JP2003257581A - スパークプラグの製造方法 - Google Patents

スパークプラグの製造方法

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JP2003257581A JP2002051291A JP2002051291A JP2003257581A JP 2003257581 A JP2003257581 A JP 2003257581A JP 2002051291 A JP2002051291 A JP 2002051291A JP 2002051291 A JP2002051291 A JP 2002051291A JP 2003257581 A JP2003257581 A JP 2003257581A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 地電極の電極本体に貴金属チップを接合する
際に、該貴金属チップと電極本体との接合界面にクラッ
クや剥離といった不具合を生じにくいスパークプラグの
製造方法を提供する。 【解決手段】 スパークプラグ100において、接地電
極4を以下のように製造する。電極本体4mへの接合
に先立って、中間部材33と貴金属チップ32とを接合
して組立体34を作る(組立体形成工程)。組立体3
4の中間部材33を電極本体4mに重ね合わせる(重ね
合わせ工程)。中間部材33と貴金属チップ32と
に、他部材によるそれらの接合方向Oへの付勢力を付与
することなく、電極本体4mと組立体34の中間部材3
3とを、それらの重ね合わせ面における相対移動を拘束
しつつ溶接する(溶接工程)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はスパークプラグの製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】上述のようなスパークプラグにおいて
は、耐火花消耗性向上のために電極の先端にPtやIr
等を主体とする貴金属チップを溶接したものが多数提案
されている。特に、火花放電時に負極性に設定されるこ
との多い中心電極側は、火花の強いアタックを受けて消
耗しやすいことから、貴金属チップ使用の効果が特に大
きい。しかし、高出力エンジンあるいはリーンバーンエ
ンジンへの適用が進むにつれ、接地電極側についても高
い耐消耗性が求められるようになってきており、貴金属
チップの採用が進みつつある。接地電極側の貴金属チッ
プは、従来主にPt系金属により構成され、ニッケル合
金等からなる接地電極の本体に抵抗溶接により接合され
ている。
【0003】
【発明の解決しようとする課題】抵抗溶接により貴金属
チップを電極本体に接合する際には、電極本体に貴金属
チップを重ね合わせて通電用の電極にて挟み、電極本体
と貴金属チップとをそれら電極間で加圧しながら通電発
熱させることにより行われる。しかし、この方法の場
合、溶接時に貴金属チップと電極本体との間に過大な圧
接力が付加されることから、溶接後の貴金属チップと電
極本体との界面にクラック等の欠陥が残留しやすく、冷
熱サイクルが加わるとチップ剥離等の問題を生ずること
があった。
【0004】特に、最近では、接地電極側の火花消耗を
さらに抑制するために、貴金属チップの材質を、従来主
流であったPt系のものから、より耐熱性の高いIr系
のものに置き換えることが検討されている。しかし、I
r系の貴金属チップは高融点であることもあって、抵抗
溶接による接合では、溶け不足等により接合界面が不健
全となりやすく、前記したクラックや剥離等がより生じ
やすい問題がある。また、こうした溶け不足以外に、I
r系金属と接地電極本体を構成するNi系金属との線膨
張係数の差が大きいことも、クラックや剥離を生じやす
い一因である。
【0005】なお、こうした線膨張係数の不一致による
不具合を緩和するために、貴金属チップと電極本体との
間に、両者の中間の線膨張係数を有した中間部材を挿入
する形で接合を行なう提案もなされている。しかし、中
間部材を挿入した状態で高圧力を付加して貴金属チップ
を抵抗溶接すると、中間部材が貴金属チップとともに電
極本体に大きく食い込む際に、該中間部材と貴金属チッ
プとの間にクラックや剥離が生じやすくなるので、根本
的な解決を図ることはできない。
【0006】本発明の課題は、接地電極の電極本体に貴
金属チップを接合する際に、該貴金属チップと電極本体
との接合界面にクラックや剥離といった不具合を生じに
くいスパークプラグの製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段及び作用・効果】本発明
は、電極本体と、その電極本体に中間部材を介して結合
された貴金属チップとを有する接地電極の、貴金属チッ
プを、中心電極と対向させることにより火花放電ギャッ
プを形成したスパークプラグの製造方法に関し、上記課
題を解決するために、電極本体への接合に先立って、中
間部材と貴金属チップとを接合して組立体を作る組立体
