JP2003262243A - 動力伝達装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 摩擦力を増加するとともに摩擦パッドの摩耗
を小さくすることにより長寿命で小型化した動力伝達装
置を得ることを目的とする。 【解決手段】 制動装置１は、回転軸２の周方向に沿っ
て形成された回転面２０を有し、この回転軸２に固定さ
れた回転ディスク３と、この回転面２０に対向した圧接
面１０を有し、この圧接面１０が回転面２０に圧接され
て摩擦力を発生する摩擦パッド５とを備えている。ま
た、制動装置１は、摩擦パッド５を往復移動させるため
にアーマチュア１１、押圧ばね１２及び電磁マグネット
１３を有する駆動部６を備えている。回転面２０は、表
面粗さが算術平均粗さＲａで最大０．１μｍの平滑面と
なっている。従って、圧接面１０が回転面２０に圧接す
ると、接触面積が増加して摩擦係数が大きくなるととも
に、摩擦パッド５の摩耗質量は少なくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばクラッチ
あるいはブレーキ等の動力伝達装置に関し、特に摩擦に
より動力を伝達する動力伝達装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図５は、従来の動力伝達装置である制動
装置の構成を示す模式図である。図５において、制動装
置１００は、軸線を中心として回転する軸である回転軸
２に固定されて、この回転軸２とともに回転する円板状
の移動部である回転ディスク３と、この回転ディスク３
の側面４に対向して配置され、回転ディスク３に向かっ
て移動しこの側面４に圧接する圧接面１０を有する圧接
部である摩擦パッド５とを備えている。また、制動装置
１００は、摩擦パッド５を支持固定するとともに、この
摩擦パッド５を駆動し往復移動させて回転ディスク３と
圧接あるいは離間させる駆動部６を備えている。

【０００３】回転ディスク３の中心には、回転軸２が垂
直に貫通して固定されている。従って、回転軸２が軸線
を中心に回転しても、回転ディスク３の側面４が蛇行す
ることなく滑らかに回転するようになっている。回転デ
ィスク３の材質は、例えばロックウエル硬度ＨＲＣ２０
の鋳鉄である鉄系材料である。この回転ディスク３の側
面４は、所定の摩擦係数を確保するために、表面粗さが
１〜５μｍ程度に設定されている。これは、側面４に摩
擦パッド５の圧接面１０を圧接したときに、側面４に複
数形成されている凸部４ａが圧接面１０に接触し少し食
い込むことにより抵抗力を発生し、この抵抗力を側面４
と圧接面１０との間に発生する摩擦力として作用させる
ためである。従って、回転ディスク３は、側面４が圧接
面１０に圧接されることにより、側面４と圧接面１０と
の間に摩擦力を発生させ、回転ディスク３の回転力を摩
擦パッド５に伝達するようになっている。

【０００４】摩擦パッド５は、回転ディスク３よりも軟
質の例えばロックウエル硬度ＨＲＭ１５のフェノール樹
脂モールドの有機系摩擦材で作製されており、その圧接
面１０は、側面４を圧接することによりその凸部４ａの
形状に沿って多少変形するようになっている。

【０００５】駆動部６は、摩擦パッド５が固定されてい
る磁性体であるアーマチュア１１と、このアーマチュア
１１に接続され、アーマチュア１１に固定された摩擦パ
ッド５を回転ディスク３に押圧する向きに付勢する押圧
ばね１２と、通電によりこの押圧ばね１２が付勢する向
きに抗してアーマチュア１１を吸引する電磁力を発生す
る電磁マグネット１３とを有している。従って、摩擦パ
ッド５は、電磁マグネット１３が通電されず電磁力を発
生していないときにこの押圧ばね１２の付勢力によって
側面４に圧接され、電磁マグネット１３に通電されたと
きにこの電磁力によって側面４から離間するようになっ
ている。また、この駆動部６は、構造物１４に固定され
ており、摩擦パッド５が回転ディスク３の回転方向には
移動しないようになっている。

【０００６】このように構成された動力伝達装置１００
は、以下のように動作する。即ち、通電により電磁マグ
ネット１３に電磁力が発生しているときには、アーマチ
ュア１１が押圧ばね１２の付勢力に抗してこの電磁マグ
ネット１３に吸引されるので、摩擦パッド５の圧接面１
０は回転ディスク３から離間している。このときは、回
転軸２に回転力が働いている場合、この回転軸２は回転
ディスク３とともに回転する。

