JP2003247864A - アブソリュートエンコーダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコーダ - Google Patents
アブソリュートエンコーダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコーダInfo
- Publication number
- JP2003247864A JP2003247864A JP2002050104A JP2002050104A JP2003247864A JP 2003247864 A JP2003247864 A JP 2003247864A JP 2002050104 A JP2002050104 A JP 2002050104A JP 2002050104 A JP2002050104 A JP 2002050104A JP 2003247864 A JP2003247864 A JP 2003247864A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scale
- signal
- absolute encoder
- absolute
- phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Transform (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 単一トラックでアブソリュート信号を生成可
能なスケールを用いて、小型のアブソリュートエンコー
ダを実現する。 【解決手段】 スケール２０上の目盛深さｈを変えるこ
とにより起こる信号振幅の変化を長周期トラック信号と
し、短周期目盛から得られる位相信号と併せて使用す
る。
能なスケールを用いて、小型のアブソリュートエンコー
ダを実現する。 【解決手段】 スケール２０上の目盛深さｈを変えるこ
とにより起こる信号振幅の変化を長周期トラック信号と
し、短周期目盛から得られる位相信号と併せて使用す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、検出位置をアブソ
リュートデータとして出力するアブソリュートエンコー
ダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコ
ーダに係り、特に、単一トラックでアブソリュート信号
を生成可能なアブソリュートエンコーダ用スケール、そ
の製造方法及びアブソリュートエンコーダに関する。
リュートデータとして出力するアブソリュートエンコー
ダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコ
ーダに係り、特に、単一トラックでアブソリュート信号
を生成可能なアブソリュートエンコーダ用スケール、そ
の製造方法及びアブソリュートエンコーダに関する。
【０００２】
【従来の技術】工作機械の工具やテーブル等の機械可動
部の位置を検出するためのエンコーダには、インクリメ
ンタル型とアブソリュート型（絶対値型）の２つの方式
がある。
部の位置を検出するためのエンコーダには、インクリメ
ンタル型とアブソリュート型（絶対値型）の２つの方式
がある。
【０００３】インクリメンタル型位置検出用エンコーダ
は、スケールと検出器の相対移動時に発生する周期的な
信号の繰り返し数や、その信号の内挿信号又はその合成
から移動変位を求める。
は、スケールと検出器の相対移動時に発生する周期的な
信号の繰り返し数や、その信号の内挿信号又はその合成
から移動変位を求める。
【０００４】一方、アブソリュート型位置検出用エンコ
ーダでは、図１に示す如く、同一基板１０上に形成され
た、異なる周期の信号又は異なった波形を発生し得る複
数のトラック１１、１２、１３、１４…から得られる信
号を、それぞれ、又は、何らかの方法で合成した信号を
取り出し、測定可能な範囲（レンジ）内の各位置で独自
の信号とし、検出を行なっている。
ーダでは、図１に示す如く、同一基板１０上に形成され
た、異なる周期の信号又は異なった波形を発生し得る複
数のトラック１１、１２、１３、１４…から得られる信
号を、それぞれ、又は、何らかの方法で合成した信号を
取り出し、測定可能な範囲（レンジ）内の各位置で独自
の信号とし、検出を行なっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前者のインクリメンタ
ル型位置検出エンコーダにおいては、電源を切断すると
機械可動部の現在位置が消失する。このため、電源投入
後、機械可動部を原点復帰させると共に、現在位置カウ
ンタの内容を０にクリアして、該機械可動部の現在位置
と現在位置カウンタの内容を一致させ、しかる後、位置
制御を行なうようにしていた。しかしながら、このよう
に電源投入後、その都度原点復帰させる方式は、操作が
煩雑になり、好ましくない。
ル型位置検出エンコーダにおいては、電源を切断すると
機械可動部の現在位置が消失する。このため、電源投入
後、機械可動部を原点復帰させると共に、現在位置カウ
ンタの内容を０にクリアして、該機械可動部の現在位置
と現在位置カウンタの内容を一致させ、しかる後、位置
制御を行なうようにしていた。しかしながら、このよう
に電源投入後、その都度原点復帰させる方式は、操作が
煩雑になり、好ましくない。
【０００６】これに対し、後者のアブソリュート型位置
検出用エンコーダによれば、電源が切断されても機械可
動部の現在位置が消失することがなく、電源投入後の原
点復帰動作が不要であり、直ちに位置制御が可能になる
という利点を有する。
検出用エンコーダによれば、電源が切断されても機械可
動部の現在位置が消失することがなく、電源投入後の原
点復帰動作が不要であり、直ちに位置制御が可能になる
という利点を有する。
【０００７】しかしながら、アブソリュート型位置検出
用エンコーダにおいては、複数のトラック１１、１２、