形成工程と、組立体の中間部材を電極本体に重ね合わせ
る重ね合わせ工程と、重ね合わされた組立体の中間部材
と貴金属チップとの間に、他部材による付勢力を付与す
ることなく、かつ電極本体と組立体の中間部材との位置
ずれを拘束しつつ、それら電極本体と中間部材とを溶接
する溶接工程と、を含むことを特徴とする。
【0008】この発明の方法においては、まず、貴金属
チップを一旦中間部材に接合して組立体を作り、その組
立体の中間部材を電極本体に重ね合わせる。そして、中
間部材と貴金属チップとの間に他部材による接合方向へ
の付勢力を付与しない形で、電極本体と組立体の中間部
材との位置ずれを拘束しつつ溶接する。つまり、中間部
材と貴金属チップとの間に、従来の抵抗溶接のような過
剰な圧接力を作用させないで、該中間部材と電極本体と
を溶接するから、中間部材と貴金属チップとの間にクラ
ックや剥離が生じる不具合を効果的に抑制することがで
きる。
【0009】組立体を製造する際には、中間部材と貴金
属チップとの接合をレーザー溶接により行なうことが望
ましい。レーザー溶接は、抵抗溶接よりも熱の集中が容
易で溶け深さを大きくでき、また、接合時に過大な圧接
力も作用しないので、中間部材と貴金属チップとの間に
クラックや剥離が生じる不具合をより確実に防止でき
る。
【0010】また、中間部材と電極本体との溶接は、レ
ーザー溶接により行なうこともできるし、抵抗溶接によ
り行なうこともできる。特に抵抗溶接を採用する場合
は、本発明により、中間部材と貴金属チップとの間に過
大な圧接力が生じる心配は一切なく、それらの間にクラ
ックや剥離が誘起される心配も不要である。
【0011】そして、レーザー溶接及び抵抗溶接のいず
れを行なう場合においても、中間部材と電極本体との間
には、位置保持や密着確保のため一定以上の付勢力を作
用させることが当然望ましい。この付勢力を、中間部材
と貴金属チップとの間に過剰な圧接力を作用させること
なく付加するには、具体的には、以下のようにする。す
なわち、重ね合わせ工程において、中間部材と電極本体
との重ね合わせ面の投影面積が最小となるような投影面
を考え、その投影面への正射投影において、中間部材と
電極本体との各投影領域が互いに重なる領域を第一重複
領域とし、中間部材と貴金属チップとの各投影領域が互
いに重なる領域を第二重複領域として、第一重複領域
に、第二重複領域に属さない非重複領域を形成する。そ
して、溶接工程において、中間部材と電極本体との間に
両者を密着させる付勢力を、第一重複領域のうち非重複
領域に対応する部位に選択的に作用するように付与し、
その状態でそれら中間部材と電極本体とを溶接により接
合する。つまり、上記のような非重複領域にのみ付勢力
を作用させれば、中間部材と貴金属チップとの接合面に
はその付勢力の影響が及ぶことがない。
【0012】また、重ね合わせ工程においては、電極本
体に、中心電極との対向することとなる側面に開口を有
する貫通形態または有底の孔を形成し、重ね合わせ工程
において、孔に対し組立体を、開口から貴金属チップが
露出するように挿入することができる。電極本体に形成
された孔に組立体を挿入することにより、その挿入方向
と交差する向きの組立体と電極本体との位置ずれを拘束
でき、ひいては電極本体と中間部材との溶接をより確実
かつ能率的に行なうことができる。
【0013】このとき、中間部材を挿入方向において押
圧部材により押圧することにより、付勢力を発生させる
ことができる。また、押圧部材を用いて中間部材を電極
本体に向けて積極付勢することにより、開口が大きい場
合であっても、電極本体と中間部材との位置ずれを拘束
する効果も得られる。この場合、押圧部材を溶接電極と
して、溶接を、非重複領域における抵抗溶接により行な
えば、溶接工程をより簡便かつ確実に実施することがで
きる。
【0014】貴金属チップは、Ir合金にて形成するこ
とができる。前述の通り、Ir系の貴金属チップは高融
点であり、従来の抵抗溶接による接合ではクラックや剥
離等が特に生じやすかった。しかし、本発明の適用によ
り、貴金属チップと中間部材との接合面には過大な圧接
力が作用しないので、Ir合金を貴金属チップの材質と
して用いているにもかかわらず、クラックや剥離等の不
具合が生じにくい。この場合、Ir合金からなる貴金属
チップと中間部材とを溶け深さが大きく、接合の確実性
の高いレーザー溶接を採用すればより効果的である。
【0015】また、中間部材を、貴金属チップと電極本
体をなす金属との中間の線膨張係数を有する金属にて構
成しておけば、貴金属チップを電極本体に直接接合する
場合と比較して、前記した線膨張係数差による悪影響を
緩和でき、貴金属チップと中間部材との間にクラックや
剥離が発生する不具合をより効果的に回避することがで
きる。
【0016】なお、特許請求の範囲において各要件に付
与した符号は、添付の図面の対応部分に付された符号を
援用して用いたものであるが、あくまで発明の理解を容
易にするために付与したものであり、本発明における各