【０００７】電磁マグネット１３への通電が遮断される
と、アーマチュア１１は電磁マグネット１３による吸引
力がなくなるので、押圧ばね１２の付勢力によってアー
マチュア１１が回転ディスク３に移動し、摩擦パッド５
の圧接面１０が回転ディスク３の側面４に圧接する。

【０００８】摩擦パッド５の圧接面１０が回転ディスク
３の側面４に圧接されると、側面４の複数の凸部４ａが
圧接面１０に少し食い込み、回転ディスク３の回転力に
よって圧接面１０が少しずつ削り取られる。このときに
発生する抵抗力が側面４と圧接面１０との間の摩擦力と
して作用し、回転ディスク３の回転力が摩擦パッド５に
伝達される。摩擦パッド５は構造物１４に固定された駆
動部６に固定されているので、回転ディスク３とともに
回転することはなく、結果としてこの摩擦パッド５が回
転ディスク３に制動力を与える。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このようにして、この
制動装置１００は、回転ディスク３の側面４における複
数の凸部４ａが摩擦パッド５の圧接面１０を削り取るこ
とによって、回転ディスク３と摩擦パッド５との間の摩
擦力を確保しているので、どうしても短時間で摩擦パッ
ド５の摩耗が大きくなる。摩擦パッド５が大きく摩耗す
ると厚さが小さくなるので、アーマチュア１１が電磁マ
グネット１３に吸着された状態での側面４と圧接面１０
との間の距離は大きくなる。このことから、押圧ばね１
２は摩擦パッド５を側面４に向けてさらに大きくなった
距離を移動させることになり、その分だけ押圧する力が
小さくなる。圧接面１０の押圧力が小さくなると、複数
の凸部４ａが圧接面１０に食い込む力が小さくなり、圧
接面１０を削り取ることによって発生する摩擦力も小さ
くなる。従って、この制動装置１００は、使用され始め
た当初は摩擦パッド５の摩耗が大きく、このことにより
短時間で摩擦パッド５がすり減り、回転ディスク３と摩
擦パッド５との間の摩擦力が低下することから、摩擦パ
ッド５を頻繁に取り換える必要があり、ランニングコス
トが高くなるという問題点があった。また、摩擦パッド
５の摩耗により、アーマチュア１１の往復移動距離も大
きくなることから押圧ばね１２及び電磁マグネット１３
等に負担がかかることによって駆動部６等の寿命が短く
なるという問題点があった。

【００１０】また、側面４と圧接面１０との間の摩擦力
をさらに大きくして動力伝達を効率的にするために、圧
接面１０にかかる押圧力を大きくすることは、駆動部６
の押圧ばね１２及び電磁マグネット１３等の大型化につ
ながる。逆に、圧接面１０にかかる押圧力をそのままに
しておいてさらに側面４の算術平均粗さＲａを大きくし
て摩擦力を大きくすることは、凸部４ａが圧接面１０を
削り取る量が多くなり、さらにランニングコストが高く
なり寿命が短くなってしまうという問題点もあった。

【００１１】そこでこの発明は、上記のような問題点を
解決することを課題とするもので、摩擦力を増加すると
ともに摩擦パッドの摩耗を小さくすることにより長寿命
で小型化した動力伝達装置を得ることを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この発明に係る動力伝達
装置は、接触面を有し、移動可能な移動部と、前記接触
面に対向して設けられ、前記接触面に圧接して前記接触
面との間に摩擦力を発生する圧接面を有し、前記摩擦力
により前記移動部の移動力が伝達される圧接部とを備え
た動力伝達装置であって、前記接触面及び前記圧接面の
うち硬い側の一方の面は、前記圧接面が前記接触面に圧
接した状態における摩擦係数が前記一方の面の表面粗さ
との関係において大きい前記表面粗さの範囲であって、
かつ、他方の面の摩耗を小さくし得る平滑面となってい
る。

【００１３】また、前記他方の面は、前記一方の面とほ
ぼ同一の平滑面となっている。

【００１４】また、前記移動部及び前記圧接部のうち、
一方側の材質が鉄系金属で、他方側の材質が有機系摩擦
材であり、前記一方側の前記平滑面の表面粗さは、算出
平均粗さで最大０．１μｍとなっている。

【００１５】また、前記移動部は、前記軸に設けられた
母材と、前記母材の表面をコーティングする前記母材よ
りも高い耐食性を有した防護膜とを有し、前記防護膜
は、その表面が少なくとも前記平滑面を形成している。

