構成されており、もう一つは金ワイヤ
ー14を介して、リードフレーム電極13に接続されて
いる。
するため、エポキシ系樹脂壁12及びエポキシ系樹脂蓋
7が設けられている。樹脂壁12と樹脂蓋7は、エポキ
シ系熱硬化接着剤8で固定されている。
の出射用に、ホウケイ酸から構成される窓ガラス9がエ
ポキシ系紫外線硬化接着材10により樹脂壁12に接着
されている。窓ガラス9の表面のうち、パッケージ内部
側には酸化チタン膜11がスパッタ法により形成されて
いる。酸化チタン膜11の厚みは、窓ガラス9が低反射
率になるように設計されており、本実施の形態1におい
ては約46.6nmとした。
ている。一つは、当該青紫色レーザの製造工程の最終段
階において、窓ガラス9を通じて、外部から強い紫外線
を酸化チタン11膜に照射し、光触媒作用を生じさせる
役割である。本実施の形態1においては、紫外線硬化樹
脂10の硬化工程を併用することになる。したがって、
製造工程中に発生したアウトガス等の有機物を分解・除
去することができ、パッケージの内部をクリーンにする
ことが可能となる。
間中、波長変換素子2から出射された光が直接酸化チタ
ン膜11に照射されることにより、光触媒効果を生じさ
せる役割である。かかる構成とすることで、使用期間中
に発生したアウトガス中の有機物についても、確実に分
解・除去することができ、パッケージの内部を常にクリ
ーンな状態に維持することが可能となるる。
無い場合、さらに酸化チタン膜11がある場合について
は、最終製造工程で強い紫外光照射(波長365nm、
5MW/cm2、10分)を行う場合と行わない場合と
について、発光素子の寿命試験結果を比較したものであ
る。試験条件は、初期光出力が30mWであり、60℃
において定電流連続動作を行うものである。60℃に保
たれることにより、各種接着材4、5、8、10からア
ウトガスが少しづつ発生することになる。
い場合の光出力変動結果を、Bは酸化チタン膜11が有
る場合であって、最終製造工程において紫外光照射が行
われない場合の光出力変動結果を、Cは酸化チタン膜1
1が有る場合であって、最終製造工程において紫外光照
射が行われる場合の光出力変動結果を、それぞれ示して
いる。
いてはアウトガス中の有機物が発光端面に付着すること
によって、光出力が著しく低下しているのに対し、B及
びcにおいては酸化チタン11膜が形成されていること
から、光出力が長期間に渡って安定していることがわか
る。また、BとCを比較することによって明らかなよう
に、製造工程の最終段階において紫外線を照射すること
により、製造工程で発生したアウトガスを除去すること
ができ、Bにおいて見られる初期における不安定状態を
解消することができ、光出力を初期から長期間に渡って
安定させることが可能となる。
化チタン膜への光照射による光触媒効果によって、アウ
トガスから生じた有機物等を分解・除去することがで
き、パッケージ内部における発光素子の汚染を未然に防
止することが可能となる。
態2にかかる半導体パッケージについて、図面を参照し
ながら説明する。図3は本発明の実施の形態2にかかる
半導体パッケージの代表例である青紫色レーザの断面図
である。基本的な構成は実施の形態1と同じであるが、
図1における酸化チタン膜11が、窓ガラス9のパッケ
ージ内部側ではなく、樹脂蓋7及び樹脂壁12のパッケ
ージ内部側において、酸化チタン膜15、16、17、
及び18として構成されている。
部から紫外光を入射することにより、内部の酸化チタン
膜15、16、17、及び18に紫外光が照射し、実施
の形態1と同様に光触媒効果が生じ、製造工程で発生し
てパッケージの内部に残留しているアウトガス中の有機
物を分解、除去することが可能となっている。
は、窓ガラス9で反射した一部の青紫光がパッケージ内
部に戻ることによって散乱され、酸化チタン膜15、1
6、17、及び18に照射されることになる。さらに、
波長変換素子2から出射される光は広がりを有すること
から、広がりの裾部における光は、樹脂壁12に設けら
れている酸化チタン膜16に直接入射することになる。
及び18に照射される光は、特に青紫光出力が100m
W程度と十分に大きい場合には、光触媒効果を生ずるの
に十分な照射量となる。その結果、青紫色レーザを使用
している間に発生するアウトガス中の有機物について
も、効果的に分解・除去することが可能になり、半導体
パッケージとしての信頼性を高く維持することが可能と
なる。
び18と、樹脂壁12あるいは樹脂蓋7との間に、アル
ミニウム等の青紫光を反射する材料で形成された膜が挿
入されていても良い。かかる構成とすることにより、酸
化チタン膜15、16、17、及び18を透過した光が
反射材料で反射され、再度酸化チタン膜15、16、1
7、及び18に照射されることによる光触媒効果を、よ
り増長させることが可能となる。
15、16、17、及び18が樹脂壁12あるいは樹脂
蓋7の内部に形成されている場合を示しているが、必ず
しも全面に形成されている必要はなく、樹脂壁12ある
いは樹脂蓋7の一部に形成されている構成であっても良
い。
ージである場合について説明しているが、例えば半導体
レーザで良く用いられているCANパッケージのような
金属のパッケージについても適用することが可能であ
る。
化チタン膜を、光が直接入出射される窓ガラスのパッケ
ージ内部側ではなく、樹脂蓋及び樹脂壁のパッケージ内
部側に構成されている場合であっても、酸化チタン膜へ
の光照射による光触媒効果によって、アウトガス等の有
機物を分解・除去することができ、パッケージ内部にお
ける発光素子の汚染を未然に防止することが可能とな
る。
態3にかかる半導体パッケージについて、図面を参照し
ながら説明する。図4は本発明の実施の形態3にかかる
半導体パッケージの代表例である青紫色レーザの断面図
である。基本的な構成は実施の形態1及び2と同じであ
