JP2003262879A

JP2003262879A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JP2003262879A
Application number: JP2002062350A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Hayashi; 博司林
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2002-03-07
Filing date: 2002-03-07
Publication date: 2003-09-19

Abstract

(57)【要約】【課題】タッチパネルを有する液晶表示装置の視
野角（特に下方向視野角）を拡大し、液晶表示装置に視
角変化によるコントラスト低下が発生しないようにす
る。【解決手段】液晶セル、λ／４板および直線偏光膜を
この順序で有する液晶表示装置に、さらに、透明支持体
とディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層と
を有し、特定の光学異方性を示す光学補償シートと、少
なくとも片面に透明導電膜が設けられた２枚の透明導電
性基板が透明導電膜同士が対向するように配置されたタ
ッチパネルとを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セル、λ／４
板、直線偏光膜、光学補償シートおよびタッチパネルを
有するタッチパネル型の液晶表示装置に関する。特に本
発明は、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend)モー
ド、ＨＡＮ(Hybrid Aligned Nematic)モード、ＴＮ(Twi
sted Nematic）モードまたはＥＣＢ(Electrically Cont
rolled Birefringence）モードからなる液晶セルに印加
される電圧の変化によって、液晶セル基板に対するネマ
チック液晶の配向ベクトルの角度が変化するタッチパネ
ル型の液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）は、ＣＲＴ(Cat
hode Ray Tube)と比較して、薄型、軽量、低消費電力と
の優れた特徴をもち、広範囲に使用されている。現在最
も普及しているのは、ねじれネマティック液晶を使用す
るＴＮ方式(Twisted Nematicmode）である。

【０００３】液晶表示装置を用いるような小型で携帯可
能なコンピュータでは、入力装置として、キーボードに
代えてタッチパネルを用いる場合が多い。タッチパネル
は、液晶表示装置に組み込んで使用する。タッチパネル
には、抵抗膜方式、光学式、静電容量式、超音波式や電
磁誘導式のような様々な方式がある。抵抗膜方式は、比
較的低コストで、薄型軽量化が容易であるという特徴を
有しており、ディスプレイの表面に装着するだけで外部
入力が可能になるため、現在、携帯機器を中心にして広
く用いられている。この方式のタッチパネルは、透明導
電層付き固定基板と透明導電膜付き可動基板が、透明導
電膜同士が向かい合って空間を介して配置されており、
押圧によって２つの透明導電膜が接触した際の、接触位
置または抵抗値から、位置を検出する。

【０００４】通常、タッチパネルは、ディスプレイ表面
に装着されるが、この場合、空気層が２層となり、各空
気界面での反射による視認性の低下が著しく、さらに装
置自体が厚くなるという問題点があった。これに対し
て、特開平５−１２７８２２号公報、および月刊ディス
プレイ１９９９年１月号６９頁に偏光板と液晶セルの間
に抵抗膜式タッチパネルの機能を挿入したインナー型タ
ッチパネルの提案がされており、空気層が１層になる事
と、さらにλ／４板と組み合わせることで、界面反射が
著しく低減され、視認性が向上する。

【０００５】タッチパネルに用いるλ／４板は、広い波
長範囲においてλ／４を達成している（広帯域λ／４板
である）ことが望ましい。広帯域λ／４板については、
特開平５−２７１１８号および同５−２７１１９号の各
公報に、レターデーションが大きい複屈折性フイルム
と、レターデーションが小さい複屈折率フイルムとを、
それらの光軸が直交するように積層させた位相差板が開
示されている。二枚のフイルムのレターデーションの差
が可視光域の全体にわたりλ／４であれば、位相差板は
理論的には、可視光域の全体にわたりλ／４して機能す
る。

【０００６】特開平１０−６８８１６号公報には、特定
波長においてλ／２となっているポリマーフイルムと、
それと同一材料からなり同じ波長においてλ／４となっ
ているポリマーフイルムとを積層させて、広い波長領域
でλ／４が得られる位相差板が開示されている。特開平
１０−９０５２１号公報にも、二枚のポリマーフイルム
を積層することにより広い波長領域でλ／４を達成でき
る位相差板が開示されている。特開２０００−１３７１
１６号公報には、ポリマーフイルムを一枚用いた広帯域
λ／４板が開示されている。さらに、特開２０００−１
１２６６３号公報には、広帯域λ／４板を用いたタッチ
パネルが開示されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】広帯域λ／４板をタッ
チパネルに用いることで、タッチパネルの視認性が改善
できる。しかし、本発明者が研究を進めた結果、λ／４
板の改良（広帯域λ／４板の使用）だけでは、視認性の
改善が不充分であっった。本発明の目的は、タッチパネ
ルを有する液晶表示装置の視野角（特に下方向視野角）
を拡大し、視角変化によるコントラスト低下の発生しな
い液晶表示装置を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
液晶表示装置により達成された。

【０００９】（１）液晶セル、λ／４板および直線偏光
膜をこの順序で有し、さらに、透明支持体とディスコテ
ィック液晶の配向を固定した光学異方層とを有する光学
補償シートと、少なくとも片面に透明導電膜が設けられ
た２枚の透明導電性基板が透明導電膜同士が対向するよ
うに配置されたタッチパネルとを有する液晶表示装置で
あって、光学補償シートが、Ｒｅ（０°）の値が３５±
２５ｎｍの範囲であり、Ｒｅ（４０°）の値が１０５±
５５ｎｍの範囲であり、Ｒｅ（−４０°）の値が３５±
２５ｎｍの範囲である光学異方性を有することを特徴と
する液晶表示装置。上記Ｒｅ（０°）、Ｒｅ（４０
°）、Ｒｅ（−４０°）は、光学異方層のレターデーシ
ョンが最小値を取る方向と法線を含む平面内で、それぞ
れ法線方向、法線から最小値を取る方向と逆の方向に４
０°傾いた方向、および法線から最小値を取る方向に４
０°傾いた方向から測定した光学補償シートのレターデ
ーション値である。

【００１０】（２）液晶セル、λ／４板および直線偏光
膜をこの順序で有し、さらに、透明支持体とディスコテ
ィック液晶の配向を固定した光学異方層とを有する光学
補償シートと、少なくとも片面に透明導電膜が設けられ
た２枚の透明導電性基板が透明導電膜同士が対向するよ
うに配置されたタッチパネルとを有する液晶表示装置で
あって、光学補償シートの透明支持体が、Ｒｅレターデ
ーション値が１０乃至７０ｎｍであり、Ｒthレターデー
ション値が７０乃至４００ｎｍである光学異方性を有す
ることを特徴とする液晶表示装置。上記Ｒｅレターデー
ション値およびＲthレターデーション値は、それぞれ、
下記の式（Ｉ）および（II）で定義される。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ［式中、ｎｘは、透明支持体面内の遅相軸方向の屈折率
であり；ｎｙは、透明支持体面内の進相軸方向の屈折率
であり；ｎｚは、透明支持体の厚み方向の屈折率であ
り；そしてｄは、透明支持体の厚さである］。