構成要件の概念を何ら限定するものではない。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を用いて説明する。図1は、本発明の製造方法の適用
対象となるスパークプラグの一例を示すものであり、図
2はその要部の拡大図である。スパークプラグ100
は、筒状の主体金具1、先端部21が突出するようにそ
の主体金具1の内側に嵌め込まれた絶縁体2、先端を突
出させた状態で絶縁体2の内側に設けられた中心電極
3、及び主体金具1に一端が溶接等により結合されると
ともに他端側が側方に曲げ返されて、その側面が中心電
極3の先端部(ここでは、先端面)と対向するように配
置された接地電極4等を備えている。接地電極4は、電
極本体4mと、その電極本体4mに中間部材33を介し
て結合された貴金属チップ32とを有し、該貴金属チッ
プ32が中心電極3と対向して火花放電ギャップgが形
成されている。また、中心電極3も、電極本体3mの先
端に貴金属チップ31を溶接した構造を有している。貴
金属チップ32,31は、Irを主成分(50質量%以
上)とし、Pt、Rh、Ru及びReから選ばれる1種
又は2種以上の副成分貴金属元素を合計で3〜50質量
%含有する貴金属よりなる。
【0018】絶縁体2は、例えばアルミナあるいは窒化
アルミニウム等のセラミック焼結体により構成され、そ
の内部には自身の軸方向に沿って中心電極3を嵌め込む
ための孔部6を有している。また、主体金具1は、低炭
素鋼等の金属により筒状に形成されており、スパークプ
ラグ100のハウジングを構成するとともに、その外周
面には、プラグ100を図示しないエンジンブロックに
取り付けるためのねじ部7が形成されている。
【0019】接地電極4及び中心電極3は、電極本体4
m,3mの少なくとも表層部をなす部分(以下、電極母
材という:本明細書において、「電極本体4m,3mを
構成する金属」とは、この電極母材の材質をいう)がN
i合金で構成されている。具体的な材質として、インコ
ネル600(商標名)(Ni:76質量%、Cr:1
5.5質量%、Fe:8質量%(残部微量添加元素もし
くは不純物)、インコネル601(商標名)(Ni:6
0.5質量%、Cr:23質量%、Fe:14質量%
(残部微量添加元素もしくは不純物))を例示できる。
なお、接地電極4及び中心電極3は、いずれも上記の電
極母材中に、Cu又はCu合金からなる熱伝導促進部4
c,3cが埋設されている。
【0020】また、接地電極4に設けられる中間部材3
3は、貴金属チップ32と電極本体4mを構成する金属
(電極母材)との中間の線膨張係数をなす金属にて構成
されている。具体的には、Ir−Ni合金、Ir−Ni
−Rh合金等を例示できる。例えば、貴金属チップ32
が、Ir及びRhの一方又は双方を合計にて80質量%
以上含有し、かつIrの含有量が97質量%以下であっ
て、Pt、Rh、Ru及びReから選ばれる1種又は2
種以上の含有率が3質量%以上である金属にて構成され
ている場合、中間部材33は、IrとRhとの合計が3
0質量%以上であり、かつRhとNiとの合計が20質
量%以上である金属にて構成できる。なお、中間部材3
3はNiを必須成分として含有していることが、Niを
主体に構成する電極母材4mとの線膨張係数の差及び融
点の差をさらに縮めることができるので、より望まし
い。
【0021】図2に示すように、中心電極3の先端部3
aはテーパ状に断面縮小されるとともにその先端面が平
坦に形成される。ここに円板状の貴金属チップ31を重
ね合わせ、さらにその接合面外縁部に沿ってレーザー溶
接、電子ビーム溶接、抵抗溶接等により溶接部Bを形成
して接合される。
【0022】また、接地電極4の電極本体4mには、側
面に開口する貫通孔4vが形成され、該貫通孔4vに中
間部材33が挿入されている。中間部材33の先端側は
テーパ面33tにより軸断面積が縮小され、その先端面
に貴金属チップ32が重ね合わされるとともに、周方向
の環状のレーザー溶接部Bにより接合されている。貫通
孔4vの内周面の、貴金属チップ31が露出している開
口側、すなわち第二の開口SOが位置する側の端部に
は、該内周面から内向きに突出して第二の開口SOを断
面縮小する突出部4sが周方向に形成されている。中間
部材33は、そのテーパ面33tが、突出部4sに形成
されたテーパ面4tと係合することにより抜け止めさ
れ、それらテーパ面33tとテーパ面4tとの間に形成
された抵抗溶接部Rにより、電極本体4mに接合されて
いる。
【0023】以下、上記スパークプラグ100の製造方
法を、接地電極4の製造工程を中心に、図3及び図4を
用いて説明する。この工程は、基本的には、以下の3つ
の工程からなる。 電極本体4mへの接合に先立って、中間部材33と貴
金属チップ32とを接合して組立体34を作る(組立体
形成工程)。 組立体34の中間部材33を電極本体4mに重ね合わ
せる(重ね合わせ工程)。 中間部材33と貴金属チップ32との間に、他部材に
よる付勢力を付与することなく、電極本体4mと組立体
34の中間部材33との位置ずれを拘束しつつ溶接する
(溶接工程)。
【0024】まず、図3の工程に示すように、切削あ