るが、本実施の形態3においては、酸化チタン膜19及
び20が、波長変換素子2の非固定面、及びサブマウン
ト3の表面に形成されている点に特徴を有する。
との間には光反射層21が形成されている。すなわち、
半導体レーザ1から出射された赤外光は波長変換素子2
により青紫光に変換され、通常は波長変換素子2内を導
波することになるが、一部の光が導波路の僅かな欠陥に
よって、導波中に散乱される。かかる散乱光が酸化チタ
ン膜19及び20に照射されることにより光触媒効果を
生じ、パッケージ内部に存在するアウトガス中の有機物
を分解する。そして、光反射層21が設けてあることに
よって、サブマウント3方向へ進む散乱光は、酸化チタ
ン膜19を透過した後、光反射層21で反射されて、再
び酸化チタン膜19に入射することになる。したがっ
て、散乱光による光触媒効果をより強く引き起こすこと
が可能となる。
チタン膜19の上に金等で構成されている導電性膜22
を形成し、導電性膜22の上に半導体レーザ1を固定す
る構成となっている。導電性膜22は、金ワイヤー23
によってリード電極24に接続されている。
膜19が絶縁性を有するので、半導体レーザ1の電位を
銅ヒートシンク6と別個に維持することができ、光ピッ
クに接続する場合の配線自由度が増すという効果を有し
ている。半導体レーザ1が分布ブラッグ反射型レーザ
(Distributed Bragg Reflector (DBR) Laser)のように
多電極を必要とするレーザの場合には、特に有用であ
る。
ことから、酸化チタン膜19及び20によって、波長変
換素子2及びサブマウント3の表面を保護することにな
り、波長変換素子2及びサブマウント3を取扱う際のカ
ケ(チッピング)等を抑制することが可能となる。
のような半導体プロセスで作製されることが多い。波長
変換素子2及びサブマウント6についても半導体プロセ
スで作製することから、各々の製造工程に容易に酸化チ
タン膜の形成工程を導入することが可能となる。
乱光や反射光を利用することによっても、酸化チタン膜
への光照射による光触媒効果によって、アウトガス等の
有機物を分解・除去することができ、パッケージ内部に
おける発光素子の汚染を未然に防止することが可能とな
る。
態4にかかる半導体パッケージについて、図面を参照し
ながら説明する。図5は本発明の実施の形態4にかかる
半導体パッケージの代表例である半導体レーザのパッケ
ージ断面図である。半導体レーザ1は、窒化ガリウム基
板上に積層された窒化ガリウム・インジウムから構成さ
れており、発振波長は405nmである。
張係数差に起因した熱歪を緩和する導電性シリコンサブ
マウント62を介して、銅製のステム63に導電性接着
材70により固定されている。半導体レーザ61の裏面
電極は、金ワイヤー64によりリード電極65に接続さ
れている。半導体レーザ61の背面には、シリコンPI
Nフォトダイオード66が導電性接着材73によりステ
ム63に取り付けられている。当該フォトダイオード6
6は、半導体レーザ61から出射される裏面光を受光
し、光出力の制御に用いられることになる。
と干渉しないように、フォトダイオード66は、半導体
レーザ61の出射端面に対して約10゜傾けて設置され
ている。そして、フォトダイオード66の表面には、酸
化チタン膜67が形成されている。酸化チタン膜67の
膜厚は、発振波長に対して低反射になるように選択され
ている。フォトダイオード66は、金ワイヤー68によ
りリード電極69に接続されている。また、キャップ7
1には窓ガラス72が取り付けてある。窓ガラス72の
両面は、弗化マグネシウムによって、波長405nmの
帯域で低反射になるように設定されている。
において、約60℃で使われることが多い。かかる環境
下においては、導電性接着材70及び73から有機物で
構成されるアウトガスが発生する。発生したアウトガス
に含まれる有機物が半導体レーザ61の出射面に付着す
れば、半導体レーザ61の出力変動を引き起こし、信頼
性を低下させることになる。
61の裏面から出射される青紫光が酸化チタン膜67に
照射されて光触媒効果を生ずることになる。したがっ
て、アウトガスに含まれる有機物が酸化チタン膜67の
表面で分解されるため、半導体レーザ61の出射面にア
ウトガスに含まれる有機物が付着することがなく、高い
信頼性を確保することが可能となる。
態5にかかる半導体パッケージについて、図面を参照し
ながら説明する。図6は本発明の実施の形態5にかかる
半導体パッケージの代表例である青紫色レーザの断面図
である。基本的な構成は実施の形態4と同じであるが、
酸化チタン膜75がシリコンPINフォトダイオード6
6の表面ではなく、キャップ71の内面に形成されてい
る点に特徴を有している。また、窓ガラス74は約30
゜傾けてあり、窓ガラス74の内面側には、低反射コー
トを行っていない。
ら前面(窓側)に出射した光の一部は、窓ガラス74で
反射され、その反射光路にある酸化チタン膜75に照射
されることになる。また、後面に出射した光のうち、一
部はフォトダイオード66で反射されて酸化チタン膜7
5に照射されることになる。これらの照射によって光触
媒効果が生じ、アウトガス中に含まれる有機物が分解さ
れ、高い信頼性を確保することが可能となる。
て、光触媒材料として酸化チタンを用いる場合について
説明しているが、特にこれに限定されるものではなく、
例えば酸化チタン/酸化アルミニウムの混合物、あるい
は酸化チタン/酸化ケイ素の混合物であっても同様な効
果が期待できる。
発光素子が、SHGレーザや窒化ガリウム系レーザのよ
うに青紫光を出射するレーザの場合について説明してい
るが、特にこれらに限定されるものではなく、赤色レー
ザを出射するアルミニウムインジウムガリウムリン系レ
ーザ、赤外光を出射するアルミニウムガリウム砒素系レ