【００１１】（３）λ／４板が、波長４４０ｎｍで測定
したレターデーション値（Ｒｅ４４０）が１００から１
２５ｎｍ、および波長６００ｎｍで測定したレターデー
ション値（Ｒｅ６００）が１２０から１６０ｎｍ、かつ
Ｒｅ６００−Ｒｅ４４０≧２ｎｍである関係を満足する
一枚のセルロースエステルフイルムからなる（１）また
は（２）に記載の液晶表示装置。（４）λ／４板が、タッチパネルを構成する一対の透明
導電膜の少なくとも一方の基板であるか、あるいは少な
くとも一方の透明導電性基板の表面に、積層されている
（１）または（２）に記載の液晶表示装置。

【００１２】（５）光学補償シートの透明支持体が、セ
ルロースエステルフイルムである（１）または（２）に
記載の液晶表示装置。（６）セルロースエステルフイルムが、酢化度が５５．
０乃至６１．５％のセルロースアセテートフイルムであ
る（５）に記載の液晶表示装置。（７）セルロースエステルフイルムが、芳香族環を少な
くとも二つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害
しない分子構造を有する化合物を含む（５）に記載の液
晶表示装置。（８）光学補償シートと直線偏光膜とが積層されてお
り、セルロースエステルフイルムの面内の遅相軸と直線
偏光膜の偏光軸との角度が実質的に４５゜になるように
配置されている（５）に記載の液晶表示装置。

【００１３】（９）タッチパネルの基板がセルロースエ
ステルフイルムであり、導電性膜の表面抵抗率が１０⁴
Ω／ｃｍ２以下である（１）に記載の液晶表示装置。（１０）液晶セルが、両側に配向膜を有する一対の電極
付き基板の間にベンド配向またはハイブリッド配向を示
すネマチック液晶が封入されており、かつ液晶セルに印
加される電圧の変化により、基板に対するネマチック液
晶の配向ベクトルの角度が変化する（１）に記載される
液晶表示装置。（１１）液晶セル、タッチパネル、λ／４板および直線
偏光膜を、この順序で有する（１）に記載の液晶表示装
置。（１２）タッチパネルと液晶セルとが一枚の基板を共有
しており、共有する基板の両面に透明電極層が設けられ
ている（１１）に記載の液晶表示装置。

【００１４】

【発明の実施の形態】［直線偏光膜］直線偏光膜には、
ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポ
リエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏
光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用い
て製造される。光学補償シートの遅相軸と偏光子の直線
偏光膜のなす角度は３°以下になるように配置すること
が好ましく、２°以下になるように配置することがさら
に好ましく、１°以下になるように配置することが最も
好ましい。

【００１５】［光学補償シート］本発明に用いる光学補
償シートは、透明支持体とディスコティック液晶の配向
を固定した光学異方層とを有する。透明支持体は、光学
異方性を有することが好ましい。同様の構成の光学補償
シートについては、特開平９−１９７３９７号、同９−
２１１４４４号、同９−２２２６００号、同９−２３０
３３３号、同９−２３０３３４号、同１１−２１２０７
８号、同１１−３１６３７８号、同１１−３５２３２８
号の各公報に開示されている。光学補償シートは、光学
異方性を示すＲｅ（０°）、Ｒｅ（４０°）およびＲｅ
（−４０°）の値が、それぞれ、３５±２５ｎｍ、１０
５±５５ｎｍ、３５±２５ｎｍの範囲であることが好ま
しい。Ｒｅ（０°）は３５±１２ｎｍ、Ｒｅ（４０°）
は１０５±３５ｎｍ、Ｒｅ（−４０°）は３５±１８ｎ
ｍの範囲であることが好ましい。

【００１６】（透明支持体）光学補償シートの透明支持
体は、光透過率が８０％以上であるポリマーフイルムで
あることが好ましい。光学補償シートを使用する液晶表
示装置において、通電後時間が経過すると画面周辺部に
「額縁状の表示ムラ」が発生することがある。このムラ
は、画面周辺部の透過率の上昇によるものであり、特に
黒表示時において顕著となる。この原因はバックライト
からの発熱により液晶セル面内で温度分布が生じ、この
温度分布により光学補償シートの光学特性（レターデー
ション値、遅相軸の角度）が変化することである。光学
補償シートの光学特性の変化は、温度上昇による光学補
償シートの膨張または収縮が、液晶セルまたは偏光子と
の粘着により抑制されるために、光学補償シートに弾性
変形が生じることに起因する。

【００１７】上記のような「額縁状の表示ムラ」を抑制
するには、光学補償シートの透明支持体に熱伝導率が高
いポリマーフイルムを使用することが好ましく、熱伝導
率の高いポリマーフイルムとしては、例えばセルロース
アセテート｛０．２２Ｗ／（ｍ・℃）｝、低密度ポリエ
チレン｛０．３４Ｗ／（ｍ・℃）｝、ＡＢＳ｛０．３６
Ｗ／（ｍ・℃）｝、ポリカーボネート｛０．１９Ｗ／
（ｍ・℃）｝が好ましい。環状オレフィンポリマーであ
る、ＺＥＯＮＥＸ｛０．２０Ｗ／（ｍ・℃）、日本ゼオ
ン（株）製｝、ＺＥＯＮＯＲ｛０．２０Ｗ／（ｍ・
℃）、日本ゼオン（株）製｝、ＡＲＴＯＮ｛０．２０Ｗ
／（ｍ・℃）、ＪＳＲ（株）製｝を挙げる事が出来る。

【００１８】また、透明支持体は、外力により複屈折が
発現しにくいポリマーから形成することが好ましい。そ
のようなポリマーの例には、セルロース系ポリマー、ノ
ルボルネン系ポリマー（例、アートン、ＪＳＲ（株）
製）；ゼオノア、日本ゼオン（株）製；ゼオネックス、
日本ゼオン（株）製）およびポリメチルメタクリレート
が含まれる。

【００１９】以上を考慮すると、透明支持体の用いるポ
リマーは、セルロース系ポリマーが好ましく、セルロー
スエステルがより好ましく、セルロースの低級脂肪酸エ
ステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数
が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セル
ロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）
または４（セルロースブチレート）であることが好まし
い。セルロースアセテートプロピオネートやセルロース
アセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用
いてもよい。セルロースアセテートが特に好ましい。セ
ルロースアセテートの酢化度は、５９．０乃至６１．５
％であるセルロースアセテートフイルムが好ましい。酢
化度は、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味
する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロ
ースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測
定および計算に従う。

【００２０】セルロースの２、３、６位のヒドロキシル
は、均等に置換されるのではなく、一般に６位ヒドロキ
シルの置換度が小さくなる傾向がある。本発明では、セ
ルロースアセテートの６位ヒドロキシルの置換度が、２
位および３位に比べて、同程度または多いほうが好まし
い。２、３、６位の置換度の合計に対する６位置換度の
割合は、３０乃至４０％であることが好ましい。６位置
換度の割合は、３１％以上であることが好ましく、３２
％以上であることがさらに好ましい。６位置換度は、
０．８８以上であることが好ましい。セルロースの６位
は、アセチル以外にも、炭素原子数３以上のアシル基
（例、プロピオニル、ブチロイル、バレロイル、ベンゾ
イル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位置
の置換度の測定は、ＮＭＲにより実施できる。また、セ
ルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５
０以上であることが好ましく、２９０以上であることが
さらに好ましい。また、ポリマーフイルムは、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍ
ｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分
布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値とし
ては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３
乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至
１．６であることが最も好ましい。