るいはヘッダ加工により平坦な先端面133aとテーパ
面33tとが形成された、中間部材33の素材133の
先端面133aに円板状の貴金属チップ32を載せる。
そして、工程に示すように、その素材133のそれら
重ね合わせ面の外周縁に沿ってレーザービームLBを照
射することにより、貴金属チップ3と円柱状の素材13
3とにまたがる環状の溶接部Bを形成する。なお、素材
133の後端部に不要長部分133Wが生じている場合
は、工程に示すように、これを切断等により除去する
ことができる(もちろん、不要長部分Wがない場合は、
該工程は不要である)。このようにして、素材133
がテーパ面33tを有する中間部材33となり、組立体
34が得られる。
【0025】次に、図4の工程に示すように、電極本
体4mに対し、中心電極3と対向することとなる側面に
開口する貫通孔4vを形成しておく。そして、前記の重
ね合わせ工程は、貫通孔4vに組立体34を、該貫通孔
4vの第一の開口POから挿入し、第二の開口(SO)
から貴金属チップ32を露出させる形で行なう。該貫通
孔4vの内面に形成されたテーパ面4tは電極側係合面
となり、組立体34の中間部材33に形成されたテーパ
面33tが中間部材側係合面となって両者が係合するこ
とにより、組立体34の挿入方向の抜け止めがなされ
る。
【0026】これにより、中間部材33と電極本体4m
との間には、貫通孔4vのテーパ面4tと中間部材33
のテーパ面33tとが互いに重なり合った、重ね合わせ
面が形成される。以下、重ね合わせ面は、中間部材33
側の符号にて示す。従って、上記重ね合わせ面は符号3
3tで表す。
【0027】ここで、中間部材33と電極本体4mとの
重ね合わせ面33tの投影面積が最小となるような投影
面Pを考える。本実施形態では、この投影面Pは、中間
部材33の軸線Oと直交する面である。この投影面Pへ
の正射投影において、中間部材33と電極本体4mとの
各投影領域が互いに重なる領域を第一重複領域とし、中
間部材33と貴金属チップ32との各投影領域が互いに
重なる領域を第二重複領域と定義する。この実施形態に
おいては、第一重複領域33t’は前記したテーパ面
(重ね合わせ面)33tの投影であり、第二重複領域
J’は中間部材33と貴金属チップ32との重ね合わせ
面Jの投影である(図では溶接後の形態にて描いてあ
る)。従って、第一重複領域33t’は、その全体が、
第二重複領域J’に属さない非重複領域を形成する。
【0028】図4の工程は溶接工程を示すものであ
る。まず、中間部材33と電極本体4mとの間に両者を
密着させる付勢力を、第一重複領域のうち非重複領域に
対応する部位、ここではテーパ面(重ね合わせ面)33
tに選択的に作用するように付与し、その状態でそれら
中間部材33と電極本体4mとを溶接により接合する。
この実施形態においては、電極本体4mと中間部材33
との重ね合わせ面33tは、その全てが非重複領域に対
応する部位となるので、上記の付勢力は必然的に非重複
領域に対応する部位(具体的には重ね合わせ面33t)
のみに加えられることになる。
【0029】また、中間部材33を挿入方向において押
圧部材50により押圧すると、該テーパ面33t(非重
複領域)において中間部材33をテーパ面4t(電極本
体4m)に押し付ける付勢力を簡単かつ確実に発生させ
ることができる。工程においては、押圧部材50を溶
接電極として、非重複領域に対応する部位となるテーパ
面33tにおける抵抗溶接により溶接を行なう。
【0030】図4の実施形態においては、工程に示す
ように、第二の開口SOから貴金属チップ32が突出す
るように、組立体34を第一の開口POから貫通孔4v
内に配置している。工程に示すように、電極本体4m
の第二の開口SOの周囲において、支持部材51を該第
二の開口SOから露出する貴金属チップ32と干渉しな
いように当接させる。具体的には、貴金属チップ32の
対応位置に凹部51aを形成した電極を支持部材51と
して用い、貴金属チップ32を凹部51a内に進入させ
ることにより、上記干渉を回避するようにしている。そ
の状態で第一の開口PO内の中間部材33を、押圧部材
50をなす電極により支持部材51に向けて押圧する。
これにより、貴金属チップ32への付勢力の付与を確実
に回避することができる。この状態で、押圧部材50と
支持部材51との間に溶接電源52により通電すれば、
テーパ面33t(非重複領域)に抵抗溶接部Rを形成す
ることができる。
【0031】なお、図4においては、第一の開口POが
上になるように電極本体4mを配置している。従って、
貫通孔4vに組立体34を挿入すると、中間部材33の
テーパ面33t(非重複領域)と貫通孔4vのテーパ面
4tとは、中間部材33に作用する重力により係合し、
中間部材33はテーパ面4tに向けて重力付勢される。
この付勢力は、抵抗溶接を行なう上では必ずしも十分で
はないが、中間部材33が貫通孔4v内に挿入されるの
で、その挿入方向と交差する向きにおいて中間部材33
と電極本体4mとの位置ずれが拘束される。つまり、両
