JP2003261484A - シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキサノンの製造方法 - Google Patents
シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキサノンの製造方法Info
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 シクロヘキサンからシクロヘキサノールやシ
クロヘキサノンを、温和な条件下に高選択率で、しかも
生産性良く製造しうる方法を提供すること。 【解決手段】 ヘテロポリ酸骨格中にケイ素、タングス
テンおよび１個のルテニウムを含有するヘテロポリ酸化
合物の存在下に、シクロヘキサンを分子状酸素と接触さ
せて酸化する。このヘテロポリ酸化合物におけるヘテロ
ポリ酸アニオンとしては、Ｓｉ1Ｗ11Ｒｕ1Ｏ39（式中、
Ｓｉ、Ｗ、ＲｕおよびＯは、それぞれケイ素、タングス
テン、ルテニウムおよび酸素を表す。）で示される組成
を有するものが好ましい。
クロヘキサノンを、温和な条件下に高選択率で、しかも
生産性良く製造しうる方法を提供すること。 【解決手段】 ヘテロポリ酸骨格中にケイ素、タングス
テンおよび１個のルテニウムを含有するヘテロポリ酸化
合物の存在下に、シクロヘキサンを分子状酸素と接触さ
せて酸化する。このヘテロポリ酸化合物におけるヘテロ
ポリ酸アニオンとしては、Ｓｉ1Ｗ11Ｒｕ1Ｏ39（式中、
Ｓｉ、Ｗ、ＲｕおよびＯは、それぞれケイ素、タングス
テン、ルテニウムおよび酸素を表す。）で示される組成
を有するものが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シクロヘキサンを
分子状酸素により酸化してシクロヘキサノールおよび／
またはシクロヘキサノンを製造する方法に関するもので
ある。
分子状酸素により酸化してシクロヘキサノールおよび／
またはシクロヘキサノンを製造する方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、シクロヘキサンを分子状酸素によ
り酸化してシクロヘキサノールやシクロヘキサノンを製
造する方法の１つとして、ヘテロポリ酸系触媒を用いる
方法が提案されている。例えば、ケミストリー・レター
ズ（Chemistry Letters）、１９９８年発行、第１２６
３〜１２６４頁には、鉄２置換型ケイタングステン酸系
触媒を用いることが提案されおり、また、特開平２００
０−３１９２１１号公報には、鉄以外の４〜１１族金属
２置換型ヘテロポリ酸系触媒を用いることが提案されて
いる。
り酸化してシクロヘキサノールやシクロヘキサノンを製
造する方法の１つとして、ヘテロポリ酸系触媒を用いる
方法が提案されている。例えば、ケミストリー・レター
ズ（Chemistry Letters）、１９９８年発行、第１２６
３〜１２６４頁には、鉄２置換型ケイタングステン酸系
触媒を用いることが提案されおり、また、特開平２００
０−３１９２１１号公報には、鉄以外の４〜１１族金属
２置換型ヘテロポリ酸系触媒を用いることが提案されて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の方法では、温和な条件下に高選択率で上記酸化反
応を行うことができるものの、触媒の活性すなわちシク
ロヘキサンの転化率が十分でないため、シクロヘキサノ
ールやシクロヘキサノンの生産性の点で満足できるもの
ではなかった。そこで、本発明の目的は、シクロヘキサ
ンからシクロヘキサノールやシクロヘキサノンを、温和
な条件下に高選択率で、しかも生産性良く製造しうる方
法を提供することにある。
従来の方法では、温和な条件下に高選択率で上記酸化反
応を行うことができるものの、触媒の活性すなわちシク
ロヘキサンの転化率が十分でないため、シクロヘキサノ
ールやシクロヘキサノンの生産性の点で満足できるもの
ではなかった。そこで、本発明の目的は、シクロヘキサ
ンからシクロヘキサノールやシクロヘキサノンを、温和
な条件下に高選択率で、しかも生産性良く製造しうる方