【００１６】また、前記移動部は、軸線を中心として回
転可能な軸に設けられ、前記接触面は、軸線を中心とし
て回転可能な軸の周囲に前記軸線の周方向に沿って形成
されており、前記移動部は、前記軸に設けられることに
より前記接触面とともに前記軸の回転により回転するよ
うになっている。

【００１７】また、かごの昇降を制動するエレベータの
制動装置である。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下にこの発明の実施の形態につ
いて説明するが、従来例のものと同一又は同等部材、部
位は、同一符号を付して説明する。 実施の形態１．図１は、この発明の実施の形態１に係る
動力伝達装置の構成を示す模式図である。図１におい
て、動力伝達装置である制動装置１は、回転軸２の軸線
周りに沿って形成された接触面である回転面２０を有し
た回転ディスク３を備えている。回転面２０は、側面４
の一部に形成されている。この回転面２０は、摩擦パッ
ド５の圧接面１０に対向して配置され、この圧接面１０
が回転面２０を圧接するようになっている。回転面２０
は、表面粗さが例えば算術平均粗さＲａで表したときに
０．１μｍである平滑面となっている。この回転面２０
は、例えば研削加工、バフ加工あるいはラップ加工等の
機械加工、又はエッチングあるいは電界研磨等の化学研
磨等の加工法により形成される。他の構成及び動作は従
来例と同様である。

【００１９】図２は、回転面２０の算術平均粗さＲａと
この回転面２０に圧接面１０が圧接されたときの静摩擦
係数あるいは動摩擦係数との関係を示すグラフである。
ここで、静摩擦係数は、圧接面１０が回転面２０を圧接
して回転ディスク３を静止させている状態から回転ディ
スク３の回転力がその状態における摩擦力に打ち勝って
回転し始めるまでの最大の摩擦係数の値であり、動摩擦
係数は、回転ディスク３が圧接面１０に圧接されながら
回転している状態での摩擦係数の値である。また、摩擦
係数は、回転面２０と圧接面１０との間における回転デ
ィスク３の回転方向の摩擦力を圧接面１０に印加される
押圧力で除した値である。なお、圧接面１０の状態、圧
接面１０が回転面２０に圧接する押圧力、及び回転ディ
スク３の回転数は、それぞれすべて同一条件となってい
る。図２においては、静摩擦係数及び動摩擦係数は、摩
擦係数増加率としてそれぞれ示されている。この摩擦係
数増加率は、回転面２０の算術平均粗さＲａが２．７μ
ｍのときの静摩擦係数の値及び動摩擦係数の値をそれぞ
れ１とした場合に各算術平均粗さＲａでの静摩擦係数の
値及び動摩擦係数の値をそれぞれその相対値として示す
ものである。この算術平均粗さＲａが２．７μｍである
回転ディスク３は、従来例の回転ディスクのうちの１つ
であり、このときの静摩擦係数及び動摩擦係数を基準と
することにより、従来例との比較を行うことができる。

【００２０】図２に示すように、実験値としての誤差が
あるものの、回転面２０の算術平均粗さＲａが小さくな
るに従って、静摩擦係数の摩擦係数増加率及び動摩擦係
数の摩擦係数増加率の何れもが大きくなる傾向にある。
特に、算術平均粗さＲａが０．０２５μｍでは、静摩擦
係数及び動摩擦係数ともに摩擦係数増加率が完全に基準
の摩擦係数増加率１よりも大きい値となっている。従っ
て、図２における摩擦係数増加率の変化の傾向から、回
転面２０の算術平均粗さＲａが最大０．１μｍであれば
従来例よりも大きな静摩擦係数及び動摩擦係数が得られ
る。これは、圧接面１０と接触する回転面２０の表面粗
さが小さくなったことにより、圧接面１０と回転面２０
との間で互いに接触する部分が多くなり接触面積が増大
したことによる。

【００２１】また、図３は、基準の表面粗さの回転面に
摩擦パッド５が圧接したときの摩擦パッド５の摩耗質量
と算術平均粗さＲａが０．０２５μｍの回転面に摩擦パ
ッド５が圧接したときの摩擦パッド５の摩耗質量との比
較を示すグラフである。ここで、基準の表面粗さは、従
来例である２．７μｍの算術平均粗さＲａである。ま
た、圧接面１０が回転面に印加する押圧力等の条件は図
２において適用された条件と同様であり、圧接面１０を
回転面に圧接させる時間も同一条件としている。また、
算術平均粗さＲａが０．０２５μｍの回転面に圧接した
ときの摩擦パッド５の摩耗質量は、基準の表面粗さの回
転面に圧接したときの摩擦パッド５の摩耗質量を１とし
たときの相対値、即ち摩擦パッド摩耗質量比で表してい
る。

