JPH01146837A - シクロヘキセノンの脱水素方法 - Google Patents

シクロヘキセノンの脱水素方法

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JPH01146837A
JPH01146837A JP62306448A JP30644887A JPH01146837A JP H01146837 A JPH01146837 A JP H01146837A JP 62306448 A JP62306448 A JP 62306448A JP 30644887 A JP30644887 A JP 30644887A JP H01146837 A JPH01146837 A JP H01146837A
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hydrogen
alkali metal
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Satoru Inoki
猪木 哲
Yasushi Nakajima
靖 中嶋
Fujinao Matsunaga
藤尚 松永
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C37/06—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by conversion of non-aromatic six-membered rings or of such rings formed in situ into aromatic six-membered rings, e.g. by dehydrogenation
    • C07C37/07—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by conversion of non-aromatic six-membered rings or of such rings formed in situ into aromatic six-membered rings, e.g. by dehydrogenation with simultaneous reduction of C=O group in that ring
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、シクロヘキセノンの新規な脱水素方法に関し
、触媒による気相反応でのフェノール合成法に関する。
〈従来の技術〉 シクロヘキセノンの脱水素反応の従来技術には、以下の
方法がある。
(1) J、Org、Che+o、 、 28.633
 (1963)に示されるシクロヘキセノンをCu C
j! 21LiCj!と反応させてフェノールを得る方
法。
(2) Tetrahedron Lett、 821
 (1977)に示されるシクロヘキセノンをCuBr
z。
LiCAと反応させてフェノールを得る方法。
しかし、上記の(1)、(2)の方法は、いずれも液相
で反応を行うものであり、触媒除去等の後処理が必要で
ある。
また、CuCJ22(またはCuBr2)は、シクロヘ
キセノンの2倍モル必要であり、LiCJ2はシクロヘ
キセンと等モル使用する必要があり、工業化することは
経済的に非常な困難がある。
また、フェノールの収率も、65〜85%と満足できる
値ではない。
〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明の目的は、従来技術の問題点を解決し、新規な固
相触媒を用いた気相反応によるシクロヘキセノンの脱水
素方法を提供しようとする。
〈発明の構成〉 本発明は、白金およびアルカリ金属担持固相触媒を用い
て、水素共存下に気相で反応させることを特徴とするシ
クロヘキセノンの脱水素方法を提供する。
ここで、前記白金およびアルカリ金属担持触媒の担体が
、シリカ、シリカ−アルミナまたはアルミナであり、前
記担体中のアルカリ金属および/またはアルカリ土類金
属含有率がNa、O換算で0.5〜2.0wt%である
のが良い。
前記白金およびアルカリ金属担持触媒の白金量が白金/
担体生触媒で、0.2〜10wt%であり、アルカリ金
属量かに2Co3/白金換算で0.2〜3.0重量比で
あるのが好ましい。
また、前記共存水素の量が、水素/シクロヘキセノン(
モル比)で、0.5〜4であるのが良い。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明に用いるシクロヘキセノンは、シクロヘキサノン
、シクロヘキセノール、シクロヘキセンオキシド等が含
まれていてもかまわない。
シクロヘキセノンは、シクロヘキセンの酸素(空気)酸
化又は、シクロヘキサノンの脱水素により容易に合成す
ることができ、代表的に下記の方法があげられる。
■シクロヘキセンの酸素(空気)酸化 5ynthesis、45 (1974)では、シクロ
ヘキセンをコバルトナフテートを触媒に用いて酸素酸化
した後、クロム酸で処理して、80%の収率でシクロヘ
キセノンを得ている。
■シクロヘキサノンの脱水素 J、Org、CheIll、 36.752  (19
71)では、塩化パラジウムと塩化銅を触媒に用いて、
シクロヘキサノンから選択率90〜95%でシクロヘキ
セノンを得ている。
本発明に用いる触媒は、白金およびアルカリ金属を担持
した固相触媒であればいかなるものでもよい。
触媒は、脱水素反応を行う前に還元処理等の適切な前処
理を行って用いるのが良い。
この触媒によるシクロヘキセノンの脱水素反応は、水素
ガスの共存下で気相状態で行う。水素ガスが共存しない
と、脱水素反応が進行しにくいからである。
水素ガスは、純水素ガス、窒素ガス等の不活性ガスを含
む混合ガス等を用いてもよいが、本発明の脱水素方法で
副生ずる水素ガスをリサイクルして用いると、コスト面
、プロセス面にも有利であり好ましい。
さらにシクロヘキセノンの脱水素生成物であるフェノー
ルの収率を高めるためには、■ベンゼンの生成、 ■シクロヘキセノンの縮合によるタールの生成、 ■水添生成物であるシクロヘキサノン、シクロヘキサノ
ールの生成、 を抑制しなければならない。
このため、本発明方法は好ましくは下記の条件とするの
が良い。
(1)触媒は、担体に白金酸水溶液等を用いて塩化白金
を担持し、更にその上にに2C03等のアルカリ金属化
合物を担持したものを還元処理して調製される。 担持
される白金量は、白金/担体+触媒で、0.2〜10w
t%、好ましくは0.5〜5wt%であるのが良い。 
活性とコストの点から上記範囲が選ばれる。
担持されるアルカリ金属は、Na、に等が例示され、ア
ルカリ金属量は、KxCOs/白金換算で0.2〜3.