者の重ね合わせ面(テーパ面:非重複領域)33tにお
ける位置ずれを拘束することができる。従って、レーザ
ー溶接を用いれば、中間部材33と電極本体4mとを問
題なく接合できる。図5は、そのレーザー溶接部Qを、
電極本体4mの先端面側から中間部材33にまたがる形
態に形成した例である。また、図6は、第一の開口PO
に沿って、電極本体4mと中間部材33とにまたがる環
状のレーザー溶接部Uを形成した例である。また、図7
のように、図5のレーザー溶接部Qと前記した抵抗溶接
部Rとを併設することもできる。
【0032】なお、中間部材側係合面はテーパ面33t
ではなく、図8に示す1つの段面33s又は図9に示す
複数の段面33s1,33s2とすることもできる。中
間部材33は、これらの段面33s(図8)あるいは3
3s1,33s2(図9)により段階的に断面縮小され
る。また、貫通孔4vの内周面には、上記段面33sあ
るいは33s1,33s2と各々係合する段面4j(図
8)あるいは4j1,4j2(図9)が形成される。こ
れらの段面33s(図8)あるいは33s1,33s2
(図9)には、それぞれ抵抗溶接部Rを形成できる。
【0033】以下、本発明のスパークプラグの製造方法
の別の実施形態について説明する。図10の実施形態に
おいては、中間部材33の先端面(第一端面)33aが
貴金属チップの重ね合わせ面である。そして、貴金属チ
ップ32が接合されない第二端面33eに開口する凹部
(有底孔)33hが形成される(工程)。凹部33h
により、中間部材33には先端面33aの一部において
肉厚を減じた薄肉部33wが形成される。そして、該凹
部(第二端面33e側に開口を有する有底孔)33hか
らレーザー溶接することにより、中間部材33と金属チ
ップ32とを溶接することができる。このような溶接を
行うと、例えばチップ径が大きく、側面からの溶接では
溶接深さを十分に確保できない場合においても、接合強
度を向上できる利点がある。
【0034】本実施形態では、溶接部は、まず、貴金属
チップ32と中間部材33との重ね合わせ面の外周に沿
ったレーザー溶接部Bを形成する(工程)。また、凹
部33hの開口側から底面に向けてレーザービームLB
を照射して、薄肉部33wを貫いて貴金属チップ32に
またがる別のレーザー溶接部BWを形成する(工程:
該工程と工程との順序は入れ替わってもよい)。
【0035】以降、重ね合わせ工程と溶接工程とは、工
程に示すように、ほぼ図4と同様になされる。以下相
違点のみ説明すれば、図10においては、中間部材33
は、外周面のほぼ全面がテーパ面33tとされた円錐台
形状とされ、電極本体4mの貫通孔4vの内周面もこれ
に対応したテーパ面4tとされている。これらテーパ面
33t,4mが抵抗溶接部Rにより接合される。なお、
図11に示すように、レーザー溶接部BWを形成するた
めの凹部33を、金属製の充填部33fにより充填して
もよい。この充填は、例えば肉盛充填溶接により行なう
ことができる。
【0036】また、中間部材33の接合方向Oと直交す
る断面による断面形状は、円状のものに限らず、四角形
状など種々採用できる。例えば図12に示すように、貴
金属チップ32の面積を大きくしたいとき、一点鎖線に
て示すような円状の断面の中間部材33’を採用する
と、電極本体4mの幅d’が不足して、電極本体4mに
対する中間部材33’の埋設が困難になる場合がある。
この場合は、中間部材33を円よりも扁平な形状、例え
ば長方形状の断面形状を有するものとすることが有効で
ある。すなわち、該断面の短辺をd、長辺をlとして、
短辺dの向きが電極本体4mの幅d’の向きと一致する
ように中間部材33を電極本体4mに埋設するとよい。
なお、このような扁平な形態の中間部材33は、円錐台
状の素材33cを、中心軸線Mを挟む半径方向両側から
圧縮加工してつぶすか、あるいは研削等により減厚して
作製することができる。
【0037】次に、図13に示す実施形態では、左図に
示すように、接合方向Oにおいて、中間部材33の貴金
属チップ32が接合される側の端面を第一端面33x、
他方の端面を第二端面33yとして、中間部材33を、
該第二端面33yにて電極本体4mに重ね合わせる。そ
して、貴金属チップ32の接合面Jを第一端面33xよ
りも小面積に形成し、右図に示すように、該第一端面3
3xの、貴金属チップ32が接合されない非チップ接合
領域33pにて該中間部材33を電極本体4mに向け押
圧部材50により押圧する。この方法においては、非チ
ップ接合領域33pに押圧部材50を当接させることに
より、貴金属チップ32を加圧することなく、中間部材
33を電極本体4mに向けて付勢でき、貴金属チップ3
2と中間部材33との間のクラック発生や剥離防止に寄
与できる。前記した投影面Pで考えると、第一重複領域
に対応する部位は中間部材33の第二端面33yの全面
であり、第二重複領域に対応する部位である貴金属チッ
プ32の接合面Jは、その第二端面33yに完全に包含
される。従って、非重複領域は、第二端面33yに対す
る非チップ接合領域33pの投影領域33p’として形
