JP2004333742A - 光学フィルタ - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、製造が容易であり、かつ電磁波および赤外線を安定して遮蔽する光学フィルタを提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、透明基材と、前記透明基材上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された金属メッシュと、前記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とする光学フィルタを提供する。
【選択図】 図１
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、透明基材と、前記透明基材上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された金属メッシュと、前記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とする光学フィルタを提供する。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ等に用いることが可能な電磁波および赤外線を遮蔽する光学フィルタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、直接人が接近して利用する電磁波を発生する電子装置、例えばプラズマディスプレイ等のディスプレイ用電子管は、人体への影響を考慮して、電磁波放出の強さを規格内に抑えることが要求されている。これらの要求に対応するため、一般には、電磁波を発生する電子装置等の外部へ流出する電磁波を除去ないし減衰させるために、電磁波シールド等が用いられており、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう。）等のディスプレイ用パネルでは、良好な透視性の光学フィルタを前面に設けるのが普通である。
【０００３】
これらの電磁波を遮蔽する方法としては、銀等の金属をスパッタリングにより積層する方法や、金属薄膜からなるメッシュを透明基材上に積層して用いる方法（例えば特許文献１）等が知られている。
【０００４】
また、光学フィルタには、他の機器の誤動作の防止やリモートコントロールの操作性のため、ディスプレイ内部から発生する近赤外線をカットまたは吸収する機能が求められており、一般的には赤外線吸収フィルム等を積層する方法が用いられている。ここで、上記金属薄膜からなるメッシュと、赤外線吸収フィルム等を積層した場合等には、上記メッシュの凹凸によって貼りあわせの際に、気泡を噛みこんでしまうこと等によって、透明性が劣ることから、オートクレーブ中の減圧環境下にて、一定時間放置する等の脱泡処理等を行う必要があり、製造効率やコストの面で問題があった。
【０００５】
このような問題を解決するために、上記メッシュの凹凸を平坦化するために設けられる平坦化層、または上記金属メッシュと透明基材とを接着する接着層に、赤外線吸収機能を有する赤外線吸収剤を添加する方法等が報告されている（特許文献１および特許文献２）。しかしながら、上記平坦化層に上記赤外線吸収剤を含有させた場合には、その層を構成する樹脂の種類等によっては、上記赤外線吸収剤が反応してしまう等の問題があり、赤外線吸収の機能を十分に発揮できない場合がある等の問題があった。
【０００６】
また、上記金属メッシュは、透明基材上に接着層を形成し、その接着層上に金属箔を積層後、その金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工するものであり、上記接着層に赤外線吸収剤を含有させた場合には、このエッチングの際に用いられるエッチング液により、上記赤外線吸収剤等が反応する等の問題があった。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−３１１８４３号公報
【特許文献２】
特開２０００−５９０８３号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、製造が容易であり、かつ電磁波および赤外線を安定して遮蔽する光学フィルタの提供が望まれている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、透明基材と、上記透明基材上に形成された接着層と、上記接着層上に形成された金属メッシュと、上記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とする光学フィルタを提供する。
【００１０】
本発明によれば、上記平坦化層中に赤外線吸収剤が含有されていることにより、別途赤外線吸収フィルム等を貼りあわせる工程等が必要なく、製造効率およびコスト等の面からも好ましい光学フィルタとすることができる。また、上記赤外線吸収剤が上記透明樹脂中に含有されていることにより、上記透明樹脂に含まれる水酸基により、赤外線吸収剤が反応すること等を防ぐことができることから、安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能な光学フィルタとすることができるのである。
【００１１】
上記発明においては、上記透明樹脂の酸価が１０以下であることが好ましい。これにより、上記赤外線吸収剤が、上記透明樹脂中の酸により影響を受けることからも防ぐことができ、より安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能となるからである。
【００１２】
上記発明においては、さらに上記透明樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、上記平坦化層を形成する際に、上記赤外線吸収剤が含有された上記透明樹脂を塗布し、乾燥させた後、例えばミラーロール等によって上記透明樹脂のガラス転移点温度以上で圧力をかけることによって、より平坦な層を形成することができるからである。
【００１３】
また、本発明の光学フィルタは、反射防止層を有していてもよい。これにより、上記電磁波遮蔽および赤外線吸収の機能だけでなく、可視光等の反射防止の機能も有する光学フィルタとすることができるからである。
【００１４】