0重量比の範囲が望ましい。
上記範囲が選ばれるのは、シクロヘキセノンの縮合が起
きタールが生成すると同時にベンゼンの生成量も増える
こと、および触媒の活性が低下するのをさけるためであ
る。
触媒の詳細な構造は不明であるが、白金は還元により金
属として担持され、アルカリ金属は塩(例えばに2CO
3)の形または酸化物(例えばに20)の形で担持され
ていると考えられる。
(2)以上の触媒を担持する担体は、シリカ、シリカ−
アルミナまたはアルミナが好ましく、担体中のアルカリ
金属および/またはアルカリ土類金属の含有率は、Na
2O換算で0.5〜2.0wt%が好ましい。
この範囲内では、ベンゼンの生成やシクロヘキセノンの
縮合が少ない。
(3)シクロヘキセノンを上記の触媒を充填した充填塔
に流通させる際には水素も同時に流通させる。 水素の
供給量は、シクロヘキセノン供給量に対し、0.5〜4
.0(モル比)が望ましい。 このモル比が0.5以上
であると、シクロヘキセンの縮合反応が起きにくくなり
、逆に4.0以下であると、水添生成物であるシクロヘ
キサノン、シクロヘキサノールの副生成量が少なく、蒸
留時の精製が容易である。
(4)シクロヘキセノンの流量は、好ましくはLHSV
o、01〜10hr−’、より好ましくは0.1〜5h
r−’とする。  0.01hr−’未満では、処理で
きる量が少なすぎ、10hr−’超では、転化率が低下
しすぎるためである。
(5)反応温度は、300〜500℃、より好ましくは
350〜450℃とするのが良い。
この範囲内が最も収率が高い。 反応温度が低いと転化
率が低下し、反応温度が高すぎるとタールの生成量が多
くなる。
(6)反応圧力は常圧以上であれば良い。
(7)本発明方法に用いる反応装置は、第1図に示す連
続反応装置を例に挙げることができるがこれに限定され
るものではない。
第1図に示す装置は、白金およびアルカリ金属触媒を担
持したシリカ等の粒体触媒5を充填した反応器10と、
フェノール分離器11と、必要により設ける水素ガス洗
浄器12と、これらの機器間を連通ずる配管3とを有す
る。
反応器10は、上部にシクロヘキセノンを主体とする原
料ガス1と、水素ガス2の供給口を有し、下部にシクロ
ヘキセノンの脱水素反応後の製品ガスの排出口を有する
。
原料ガス1と水素ガス2は、適切温度に保持された反応
器10内を流下し、触媒5に接触して脱水素され、蒸留
器等のフェノール分離器11内に入る。 ここでフェノ
ール4は分離されて回収される。
一方水素ガス2は、配管3により再び反応器10にもど
されてリサイクルされる。 水素ガス2は、リサイクル
の途中で、水素ガス洗浄器12等により洗浄等のIA埋
をされてもよい。
〈実施例〉 以下に実施例により、本発明を更に具体的に説明する。
(実施例1) 六塩化白金酸・六水和物1.08gをイオン交換水60
mj!に溶解させ、ここにNa2O含有率i、o%のシ
リカ担体40gを加え、室温で2時間攪拌した後12時
間放置した。 その後、エバポレーターで水を除去し、
110℃の電気乾燥器で12時間乾燥させた。
次いで、炭酸カリウム0.20gをアセトン30%、水
70%の混合溶媒40mftに溶解させ、上記の触媒を
加え、室温で2時間攪拌した後、12時間放置した。 
その後、エバポレーターで水を除去し、110℃の電気
乾燥器で12時間乾燥させた。 得られた触媒は、0.