【００２１】セルロースアセテートとして、特開平１１
−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載
されている合成例１、段落番号００４８〜００４９に記
載されている合成例２、そして段落番号００５１〜００
５２に記載されている合成例３の合成方法により得られ
たセルロースアセテートを用いることができる。セルロ
ースアセテートフイルムの素材、各種添加剤、特性、製
法等については、発明協会公開技報（公技２００１−１
７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細
に記載されている。

【００２２】光学補償シートの透明支持体は光学異方性
を有することが好ましい。光学異方性の程度を表すＲｅ
レターデーション値およびＲthレターデーション値は、
それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義される。（Ｉ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内
の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率であ
る。式（Ｉ）および（II）において、ｎｙは、フイルム
面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率
である。式（II）において、ｎｚは、フイルムの厚み方
向の屈折率である。式（Ｉ）および（II）において、ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。

【００２３】透明支持体のＲｅレターデーション値は１
０〜７０ｎｍ、Ｒthレターデーション値は７０〜４００
ｎｍの範囲であることが好ましい。Ｒｅレターデーショ
ン値は２０〜６５ｎｍであることがさらに好ましい。Ｒ
thレターデーション値は９０〜３００ｎｍの範囲である
ことがさらに好ましい。なお透明支持体の複屈折（Δ
ｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．０００２５から０．０００８
８であることが好ましい。また、透明支持体の厚み方向
の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００
０８８から０．００５であることが好ましい。

【００２４】透明支持体の光学異方性は、ポリマーフイ
ルム、または後述するレターデーション上昇剤をあらか
じめ添加したポリマーフイルムを延伸する、あるいはポ
リマーフイルム上に配向膜を塗布し、ラビングして液晶
を配向させることにより発現させる事が出来る。この場
合、面内で屈折率の最も大きい方向（遅相軸の方向）と
長尺ロール形態のフイルムの長手方向（搬送方向）との
なす角度（遅相軸角度）は、斜め延伸の角度、あるいは
斜めラビングの角度によって制御する事ができる。また
この遅相軸角度の面内でのばらつきは、遅相軸角度の平
均値に対し３°以下であることが好ましく、２°以下で
あることがさらに好ましく、１°以下であることが最も
好ましい。

【００２５】延伸によりポリマーフイルムの遅相軸の方
向をフイルムの搬送方法に対し所望の角度に傾斜させる
方法については、特開昭６０−１５７８３１号、特開平
２−１１３９２０号、特開平３−１２４４２６号、特開
平３−１８２７０１号、特開平４−１６４６２６号、特
開２０００−９９１２号公報に記載されている。例えば
特開平３−１８２７０１号公報においては、連続フイル
ムの左右両耳端に走行方向とθの角度をなす左右対のフ
イルム保持ポイントを複数対有し、フイルムの走行につ
れて、各々の対ポイントがθの方向に延伸できる機構に
より、フイルムの走行方向に対し任意の角度θの延伸軸
を有するフイルムを製造する方法が提案されている。

【００２６】また、特開平２−１１３９２０公報におい
て、フイルムの両端部を、所定走行区間内におけるチャ
ックの走行距離が異なるようにように配置されたテンタ
ーレール上を走行する２列のチャック間に把持して走行
させることによりフイルムの長さ方向と斜交する方向に
延伸する製造方法が提案されている。さらに特開２００
０−９９１２号公報には、プラスチックフイルムを横ま
たは縦に一軸延伸しつつ、その延伸方向の左右を異なる
速度で前期延伸方向とは相違する縦または横方向に引っ
張り延伸して、配向軸を前記一軸延伸方向に対し傾斜さ
せることが提案されている。延伸倍率は、３乃至１００
％であることが好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、
４０から１４０μｍであることが好ましく、７０から１
２０μｍであることがさらに好ましい。

【００２７】透明支持体のレターデーションを調整する
ため、ポリマーフイルム中にレターデーション上昇剤を
添加することができる。レターデーション上昇剤として
は、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物、
例えばトリアジン類（トリフェニル−１，３，５−トリ
アジン、トリ−ｍ−トリル−１，３，５−トリアジ
ン）、trans-１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のジ
エステル類（ｐ−ｎ−ヘキシルフェノールのジエステ
ル、ｐ−ｎ−アミルフェノールのジエステル）を好まし
く用いることができる。他のレターデーション上昇剤の
具体例は、特開２０００−１１１９１４号、同２０００
−２７５４３４号の各公報、ＰＣＴ／ＪＰ００／０２６
１９号明細書に記載されている。

【００２８】二種類以上の芳香族化合物を併用してもよ
い。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に
加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。レターデーション上
昇剤の分子量は、３００乃至８００であることが好まし
い。ポリマーフイルムとしてセルロースアセテートフイ
ルムを用いる場合、芳香族化合物は、セルロースアセテ
ート１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の
範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテー
ト１００質量部に対して、０．０５乃至１５質量部の範
囲で使用することが好ましく、０．１乃至１０質量部の
範囲で使用することがさらに好ましい。

【００２９】（配向膜）光学異方層のディスコティック
液晶の配向方向を規定するため、透明支持体に配向膜を
設けることが好ましい。配向膜は、有機化合物（好まし
くはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸
着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラン
グミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物
（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモ
ニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のよう
な手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、
磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配
向膜も知られている。配向膜は、ポリマーのラビング処
理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコー
ルが、好ましいポリマーである。疎水性基が結合してい
る変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。疎水性基
は光学異方層のディスコティック液晶と親和性があるた
め、疎水性基をポリビニルアルコールに導入すること
で、ディスコティック液晶を均一に配向させることがで
きる。疎水性基は、ポリビニルアルコールの主鎖末端ま
たは側鎖に結合させる。

【００３０】疎水性基は、炭素原子数が６以上の脂肪族
基（好ましくはアルキル基またはアルケニル基）または
芳香族基が好ましい。ポリビニルアルコールの主鎖末端
に疎水性基を結合させる場合は、疎水性基と主鎖末端と
の間に連結基を導入することが好ましい。連結基の例に
は、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＮ）Ｒ¹−、−ＮＲ²−、−ＣＳ
−およびそれらの組み合わせが含まれる。上記Ｒ¹およ
びＲ²は、それぞれ、水素原子または炭素原子数が１乃
至６のアルキル基（好ましくは、炭素原子数が１乃至６
のアルキル基）である。