１３…を同一基板１０上に設ける必要があるため、スケ
ール面積が増大し、エンコーダの小型化に関して不利で
あるという問題点を有していた。
用エンコーダにおいては、複数のトラック１１、１２、
１３…を同一基板１０上に設ける必要があるため、スケ
ール面積が増大し、エンコーダの小型化に関して不利で
あるという問題点を有していた。
【０００８】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、単一トラックでアブソリュート信号
を生成可能とすることを課題とする。
くなされたもので、単一トラックでアブソリュート信号
を生成可能とすることを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、アブソリュー
トエンコーダ用スケールにおいて、スケール上の目盛深
さ又は光学濃度を長手方向に変えることにより起こる信
号振幅の変化を長周期トラック信号とし、短周期目盛か
ら得られる位相信号と併せて使用することにより、前記
課題を解決したものである。
トエンコーダ用スケールにおいて、スケール上の目盛深
さ又は光学濃度を長手方向に変えることにより起こる信
号振幅の変化を長周期トラック信号とし、短周期目盛か
ら得られる位相信号と併せて使用することにより、前記
課題を解決したものである。
【００１０】本発明は、又、支持体上に格子材料を成膜
し、該成膜後の格子材料表面にレジストを塗布し、所望
ピッチの目盛縞を、目盛毎にエネルギを変えて露光し、
現像工程を終了したレジストパターンをマスクにして、
格子材料をエッチングし、残ったレジストを剥離するこ
とを特徴とするアブソリュートエンコーダ用スケールの
製造方法を提供するものである。
し、該成膜後の格子材料表面にレジストを塗布し、所望
ピッチの目盛縞を、目盛毎にエネルギを変えて露光し、
現像工程を終了したレジストパターンをマスクにして、
格子材料をエッチングし、残ったレジストを剥離するこ
とを特徴とするアブソリュートエンコーダ用スケールの
製造方法を提供するものである。
【００１１】本発明は、更に、前記のスケールを含むこ
とを特徴とするアブソリュートエンコーダを提供するも
のである。
とを特徴とするアブソリュートエンコーダを提供するも
のである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
施形態を詳細に説明する。
【００１３】本実施形態で用いられるスケール２０の縦
断面図を図２に、平面図を図３に示す。このスケール２
０は、ガラス等の支持体２２と、エッチング加工された
薄膜２４で構成されている。
断面図を図２に、平面図を図３に示す。このスケール２
０は、ガラス等の支持体２２と、エッチング加工された
薄膜２４で構成されている。
【００１４】図３に示す如く、スケール幅方向に平行に
形成された目盛（位相格子）２６のピッチｐは一定であ
るが、格子深さｈは、図２に示す如く、目盛を構成する
膜厚の範囲で、隣接する格子間では僅かに異なりつつ、
長手方向に順次変化している。
形成された目盛（位相格子）２６のピッチｐは一定であ
るが、格子深さｈは、図２に示す如く、目盛を構成する
膜厚の範囲で、隣接する格子間では僅かに異なりつつ、
長手方向に順次変化している。
【００１５】スケールの回折効率は、格子形状やエンコ
ーダの光源波長、偏波面格子周期やデューティ等に依存
するので、格子深さｈの決定に際しては、格子深さに対
して回折効率が単調に変化するよう、各パラメータを選
択する。本実施形態では、格子形状を矩形としている。
ーダの光源波長、偏波面格子周期やデューティ等に依存
するので、格子深さｈの決定に際しては、格子深さに対
して回折効率が単調に変化するよう、各パラメータを選
択する。本実施形態では、格子形状を矩形としている。
【００１６】前記スケール２０は、例えば図４に示すよ
うなプロセスにより作成することができる。
うなプロセスにより作成することができる。
【００１７】即ち、まずステップ１００で、支持体２２
上に、金属薄膜２４等の格子材料を、真空蒸着やスパッ
タリング等の方法で成膜する。
上に、金属薄膜２４等の格子材料を、真空蒸着やスパッ
タリング等の方法で成膜する。
【００１８】次いでステップ１０２で、成膜後の格子材
料表面にレジストを塗布する。レジストとしては、露光
の方法に応じて、光レジストや電子ビーム（ＥＢ）レジ
スト等を選択する。
料表面にレジストを塗布する。レジストとしては、露光
の方法に応じて、光レジストや電子ビーム（ＥＢ）レジ
スト等を選択する。
【００１９】次いでステップ１０４で、所定ピッチの格
子パターンを、パターン毎に露光エネルギを変えて露光
する。この工程で得られるレジスト溝の深さの違いが、
最終的な格子深さｈに反映する。ここで露光エネルギを
変える方法としては、例えば光を用いたマスク露光の場
合には、格子毎に光透過率の異なるハーフトーンマスク
を使用したり、ＥＢ描画の場合は、境域ドーズ可変露光
により、格子毎にドーズ（露光エネルギ）を変更すれば
良い。
子パターンを、パターン毎に露光エネルギを変えて露光
する。この工程で得られるレジスト溝の深さの違いが、
最終的な格子深さｈに反映する。ここで露光エネルギを
変える方法としては、例えば光を用いたマスク露光の場
合には、格子毎に光透過率の異なるハーフトーンマスク
を使用したり、ＥＢ描画の場合は、境域ドーズ可変露光
により、格子毎にドーズ（露光エネルギ）を変更すれば
良い。
【００２０】次いでステップ１０６で、現像工程を終了
したレジストパターンをマスクにして、深さ方向への異
方性が高いドライエッチング、例えばイオンエッチング
を金属薄膜等の格子材料に対して行なう。その結果、レ
ジスト膜厚を反映した段差を有した位相格子が形成され
る。なお、格子段差は、使用する格子材料とレジストと
の選択比による。
したレジストパターンをマスクにして、深さ方向への異
方性が高いドライエッチング、例えばイオンエッチング