【００２２】図３からも明らかなように、算術平均粗さ
Ｒａが０．０２５μｍの回転面に圧接面１０を圧接した
場合は、基準の表面粗さの回転面に圧接面１０を圧接し
た場合よりも摩擦パッド５の摩耗質量は少なくなる。こ
れは、回転面の表面粗さが小さくなることにより、圧接
面１０を削り取る深さが小さくなったことによる。即
ち、表面粗さが小さくなることによって回転面に形成さ
れた複数の凸部の高さが低くなり、この複数の凸部が低
くなることによって圧接面１０に食い込む深さが小さく
なることによる。このような傾向から、当然のことなが
ら、この実施の形態における算術平均粗さＲａが０．１
μｍの回転面２０に圧接面１０を圧接したときには、従
来例である基準の表面粗さの回転面に圧接面１０を圧接
したときよりも発生する摩擦パッド５の摩耗質量が少な
くなる。

【００２３】従って、回転ディスク３の回転面２０の算
術平均粗さＲａが０．１μｍあるいはそれ以下であれ
ば、上記図２についての説明により、圧接面１０が圧接
した状態における静摩擦係数及び動摩擦係数の両方とも
従来例よりも大きくなり、しかも上記図３についての説
明により、この状態で発生する摩擦パッド５の摩耗質量
は従来例よりも少なくなる。

【００２４】このことから、回転ディスク３の制動に必
要な所定の摩擦力を発生させるために圧接面１０に印加
する押圧力を低減できるので、制動装置１は、機構部６
の押圧ばね１２及び電磁マグネット１３等を小型化する
ことができ、機構部６の設置スペースを小さくできると
ともに小型化によってコストも低減できる。

【００２５】またそれとともに、摩擦パッド５の摩耗質
量も少なくなるので、摩擦パッド５を取り換える頻度も
減ってランニングコストが低減するとともに、駆動部６
の負担の減少等によりこの制動装置１の寿命も長くな
る。

【００２６】なお、上記実施の形態においては、回転デ
ィスク３の材質は鋳鉄であるが、摩擦パッド５よりも硬
い材質であればよいので、これに限定する必要はなく、
ステンレス等の鉄系金属、アルミあるいは銅等の非鉄系
金属、又はセラミック等でも構わない。

【００２７】また、上記実施の形態においては、摩擦パ
ッド５の材質はフェノール樹脂モールドの有機系摩擦材
であるが、回転ディスク３よりも軟らかくある程度の抵
抗力を発生する摩擦材であればよいので、これに限定す
る必要はなく、例えば金属を多く含むメタリック系摩擦
材等であっても構わない。

【００２８】また、回転面２０だけでなく、摩擦パッド
５の表面粗さも小さくしてよい。このようにすれば、さ
らに回転面２０と圧接面１０との接触面積が増大して、
圧接面１０が回転面２０に圧接した状態における摩擦係
数がさらに大きくなる。

【００２９】また、回転ディスク及び摩擦パッドは、回
転ディスクの材質と摩擦パッドの材質とが入れ代わって
いても構わない。この場合、硬い側の摩擦パッドの圧接
面が算術平均粗さＲａが最大０．１μｍの平滑面となる
ようにする。

【００３０】実施の形態２．図４は、この発明の実施の
形態２に係る動力伝達装置の構成を示す模式図である。
図４において、動力伝達装置である制動装置３０は、回
転軸２に設けられた母材である回転円板３１と、この回
転円板３１の表面をコーティングする防護膜３２とを有
する回転ディスク３を備えている。回転円板３１の材質
は、鋳鉄である。回転円板３１は、その中心に回転軸２
が垂直に固定されている。回転円板３１は、その摩擦パ
ッド５側に膜形成面３３を有しており、この膜形成面３
３上に防護膜３２が形成されている。防護膜３２の材質
は、酸化等による腐食に対して回転円板３１よりも高い
耐食性を有する材質である。また、防護膜３２の材質
は、摩擦パッド５よりも硬い材質であり、さらに回転円
板３１よりも硬い材質が望ましい。従って、この防護膜
３２は、例えば無電解ニッケルメッキ、クロムメッキ、
セラミック溶射被膜あるいは窒化膜等であればよい。こ
の防護膜３２は、摩擦パッド５側に圧接面１０が圧接す
る接触面である回転面３４を有している。回転面３４
は、回転軸２の軸線周りに沿って形成され、算術平均粗
さＲａが０．１μｍの平滑面となっている。他の構成及
び動作は実施の形態１と同様である。