成され、押圧部材50による付勢力はこの投影領域33
p’からなる非重複領域に対応する部位に選択的に付与
されるようにする。
【0038】この実施形態では、押圧部材50は抵抗溶
接用の電極であり、貴金属チップ32の位置に凹部50
aを形成して、非重複領域に対応する部位となる非チッ
プ接合領域33pに押圧力を選択付加するようにしてい
る。そして、電極本体4mの反対側の面に別の支持部材
(電極として機能する)51を配置して、非チップ接合
領域33pにて電極本体4mと中間部材33とを挟圧し
ながら通電することにより、抵抗溶接部Rを形成するこ
とができる。なお、図14に示すように、中間部材33
を、電極本体4mの側面に開口する有底孔4u内に配置
することもできる。これにより、中間部材33と電極本
体4mとの位置ずれをより効果的に防止できる。
【0039】以上説明した孔4vあるいは4uを用いる
すべての実施形態において、該孔4v,4u内に中間部
材33を配置する場合、孔4v,4uと中間部材33の
外周面とは、例えば隙間嵌めとすることができる。しか
し、これを圧入による締まり嵌めとすることも可能であ
る。このようにすると、組立体34を孔4v,4uに挿
入した後、組立体34の抜け止めのなされていない方向
が下向きとなるように電極本体4mを保持しても、締ま
り嵌めにより組立体34の抜け落ちが防止できるので、
工程の柔軟性が高められる利点がある。また、図15に
示すように、貫通孔4vの内周面と中間部材33の外周
面とに電極側係合面や中間部材側係合面を形成しなくと
も、締まり嵌めの嵌合力を付勢力として用いることによ
り、貫通孔4vの内周面と中間部材33の外周面とを重
ね合わせ面として、これらを密着させることができる。
図15では、図5と同様のレーザー溶接部Qにより、中
間部材33と電極本体4mとを接合している。この場
合、貫通孔4vに代えて図15のような有底孔4uを用
いることもできる。
【0040】なお、図16のような有底孔4uを用いる
場合は、締まり嵌めではなく、隙間嵌めを採用すること
もできる。すなわち、有底孔4uの開口を上とした状態
で、組立体34を該有底孔4u内に隙間嵌め形態にて挿
入するとともに、中間部材33の第二端面33yを有底
孔4uの底面4bに当接させる。この方法によると、第
二端面33yに形成される非重複領域への選択的な付勢
力は付加されない。しかし、図16の右図に示すよう
に、この状態で図15と同様のレーザー溶接部Qを形成
することができる。すなわち、中間部材33と貴金属チ
ップ32とに、他部材によるそれらの接合方向Oへの付
勢力を付与することなく、電極本体4mと中間部材33
との位置ずれを拘束しつつ溶接することが可能である。
【0041】
【実施例】本発明の効果を確認するために、以下の実験
を行なった。接地電極4側の貴金属チップ32の素材と
して、Ir−40質量%Rh合金を用意した。この合金
を、1500℃にて熱間鍛造し、次いで1300℃で熱
間圧延及び熱間スエージングし、さらに1200℃にて
熱間伸線することにより、直径1.4mmの合金線材を
得た。これを長手方向に切断することで直径1.4m
m、厚さ0.6mmの円板状のチップとした。また、中
間部材33はIr−40質量%Ni合金を素材として、
貴金属チップ32と同様の方法により直径2.2mm、
厚さ0.6mmの円板状に形成した。そして、両者をレ
ーザー溶接により接合して図12の左図に示す組立体3
4を作製した。この組立体34を、インコネル600製
の電極本体の側面(幅2.8mm)に重ね合わせ、図1
2右図に示す方法により、中間部材33の非チップ形成
領域のみを380Nで加圧しながら、電流12Aの条件
により抵抗溶接して、実施例の接地電極を得た。なお、
比較のため、貴金属チップ32を同様の圧力にて押圧し
ながら抵抗溶接した接地電極も作製した。そして、これ
ら接地電極及び中心電極を用いて図1に示す形態のスパ
ークプラグ試験品を作製した(ただし、火花放電ギャッ
プ間隔0.4mm)。
【0042】これらのスパークプラグについて、貴金属
チップ32の耐剥離性試験を以下のようにして行った。
すなわち、スパークプラグの火花放電ギャップ側の先端
部をガスバーナーにより1000℃に2分間加熱し、次
いで1分空冷するサイクルを、貴金属チップ32が剥離
するまで繰り返し、その耐久サイクル数にて評価を行な
う。その結果、比較例の接地電極を用いたものは120
0サイクルで貴金属チップ32が剥離に至ったのに対
し、実施例の接地電極をを用いたものは3000サイク
ルでも剥離が見られず、良好な耐久性を有していること
が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造法の適用対象となるスパークプラ
グの一例を示す縦断面図。
【図2】その要部を示す拡大断面図。
【図3】図1のスパークプラグの製造に係る本発明の実
施形態を示す工程説明図。
【図4】図3に続く説明図。
【図5】図1のスパークプラグの第一の別の製造例を示
す要部断面図。
【図6】同じく第二の別の製造例を示す要部断面図。。
