JP2004247672A - バンプ形成方法及びワイヤボンディング方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】高さ及び形状が均一に形成でき、かつ生産性に優れる。
【解決手段】キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端にボール5を形成し、ボール5を電極パッド2に接合して圧着ボール6とする。次にキャピラリ3を上昇及び横方向に移動させてキャピラリ3の下端の平坦部3aを圧着ボール6に対応して位置させる。続いてキャピラリ3を下降させて圧着ボール6を押圧して第1のバンプ7を形成し、次にキャピラリ3を上昇及び前記横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリ3の下端の平坦部3bを第1のバンプ7に対応して位置させる。続いてキャピラリ3を下降させてワイヤ4を折り曲げ第1のバンプ7上に押圧して第2のバンプ2を形成し、次にワイヤ4を第2のバンプから切断する。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子実装用又はワイヤ接続用等のバンプ形成方法及び2つの導体間をワイヤボンディングするワイヤボンディング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、高さの高いバンプを極めて簡単に形成することができるバンプ形成方法として、例えば図5に示す方法(特許文献1参照)及び図6に示す方法(特許文献2参照)が挙げられる。
【0003】
【特許文献1】
特公平6−95468号公報
【特許文献2】
特許第2735022号公報
【0004】
図5のバンプ形成方法は、図5(e)に示すように半導体素子1上の電極パッド2上に突起状接点の底部20を形成し、この底部20上に連続してリング状や逆U字型の突起状接点の頂部21を形成するものである。その形成工程は、まず図5(a)に示すように,キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール22を形成する。次に図5(b)に示すように、キャピラリ3を下降させてボール22を電極パッド2上に熱圧着及び超音波振動によって接合させて突起状接点の底部20を形成する。続いて、図5(c)に示すように、キャピラリ3をループ状に移動させた後、図5(d)に示すように、キャピラリ3を下降させてワイヤ4を底部20の上面に接続してワイヤ4を切断し、リング状や逆U字型の形状の頂部21を形成する。
【0005】
図6のバンプ形成方法は、図6(i)に示すように、半導体素子1上の電極パッド2上に第1のバンプ30を形成し、この第1のバンプ30上に第2のバンプ31を形成して2段バンプ32を形成するものである。その形成工程は、まず、図6(a)に示すように、キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール33を形成する。次いで図6(b)に示すように、キャピラリ3を下降させてボール33を電極パッド2上に熱圧着及び超音波振動によって接合させて第1のバンプ30を形成する。次に図6(c)に示すように、キャピラリ3を上昇させると共に、キャピラリ3の先端の平坦部が第1のバンプ30の中心に対応して位置するようにキャピラリ3を横方向に移動させる。
【0006】
次に図6(d)に示すように、キャピラリ3を下降させて第1のバンプ30を形成し、超音波を印加してワイヤ4に切欠き部34を形成し、続いてキャピラリ3が上昇してワイヤ4を切断し、第1のバンプ30が形成される。次に図6(e)に示すように、ワイヤ4の先端にボール35を形成する。その後は、図6(b)乃至図6(d)の工程と同様に、図6(f)乃至図6(h)の工程 により、第1のバンプ30上に第2のバンプ31を形成する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
図5に示す特許文献1の方法は、頂部21の形状をリング状や逆U字型に形成するが、キャピラリ3の先端の孔の内径とワイヤの外径間にクリアランスがあるので、キャピラリ3の駆動中にワイヤ4の弛みが生じ、頂部21を均一なリング状や逆U字型の形状が得られなく、またその形状の向きにばらつきが生じる。
【0008】
図6に示す特許文献2の方法は、2段バンプ32を形成する場合、2回ボール22、33を形成する工程及び2回ワイヤ4を切断する工程を必要とする。即ち、バンプの段数分のボール形成工程及びワイヤ切断工程を必要とするので、生産性が悪いという問題があった。
【0009】
本発明の課題は、高さ及び形状が均一に形成でき、かつ生産性に優れたバンプ形成方法及びワイヤボンディング方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の請求項1は、キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とからなることを特徴とする。
【0011】
上記課題を解決するための本発明の請求項2は、キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後にワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とからなることを特徴とする。
【0012】
上記課題を解決するための本発明の請求項3は、第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを前記第2導体上に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とによって2段バンプを形成し、