を金属薄膜等の格子材料に対して行なう。その結果、レ
ジスト膜厚を反映した段差を有した位相格子が形成され
る。なお、格子段差は、使用する格子材料とレジストと
の選択比による。
【００２１】次いでステップ１０８で、残ったレジスト
を剥離することにより、図２に示したような位相格子を
有するスケールが完成する。
を剥離することにより、図２に示したような位相格子を
有するスケールが完成する。
【００２２】前記スケール２０と光電センサを含む検出
器を用いて出力される信号の概念図を図５に示す。この
ように、スケールと検出器が相対移動するに従い、格子
ピッチによる繰り返し信号が得られると同時に、格子深
さにより振幅が変化する信号が得られる。
器を用いて出力される信号の概念図を図５に示す。この
ように、スケールと検出器が相対移動するに従い、格子
ピッチによる繰り返し信号が得られると同時に、格子深
さにより振幅が変化する信号が得られる。
【００２３】図２中に示す如く、移動方向を識別するた
めに９０°位相差を設けられた２つの光電センサ２８
Ａ、２８Ｂにより得られるＡ相(０°)信号、Ｂ相（９０
°位相差）信号によるリサージュ軌跡を図６に示す。実
際には、Ｓ／Ｎの良好な範囲の信号を、後述する信号処
理回路を用いて、変位信号として得ることができる。
めに９０°位相差を設けられた２つの光電センサ２８
Ａ、２８Ｂにより得られるＡ相(０°)信号、Ｂ相（９０
°位相差）信号によるリサージュ軌跡を図６に示す。実
際には、Ｓ／Ｎの良好な範囲の信号を、後述する信号処
理回路を用いて、変位信号として得ることができる。
【００２４】前記光電センサ２８Ａ、２８Ｂの出力信号
から、位置情報を得るための信号処理回路の構成を図７
に示す。光電センサ２８Ａ、２８Ｂからの２相出力信号
は、スケールの動きに対し空間的に９０°の位相差を持
つ。片方の信号をＡ相信号、もう一方の信号をＢ相信号
と呼ぶ。
から、位置情報を得るための信号処理回路の構成を図７
に示す。光電センサ２８Ａ、２８Ｂからの２相出力信号
は、スケールの動きに対し空間的に９０°の位相差を持
つ。片方の信号をＡ相信号、もう一方の信号をＢ相信号
と呼ぶ。
【００２５】このＡ相信号とＢ相信号のＡ／Ｄ変換器３
０Ａ、３０ＢによるＡ／Ｄ変換後のデータをＶａ、Ｖｂ
とすると、ＭＣＵ３２内の振幅計算手段３４では、次の
演算式で振幅Ａを算出できる。
０Ａ、３０ＢによるＡ／Ｄ変換後のデータをＶａ、Ｖｂ
とすると、ＭＣＵ３２内の振幅計算手段３４では、次の
演算式で振幅Ａを算出できる。
【００２６】
Ａ＝√（Ｖａ2＋Ｖｂ2） …（１）
【００２７】又、位相計算手段３６では次の演算式によ
り位相θを算出できる。
り位相θを算出できる。
【００２８】
θ＝tan-1（Ｖｂ／Ｖａ） …（２）
【００２９】但し、このままの計算では、θは−π／２
から＋π／２までの値しか採らないので、Ｖａ、Ｖｂの
大小関係によって、−πからπの位相を見出す。
から＋π／２までの値しか採らないので、Ｖａ、Ｖｂの
大小関係によって、−πからπの位相を見出す。
【００３０】絶対位相合成手段３８では、位相θが２π
をまわったときの振幅Ａの変化を、振幅Ａに重み付けを
して、位相θと足すことで、図６に示したような、絶対
値（ＡＢＳ）信号の位相情報を得る。
をまわったときの振幅Ａの変化を、振幅Ａに重み付けを
して、位相θと足すことで、図６に示したような、絶対
値（ＡＢＳ）信号の位相情報を得る。
【００３１】位相位置変換手段４０では、２πを入力信
号ピッチλとして、位置情報に変換する。
号ピッチλとして、位置情報に変換する。
【００３２】なお、前記実施形態においては、本発明が
反射型スケールに適用されていたが、本発明の適用対象
はこれに限定されず、例えば透過光量が長手方向に変化
するよう、光学濃度が長手方向に変わるようにされたス
ケールを用いて、透過型スケールを実現することも可能
である。又、直線型スケールだけでなくロータリスケー
ルにも適用可能である。
反射型スケールに適用されていたが、本発明の適用対象
はこれに限定されず、例えば透過光量が長手方向に変化
するよう、光学濃度が長手方向に変わるようにされたス
ケールを用いて、透過型スケールを実現することも可能
である。又、直線型スケールだけでなくロータリスケー
ルにも適用可能である。
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、単一トラックでアブソ
リュート信号が生成可能なスケールを実現することがで
きる。従って、このようなスケールを用いて、小型のア
ブソリュートエンコーダを実現することができる。
リュート信号が生成可能なスケールを実現することがで
きる。従って、このようなスケールを用いて、小型のア
ブソリュートエンコーダを実現することができる。
【図１】従来のアブソリュートエンコーダの一例の構成
を示すスケールの平面図
を示すスケールの平面図
【図２】本発明に係るアブソリュートエンコーダ用スケ
ールの実施形態の構成を示す縦断面図
ールの実施形態の構成を示す縦断面図
【図３】同じく平面図
【図４】本発明に係るアブソリュートエンコーダ用スケ
ールの製造手順を示す流れ図
ールの製造手順を示す流れ図
【図５】前記スケールを用いたアブソリュートエンコー
ダの出力波形の一例を示すタイムチャート
ダの出力波形の一例を示すタイムチャート
【図６】同じくＡ相信号とＢ相信号により得られるリサ
ージュ軌跡を示す線図
ージュ軌跡を示す線図
【図７】前記実施形態において、エンコーダの出力信号
から位置情報を得るための信号処理回路の構成を示すブ
ロック図
から位置情報を得るための信号処理回路の構成を示すブ
ロック図
２０…スケール
２２…支持体
２４…薄膜
２６…目盛（位相格子）
２８Ａ、２８Ｂ…光電センサ（検出器）
３２…ＭＰＵ
３４…振幅計算手段
３６…位相計算手段
３８…絶対位相合成手段
４０…位相位置変換手段
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F103 BA32 BA43 CA02 CA03 CA04