【００３１】ポリビニルアルコールの側鎖に疎水性基を
導入する場合は、ポリビニルアルコールの酢酸ビニル単
位のアセチル基（−ＣＯ−ＣＨ₃ ）の一部を、炭素原
子数が７以上のアシル基（−ＣＯ−Ｒ³ ）に置き換え
ればよい。Ｒ³ は、炭素原子数が６以上の脂肪族基ま
たは芳香族基である。市販の変性ポリビニルアルコール
（例、ＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０、クラレ
（株）製）を用いてもよい。配向膜に用いる（変性）ポ
リビニルアルコールのケン化度は、８０％以上であるこ
とが好ましい。（変性）ポリビニルアルコールの重合度
は、２００以上であることが好ましい。

【００３２】ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布
で一定方向に、数回こすることにより実施する。長さお
よび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いること
が好ましい。通常ラビング処理は、市販のラビング布を
巻き付けたロールを高速で回転させ、その上または下に
配向膜を備えたポリマーフイルムを通すことにより行わ
れる。フイルムの搬送方向と、ロールの回転方向は同じ
でも逆でも良い。本発明の光学補償シートでは透明支持
体の遅相軸の方向とラビングは４５°である事が好まし
く、また通常のラビングではフイルムの搬送方向に対
し、ラビングロールを直交させて行われるが、本発明に
おいては、透明支持体の遅相軸方向がフイルムの搬送方
向と平行であり、ラビングロールをフイルムの搬送方向
に対し４５°に傾けることが好ましい。また配向膜を設
ける場合は、さらに下塗り層（接着層）を透明支持体と
配向膜との間に設けることが好ましい。ポリマーフイル
ムが三酢酸セルロースの場合には、ぜラチンをメタノー
ルに分散したもの塗布する、あるいはその表面をアルカ
リ、特にＩＰＡを含む溶剤にＫＯＨを溶解させた鹸化液
で鹸化する事により接着層を設けることが好ましい。

【００３３】（光学異方層）光学異方層はディスコティ
ック液晶から形成する。ディスコティック液晶は、一般
に、光学的に負の一軸性を有する。本発明の光学補償シ
ートにおいては、ディスコティック液晶は、円盤面と透
明支持体面とのなす角が、光学異方層の深さ方向におい
て変化している（ハイブリッド配向している）ことが好
ましい。なお、光学異方層には、レターデーション値が
０となる方向、光軸が存在しない。光学異方層は、上記
の配向膜によってディスコティック液晶を配向させ、そ
の配向状態のディスコティック液晶を固定することによ
って形成することが好ましい。ディスコティック液晶
は、重合反応により固定することが好ましい。光学異方
層の厚みは、０．５乃至１００μｍであることが好まし
く、０．５乃至３０μｍであることがさらに好ましい

【００３４】ディスコティック液晶については、様々な
文献(C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst.,
vol. 71, page 111 (1981) ;日本化学会編、季刊化学総
説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節
（１９９４）；B. Kohne etal., Angew. Chem. Soc. Ch
em. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. A
m. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載
されている。ディスコティック液晶の重合については、
特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコテ
ィック液晶を重合により固定するためには、ディスコテ
ィック液晶の円盤状コアに、置換基として重合性基を結
合させ、配向後に熱重合あるいは光重合により架橋して
固定化する事が好ましい。但し円盤状コアに重合性基を
直結させると、重合反応において配向状態を保つことが
困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、
連結基を導入する事が好ましい。

【００３５】配向させたディスコティック液晶を、配向
状態を維持して固定するための重合反応を起こす光重合
開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３
６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、
アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書
記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米
国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合
物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の
各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーと
ｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３
５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナ
ジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特
許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾー
ル化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含
まれる。

【００３６】光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分
の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．
５乃至５質量％であることがさらに好ましい。ディスコ
ティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を
用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０乃至５
０００ｍＪ／ｃｍ²であることが好ましく、１００乃至
８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。ま
た、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を
実施してもよい。保護層を、光学異方層の上に設けても
よい。

【００３７】［タッチパネル］タッチパネルは、表示素
子に近い側の固定基板と、対向する可動基板とからな
る。固定基板と可動基板の対向面に、それぞれ透明電極
を備えている。固定基板及び可動基板は、表示品質を高
めるため、透明な光学材料で形成されていることが好ま
しい。固定基板と可動基板に用いられる材料としては、
例えば、ガラス、非晶性フイルム、ポリエーテルサルフ
ォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、セルロースエステルなどのポリマー
フイルムなどが挙げられる。本発明に用いられるセルロ
ースエステルフイルムからなるλ／４板は、タッチパネ
ルとは別に設けても構わないし、固定基板、可動基板の
どちらか、または、両方に用いても構わない。セルロー
スエステルフイルムからなるλ／４板は、可動基板とし
て用いることが特に好ましい。

【００３８】二つの透明電極間にはギャップが形成され
る。ギャップ間には通常空気層が存在するが、オプティ
カル・マッチングを取るために透明電極と屈折率の近い
液体を充填させることもできる。また、透明電極膜の基
板側にアンダーコート層、または、基板と反対側にオー
バーコート層を付与し、光反射を低減させることもでき
る。スティッキング性をなくし、打鍵寿命を改善するた
めに、透明電極膜表面は粗面化されていても良い。ギャ
ップ間にはスペーサを設けることができる。スペーサと
しては、ドット状スペーサや、固定基板と可動基板との
周辺部に設けた貼合せ材などが用いられる。

【００３９】タッチパネルは、デジタル式、アナログ式
のどちらとしても用いられる。デジタル式では、押圧に
よる透明電極同士の接触と、接触位置に対応してデータ
位置を検出することができる。アナログ式では、例え
ば、固定基板のＸ軸方向の両端部、および、可動基板の
Ｙ軸方向の両端部に電極を形成し、押圧により透明電極
同士が接触し、接触位置により生じるＸ方向、Ｙ方向の
抵抗値を検出することによって、データ入力位置を検出
することができる。

【００４０】本発明においては、タッチパネルは表示素
子と共に用いられることが好ましい。タッチパネル部が
表示部とは別々になっていても構わないし、両者が一体
となっていても構わない。タッチパネルを偏光板ととも
に用いた場合、偏光板がタッチパネルと表示素子との間
にあっても構わないし、偏光板がタッチパネルの外側
（観察者側）に設けられたインナータイプであっても構
わない。本発明では、外光の反射が低減でき防眩性に優
れるために、インナータイプとして用いる方が好まし
い。

【００４１】タッチパネルに用いる透明導電膜は、表面
抵抗率が１０⁴Ω／ｃｍ²以下であることが好まし
く、１０００Ω／ｃｍ²以下であることがさらに好まし
く、２００〜８００Ω／ｃｍ²以下であることが最も好
ましい。セルロースエステルフイルムからなるλ／４板
の少なくとも一方の面に透明導電膜を設け、インナータ
イプのタッチパネルとして用いることが特に好ましい。
透明導電膜の表面抵抗率を上記のような値にするために
は、導電性微粒子分散物など塗布によって設けても構わ
ないし、フイルム流延時に共流延することによって設け
ても構わない。また、スパッタリング、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法などの真空成膜法によって透明導
電膜を成膜しても構わない。フイルムの片面に透明導電
膜を設けても構わないし、両面に設けても構わない。ま
た、これらの方法を併用することも可能である。