その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とする。
【0013】
上記課題を解決するための本発明の請求項4は、第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後の上段のバンプに傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように形成し、ワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とから多段バンプを形成し、
その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の第1の実施の形態を図1により説明する。1は半導体素子、2は半導体素子1上に形成された電極パッド2を示す。図1(a)に示すように、図示しないクランパが閉じた状態で、キャピラリ3に挿通されたワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール5を形成する。次に図示しないクランパが開き、図1(b)に2点鎖線で示すように、キャピラリ3を下降させてボール5を電極パッド2上に超音波振動によって接合させて圧着ボール6を形成する。次に図1(b)に実線で示すようにキャピラリ3を上昇させる。続いて図1(c)に示すように、キャピラリ3の下端の平坦部3aが圧着ボール6に対応して位置するようにキャピラリ3を横方向(右方向)に移動させる。
【0015】
次に図1(d)に示すように、キャピラリ3を下降させて圧着ボール6を押圧して第1のバンプ7を形成する。次に図1(e)に示すようにキャピラリ3を上昇させる。続いて図1(f)に示すように、キャピラリ3の下端の平坦部3bが第1のバンプ7に対応して位置するように、キャピラリ3を前記と逆の横方向(左方向)に移動させる。続いて図1(g)に示すように、キャピラリ3を下降させてワイヤ4を折り曲げて第1のバンプ7上に完全に重ねて押圧し、超音波を印加して切欠き部10を形成する。これにより、第1のバンプ7上にキャピラリ3の下端面3bの外形形状が転写された傾斜ウェッジ11を持つ第2のバンプ8が形成される。次に図示しないクランパ及びキャピラリ3が共に上昇し、この上昇途中でクランパが閉じ、図1(h)に示すように、ワイヤ4は第2のバンプ8の根元より切断される。これにより、2段バンプ9が形成される。
【0016】
図2は本発明の第2の実施の形態を示す。本実施の形態は、図1(g)の工程に続く工程で、図2(d)に示すように、前記実施の形態で形成された第2のバンプ8上にキャピラリ3の下端面3aの外形形状が転写された傾斜ウェッジ15を持つ第3のバンプ12を形成して3段バンプ13を形成する場合を示す。
【0017】
図1(g)の状態より、図示しないクランパは開いたままで、図2(a)に示すようにキャピラリ3は上昇する。次に図2(b)に示すように、キャピラリ3の平坦部3aが第2のバンプ8に対応して位置するようにキャピラリ3を横方向(右方向)に移動させる。続いて図2(c)に示すように、キャピラリ3を下降させてワイヤ4を折り曲げて第2のバンプ8上に完全に重ねて押圧し、超音波を印加して切欠き部14を形成する。これにより、第2のバンプ8上にキャピラリ3の下端面3aの外形形状が転写された傾斜ウェッジ15を持つ第3のバンプ12が形成される。次に図示しないクランパ及びキャピラリ3が共に上昇し、この上昇途中でクランパが閉じ、図2(d)に示すように、ワイヤ4は第3のバンプ12の根元より切断される。これにより、3段バンプ13が形成される。
【0018】
このように、図1に示すように2段バンプ9を形成する場合、図2に示すように3段バンプ13を形成する場合、ボール5の形成は図1(a)に示す1回の工程でよく、またワイヤ切断は図1(h)又は図2(d)に示す1回の工程でよいので、生産性が向上する。また図1の2段バンプ9を形成する場合は、第1のバンプ7上にワイヤ4を完全に重ねて押圧して第2のバンプ8を形成し、図2の3段バンプ13を形成する場合も、第2のバンプ8上にワイヤ4を完全に重ねて押圧して第3のバンプ12を形成するので、2段バンプ9及び3段バンプ13の高さ及び形状が均一に形成される。
【0019】
なお、上記実施の形態においては、2段バンプ9及び3段バンプ13を形成する場合について説明したが、4段バンプ以上を形成することができることは勿論である。
【0020】
図3は、図1に示す本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いて半導体素子と配線間にワイヤボンディングする工程の1例を示す。図3において、16はセラミック基板やプリント基板等の基板又はリードフレーム等よりなる回路基板を示し、この回路基板16上には、前記電極パット2が形成された半導体素子1がマウントされ、また回路基板16には配線17が形成されている。ワイヤボンデイングする場合には、図1(h)に示す2段バンプ9の傾斜ウェッジ11の方向は、図3(a)に示すように、配線17側と反対側になるように形成する。
【0021】
次に図3(a)に示すように、ワイヤ4の先端に放電スパーク等によりボール5を形成させる。続いて図3(b)に示すように、キャピラリ3を配線17上に位置させ1次ボンディングを行う。次に図3(c)に示すように、ワイヤ4のルーピングを行い、ワイヤ4を2段バンプ9の傾斜ウェッジ11の上部に位置させ、ワイヤ4を傾斜ウェッジ11に2次ボンディングを行い、ワイヤ4を切断する。このように、傾斜ウェッジ11に沿ってワイヤ4は接合されるので、ワイヤ4と半導体素子1との接触を防止できる。また傾斜ウェッジ11の接合面積が広くなり、接合強度が向上する。
【0022】