法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意研究
を行った結果、上記酸化反応の際、ルテニウム１置換型
ケイタングステン酸系触媒を用いることにより、上記目
的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち、本発明は、ヘテロポリ酸骨格中にケイ
素、タングステンおよび１個のルテニウムを含有するヘ
テロポリ酸化合物の存在下に、シクロヘキサンを分子状
酸素と接触させて酸化することにより、シクロヘキサノ
ールおよび／またはシクロヘキサノンを製造する方法に
係るものである。
を行った結果、上記酸化反応の際、ルテニウム１置換型
ケイタングステン酸系触媒を用いることにより、上記目
的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち、本発明は、ヘテロポリ酸骨格中にケイ
素、タングステンおよび１個のルテニウムを含有するヘ
テロポリ酸化合物の存在下に、シクロヘキサンを分子状
酸素と接触させて酸化することにより、シクロヘキサノ
ールおよび／またはシクロヘキサノンを製造する方法に
係るものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる触媒は、ヘテロポリ酸骨格中にケイ素お
よびタングステンを含有するケイタングステン酸系のヘ
テロポリ酸化合物であって、該骨格中にさらにルテニウ
ムを１個含有するものである。なお、該骨格中のケイ素
およびタングステンの個数は特に限定されないが、通
常、ケイ素は１個であり、タングステンは８〜１１個で
ある。また、該骨格中には、ケイ素、タングステンおよ
びルテニウム以外の元素が、必要に応じて１種または２
種以上、それぞれ１個または２個以上含有されていても
よい。
本発明で用いる触媒は、ヘテロポリ酸骨格中にケイ素お
よびタングステンを含有するケイタングステン酸系のヘ
テロポリ酸化合物であって、該骨格中にさらにルテニウ
ムを１個含有するものである。なお、該骨格中のケイ素
およびタングステンの個数は特に限定されないが、通
常、ケイ素は１個であり、タングステンは８〜１１個で
ある。また、該骨格中には、ケイ素、タングステンおよ
びルテニウム以外の元素が、必要に応じて１種または２
種以上、それぞれ１個または２個以上含有されていても
よい。
【０００６】上記ヘテロポリ酸化合物としては、該化合
物におけるヘテロポリ酸アニオンが、下記式（１） Ｓｉ1Ｗ11Ｒｕ1Ｏ39 （１） （式中、Ｓｉ、Ｗ、ＲｕおよびＯは、それぞれケイ素、
タングステン、ルテニウムおよび酸素を表す。）で示さ
れる組成を有するものが好ましい。
物におけるヘテロポリ酸アニオンが、下記式（１） Ｓｉ1Ｗ11Ｒｕ1Ｏ39 （１） （式中、Ｓｉ、Ｗ、ＲｕおよびＯは、それぞれケイ素、
タングステン、ルテニウムおよび酸素を表す。）で示さ
れる組成を有するものが好ましい。
【０００７】また上記ヘテロポリ酸化合物は、ヘテロポ
リ酸の塩であるのが好ましく、この塩は、例えば、ヘテ
ロポリ酸のプロトンの一部が中和された酸性塩であって
もよいし、ヘテロポリ酸のプロトンの全部が中和された
正塩であってもよい。上記ヘテロポリ酸化合物における
ヘテロポリ酸アニオンの対カチオンとしては、例えば、
リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウムのようなア
ルカリ金属のカチオン；カルシウム、マグネシウムのよ
うなアルカリ土類金属のカチオン；アンモニウムカチオ
ン、各アルキル基の炭素数が１〜２０程度のテトラアル
キルアンモニウムカチオン、プロトン等が挙げられ、必
要に応じてそれらの２種以上が含まれていてもよい。
リ酸の塩であるのが好ましく、この塩は、例えば、ヘテ
ロポリ酸のプロトンの一部が中和された酸性塩であって
もよいし、ヘテロポリ酸のプロトンの全部が中和された
正塩であってもよい。上記ヘテロポリ酸化合物における
ヘテロポリ酸アニオンの対カチオンとしては、例えば、
リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウムのようなア
ルカリ金属のカチオン；カルシウム、マグネシウムのよ
うなアルカリ土類金属のカチオン；アンモニウムカチオ
ン、各アルキル基の炭素数が１〜２０程度のテトラアル
キルアンモニウムカチオン、プロトン等が挙げられ、必
要に応じてそれらの２種以上が含まれていてもよい。
【０００８】上記ヘテロポリ酸化合物は、公知の方法、
例えば、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソ
サイエティ（Journal of American Chemical Society）
第１１２巻、第６０２５頁（１９９０年発行）に記載の
方法により調製することができる。調製の際の原料とし
ては、通常、上記ヘテロポリ酸化合物に含まれる各元素
を含む化合物、例えば、各元素のオキソ酸、オキソ酸
塩、酸化物、硝酸塩、炭酸塩、水酸化物、ハロゲン化物
等が、所望の原子比を満たすような割合で用いられる。
例えば、ケイ素を含む化合物としては、ケイ酸、ケイ酸
塩等が用いられ、タングステンを含む化合物としては、
タングステン酸、タングステン酸塩、酸化タングステン
等が用いられ、ルテニウムを含む化合物としては、塩化
ルテニウム等が用いられる。
例えば、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソ
サイエティ（Journal of American Chemical Society）
第１１２巻、第６０２５頁（１９９０年発行）に記載の
方法により調製することができる。調製の際の原料とし
ては、通常、上記ヘテロポリ酸化合物に含まれる各元素
を含む化合物、例えば、各元素のオキソ酸、オキソ酸
塩、酸化物、硝酸塩、炭酸塩、水酸化物、ハロゲン化物
等が、所望の原子比を満たすような割合で用いられる。
例えば、ケイ素を含む化合物としては、ケイ酸、ケイ酸
塩等が用いられ、タングステンを含む化合物としては、
タングステン酸、タングステン酸塩、酸化タングステン
等が用いられ、ルテニウムを含む化合物としては、塩化
ルテニウム等が用いられる。
【０００９】本発明においては、上記ヘテロポリ酸化合
物の存在下に、シクロヘキサンを分子状酸素と接触させ
ることにより、酸化反応を行う。この酸化反応は、液
相、気相のいずれでも行うことができるが、液相にて行
うのがより好ましい。ヘテロポリ酸化合物の使用量は、
シクロヘキサン１モルに対して、通常０．０００００１
〜０．１モル、好ましくは０．００００１〜０．０１モ
ルである。なお、ヘテロポリ酸化合物は、必要に応じて
成形して使用してもよいし、シリカ、アルミナ、チタニ
ア等の担体に担持して使用してもよい。
物の存在下に、シクロヘキサンを分子状酸素と接触させ
ることにより、酸化反応を行う。この酸化反応は、液
相、気相のいずれでも行うことができるが、液相にて行
うのがより好ましい。ヘテロポリ酸化合物の使用量は、
シクロヘキサン１モルに対して、通常０．０００００１
〜０．１モル、好ましくは０．００００１〜０．０１モ
ルである。なお、ヘテロポリ酸化合物は、必要に応じて
成形して使用してもよいし、シリカ、アルミナ、チタニ
ア等の担体に担持して使用してもよい。
【００１０】分子状酸素源としては、酸素ガス、空気、
または酸素ガスもしくは空気を窒素、二酸化炭素、ヘリ
ウム等の不活性ガスで希釈したものを用いることができ
る。シクロヘキサンと分子状酸素との接触は、例えば、
シクロヘキサンおよび上記ヘテロポリ酸化合物を含む液
を、分子状酸素含有ガスの雰囲気下に置くことにより行
ってもよいし、この液中に分子状酸素含有ガスを吹き込
むことにより行ってもよい。
または酸素ガスもしくは空気を窒素、二酸化炭素、ヘリ
ウム等の不活性ガスで希釈したものを用いることができ
る。シクロヘキサンと分子状酸素との接触は、例えば、
シクロヘキサンおよび上記ヘテロポリ酸化合物を含む液
を、分子状酸素含有ガスの雰囲気下に置くことにより行
ってもよいし、この液中に分子状酸素含有ガスを吹き込
むことにより行ってもよい。
【００１１】上記酸化反応は溶媒の存在下に行ってもよ