DA04 DA09 DA11 DA12 EA02
EA04 EA05 EA15 EA18 EA19
EA20 EB01 EB11 EB32 EB33
ED27 FA01 FA06 FA08 FA12
FA18
2H097 AA03 BB01 CA16 CA17 LA20
Claims (3)
- 【請求項１】スケール上の目盛深さ又は光学濃度を長手
方向に変えることにより起こる信号振幅の変化を長周期
トラック信号とし、短周期目盛から得られる位相信号と
併せて使用することを特徴とするアブソリュートエンコ
ーダ用スケール。 - 【請求項２】支持体上に格子材料を成膜し、 該成膜後の格子材料表面にレジストを塗布し、 所望ピッチの目盛縞を、目盛毎にエネルギを変えて露光
し、 現像工程を終了したレジストパターンをマスクにして、
格子材料をエッチングし、 残ったレジストを剥離することを特徴とするアブソリュ
ートエンコーダ用スケールの製造方法。 - 【請求項３】請求項１に記載のスケールを含むことを特
徴とするアブソリュートエンコーダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002050104A JP2003247864A (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | アブソリュートエンコーダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002050104A JP2003247864A (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | アブソリュートエンコーダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコーダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003247864A true JP2003247864A (ja) | 2003-09-05 |
Family
ID=28662445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002050104A Pending JP2003247864A (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | アブソリュートエンコーダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコーダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003247864A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6970255B1 (en) * | 2003-04-23 | 2005-11-29 | Nanometrics Incorporated | Encoder measurement based on layer thickness |
| JP2006084897A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示装置用基板のパターンニング方法と液晶表示装置用基板、および液晶表示装置 |
| WO2006070263A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Nokia Corporation | Optoelectronic position determination system |
| JP2006214929A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Canon Inc | 光学式エンコーダ |
| WO2011013773A1 (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-03 | オリンパス株式会社 | 光学式変位検出装置 |
| JP2011107106A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Olympus Corp | 光学式信号出力装置の信号処理装置及び光学式変位検出装置 |
| JP2016507051A (ja) * | 2013-01-15 | 2016-03-07 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニーＲｅｎｉｓｈａｗ Ｐｕｂｌｉｃ Ｌｉｍｉｔｅｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 測定スケール |
| JP2019113428A (ja) * | 2017-12-25 | 2019-07-11 | 東日本旅客鉄道株式会社 | 風向測定装置 |
-
2002
- 2002-02-26 JP JP2002050104A patent/JP2003247864A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6970255B1 (en) * | 2003-04-23 | 2005-11-29 | Nanometrics Incorporated | Encoder measurement based on layer thickness |
| US7667186B2 (en) | 2004-05-28 | 2010-02-23 | Nokia Corporation | Optoelectronic position determination system |