図4は本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いて半導体素子と配線間にワイヤボンディングした状態の他の例を示す。前記実施の形態においては、電極パッド2上に2段バンプ9を形成し、配線17上に1次ボンディングを行い、2段バンプ9上の傾斜ウェッジ11に2次ボンディングを行った。図4の場合は、配線17上に図1(a)乃至図1(h)の工程で2段バンプ9を形成し、2段バンプ9上の傾斜ウェッジ11を半導体素子1側の反対側に形成した。そして、図3(a)乃至図3(c)の工程で電極パッド2上に1次ボンディングを行い、2段バンプ9上の傾斜ウェッジ11に2次ボンディングを行ってワイヤ4を切断した。即ち、図3の場合は、配線17が第1導体となり、電極パッド2が第2導体となる。図4の場合は、電極パッド2が第1導体となり、配線17が第2導体となる。
【0023】
なお、図2に示す3段バンプ13の場合も同様に半導体素子1と配線17間にワイヤボンディングすることもできることは言うまでもない。この場合も、傾斜ウェッジ15の傾斜方向は、第1導体側と反対側に形成することは勿論である。
【0024】
【発明の効果】
本発明は、キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とからなるので、高さ及び形状が均一に形成でき、かつ生産性に優れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のバンプ形成方法の第1の実施の形態を工程順に示す断面図である。
【図2】本発明のバンプ形成方法の第2の実施の形態で、図1(g)の工程に続く工程を工程順に示す断面図である。
【図3】本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いてダイと配線間がワイヤボンディングされた状態の一例を示す図である。
【図4】本発明の一実施の形態に係るワイヤボンディング方法を用いてダイと配線間がワイヤボンディングされた状態の他の例を示す図である。
【図5】従来のバンプ形成方法を工程順に示す断面図である。
【図6】従来の他のバンプ形成方法を工程順に示す断面図である。
【符号の説明】
1 半導体素子
2 電極パッド
3 キャピラリ
3a、3b 平坦部
4 ワイヤ
5 ボール
6 圧着ボール
7 第1のバンプ
8 第2のバンプ
9 2段バンプ
12 第3のバンプ
13 3段バンプ

Claims (4)

  1. キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とからなることを特徴とするバンプ形成方法。
  2. キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後にワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とからなることを特徴とするバンプ形成方法。
  3. 第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
    キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを前記第2導体上に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように第2のバンプを形成する第5の工程と、次にワイヤを前記第2のバンプから切断する第6の工程とによって2段バンプを形成し、
    その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とするワイヤボンディング方法。
  4. 第1導体上に1次ボンディングを行った後、第2導体上に2次ボンディングを行い、前記第1導体と前記第2導体間をワイヤボンディングする方法において、
    キャピラリに挿通されたワイヤの先端にボールを形成し、このボールを導体に接合して圧着ボールとする第1の工程と、次にキャピラリを上昇及び横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記圧着ボールに対応して位置させる第2の工程と、続いてキャピラリを下降させて前記圧着ボールを押圧して第1のバンプを形成する第3の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第2の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第1のバンプに対応して位置させる第4の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第1のバンプ上に押圧して第2のバンプを形成する第5の工程と、次にキャピラリを上昇及び前記第4の工程における横方向移動と反対の横方向に移動させてキャピラリの下端の平坦部を前記第2のバンプに対応して位置させる第6の工程と、続いてキャピラリを下降させてワイヤを折り曲げ前記第2のバンプ上に押圧して第3のバンプを形成する第7の工程と、これらの第1乃至第7の工程を少なくとも有し、最後の上段のバンプに傾斜ウェッジの傾斜方向が第1導体側と反対側になるように形成し、ワイヤを上段のバンプから切断する第8の工程とから多段バンプを形成し、
    その後前記1次ボンディングを行い、次に前記バンプに対して前記第1導体側からワイヤをルーピングして前記バンプ上部の傾斜ウェッジ上に前記2次ボンディングを行うことを特徴とするワイヤボンディング方法。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060091622A (ko) * 2005-02-16 2006-08-21 삼성테크윈 주식회사 와이어 본딩 방법