く、該溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、クロロホルムのようなハロゲン化脂肪族炭化
水素類；酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｔ−ブチルのようなエス
テル類；アセトニトリルのようなニトリル類；トルエン
のような芳香族炭化水素類；クロロベンゼンのようなハ
ロゲン化芳香族炭化水素類等、酸化反応に対してシクロ
ヘキサンより不活性なものが挙げられる。溶媒を用いる
場合、その使用量は、シクロヘキサン１００重量部に対
して、通常１〜１０００００重量部、好ましくは１０〜
１００００重量部である。
く、該溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、クロロホルムのようなハロゲン化脂肪族炭化
水素類；酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｔ−ブチルのようなエス
テル類；アセトニトリルのようなニトリル類；トルエン
のような芳香族炭化水素類；クロロベンゼンのようなハ
ロゲン化芳香族炭化水素類等、酸化反応に対してシクロ
ヘキサンより不活性なものが挙げられる。溶媒を用いる
場合、その使用量は、シクロヘキサン１００重量部に対
して、通常１〜１０００００重量部、好ましくは１０〜
１００００重量部である。
【００１２】上記酸化反応の反応温度は、通常２０〜３
００℃、好ましくは５０〜２００℃であり、反応圧力
は、通常、０．１〜１０ＭＰａである。また、上記酸化
反応は、連続式で行ってもよいし、回分式で行ってもよ
い。
００℃、好ましくは５０〜２００℃であり、反応圧力
は、通常、０．１〜１０ＭＰａである。また、上記酸化
反応は、連続式で行ってもよいし、回分式で行ってもよ
い。
【００１３】上記酸化反応液中のシクロヘキサノールお
よび／またはシクロヘキサノンは、酸化反応混合物を必
要に応じて濾過、濃縮、洗浄、アルカリ処理、酸処理等
の操作に供した後、蒸留等で精製することにより、酸化
反応混合物から分離することができる。なお、酸化反応
混合物中には、シクロヘキシルヒドロペルオキシドやシ
クロヘキサノールのエステル等が含まれる場合もある
が、これらは熱分解やアルカリ処理等により、目的物で
あるシクロヘキサノールやシクロヘキサノンに変換する
ことができる。
よび／またはシクロヘキサノンは、酸化反応混合物を必
要に応じて濾過、濃縮、洗浄、アルカリ処理、酸処理等
の操作に供した後、蒸留等で精製することにより、酸化
反応混合物から分離することができる。なお、酸化反応
混合物中には、シクロヘキシルヒドロペルオキシドやシ
クロヘキサノールのエステル等が含まれる場合もある
が、これらは熱分解やアルカリ処理等により、目的物で
あるシクロヘキサノールやシクロヘキサノンに変換する
ことができる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。なお、反応混合物の分析
はガスクロマトグラフィーにより行い、シクロヘキサン
の転化率ならびにシクロヘキサノールおよびシクロヘキ
サノンの選択率は、それぞれ次式により算出した。 シクロヘキサンの転化率（％）＝（生成物の合計モル数
／使用したシクロヘキサンのモル数）×１００ シクロヘキサノールの選択率（％）＝（生成したシクロ
ヘキサノールのモル数／生成物の合計モル数）×１００ シクロヘキサノンの選択率（％）＝（生成したシクロヘ
キサノンのモル数／生成物の合計モル数）×１００ また、ＴＯＮ（turnover number）は、次式により算出
した。 ＴＯＮ＝（生成物の合計モル数）／（使用した触媒のモ
ル数）
れに限定されるものではない。なお、反応混合物の分析
はガスクロマトグラフィーにより行い、シクロヘキサン
の転化率ならびにシクロヘキサノールおよびシクロヘキ
サノンの選択率は、それぞれ次式により算出した。 シクロヘキサンの転化率（％）＝（生成物の合計モル数
／使用したシクロヘキサンのモル数）×１００ シクロヘキサノールの選択率（％）＝（生成したシクロ
