JP2003260657A - 研磨布 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来よりもスラリーを均一に分散させること
ができる研磨布を提供しようとするもの。 【解決手段】 供給されたスラリーが分散される溝部１
を有すると共に、その中心Ｃ側の溝部１と比較して外周
側の溝部１の領域が大きく設定された。従来は、研磨布
の中心側と外周側とで溝部はほぼ一定とされこのため研
磨時には回転駆動における変移速度が相対的に遅い中心
側と相対的に速い外周側とでスラリーの分散状態にばら
つきが生じていたが（外周側のスラリーは中心側と比較
して不足する傾向となる）、この研磨布は、回転駆動に
おける変移速度が相対的に遅い中心側と比較して相対的
に速い外周側の溝部の領域が大きく設定されたので、変
移速度が相対的に速くスラリーが排出され易い外周側の
溝部の領域により多くの量のスラリーを供給することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体の製造の
ためなどに使用される研磨布（研磨パッド）に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、被研磨物（ウエハ等）の平坦
化処理を化学的機械的研磨加工（ＣＭＰプロセス）によ
り行うために研磨布が使用されている。この研磨布の表
面には、被研磨物との間の研磨作業面に新たに供給され
たスラリーが浸入し易くするため、同心円状（図７及び
図８参照）や格子状（図９及び図10参照）、孔状（図11
及び図12参照）などの溝11加工が施されている。なお図
中、Ｃは研磨布の中心を示す。そして回転研磨時に前記
溝11によりスラリーの分散を補助して被研磨物の過吸着
を防止し、研磨効率を向上させることができるという利
点がある。

【０００３】しかし、スラリーの分散が均一にいかず局
所的に高い摩擦力が発生することがあり、ひどい場合に
は回転研磨中に研磨装置が振動し被研磨物が遠心力で飛
び出して破損が発生することがあるという問題があっ
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そこでこの発明は、従
来よりもスラリーを均一に分散させることができる研磨
布を提供しようとするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
この発明では次のような技術的手段を講じている。 （１）この発明の研磨布は、供給されたスラリーが分散
される溝部を有すると共に、その中心側の溝部と比較し
て外周側の溝部の領域が大きく設定されたことを特徴と
する。

【０００６】すなわち従来は、研磨布の中心側と外周側
とで溝部はほぼ一定とされこのため研磨時には回転駆動
における変移速度が相対的に遅い中心側と相対的に速い
外周側とでスラリーの分散状態にばらつきが生じていた
が（外周側のスラリーは中心側と比較して不足する傾向
となる）、この研磨布は、回転駆動における変移速度が
相対的に遅い中心側と比較して相対的に速い外周側の溝
部の領域が大きく設定されたので、変移速度が相対的に
速くスラリーが排出され易い外周側の溝部の領域により
多くの量のスラリーを供給することができる。 （２）同心円状の溝部を有すると共に中心側の溝部と比
較して外周側の溝部の領域は徐々にその溝幅が広がって
いくように設定してもよい。 （３）同心円状の溝部を有すると共に中心側の溝部と比
較して外周側の溝部の領域は段階的にその溝幅が広がっ
ていくように設定してもよい。 （４）孔状の溝部を有すると共に中心側の溝部と比較し
て外周側の溝部の領域は溝部の孔径が大きくなるように
設定してもよい。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。 （実施形態１）この実施形態の研磨布はウレタン樹脂よ
り成り、図１及び図２に示すように、供給されたスラリ
ーが分散される溝部１を有すると共に、その中心Ｃ側の
溝部１と比較して外周側の溝部１の領域を大きく設定し
ている。

【０００８】前記溝部１は同心円状に形成すると共に、
中心Ｃ側の溝部１と比較して外周側の溝部１の領域は徐
々にその溝幅が広がっていくように設定している。すな
わち前記溝部１の領域は、一番幅の狭い中心Ｃ側の３本
の第１エリアＸ、その次の３本の第２エリアＹ、一番幅
の広い外周側の３本の第３エリアＺの３つの領域を有す
るように形成した。