JP2008028236A (ja) * 2006-07-24 2008-02-07 Shinko Electric Ind Co Ltd ボンディングツールおよびバンプ形成方法
KR100808510B1 (ko) * 2005-06-28 2008-02-29 가부시키가이샤 신가와 와이어 본딩 방법
JP2008235849A (ja) * 2007-02-21 2008-10-02 Shinkawa Ltd 半導体装置及びワイヤボンディング方法
US7808116B2 (en) 2007-02-21 2010-10-05 Kabushiki Kaisha Shinkawa Semiconductor device and wire bonding method
CN102623363A (zh) * 2011-01-31 2012-08-01 株式会社东芝 接合线的接合方法、半导体装置、半导体装置的制造方法
JP2012523118A (ja) * 2009-04-01 2012-09-27 クリック アンド ソッファ インダストリーズ、インク. 導電性バンプ、ワイヤループ、およびそれらを形成する方法
JP7005820B1 (ja) * 2021-02-16 2022-01-24 三菱電機株式会社 光通信モジュールおよびその製造方法
JPWO2022113193A1 (ja) * 2020-11-25 2022-06-02
JPWO2022137288A1 (ja) * 2020-12-21 2022-06-30
DE102023100055A1 (de) 2022-02-15 2023-08-17 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005159267A (ja) * 2003-10-30 2005-06-16 Shinkawa Ltd 半導体装置及びワイヤボンディング方法
US7314157B2 (en) * 2004-08-13 2008-01-01 Asm Technology Singapore Pte Ltd Wire bond with improved shear strength
JP4298665B2 (ja) 2005-02-08 2009-07-22 株式会社新川 ワイヤボンディング方法
JP4558539B2 (ja) * 2005-03-09 2010-10-06 日立協和エンジニアリング株式会社 電子回路用基板、電子回路、電子回路用基板の製造方法および電子回路の製造方法
US20070216026A1 (en) * 2006-03-20 2007-09-20 Adams Zhu Aluminum bump bonding for fine aluminum wire
JP4216295B2 (ja) * 2006-05-01 2009-01-28 シャープ株式会社 バンプ構造およびその形成方法、ならびにそれを用いた半導体装置
US7863099B2 (en) * 2007-06-27 2011-01-04 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with overhanging connection stack
US8637394B2 (en) * 2007-07-05 2014-01-28 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with flex bump
JP4625858B2 (ja) * 2008-09-10 2011-02-02 株式会社カイジョー ワイヤボンディング方法、ワイヤボンディング装置及びワイヤボンディング制御プログラム
JP4787374B2 (ja) * 2010-01-27 2011-10-05 株式会社新川 半導体装置の製造方法並びにワイヤボンディング装置
KR20130042210A (ko) * 2011-10-18 2013-04-26 삼성전자주식회사 멀티-칩 패키지 및 그의 제조 방법
KR102094563B1 (ko) * 2012-07-17 2020-03-27 쿨리케 앤드 소파 인더스트리즈, 인코포레이티드 와이어 상호접속 구조를 형성하는 방법
US9082753B2 (en) * 2013-11-12 2015-07-14 Invensas Corporation Severing bond wire by kinking and twisting
US9087815B2 (en) * 2013-11-12 2015-07-21 Invensas Corporation Off substrate kinking of bond wire
US11145620B2 (en) * 2019-03-05 2021-10-12 Asm Technology Singapore Pte Ltd Formation of bonding wire vertical interconnects
JP7152079B2 (ja) * 2020-07-15 2022-10-12 株式会社新川 ワイヤボンディング装置及び半導体装置の製造方法
CN114078804A (zh) * 2020-08-20 2022-02-22 华为技术有限公司 一种电子载体、电器件及制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL184184C (nl) * 1981-03-20 1989-05-01 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van kontaktverhogingen op kontaktplaatsen van een electronische microketen.