| JP2006084897A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示装置用基板のパターンニング方法と液晶表示装置用基板、および液晶表示装置 |
| WO2006070263A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Nokia Corporation | Optoelectronic position determination system |
| JP2006214929A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Canon Inc | 光学式エンコーダ |
| WO2011013773A1 (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-03 | オリンパス株式会社 | 光学式変位検出装置 |
| JP2011033464A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Olympus Corp | 光学式変位検出装置 |
| US8610050B2 (en) | 2009-07-31 | 2013-12-17 | Olympus Corporation | Optical displacement detection apparatus |
| JP2011107106A (ja) * | 2009-11-20 | 2011-06-02 | Olympus Corp | 光学式信号出力装置の信号処理装置及び光学式変位検出装置 |
| JP2016507051A (ja) * | 2013-01-15 | 2016-03-07 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニーＲｅｎｉｓｈａｗ Ｐｕｂｌｉｃ Ｌｉｍｉｔｅｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 測定スケール |
| US9945697B2 (en) | 2013-01-15 | 2018-04-17 | Renishaw Plc | Measurement scale with periodic nanostructure |
| JP2019113428A (ja) * | 2017-12-25 | 2019-07-11 | 東日本旅客鉄道株式会社 | 風向測定装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1557701B1 (en) | Photoelectric encoder and method of manufacturing scales | |
| JP4453758B2 (ja) | エンコーダ信号の位相補正回路 | |
| US20020179826A1 (en) | Absolute position moire type encoder for use in a control system | |
| EP2416126B1 (en) | Absolute encoder | |
| JP6400036B2 (ja) | 位置検出装置、工作装置、および、露光装置 | |
| US9121733B2 (en) | Position detecting apparatus, and lens apparatus, image reading apparatus, and image forming apparatus including the same | |
| WO2005050137A2 (en) | Absolute encoder employing concatenated, multi-bit, interpolated sub-encoders | |
| JPS60243515A (ja) | 光電的測定装置 | |
| JP2003247864A (ja) | アブソリュートエンコーダ用スケール、その製造方法及びアブソリュートエンコーダ | |
| Mao et al. | Design and fabrication of crossed gratings with multiple zero-reference marks for planar encoders | |
| JP2006178312A (ja) | 表面反射型位相格子 | |
| JP4913345B2 (ja) | 反射型光電式エンコーダ用スケール、スケールの製造方法及び光電式エンコーダ | |
| JPH09113213A (ja) | 高調波信号成分を濾波する装置 | |
| JP4358583B2 (ja) | スケールの製造方法 | |
| JPH102761A (ja) | 光電式エンコーダ | |
| JP6440609B2 (ja) | 位置検出装置、レンズ装置、撮像システム、工作装置、露光装置、位置検出方法、プログラム、記憶媒体 | |
| JP2006214929A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| US20140299755A1 (en) | Optical encoder | |
| JP2004037341A (ja) | 光電式エンコーダ及びスケールの製造方法 | |
| JP2003172639A (ja) | 正弦波形状光学格子の製造方法 | |
| JP2003279383A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JP2001343256A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JP4291564B2 (ja) | 変位測定装置 | |
| JPH10122908A (ja) | 光学式位置検出器 | |
| US6943341B2 (en) | Position measuring system |