9wt%白金、0.5wt%に、CO,/シリカであっ
た。
鋼製の流通法の反応器に上記の触媒20mJ2を充填し
、10 fL / h r程度の速度で水素を流しなが
ら、400℃で10時時間光処理を行った。
次いで、反応温度400℃、圧力常圧、シクロヘキセノ
ンのLHSV=0.5hr−”、反応器入口での水素/
シクロヘキセノン(モル比)士2の反応条件で、シクロ
ヘキセノンを流通させた。
反応器の出口から得られた生成物をガスクロマトグラフ
ィーによって定量分析を行なった。
反応液の組成(モル%)は以下の通りであった。
フェノール        97.4%シクロヘキサノ
ール     0.1%シク・口へキサノン     
 0.7%ベンゼン       1.8% そ  の  他                 0
 、1 %(実施例2) 実施例1のに2CO3の量を0.20gからo、aog
に変更した触媒を調製して、実施例1の反応条件で、シ
クロヘキセノンの脱水素を行なった。 触媒は、0.9
wt%白金、2.0wt%に*COs/シリカであった
。 その結果、反応液の組成(モル%)は以下の通りで
あった。
フェノール        96.8%シクロヘキサノ
ール     081%シクロへキサノン      
1.5%ベンゼン       1.2% シクロへキセノン      0.1%そ  の  他
                0 、3 %(実施
例3) 実施例1の触媒を用いて、実施例1の反応条件の反応温
度を390℃、水素/シクロヘキセノン(モル比)を0
.5に変更してシクロヘキセノンの脱水素反応を試みた
。
その結果、反応液の組成(モル%)は、以下の通りであ
った。
フェノール        96.2%シクロヘキサノ
ール     0.1%シクロへキサノン      
0.6%ベンゼン       2.5% シクロへキセノン      0.1%そ  の  他
                0. 5 %(実施
例4) 実施例1の触媒を用いて、実施例1の反応条件の反応温
度を410℃、水素/シクロヘキセノン(モル比)を4
.0に変更して、シクロヘキセノンの脱水素反応を行っ
た。
その結果、反応液の組成(モル%)は、以下の通りであ
った。
フェノール        96.4%シクロヘキサノ
ール     0.1%シクロへキサノン      
0.3%ベンゼン       3.0% そ  の  他                 0
 、2 %(比較例1) カリウムが担持されていない以外は、実施例1と同様の
触媒を用いて、実施例1の反応条件で・、シクロヘキセ
ノンの脱水素を行なった。
その結果、反応液の組成(モル%)は、以下の通りとな
り、ベンゼンの生成量及び、タール生成量が増え、フェ
ノール収率が低下した。
フェノール        86.3%シクロヘキサノ
ール     0.1%シクロへキサノン      
4.8%ベンゼン       3.5% シクロへキセノン      0.3%その他(タール
含む)     5.0%〈発明の効果〉 本発明法は、固体触媒を用いる気相法によるシクロヘキ
・セノンの脱水素方法であり、下記の効果を有する。
■気相法であるので、触媒除去等の後処理を必要としな
い。
■反応が触媒反応で進行するので、製造コスト(特に原
材料費)が安くなる。
■フェノールの収率が高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明方法に用いる装置の1例を説明する線
図である。 符号の説明 1・・・原料ガス、 2・・・水素ガス、 3・・・配管、 4・・・フェノール、 5・・・触媒、 10・・・反応器、 11・・・フェノール分離器、 12・・・水素ガス洗浄器

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)白金およびアルカリ金属担持固相触媒を用いて、
    水素共存下に気相で反応させることを特徴とするシクロ
    ヘキセノンの脱水素方法。
  2. (2)前記白金およびアルカリ金属担持触媒の担体が、
    シリカ、シリカ−アルミナまたはアルミナであり、前記
    担体中のアルカリ金属および/またはアルカリ土類金属
    含有率がNa_2O換算で0.5〜2.0wt%である
    特許請求の範囲第1項に記載のシクロヘキセノンの脱水
    素方法。
  3. (3)前記白金およびアルカリ金属担持触媒の白金量が
    白金/担体+触媒で、0.2〜10wt%であり、アル
    カリ金属量がK_2CO_3/白金換算で0.2〜3.
    0重量比である特許請求の範囲第1項または第2項に記
    載のシクロヘキセノンの脱水素方法。
  4. (4)前記共存水素の量が、水素/シクロヘキセノン(
    モル比)で、0.5〜4である特許請求の範囲第1項な
    いし第3項のいずれかに記載のシクロヘキセノンの脱水
    素方法。
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