【００４２】導電性微粒子分散物を塗布する方法として
は、基本的には少なくとも１種以上の金属および、また
は金属酸化物、金属窒化物からなる微粒子を含有する層
からなる。１種以上の金属からなる微粒子としては、
金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウ
ム、プラチナ等の金属あるいはこれらの合金が挙げられ
る。特に銀が好ましく、さらに耐候性の観点からパラジ
ウムと銀の合金が好ましい。パラジウムの含有量として
は５〜３０質量％が好ましく、パラジウムが少ないと耐
候性が悪く、パラジウムが多くなると導電性が低下す
る。金属微粒子の作製方法としては、低真空蒸発法によ
る微粒子の作製方法や金属塩の水溶液を鉄（II）、ヒド
ラジン、ボロンハイドライド、ヒドロキシエチルアミン
等のアミン等の還元剤で還元する金属コロイド作製方法
が挙げられる。金属酸化物としてはＩｎ₂Ｏ₃系（Ｓｎ
などドープ品含む）、ＳｎＯ₂系（Ｆ、Ｓｂなどドープ
品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品含
む）、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、Ｂａ
Ｏ、ＭｏＯ₃、Ｖ₂Ｏ₅、またはこれらの複合品などが
挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げられ
る。

【００４３】これら導電性微粒子の平均粒径は１．０〜
７００ｎｍが好ましく、２．０〜３００ｎｍが更に好ま
しく、５．０〜１００ｎｍが最も好ましい。粒径が大き
すぎると、導電性微粒子による光の吸収が大きくなり、
このために粒子層の光透過率が低下すると同時にヘイズ
が大きくなり、また、これら導電性微粒子の平均粒径が
１ｎｍ未満の場合には微粒子の分散が困難になること、
微粒子層の表面抵抗が急激に大きくなるため、本発明の
目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜を得るこ
とができない。

【００４４】導電性微粒子層の形成は、導電性微粒子を
水を主体とする溶液あるいは有機溶剤等に分散した塗料
を塗布して作製することができる。塗布する前に、表面
処理や下塗りを施すことができる。表面処理としては、
例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理
（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処
理などが挙げられる。下塗り層の素材としては塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、ブタジエン、（メタ）アクリル酸
エステル、ビニルエステル等の共重合体或いはラテック
ス、ゼラチン等の水溶性ポリマーなどが挙げられるが特
に限定はされない。導電性微粒子の分散安定化のために
は水を主体とする溶液が好ましく、水と混合出来る溶剤
としてはエチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、
ｉ−プロピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセ
ルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコールが好まし
い。導電性微粒子の塗布量としては、１０乃至１０００
ｍｇ／ｍ²が好ましく、２０乃至５００ｍｇ／ｍ²がさ
らに好ましく、５０〜１５０ｍｇ／ｍ²が最も好まし
い。塗布量が少ないと導電性が取れず、塗布量が多いと
透過性が劣る。

【００４５】透明導電層はバインダーを含有していて
も、バインダーを含有せず、実質的に導電性微粒子のみ
から形成されていてもどちらでも構わない。バインダー
を用いる場合、素材は特に限定されないが、親水性バイ
ンダー、疎水性バインダー、あるいは、ラテックスを用
いることができる。親水性バインダーとしては、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷ
ん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、
無水マレイン酸共重合体、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどである。疎
水性バインダーとしては、セルロースエステル（例え
ば、ニトロセルロース、ジアセチルセルロース、トリア
セチルセルロース、メチルセルロース）、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、ビニルアクリレートなどを含むビニル
系ポリマー、ポリアミド、ポリエステルなどのポリマー
である。

【００４６】透明導電性層の導電性や透過性の向上のた
め、熱処理や水処理することが出来る。熱処理は、ポ
リマーフイルムの耐熱性によるが、１５０℃以下が好ま
しい。１００℃から１５０℃が好ましい。１５０℃以上
ではポリマーフイルムの熱による変形が起こりやすく、
１００℃以下では熱処理の効果が出難く、長時間の処理
時間が必要になってしまう。

【００４７】熱処理の方法は、ウェッブ状態で加熱ゾー
ンを通しながら処理することが均一な処理が出来て好ま
しい。加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節す
ることが出来る。またロール状のフイルムを恒温槽中で
加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを考慮
した時間設定が必要になる。

【００４８】また、熱処理に先立ち、透明導電性層を水
洗等の水処理をする事で熱処理をさらに効率良くするこ
とが出来る。水洗等の水処理は、通常の塗布方式による
水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、ワイヤ
ーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレーやシャ
ワーで水を透明導電性層に掛ける方法がある。透明導電
性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、ワイヤ
ーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイフで掻
き取ることが出来る。これらの水処理により、熱処理後
の透明導電性槽の表面抵抗をさらに低下させることが出
来、加えて透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反
射防止層を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕
著になる。

【００４９】真空成膜法にとしては「透明導電膜の新展
開」シーエムシー、澤田豊監修、「月刊ディスプレ
イ」１９９９年９月号に記載の方法を用いることができ
る。製膜する金属酸化物としてはＩｎ₂Ｏ₃系（Ｓｎな
どドープ品、ＩＴＯ含む）、ＳｎＯ₂系（Ｆ、Ｓｂなど
ドープ品含む）、ＺｎＯ系（Ａｌ、Ｇａなどのドープ品
含む）またはこれらの複合品Ｉｎ₂Ｏ₃−ＺｎＯ系など
が挙げられる。金属窒化物としてはＴｉＮなどが挙げら
れる。また、銀などと共に製膜しても良い。

【００５０】スパッタなどでポリマーフイルム上に成膜
する際にはその表面をフッ素系樹脂、アクリル系樹脂、
シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂など
の高分子や、ＳｉＯ₂，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ₂，ＳｎＯ₂
などの無機物でコートすることが好ましい。コートする
膜厚としては１０ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましく、
さらに好ましくは１０ｎｍ以上５０μｍ以下であり、特
に好ましくは１０ｎｍ以上１０μｍ以下である。スパッ
タなどの際には基板を冷却することが好ましい。好まし
くは−３０℃以上３０℃以下であり、さらに好ましくは
−３０℃以上２０℃以下であり、特に好ましくは−３０
℃以上１０℃以下である。

【００５１】スパッタ法により酸化インジウムを主とし
て含む膜を成膜する方法としては、インジウムを主成分
とする金属ターゲット、または酸化シンジウムを主成分
とする焼結体であるターゲットを用いた反応性スパッタ
リングを行うことができる。反応の制御上、後者が好ま
しい。反応性スパッタリング法においてはスパッタリン
グガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを用い、反
応性ガスとしては酸素を用いる。放電形式としてはＤＣ
マグネトロンスパッタ、ＲＦマグネトロンスパッタなど
が利用できる。