【図7】同じく第三の別の製造例を示す要部断面図。
【図8】同じく第四の別の製造例を示す要部断面図。
【図9】同じく第五の別の製造例を示す要部断面図。
【図10】同じく第六の別の製造例を示す要部断面図。
【図11】図10において、有底孔を充填した変形例を
示す図。
【図12】中間部材の変形例を示す説明図。
【図13】図1のスパークプラグの第七の別の製造例を
示す要部断面図。
【図14】同じく第八の別の製造例を示す要部断面図。
【図15】同じく第九の別の製造例を示す要部断面図。
【図16】同じく第十の別の製造例を示す要部断面図。
【符号の説明】
3 中心電極 4 接地電極 4m 電極本体 4v,4u 孔 4t,4j,4j1,4j2 電極側係合面 4s 突出部 SO 第二の開口 PO 第一の開口 32 貴金属チップ 33 中間部材 33t’,33p’ 非重複領域 33t,33s,33s1,33s2 中間部材側係合
面 33x 第一端面 33y 第二端面 33s 非チップ接合領域 33t テーパ面 33s、33s1,33s2 段面 34 組立体 50 押圧部材 100 スパークプラグ g 火花放電ギャップ P 投影面 J 接合面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 雅啓 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 (72)発明者 川村 和巳 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 Fターム(参考) 5G059 AA04 CC02 EE02 EE11 EE15

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電極本体(4m)と、その電極本体(4
    m)に中間部材(33)を介して結合された貴金属チッ
    プ(32)とを有する接地電極(4)の、前記貴金属チ
    ップ(32)を、中心電極(3)と対向させることによ
    り火花放電ギャップ(g)を形成したスパークプラグ
    (100)の製造方法であって、 前記電極本体(4m)への接合に先立って、前記中間部
    材(33)と前記貴金属チップ(32)とを接合して組
    立体(34)を作る組立体形成工程と、 前記組立体(34)の前記中間部材(33)を前記電極
    本体(4m)に重ね合わせる重ね合わせ工程と、 重ね合わされた前記組立体(34)の前記中間部材(3
    3)と前記貴金属チップ(32)との間に、他部材によ
    る付勢力を付与することなく、かつ前記電極本体(4
    m)と前記組立体(34)の前記中間部材(33)との
    位置ずれを拘束しつつ、それら電極本体(4m)と中間
    部材(33)とを溶接する溶接工程と、 を含むことを特徴とするスパークプラグの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記中間部材(33)と前記電極本体
    (4m)との溶接をレーザー溶接により行なう請求項1
    記載のスパークプラグの製造方法。
  3. 【請求項3】 前記中間部材(33)と前記電極本体
    (4m)との溶接を抵抗溶接により行なう請求項1又は
    2に記載のスパークプラグの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記中間部材(33)と前記貴金属チッ
    プ(32)との接合をレーザー溶接により行なう請求項
    1ないし3のいずれか1項に記載のスパークプラグの製
    造方法。
  5. 【請求項5】 前記重ね合わせ工程において、前記中間
    部材(33)と前記電極本体(4m)との重ね合わせ面
    の投影面積が最小となるような投影面(P)を考え、そ
    の投影面(P)への正射投影において、前記中間部材
    (33)と前記電極本体(4m)との各投影領域が互い
    に重なる領域を第一重複領域とし、前記中間部材(3
    3)と前記貴金属チップ(32)との各投影領域が互い
    に重なる領域を第二重複領域として、前記第一重複領域
    には、前記第二重複領域に属さない非重複領域(33
    t’,33p’)が形成され、 前記溶接工程において、前記中間部材(33)と前記電
    極本体(4m)との間に両者を密着させる付勢力を、前
    記第一重複領域のうち前記非重複領域に対応する部位
    (33t,33s,33p,33s1,33s2)に選
    択的に作用するように付与し、その状態でそれら中間部
    材(33)と電極本体(4m)とを溶接により接合する
    請求項1ないし4のいずれか1項に記載のスパークプラ
    グの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記重ね合わせ工程において、前記電極
    本体(4m)に、前記中心電極(3)と対向することと
    なる側面に開口を有する貫通形態または有底の孔(4