ーザ、あるいはインジウムガリウム砒素リン系レーザの
ように他光を放出する他のレーザであっても、外部から
紫外光(青紫光)を入射させることによって同様な効果
が期待できる。
は、製造工程における残留アウトガス、あるいは長く使
用する間に内部に蓄積されるアウトガスに含まれる有機
物に対する光触媒効果について説明しているが、パッケ
ージの気密性が不十分な場合であって、パッケージの外
部から有機汚染物が侵入してくる場合であっても、光触
媒効果によって同様に分解・除去することができること
は言うまでも無い。
ケージによれば、製造工程における残留アウトガス、あ
るいは長期間の使用中に内部に蓄積されるアウトガス、
及び外部から侵入してくる有機汚染物による信頼性の低
下を抑制することができ、高い信頼性を維持することが
可能となる。
ージの構成図
ージにおける寿命試験結果の比較図
ージの構成図
ージの構成図
ージの構成図
ージの構成図
5、82 酸化チタン膜 12 樹脂壁 13、24、65、69 リード電極 14、23、64、68 金ワイヤー 21 光反射層 22 導電性膜 63 ステム 66 フォトダイオード 71 キャップ 83 出射青紫光 84 パッケージ 85 光通過窓
Claims (8)
- 【請求項1】 半導体又は半導体を用いた部品を含む発
光素子を固定する半導体パッケージであって、 内壁の少なくとも一表面、又は内部に固定される前記半
導体又は前記半導体を用いた部品の少なくとも一表面に
酸化チタンあるいは酸化チタンの混合物が形成されてい
ることを特徴とする半導体パッケージ。 - 【請求項2】 前記発光素子における発光波長が450
nm以下である請求項1記載の半導体パッケージ。 - 【請求項3】 波長450nm以下において低透過率と
なる波長域を有する材料から構成される窓ガラスを少な
くとも一部に用いる請求項1記載の半導体パッケージ。 - 【請求項4】 前記窓ガラスの内側面に酸化チタン又は
酸化チタンの混合物が形成されている請求項3記載の半
導体パッケージ。 - 【請求項5】 前記発光素子から出射された光の一部を
受ける受光素子を内部に有し、前記受光素子における受
光面に酸化チタン又は酸化チタンの混合物が形成されて
いる請求項1記載の半導体パッケージ。 - 【請求項6】 前記発光素子を固定する部品、あるいは
前記発光素子の機能を増幅する部品を含み、前記発光素
子を固定する部品あるいは前記発光素子の機能を増幅す
る部品の表面に酸化チタン又は酸化チタンの混合物が形
成されている請求項1項記載の半導体パッケージ。 - 【請求項7】 内壁の少なくとも一表面、又は内部に固
定される前記半導体又は前記半導体を用いた部品の少な
くとも一表面と、前記一表面に形成された酸化チタン又
は酸化チタンの混合物との間に、光反射層が設けてある
請求項1記載の半導体パッケージ。 - 【請求項8】 内壁の少なくとも一表面、又は内部に固
定される前記半導体又は前記半導体を用いた部品の少な
くとも一表面に、前記発光素子から出射された光を反射
する機能が設けられ、反射された光路に酸化チタン又は
酸化チタンの混合物が形成されている請求項2記載の半
導体パッケージ。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005175458A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光源、光ピックアップ装置、および電子機器 |
| WO2005088787A1 (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | コヒーレント光源および光学システム |
| JP2005292228A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2006156627A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体レーザ装置 |
| JP2007123322A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Cyber Laser Kk | レーザ装置並びにレーザ装置の運転方法 |
| WO2007117000A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-18 | Central Glass Company, Limited | 励起用半導体レーザモジュール |
| US7407421B2 (en) | 2003-11-20 | 2008-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light source, optical pickup, and electronic apparatus |
| JP2009246040A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ光源装置 |
| JP2009267120A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 光半導体装置 |
| JP2010129547A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Shimadzu Corp | 波長変換レーザ装置 |
| JP2017526192A (ja) * | 2014-09-02 | 2017-09-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 発光デバイス |
| JP2018014500A (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | レーザ構成要素およびレーザ構成要素を製造するための方法 |