【００３１】この防護膜３２は、回転円板３１の膜形成
面３３に形成された後、摩擦パッド５の圧接面１０に対
向した面が、例えば研削加工、バフ加工あるいはラップ
加工等の機械加工、又はエッチングあるいは電界研磨等
の化学研磨等の加工法により平滑にされ、回転面３４と
して仕上げられる。このとき、圧接面１０に対向した面
を削りすぎて回転円板３１の膜形成面３３が露出しない
ようにしておく。なお、防護膜３２を形成する前に、上
記の加工法により膜形成面３３を平滑に仕上げておき、
その後、防護膜３２を均等厚に形成しても構わない。

【００３２】このように構成された制動装置３０は、実
施の形態１と同様の効果を奏するとともに、回転ディス
ク３が耐食性に優れた防護膜３２を有し、この防護膜３
２の表面に回転面３４が形成されているので、回転面３
４が腐食されることによりその表面粗さが増大すること
が抑制され、圧接面１０と回転面３４との間の静摩擦係
数及び動摩擦係数が小さくなることを抑制することがで
きる。特に、工場地帯あるいは温泉地等のように多湿あ
るいは硫化水素等の腐食性ガスが多く含有される雰囲気
中では、上記効果が顕著に現れる。

【００３３】なお、上記各実施の形態における制動装置
をかごが昇降するエレベータに用いてもよい。この場
合、回転軸２は、かごに接続されたロープが巻き掛けさ
れたシーブの中心軸あるいは巻上機の主軸等に軸線を一
致させて固定され、この回転軸２がかごの昇降に連動し
て回転するようになっている。このようにすると、例え
ばかごの停止状態を保持するための圧接面１０の押圧力
が小さくなるので、制動装置自体が小型化され、設置ス
ペースが削減できる。それとともに、摩擦パッド５の摩
耗質量も少なくなるので、この制動装置の維持、管理等
の負担も少なくなる。

【００３４】また、上記各実施の形態において、動力伝
達装置は回転ディスク３を有したディスク型の制動装置
となっているが、回転面に摩擦パッドを圧接しすること
により摩擦力を発生して動力伝達するものであれば上記
効果を奏するので、例えば一部が回転面となっているド
ラムを有したドラム型の制動装置でもよく、また制動装
置に限定する必要もなく、例えば摩擦クラッチ等であっ
ても構わない。さらに、接触面は回転面に限定する必要
はなく、移動部の動力を圧接面が接触面に圧接されて発
生する摩擦力により伝達するものであればよいので、例
えば直線に沿った面で、往復移動する移動部の動力を伝
達する動力伝達装置であっても構わない。

【００３５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明に係る動力伝達装置は、接触面を有し、移動可能な移
動部と、前記接触面に対向して設けられ、前記接触面に
圧接して前記接触面との間に摩擦力を発生する圧接面を
有し、前記摩擦力により前記移動部の移動力が伝達され
る圧接部とを備えた動力伝達装置であって、前記接触面
及び前記圧接面のうち硬い側の一方の面は、前記圧接面
が前記接触面に圧接した状態における摩擦係数が前記一
方の面の表面粗さとの関係において大きい前記表面粗さ
の範囲であって、かつ、他方の面の摩耗を小さくし得る
平滑面となっているので、所定の摩擦力を得るために前
記圧接面を前記接触面に圧接する押圧力が小さくなると
ともに、前記他方の面を有した部材の寿命が長くなり、
前記部材の取り換え頻度を低減することができる。

【００３６】また、前記他方の面は、前記一方の面とほ
ぼ同一の平滑面となっているので、さらに前記一方の面
と前記他方の面との接触面積が大きくなり、前記摩擦係
数がさらに大きくなるとともに前記他方の面の摩耗がさ
らに小さくなる。

【００３７】また、前記移動部及び前記圧接部のうち、
一方側の材質が鉄系金属で、他方側の材質が有機系摩擦
材であり、前記一方側の前記平滑面の表面粗さは、算出
平均粗さで最大０．１μｍとなっているので、所定の摩
擦力を得るために前記圧接面を前記接触面に圧接する押
圧力が小さくなるとともに、前記他方の面を有した部材
の寿命が長くなり、前記部材の取り換え頻度を低減する
ことができる。