    v,4u)を形成し、前記重ね合わせ工程において、前
    記孔(4v,4u)に対し前記組立体(34)を、前記
    開口から前記貴金属チップ(32)が露出するように挿
    入する請求項1ないし5のいずれか1項に記載のスパー
    クプラグの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記孔を貫通孔(4v)として形成し、
    前記組立体(34)を、その貫通孔(4v)の、前記中
    心電極(3)に対向する側面と反対側の面に形成された
    第一の開口(PO)から挿入し、前記側面に形成された
    第二の開口(SO)から前記貴金属チップ(32)を露
    出させるとともに、該貫通孔(4v)の内面に形成され
    た電極側係合面(4t,4j,4j1,4j2)と、前
    記組立体(34)の前記中間部材(33)に形成された
    中間部材側係合面(33t、33s、33s1,33s
    2)とを係合させることにより、前記組立体(34)の
    前記挿入方向の抜け止めを行なう請求項6記載のスパー
    クプラグの製造方法。
  8. 【請求項8】 前記中間部材(33)を前記挿入方向に
    おいて押圧部材(50)により押圧することにより、前
    記付勢力を発生させる請求項7記載のスパークプラグの
    製造方法。
  9. 【請求項9】 前記溶接工程において、前記押圧部材
    (50)を溶接電極として、前記溶接を、前記非重複領
    域に対応する部位(33t,33s,33p,33s
    1,33s2)における抵抗溶接により行なう請求項8
    記載のスパークプラグの製造方法。
  10. 【請求項10】 前記非重複領域に対応する部位(33
    t,33s,33s1,33s2)において、前記中間
    部材(33)と前記電極本体(4m)とを、前記中間部
    材(33)が上となるように重ね合わせ、前記中間部材
    (33)を前記電極本体(4m)に向けて重力付勢する
    ことにより、前記非重複領域に対応する部位(33t,
    33s,33s1,33s2)に前記付勢力を付与する
    請求項7に記載のスパークプラグの製造方法。
  11. 【請求項11】 前記組立体(34)の前記中間部材
    (33)を前記孔(4u,4v)に圧入する請求項6又
    は7に記載のスパークプラグの製造方法。
  12. 【請求項12】 前記溶接をレーザー溶接により行なう
    請求項10又は11に記載のスパークプラグの製造方
    法。
  13. 【請求項13】 前記孔を有底孔(4u)として形成
    し、前記組立体(34)を該有底孔(4u)内に隙間嵌
    め形態にて挿入し、前記中間部材(33)の前記貴金属
    チップ(32)が接合される側の端面を第一端面(33
    x)、これと反対側の端面を第二端面(33y)とし
    て、前記中間部材(33)の第二端面(33y)を前記
    有底孔(4u)の底面(4b)に当接するように配置す
    る請求項6記載のスパークプラグの製造方法。
  14. 【請求項14】 前記重ね合わせ工程において、前記中
    間部材(33)の前記貴金属チップ(32)が接合され
    る側の端面を第一端面(33x)、これと反対側の端面
    を第二端面(33y)として、前記中間部材(33)
    を、該第二端面(33y)にて前記電極本体(4m)に
    重ね合わせ、前記溶接工程において前記非重複領域に対
    応する部位(33s)を前記電極本体(4m)に向け押
    圧部材(50)により押圧付勢する請求項5記載のスパ
    ークプラグの製造方法。
  15. 【請求項15】 前記中間部材(33)を、前記電極本
    体(4m)の側面に開口する有底孔(4u)内に配置す
    る請求項14記載のスパークプラグの製造方法。
  16. 【請求項16】 前記中間部材(33)の前記貴金属チ
    ップ(32)が接合される側の端面を第一端面(33
    w)、これと反対側の端面を第二端面(33e)とし
    て、該第二端面(33e)側に開口を有する有底孔から
    レーザー溶接することにより、前記中間部材(33)と
    前記金属チップ(32)とが溶接される請求項1ないし
    15のいずれか1項に記載のスパークプラグの製造方
    法。
  17. 【請求項17】 前記貴金属チップ(32)をIr合金
    にて形成する請求項1ないし16のいずれか1項に記載
    のスパークプラグの製造方法。
  18. 【請求項18】 前記中間部材(33)を、前記貴金属
    チップ(32)と前記電極本体(4m)をなす金属との
    中間の線膨張係数を有する金属にて構成する請求項1な
    いし17のいずれか1項に記載のスパークプラグの製造
    方法。
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