| JP2023173809A (ja) * | 2022-05-26 | 2023-12-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
| JP2023173810A (ja) * | 2022-05-26 | 2023-12-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
-
2002
- 2002-02-19 JP JP2002042092A patent/JP4129135B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7407421B2 (en) | 2003-11-20 | 2008-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light source, optical pickup, and electronic apparatus |
| JP2005175458A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光源、光ピックアップ装置、および電子機器 |
| US8018134B2 (en) | 2003-11-20 | 2011-09-13 | Panasonic Corporation | Light source, optical pickup, and electronic apparatus |
| JP4729480B2 (ja) * | 2004-03-10 | 2011-07-20 | パナソニック株式会社 | コヒーレント光源および光学システム |
| WO2005088787A1 (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | コヒーレント光源および光学システム |
| JPWO2005088787A1 (ja) * | 2004-03-10 | 2007-08-09 | 松下電器産業株式会社 | コヒーレント光源および光学システム |
| CN100428590C (zh) * | 2004-03-10 | 2008-10-22 | 松下电器产业株式会社 | 相干光源以及光学系统 |
| US7551654B2 (en) | 2004-03-10 | 2009-06-23 | Panasonic Corporation | Coherent light source and optical system |
| JP2005292228A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2006156627A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体レーザ装置 |
| JP2007123322A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Cyber Laser Kk | レーザ装置並びにレーザ装置の運転方法 |
| WO2007117000A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-18 | Central Glass Company, Limited | 励起用半導体レーザモジュール |
| JP2009246040A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ光源装置 |
| JP2009267120A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Mitsubishi Electric Corp | 光半導体装置 |
| JP2010129547A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Shimadzu Corp | 波長変換レーザ装置 |
| JP2017526192A (ja) * | 2014-09-02 | 2017-09-07 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 発光デバイス |
| JP2018014500A (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | レーザ構成要素およびレーザ構成要素を製造するための方法 |
| KR20180011024A (ko) * | 2016-07-21 | 2018-01-31 | 오스람 옵토 세미컨덕터스 게엠베하 | 레이저 컴포넌트 |
| US10431954B2 (en) | 2016-07-21 | 2019-10-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Laser component |
| KR102346887B1 (ko) * | 2016-07-21 | 2022-01-04 | 오스람 옵토 세미컨덕터스 게엠베하 | 레이저 컴포넌트 |
| JP2023173809A (ja) * | 2022-05-26 | 2023-12-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
| JP2023173810A (ja) * | 2022-05-26 | 2023-12-07 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
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