【００３８】また、前記移動部は、前記軸に設けられた
母材と、前記母材の表面をコーティングする前記母材よ
りも高い耐食性を有した防護膜とを有し、前記防護膜
は、その表面が少なくとも前記平滑面を形成しているの
で、前記接触面の腐食を抑制して前記接触面の表面粗さ
が大きくなることを抑制することができる。

【００３９】また、前記移動部は、軸線を中心として回
転可能な軸に設けられ、前記接触面は、軸線を中心とし
て回転可能な軸の周囲に前記軸線の周方向に沿って形成
されており、前記移動部は、前記軸に設けられることに
より前記接触面とともに前記軸の回転により回転するよ
うになっているので、容易に連続的に動力伝達をするこ
とができる。

【００４０】また、かごの昇降を制動するエレベータの
制動装置であるので、前記かごの停止状態を保持するた
めに必要な前記圧接部の押圧力が小さくなり小型化でき
るとともに、前記圧接部の摩耗質量の減少により、維
持、管理等の負担が軽減し、ランニングコストも低減す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１に係る動力伝達装置
の構成を示す模式図である。

【図２】 回転面の算術平均粗さＲａとこの回転面に圧
接面が圧接されたときの静摩擦係数あるいは動摩擦係数
との関係を示すグラフである。

【図３】 算術平均粗さＲａで２．７μｍの表面粗さの
回転面に摩擦パッドが圧接したときの摩擦パッドの摩耗
質量と算術平均粗さＲａで０．０２５μｍの表面粗さの
回転面に摩擦パッドが圧接したときの摩擦パッドの摩耗
質量との比較を示すグラフである。

【図４】 この発明の実施の形態２に係る動力伝達装置
の構成を示す模式図である。

【図５】 従来の動力伝達装置である制動装置の構成を
示す模式図である。

【符号の説明】

１，３０ 制動装置（動力伝達装置）、２ 回転軸
（軸）、３ 回転ディスク（移動部）、５ 摩擦パッド
（圧接部）、２０，３４ 回転面（接触面）、３１回転
円板（母材）、３２ 防護膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸山 直之 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 3F306 AA07 BA09 3J056 AA58 AA62 BA02 BC02 CA04 CA16 EA03 FA05 GA01 3J058 AA47 AA57 AA78 AA88 BA41 BA67 BA68 CA42 CB27 EA12 EA32 FA37 GA04 GA92 GA93

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 接触面を有し、移動可能な移動部と、 前記接触面に対向して設けられ、前記接触面に圧接して
   前記接触面との間に摩擦力を発生する圧接面を有し、前
   記摩擦力により前記移動部の移動力が伝達される圧接部
   とを備えた動力伝達装置であって、 前記接触面及び前記圧接面のうち硬い側の一方の面は、
   前記圧接面が前記接触面に圧接した状態における摩擦係
   数が前記一方の面の表面粗さとの関係において大きい前
   記表面粗さの範囲であって、かつ、他方の面の摩耗を小
   さくし得る平滑面となっていることを特徴とする動力伝
   達装置。
2. 【請求項２】 前記他方の面は、前記一方の面とほぼ同
   一の平滑面となっていることを特徴とする請求項１に記
   載の動力伝達装置。
3. 【請求項３】 前記移動部及び前記圧接部のうち、一方
   側の材質が鉄系金属で、他方側の材質が有機系摩擦材で
   あり、 前記一方側の前記平滑面の表面粗さは、算出平均粗さで
   最大０．１μｍとなっていることを特徴とする請求項１
   又は請求項２に記載の動力伝達装置。
4. 【請求項４】 前記移動部は、前記軸に設けられた母材
   と、前記母材の表面をコーティングする前記母材よりも
   高い耐食性を有した防護膜とを有し、 前記防護膜は、その表面が少なくとも前記平滑面を形成
   していることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れ
   かに記載の動力伝達装置。
5. 【請求項５】 前記移動部は、軸線を中心として回転可
   能な軸に設けられ、前記接触面は、軸線を中心として回
   転可能な軸の周囲に前記軸線の周方向に沿って形成され
   ており、 前記移動部は、前記軸に設けられることにより前記接触
   面とともに前記軸の回転により回転するようになってい
   ることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れかに記
   載の動力伝達装置。
6. 【請求項６】 かごの昇降を制動するエレベータの制動
   装置であることを特徴とする請求項５に記載の動力伝達
   装置。