ヘキサノールのモル数／生成物の合計モル数）×１００ シクロヘキサノンの選択率（％）＝（生成したシクロヘ
キサノンのモル数／生成物の合計モル数）×１００ また、ＴＯＮ（turnover number）は、次式により算出
した。 ＴＯＮ＝（生成物の合計モル数）／（使用した触媒のモ
ル数）
【００１５】参考例１
タングステン酸ナトリウム２水和物３６．２８４ｇを純
水６０ｍｌに溶解し、加熱沸騰させた中に、攪拌下、４
ｍｏｌ／Ｌの塩酸３３ｍｌを１０分で滴下した後、メタ
ケイ酸ナトリウム９水和物２．８４２ｇを純水２０ｍｌ
に溶解した溶液を加え、次いで、４ｍｏｌ／Ｌの塩酸で
ｐＨを５〜６の間に調整しながら、１時間攪拌した。そ
の後、室温まで冷却し、塩化カリウム３０ｇを加えて塩
析を行った。得られた白色沈殿を濾別し、１ｍｏｌ／Ｌ
の塩化カリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、
空気で乾燥し、１欠損型ケイタングステン酸のカリウム
塩Ｋ8[ＳｉＷ11Ｏ39]・１３Ｈ2Ｏを得た。
水６０ｍｌに溶解し、加熱沸騰させた中に、攪拌下、４
ｍｏｌ／Ｌの塩酸３３ｍｌを１０分で滴下した後、メタ
ケイ酸ナトリウム９水和物２．８４２ｇを純水２０ｍｌ
に溶解した溶液を加え、次いで、４ｍｏｌ／Ｌの塩酸で
ｐＨを５〜６の間に調整しながら、１時間攪拌した。そ
の後、室温まで冷却し、塩化カリウム３０ｇを加えて塩
析を行った。得られた白色沈殿を濾別し、１ｍｏｌ／Ｌ
の塩化カリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、
空気で乾燥し、１欠損型ケイタングステン酸のカリウム
塩Ｋ8[ＳｉＷ11Ｏ39]・１３Ｈ2Ｏを得た。
【００１６】得られた１欠損型ケイタングステン酸のカ
リウム塩１５．９ｇを、１ｍｏｌ／Ｌの酢酸／酢酸ナト
リウム緩衝液（ｐＨ＝４．７）２００ｍｌに溶解し、こ
の中に、臭化テトラブチルアンモニウム１６．１ｇを添
加した。得られた白色沈殿を濾別し、水洗した後、空気
で乾燥した。乾燥後、アセトニトリル／水混合溶媒を用
いて再沈殿を行い、過剰の臭化テトラブチルアンモニウ
ムを除去した後、アセトニトリルを用いて再結晶を行
い、１欠損型ケイタングステン酸のテトラブチルアンモ
ニウム塩を得た。
リウム塩１５．９ｇを、１ｍｏｌ／Ｌの酢酸／酢酸ナト
リウム緩衝液（ｐＨ＝４．７）２００ｍｌに溶解し、こ
の中に、臭化テトラブチルアンモニウム１６．１ｇを添
加した。得られた白色沈殿を濾別し、水洗した後、空気
で乾燥した。乾燥後、アセトニトリル／水混合溶媒を用
いて再沈殿を行い、過剰の臭化テトラブチルアンモニウ
ムを除去した後、アセトニトリルを用いて再結晶を行
い、１欠損型ケイタングステン酸のテトラブチルアンモ
ニウム塩を得た。
【００１７】得られた１欠損型ケイタングステン酸のテ
トラブチルアンモニウム塩１．７２４ｇを、アルゴン雰
囲気下でアセトニトリル３０ｍｌに溶解し、この中に塩
化ルテニウム（III）を添加し、室温で２時間攪拌し
た。次いで、酸素をバブリングさせながら、純水１００
μｌを加えて１時間攪拌した後、エバポレーターにより
４０℃以下で濃縮してアセトニトリルを除去し、黒いタ
ール状物を得た。このタール状物を、アセトニトリル６
ｍｌに溶解して再結晶を行い、灰茶色の結晶を得た。こ
の結晶を、元素分析、紫外可視分光分析、赤外分光分析
により同定した結果、ルテニウム１置換型ケイタングス
テン酸のテトラブチルアンモニウム塩［（ｎ−Ｃ4Ｈ9）
4Ｎ］4Ｈ［ＳｉＷ11Ｒｕ（Ｈ2Ｏ）Ｏ39］・２Ｈ2Ｏであ
ると確認された。
トラブチルアンモニウム塩１．７２４ｇを、アルゴン雰
囲気下でアセトニトリル３０ｍｌに溶解し、この中に塩
化ルテニウム（III）を添加し、室温で２時間攪拌し
た。次いで、酸素をバブリングさせながら、純水１００
μｌを加えて１時間攪拌した後、エバポレーターにより
４０℃以下で濃縮してアセトニトリルを除去し、黒いタ
ール状物を得た。このタール状物を、アセトニトリル６
ｍｌに溶解して再結晶を行い、灰茶色の結晶を得た。こ
の結晶を、元素分析、紫外可視分光分析、赤外分光分析