【００５２】また、酸素の流量を制御する方法としては
プラズマエミッションモニター法で行うことが好まし
い。透明導電層を付与したポリマーフイルムの光の透過
率は、５０％以上であることが好ましく、６０％以上で
あることがさらに好ましく、７０％以上であることが特
に好ましく、８０％以上であることが最も好ましい。

【００５３】［λ／４板］λ／４板は、タッチパネルを
構成する一対の基板に設けられても良いし、独立したも
のをポリビニルアルコール系の接着剤で貼り合わせても
良い。光学異方特性としては、波長４４０ｎｍで測定し
たレターデーション値（Ｒｅ４４０）が１００から１２
５ｎｍであり、かつ波長６００ｎｍで測定したレターデ
ーション値（Ｒｅ６００）が１２０から１６０ｎｍであ
り、そして、Ｒｅ６００−Ｒｅ４４０≧２ｎｍの関係を
満足する。Ｒｅ６００−Ｒｅ４４０≧５ｎｍであること
がさらに好ましく、Ｒｅ６００−Ｒｅ４４０≧１０ｎｍ
であることが最も好ましい。

【００５４】より好ましくは波長４４０ｎｍで測定した
レターデーション値（Ｒｅ４４０）が１０８から１２０
ｎｍであり、波長５５０ｎｍで測定したレターデーショ
ン値（Ｒｅ５５０）が１２５から１４２ｎｍであり、波
長６００ｎｍで測定したレターデーション値（Ｒｅ６０
０）が１３０から１５２ｎｍであり、そして、Ｒｅ６０
０−Ｒｅ５５０≧２ｎｍの関係を満足することが好まし
い。Ｒｅ６００−Ｒｅ５５０≧５ｎｍであることがさら
に好ましく、Ｒｅ６００−Ｒｅ５５０≧１０ｎｍである
ことが最も好ましい。また、Ｒｅ５５０−Ｒｅ４４０≧
１０ｎｍであることも好ましい。

【００５５】レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に
従って算出する。レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ式中、ｎｘは、λ／４板の面内の遅相軸方向の屈折率
（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、λ／４板の面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり；そして、ｄは、
位相差板の厚さ（ｎｍ）である。さらに、本発明に使用
可能なλ／４板は、下記式を満足することが好ましい。１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦２式中、ｎｘは、λ／４板の面内の遅相軸方向の屈折率で
あり；ｎｙは、λ／４板の面内の遅相軸に垂直な方向の
屈折率であり；そして、ｎｚは、厚み方向の屈折率であ
る。上記（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）は、Ｎｚファ
クターと称する場合もある。（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−
ｎｙ）は、１．３０乃至１．７５であることがより好ま
しく、１．４０乃至１．６０であることがさらに好まし
い。

【００５６】λ／４板を構成する一枚のセルロースエス
テルフイルムの厚さは、５乃至１０００μｍであること
が好ましく、１０乃至５００μｍであることがさらに好
ましく、４０乃至２００μｍであることがさらに好まし
く、７０乃至１２０μｍであることが最も好ましい。本
発明に用いるλ／４板は、セルロースアセテートフイル
ム流延時にレターデーション調節剤の添加や、光学異方
性を促進する延伸法などから作製してもよいし、ポリマ
ーフイルム上に波長分散性の異なる２種の官能基を直交
配置した交叉化合物と棒状液晶の混合物を塗布、配向さ
せる等の手段で作製することができる。

【００５７】λ／４板と前述した直線偏光膜とは、λ／
４板の面内の遅相軸と直線偏光膜の偏光軸との角度が実
質的に４５゜になるように積層し、全体として円偏光板
として機能させることが普通である。実質的に４５゜と
は、４０乃至５０゜であることを意味する。λ／４板の
面内の遅相軸と偏光膜の偏光軸との角度は、４１乃至４
９゜であることが好ましく、４２乃至４８゜であること
がより好ましく、４３乃至４７゜であることがさらに好
ましく、４４乃至４６゜であることが最も好ましい。直
線偏光膜のλ／４板とは反対側の面には、透明保護膜を
設けることが好ましい。透明保護膜の上には、ハードコ
ート層を設けることが好ましい。最外層には反射防止層
を設けることが好ましい。

【００５８】［液晶セル］液晶セルの表示モードは、Ｏ
ＣＢ(optically compensatory bend）、ＨＡＮ(hybrid
aligned nematic)、ＴＮ(twisted nematic）、ＳＴＮ(s
upper twisted nematic)、ＶＡ(vertical aligned)、Ｉ
ＰＳ(in-plane switching)、ＥＣＢ(electrically cont
rolled birefringence)およびＦＬＣ(ferroelectric li
quid crystal）のいずれのモードでも良い。特に、ＯＣ
Ｂ、ＨＡＮ、ＴＮ、及びＥＣＢモードが好ましい。ベン
ド配向またはハイブリッド配向を示すネマティック液晶
が封入された液晶セルおよびそれを利用するＯＣＢ方式
や、ＨＡＮ方式液晶表示装置の構成、原理については、
米国特許第３１１８１９７号明細書、特許第３１１８１
９７号公報に詳細が示されている。

【００５９】［液晶表示装置］本発明は、透過型、反射
型および半透過型のいずれの液晶表示装置でも有効であ
る。液晶表示装置の詳細については、「液晶デバイスハ
ンドブック」日本学術振興会第１４２委員会編、日刊工
業新聞社、「液晶応用編」岡野光治他、培風館、「カ
ラー液晶ディスプレイ」小林俊介他、産業図書、「次世
代液晶ディスプレイ技術」内田龍男、工業調査会、「液
晶ディスプレイの最先端」液晶若手研究会編、シグマ出
版、「液晶：ＬＣＤの基礎と新しい応用」液晶若手研究
会編、シグマ出版等に記載されている反射型液晶表示装
置の場合、下記の順序で構成することができる。

【００６０】 ──────────────────────────────────── ６。反射防止フイルム５。直線偏光膜４。λ／４板３。タッチパネル３５。上側基板３４。上側透明導電膜３３。ギャップ３２。下側透明導電膜３１。下側基板２。光学補償シート２３。ディスコティック液晶の配向を固定した光学異方層２２。配向膜２１。透明支持体（セルロースアセテートフイルム）１。液晶セル０。反射板 ────────────────────────────────────

【００６１】λ／４板（４）と直線偏光膜（５）とは、
円偏光板を構成する。光学補償シート（２）は、反射板
（０）と直線偏光膜（５）との間の任意の位置に配置す
ることができる。カラー表示の場合には、さらにカラー
フィルター層を設ける。カラーフィルター層は、液晶セ
ル（１）の上下に隣接した位置に設けることが好まし
い。反射板（０）の代わりに、液晶セル（１）反射電極
を取り付けても良い。さらに画像の明るさを増すため、
反射板（０）の反射率を低減し、バックライトを用いて
も良い。