【０００９】次に、この実施形態の研磨布の使用状態を
説明する。

【００１０】従来は研磨布の中心側と外周側とで溝部の
幅はほぼ一定とされこのため研磨時には回転駆動におけ
る変移速度が相対的に遅い中心側と相対的に速い外周側
とでスラリーの分散状態にばらつきが生じていたが、こ
の研磨布は、回転駆動における変移速度が相対的に遅い
中心Ｃ側と比較して相対的に速い外周側の溝部１の領域
が大きく設定されたので、変移速度が相対的に速くスラ
リーが排出され易い外周側の溝部１の領域により多くの
量のスラリーを供給することができ、従来よりもスラリ
ーを均一に分散させることができるという利点がある。

【００１１】また、スラリーの不均一な分散による研磨
布とウエハとの間の過度な摩擦が減少し、装置の不要な
振動の防止やウエハの破損の防止を図ることができると
いう利点がある。 （実施形態２）次に、実施形態２を実施形態１との相違
点を中心に説明する。

【００１２】図３及び図４に示すように、この実施形態
の研磨布も同心円状の溝部１を有すると共に、中心Ｃ側
の溝部１と比較して外周側の溝部１の領域は段階的にそ
の溝幅が広がっていくように設定した。すなわち、中心
Ｃ側の溝部１から外周側の溝部１の領域にかけて溝幅が
１、１．１、１．２、１．３、１．４、…と、段階的に
広がっていくように形成した。 （実施形態３）次に、実施形態２を上記実施形態との相
違点を中心に説明する。

【００１３】図５及び図６に示すように、この実施形態
の研磨布は孔状の溝部１を有すると共に中心Ｃ側の溝部
１と比較して外周側の溝部１の領域は溝部１の孔径が大
きくなるように設定した。

【００１４】

【発明の効果】この発明は上述のような構成であり、次
の効果を有する。

【００１５】変移速度が相対的に速くスラリーが排出さ
れ易い外周側の溝部の領域により多くの量のスラリーを
供給することができるので、従来よりもスラリーを均一
に分散させることができる研磨布を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の研磨布の実施形態１を説明する平面
図。

【図２】図１の研磨布の要部拡大破断斜視図。

【図３】この発明の研磨布の実施形態２を説明する平面
図。

【図４】図３の研磨布の要部拡大破断斜視図。

【図５】この発明の研磨布の実施形態３を説明する平面
図。

【図６】図５の研磨布の要部拡大破断斜視図。

【図７】従来の研磨布を説明する平面図。

【図８】図７の研磨布の要部拡大破断斜視図。

【図９】従来の研磨布の他の例を説明する平面図。

【図10】図９の研磨布の要部拡大破断斜視図。

【図11】従来の研磨布の更に他の例を説明する平面図。

【図12】図11の研磨布の要部拡大破断斜視図。

【符号の説明】

１ 溝部 Ｃ 中心

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堅尾 吉明 奈良県大和郡山市池沢町172 ロデール・ ニッタ株式会社奈良工場内 (72)発明者 花本 崇志 三重県員弁郡藤原町藤ヶ丘８−３ ロデー ル・ニッタ株式会社三重工場内 Ｆターム(参考） 3C058 AA07 AA09 CB01 CB03 DA17

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 供給されたスラリーが分散される溝部を
   有すると共に、その中心側の溝部と比較して外周側の溝
   部の領域が大きく設定されたことを特徴とする研磨布。
2. 【請求項２】 同心円状の溝部を有すると共に中心側の
   溝部と比較して外周側の溝部の領域は徐々にその溝幅が
   広がっていくように設定した請求項１記載の研磨布。
3. 【請求項３】 同心円状の溝部を有すると共に中心側の
   溝部と比較して外周側の溝部の領域は段階的にその溝幅
   が広がっていくように設定した請求項１記載の研磨布。
4. 【請求項４】 孔状の溝部を有すると共に中心側の溝部
   と比較して外周側の溝部の領域は溝部の孔径が大きくな
   るように設定した請求項１記載の研磨布。