により同定した結果、ルテニウム１置換型ケイタングス
テン酸のテトラブチルアンモニウム塩［（ｎ−Ｃ4Ｈ9）
4Ｎ］4Ｈ［ＳｉＷ11Ｒｕ（Ｈ2Ｏ）Ｏ39］・２Ｈ2Ｏであ
ると確認された。
【００１８】実施例１
ガラス反応容器に、上記参考例１で調製したルテニウム
１置換型ケイタングステン酸のテトラブチルアンモニウ
ム塩０．５μｍｏｌ、酢酸イソブチル３．０ｍｌ、およ
びシクロヘキサン１８．５ｍｍｏｌを入れ、酸素雰囲気
下、常圧、１００℃にて、４８時間攪拌した。シクロヘ
キサンの転化率は３．０％、シクロヘキサノールの選択
率は３３％、シクロヘキサノンの選択率は６７％であ
り、ＴＯＮは１１１０であった。
１置換型ケイタングステン酸のテトラブチルアンモニウ
ム塩０．５μｍｏｌ、酢酸イソブチル３．０ｍｌ、およ
びシクロヘキサン１８．５ｍｍｏｌを入れ、酸素雰囲気
下、常圧、１００℃にて、４８時間攪拌した。シクロヘ
キサンの転化率は３．０％、シクロヘキサノールの選択
率は３３％、シクロヘキサノンの選択率は６７％であ
り、ＴＯＮは１１１０であった。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、シクロヘキサンを原料
として、シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキ
サノンを、温和な条件下に高選択率で生産性良く製造す
ることができる。
として、シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキ
サノンを、温和な条件下に高選択率で生産性良く製造す
ることができる。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０７Ｃ 49/403 Ｃ０７Ｃ 49/403 Ａ
// Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Ｆターム(参考） 4G069 AA08 BA21B BB07A BB07B
BC60A BC60B BC70A BC70B
BD05A BD05B BE17B CB07
CB12 FA01
4H006 AA02 AC41 AC44 BA14 BA23
BA30 BA33 BA75 BC14 BE30
FC22 FE12
4H039 CA60 CA62 CC20 CC30 CD10
Claims (2)
- 【請求項１】ヘテロポリ酸骨格中にケイ素、タングステ
ンおよび１個のルテニウムを含有するヘテロポリ酸化合
物の存在下に、シクロヘキサンを分子状酸素と接触させ
て酸化することを特徴とするシクロヘキサノールおよび
／またはシクロヘキサノンの製造方法。 - 【請求項２】ヘテロポリ酸化合物におけるヘテロポリ酸
アニオンが、下記式（１） Ｓｉ1Ｗ11Ｒｕ1Ｏ39 （１） （式中、Ｓｉ、Ｗ、ＲｕおよびＯは、それぞれケイ素、
タングステン、ルテニウムおよび酸素を表す。）で示さ
れる組成を有するものである請求項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002063211A JP4168644B2 (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキサノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002063211A JP4168644B2 (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | シクロヘキサノールおよび／またはシクロヘキサノンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003261484A true JP2003261484A (ja) | 2003-09-16 |
| JP4168644B2 JP4168644B2 (ja) | 2008-10-22 |
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