【００６２】反射板の表面が平滑であると、正反射成分
のみが反射されて視野角が狭くなる場合がある。そのた
め、反射板の表面に凹凸構造（特開平０７−３３３６０
６号公報記載）を導入することが好ましい。反射板の表
面が平坦である場合は（表面に凹凸構造を導入する代わ
りに）、偏光膜の片側（セル側あるいは外側）に光拡散
フイルムを取り付けてもよい。

【００６３】

【実施例】［実施例１］１。ＨＡＮ型液晶セルの作製ＩＴＯ電極付きのガラス基板にポリイミド膜を配向膜と
して設け、ラビング処理を行った。ＩＴＯ電極付きのガ
ラス基板をもう一枚用意し、ＳｉＯ蒸着膜を配向膜とし
て設けた。この２枚のガラス基板を配向膜同士が対向す
るように配置し、セルギャップ５μｍで接合し、メルク
社製液晶ＺＬＩ１１３２（Δｎ＝０．１３９６）を注入
し、ＨＡＮ型液晶セルを作製した。得られた液晶セルの
液晶層のレターデーション（Ｒｅ２）は、６９８ｎｍで
ある。

【００６４】２。光学補償シートの作製（セルロースアセテート溶液の調製）下記の組成物をミ
キシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成
分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。

【００６５】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── 酢化度６０．９％のセルロースアセテート１００質量部トリフェニルホスフェート（可塑剤）７．０質量部ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．４質量部メチレンクロライド（第１溶媒）３５０質量部メタノール（第２溶媒）３５質量部 ────────────────────────────────────

【００６６】（レターデーション上昇剤溶液の調製）別
のミキシングタンクに、レターデーション上昇剤（スミ
ソルブＴＭ１６５−Ｆ、住友化学（株）製）１５質量
部、メチレンクロライド７５質量部およびメタノール１
５質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデー
ション上昇剤溶液を調製した。

【００６７】（セルロースアセテートフイルムの作製）
セルロースアセテート溶液４９５質量部にレターデーシ
ョン上昇剤溶液５０質量部を混合し、攪拌してドープを
調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロ
ースアセテート１００質量部に対して、７質量部であっ
た。得られたドープを、バンド流延機を用いて流延し
た。残留溶剤量が５０質量％のフイルムをバンドから剥
離し、１３０℃の条件で、残留溶剤量が３７質量％のフ
イルムをテンターを用いて１７％の延伸倍率で横延伸
し、延伸後の幅のまま１２０℃で３０秒間保持した。そ
の後、クリップを外してセルロースアセテートフイルム
（幅８００ｍｍ、厚み６０μｍ）を製造した。

【００６８】（光学特性の測定）作製したセルロースア
セテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１
５０、日本分光（株）製）を用い、波長５５０ｎｍにお
けるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーショ
ン値を測定した。各々の測定は幅方向に等間隔の１０点
で行い、平均値を求めた。その結果、Ｒｅレターデーシ
ョン値は４０ｎｍ、Ｒthレターデーション値は２２２ｎ
ｍであった。

【００６９】（セルロースアセテートフイルムのケン化
処理）セルロースアセテートフイルムを、１．５規定の
水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。
室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸
を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、
さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セ
ルロースアセテートフイルムの表面をケン化した。

【００７０】（配向膜の形成）ケン化処理したセルロー
スアセテートフイルム（透明支持体）の一方の面に、下
記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２
４ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに
９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースア
セテートフイルム（透明支持体）の延伸方向（遅相軸と
ほぼ一致）と４５゜の方向に、形成した膜にラビング処
理を実施した。

【００７１】 ──────────────────────────────────── 配向膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記の変性ポリビニルアルコール３２質量部水３９０質量部メタノール１１５質量部グルタルアルデヒド（架橋剤）３．１質量部 ────────────────────────────────────

【００７２】

【化１】

【００７３】（光学異方層の形成）配向膜上に、下記の
塗布液を、＃３のワイヤーバーで塗布した。これを金属
の枠に貼り付けて、１３０℃の恒温槽中で２．５分間加
熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた。次
に、１３０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１
分間ＵＶ照射しディスコティック液晶性分子を重合させ
た。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学
異方層を形成した。

【００７４】 ──────────────────────────────────── 光学異方層塗布液組成 ──────────────────────────────────── 下記のディスコティック液晶性化合物４４質量部エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）５質量部セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）１質量部セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）０．３質量部光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）１．８質量部増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．５質量部メチルエチルケトン１００質量部 ――――――――――――――――――――――――――――――――――

【００７５】

【化２】

【００７６】作製した光学補償シートについて、セルロ
ースアセテートフイルムと同様に、エリプソメーター
（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用い、波長５５０
ｎｍにおいてレターデーションを測定し、Ｒｅ（０
°）、Ｒｅ（４０°）、Ｒｅ（−４０°）の値を求め
た。結果を以下に示す。Ｒｅ（０°）：３８ｎｍＲｅ（４０°）：１２６ｎｍＲｅ（−４０°）：４４ｎｍ

【００７７】３。タッチパネルの作製片面の表面抵抗率が４００Ω／ｃｍ²の透明導電膜（Ｉ
ＴＯ）が付いた０．７ｍｍ厚みのガラス板を２枚用意し
た。一方のガラスの表面抵抗率４００Ω／ｃｍ ²側に
は、１ｍｍピッチのドットスペーサと両端部に銀電極を
印刷した。他方のガラスの両端に銀電極を設け、それぞ
れ透明導電ガラス板と、透明導電膜同士が対向するよう
に接着した。この際、両基板の周囲に１００μｍ厚の絶
縁性貼り合せ剤を挟んだ。このようにしてタッチパネル
を完成させた。

【００７８】４。λ／４板の作製室温において、平均酢化度５９．５％のセルローストリ
アセテート１２０質量部、トリフェニルホスフェート
９．４質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート４．
８質量部、レターデション上昇剤としてtrans-１，４−
シクロヘキサンジカルボン酸の４−ｎ―ヘプチルフェノ
ールジエステル１．００質量部、メチレンクロリド５４
４質量部、メタノール９９質量部およびｎ−ブタノール
２０質量部を混合溶解して、溶液（ドープ）を調製し
た。

【００７９】得られたドープを、動いているステンレス
性のバンド上に流延し、２５℃のゾーンを１分間、４５
℃のゾーンを５分間通し乾燥させた。乾燥後の溶剤残留
量は３０質量％であった。その後フイルムをバンドから
剥離し、巻き取り速度をバンドの搬送速度より大きくし
て、１３０℃で搬送方向に延伸した。延伸方向と垂直な
方向は、自由に収縮できるようにした。延伸後、１２０
℃のゾーンを３０分間通して乾燥し、延伸フイルムを巻
き取った。延伸後の溶剤残留量は０．１質量％であっ
た。このようにして得られたフイルムの厚さは１０５μ
ｍであった。