JPH0695468A (ja) 1992-09-17 1994-04-08 Mita Ind Co Ltd 画像形成装置
JP2735022B2 (ja) 1995-03-22 1998-04-02 日本電気株式会社 バンプ製造方法
TW465064B (en) * 2000-12-22 2001-11-21 Advanced Semiconductor Eng Bonding process and the structure thereof
JP3913134B2 (ja) * 2002-08-08 2007-05-09 株式会社カイジョー バンプの形成方法及びバンプ
US7229906B2 (en) * 2002-09-19 2007-06-12 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Method and apparatus for forming bumps for semiconductor interconnections using a wire bonding machine

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060091622A (ko) * 2005-02-16 2006-08-21 삼성테크윈 주식회사 와이어 본딩 방법
KR100808510B1 (ko) * 2005-06-28 2008-02-29 가부시키가이샤 신가와 와이어 본딩 방법
JP2008028236A (ja) * 2006-07-24 2008-02-07 Shinko Electric Ind Co Ltd ボンディングツールおよびバンプ形成方法
JP2008235849A (ja) * 2007-02-21 2008-10-02 Shinkawa Ltd 半導体装置及びワイヤボンディング方法
US7808116B2 (en) 2007-02-21 2010-10-05 Kabushiki Kaisha Shinkawa Semiconductor device and wire bonding method
US7910472B2 (en) 2007-02-21 2011-03-22 Kabushiki Kaisha Shinkawa Method of manufacturing semiconductor device
JP2012523118A (ja) * 2009-04-01 2012-09-27 クリック アンド ソッファ インダストリーズ、インク. 導電性バンプ、ワイヤループ、およびそれらを形成する方法
TWI511209B (zh) * 2009-04-01 2015-12-01 庫力克及索發工業股份有限公司 傳導凸塊、線環及其形成方法
CN102623363A (zh) * 2011-01-31 2012-08-01 株式会社东芝 接合线的接合方法、半导体装置、半导体装置的制造方法
JP2012160554A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Toshiba Corp ボンディングワイヤの接合構造及び接合方法
WO2022113193A1 (ja) * 2020-11-25 2022-06-02 株式会社新川 ワイヤ形成方法及び半導体装置の製造方法
JPWO2022113193A1 (ja) * 2020-11-25 2022-06-02
US12374563B2 (en) 2020-11-25 2025-07-29 Shinkawa Ltd. Semiconductor device manufacturing method
JP7471692B2 (ja) 2020-11-25 2024-04-22 株式会社新川 ワイヤ形成方法及び半導体装置の製造方法
JP7333120B2 (ja) 2020-12-21 2023-08-24 株式会社新川 ワイヤ構造及びワイヤ構造形成方法
WO2022137288A1 (ja) * 2020-12-21 2022-06-30 株式会社新川 ワイヤ構造及びワイヤ構造形成方法
JPWO2022137288A1 (ja) * 2020-12-21 2022-06-30
WO2022176000A1 (ja) * 2021-02-16 2022-08-25 三菱電機株式会社 光通信モジュールおよびその製造方法
JP7005820B1 (ja) * 2021-02-16 2022-01-24 三菱電機株式会社 光通信モジュールおよびその製造方法
DE102023100055A1 (de) 2022-02-15 2023-08-17 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
JP2023118502A (ja) * 2022-02-15 2023-08-25 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP7678773B2 (ja) 2022-02-15 2025-05-16 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
DE102023100055B4 (de) * 2022-02-15 2025-11-20 Mitsubishi Electric Corporation Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung
US12512438B2 (en) 2022-02-15 2025-12-30 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor device and method for manufacturing the same

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