【００８０】得られたセルロースアセテートフイルム
（λ／４板）について、エリプソメーター（Ｍ−１５
０、日本分光（株）製）を用いて、波長４４０ｎｍ、５
５０ｎｍ、および６００ｎｍにおけるレターデーション
値（Ｒｅ）を測定した。Ｒｅ６００−Ｒｅ４４０と併せ
て以下に示す。さらに、アッベ屈折率計による屈折率測
定と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長
５５０ｎｍにおける面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘ、面
内の遅相軸に垂直な方向の屈折率ｎｙおよび厚み方向の
屈折率ｎｚを求め、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の
値を計算した。Ｎｚファクターとして以下に示す。

【００８１】Ｒｅ４４０：１１２．２ｎｍＲｅ５５０：１３８．４ｎｍＲｅ６００：１４４．０ｎｍＲｅ６００−Ｒｅ４４０：２１．８ｎｍＮｚファクタ−：１．５０

【００８２】５。直線偏光膜の作製ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フイルムをヨウ素２．
０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５
℃にて２４０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶
液に２５℃にて６０秒浸漬後、テンター延伸機に導入
し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し屈曲
させ、以降幅を一定に保ち、収縮させながら８０℃雰囲
気で乾燥させた後テンターから離脱して巻き取った。延
伸開始前のＰＶＡフイルムの含水率は３１％で、乾燥後
の含水率は１．５％であった。左右のテンタークリップ
の搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入されるフ
イルムの中心線と次工程に送られるフイルムの中心線の
なす角は、４６゜であった。テンター出口におけるシ
ワ、フイルム変形は観察されなかった。得られた直線偏
光膜の吸収軸方向はテンターの搬送方向（長手方向）に
対し４５゜傾斜しており、この直線偏光膜の５５０ｎｍ
における透過率４３．７％、偏光度９９．９７％であっ
た。

【００８３】６。反射防止フイルムの作製フジタック（ＴＤ８０Ｕ、商品名：富士写真フイルム
（株）製）上に、熱架橋性含フッソポリマー（ＪＮ−７
２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）２１０ｇに
シリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、
固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製）１８ｇ、お
よびＭＥＫ２００ｇを添加、攪拌後、孔径１μｍのポリ
プロピレン製フィルタでろ過した低屈折率層用塗布液を
バーコーターで塗布し、８０℃で５分乾燥後、１２０℃
で１０分間加熱してポリマーを架橋させ、厚さ０．１μ
ｍの低屈折率層を形成し、反射防止フイルムを作製し
た。

【００８４】（タッチパネル付きＨＡＮ配向モード反射
型液晶表示装置の作製）６の反射防止フイルムおよび４
のλ／４板を５５℃の１．５ＮＮａＯＨ水溶液に１分間
浸漬して両面を鹸化した後希硫酸および水で十分洗浄し
乾燥した後、それぞれ片側にポリビニルアルコール系粘
着材を約３０μの厚みに塗布し、５の直線偏光膜の両側
にロールツーロールで貼り合わせ、さらに８０℃で乾燥
して円偏光板を作製した。この円偏光板の膜厚は、約２
３４μｍであった。市販の反射型液晶表示装置に使われ
ている反射板に、１のＨＡＮ型液晶セルを貼り付け、そ
の上に、２の光学補償シートを、液晶セルのラビング方
向と光学補償シートのラビング方向とが反平行となる様
にして、光学補償シートのセルローストリアセテート側
にアクリル系粘着剤をつけて貼り合わせ、さらに３のタ
ッチパネルを光学補償シートを光学異方層側にアクリル
系接着剤を塗工して貼り合わせた。円偏光板のλ／４板
側にアクリル系接着剤を塗工し、円偏光板のλ／４板の
遅相軸が液晶セルのラビング方向と平行となるように、
光学補償シートの上に貼り合わせ、ＨＡＮ配向モードの
液晶表示装置を作製した。

【００８５】液晶表示装置の液晶セルに、１ｋＨｚの矩
形波電圧を白表示電圧２Ｖ、黒表示電圧６Ｖ印加し、測
定機（EZ-Contrast 160D、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、
正面コントラスト比を測定した。さらに上下方向（セル
のラビング方向）、左右方向（セルのラビング方向と直
交方向）の視野角（コントラスト比が２以上となる角度
範囲）を調べた。その結果、正面のコントラスト比は２
５、上下および左右の視野角は１２０゜との良好な結果
が得られた。

【００８６】さらに、液晶表示装置は、白表示において
も、黒表示においても、色味なくニュートラルグレーが
表示されていることが確認できた。また、タッチパネル
機能も、良好に動作することを確認した。

【００８７】［実施例２］（タッチパネル付きＨＡＮ配向モード反射型液晶表示装
置の作製）λ／４板としてＷＲＦ（帝人（株）製、Ｒｅ
＝１５４ｎｍ（５５０ｎｍ））を使用した以外は、実施
例１と同様にタッチパネル付きＨＡＮ配向モード反射型
液晶表示装置を作製し、実施例１と同じ評価を実施し
た。その結果、正面コントラスト比は２４であり、さら
に左右方向（セルのラビング方向と直交方向）の視野角
（コントラスト比が２以上となる角度範囲）は上下１２
０゜以上、左右１２０゜以上と良好な結果であった。さ
らに白表示においても、黒表示においても、色味なくニ
ュートラルグレーが表示されている事が確認できた。又
作製したタッチパネル機能が、良好に動作することを確
認した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０９Ｆ 9/00 ３６６Ｇ０９Ｆ 9/00 ３６６Ａ５Ｇ４３５ 9/35 9/35 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA06 BA07 BA42 BB03 BC22 2H089 HA18 JA08 JA11 QA16 RA04 RA05 RA07 SA04 TA14 TA15 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 GA06 GA08 HA07 HA09 KA02 LA17 2H092 GA62 NA25 PA02 PA03 PA10 PA11 QA07 QA09 5C094 AA06 AA12 BA43 DA20 ED14 5G435 AA02 BB12 EE36 EE40 FF05 LL08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液晶セル、λ／４板および直線偏光膜を
この順序で有し、さらに、透明支持体とディスコティッ
ク液晶の配向を固定した光学異方層とを有する光学補償
シートと、少なくとも片面に透明導電膜が設けられた２
枚の透明導電性基板が透明導電膜同士が対向するように
配置されたタッチパネルとを有する液晶表示装置であっ
て、光学補償シートが、Ｒｅ（０°）の値が３５±２５
ｎｍの範囲であり、Ｒｅ（４０°）の値が１０５±５５
ｎｍの範囲であり、Ｒｅ（−４０°）の値が３５±２５
ｎｍの範囲である光学異方性を有することを特徴とする
液晶表示装置。
【請求項２】液晶セル、λ／４板および直線偏光膜を
この順序で有し、さらに、透明支持体とディスコティッ
ク液晶の配向を固定した光学異方層とを有する光学補償
シートと、少なくとも片面に透明導電膜が設けられた２
枚の透明導電性基板が透明導電膜同士が対向するように
配置されたタッチパネルとを有する液晶表示装置であっ
て、光学補償シートの透明支持体が、Ｒｅレターデーシ
ョン値が１０乃至７０ｎｍであり、Ｒthレターデーショ
ン値が７０乃至４００ｎｍである光学異方性を有するこ
とを特徴とする液晶表示装置。