本発明においては、さらにネオン光吸収層を有していてもよい。これにより、例えばプラズマディスプレイパネル等の色調を調整することが可能な光学フィルタとすることができるからである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明は、製造が容易であり、かつ電磁波および赤外線を安定して遮蔽する光学フィルタに関するものである。
【００１６】
本発明の光学フィルタは、透明基材と、上記透明基材上に形成された接着層と、上記接着層上に形成された金属メッシュと、上記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とするものである。
【００１７】
本発明の光学フィルタは、例えば図１に示すように、透明基材１と、その透明基材１上に形成された接着層２と、その接着層２上に形成された金属メッシュ３と、その金属メッシュ３上に形成された平坦化層４とを有するものである。
【００１８】
通常光学フィルタにおいて赤外線吸収の機能は、赤外線吸収フィルム等を貼りあわせることにより付与されるものであり、赤外線吸収フィルムを貼りあわせる工程や、上記金属メッシュと赤外線吸収フィルムとを貼りあわせた際に噛みこまれた気泡の脱泡工程等が必要とされるものである。本発明においては、この平坦化層中に、赤外線吸収剤が含有されることから、工程数を少なくすることができ、製造効率やコストの面からも好ましい光学フィルタとすることができるのである。
【００１９】
また平坦化層中に、赤外線吸収剤を含有する場合においては、上記透明樹脂が水酸基を有する場合には、その水酸基により例えば対イオンを有する赤外線吸収剤が反応等する場合がある。本発明においては、上記透明樹脂中の水酸基価が上記値以下であることから、上記透明樹脂に含まれる水酸基により赤外線吸収剤が反応すること等を防ぐことができ、安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能なものとすることができる。また、上記金属メッシュ上に形成される平坦化層中に赤外線吸収剤が含有されることから、上記金属メッシュを形成する際の酸化鉄等のエッチング液に接触することがなく、エッチング液により赤外線吸収剤が反応すること等も防ぐことができるのである。以下、本発明の光学フィルタの各構成について説明する。
【００２０】
１．平坦化層
まず、本発明の光学フィルタに用いられる平坦化層について説明する。本発明の光学フィルタに用いられる平坦化層は、後述する電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有されたものである。ここで本発明の光学フィルタにおける平坦化層は、後述する金属メッシュによる凹凸を平坦化するものであり、金属メッシュによる凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぎ、さらにプラズマディスプレイ等から発生した赤外線を吸収する機能を有するものである。また、後述する金属メッシュ形成の際に行われるエッチングによって、後述する接着層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュを斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。
【００２１】
このような本発明の平坦化層に用いられる材料について、各材料ごとに説明する。
【００２２】
（透明樹脂）
まず、本発明の平坦化層に用いられる透明樹脂について説明する。本発明に用いられる透明樹脂は、可視光に対して透過率の高い樹脂であり、かつ水酸基価が所定の値以下のものである。
【００２３】
本発明においては、この水酸基価は、１０以下、中でも５以下、特に、０であることが好ましい。これにより、透明樹脂中に含有される、例えば対イオンを有する赤外線吸収剤が、透明樹脂に含まれる水酸基により反応すること等を防ぐことができ、安定に赤外線吸収の機能を有する光学フィルタとすることができ、また赤外線吸収剤の選択の幅を広げることが可能である。ここで、水酸基価とは、試料１ｇをアセチル化するとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ量をいうものである。
【００２４】
また、本発明においては、透明樹脂の酸価が、１０以下、中でも５以下、特に、０であることが好ましい。これにより、透明樹脂中に含有される酸により、赤外線吸収剤が反応すること等を防ぐことができ、さらに安定に赤外線吸収の機能を有する光学フィルタとすることができる。ここで、酸価とは、試料１ｇを中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ量をいう。
【００２５】
さらに、本発明においては、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１８０℃の範囲内、中でも４０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、後述する赤外線吸収剤を含有する透明樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュの凹凸により形成される凹凸を、透明樹脂基材のＴｇ以上の温度で例えばミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。
【００２６】
本発明に用いられる、上述したような性質を有する材料として、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマ−（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂等を挙げることができ、中でもアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。
【００２７】
また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜１２０万の範囲内、中でも１万〜８０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００２８】
（赤外線吸収剤）
次に、本発明に用いられる赤外線吸収剤について説明する。本発明に用いられる赤外線吸収剤は、赤外領域の光を吸収する材料であれば、その種類等は特に限定されるものではない。一般に赤外領域とは８００〜１２００ｎｍの領域を示し、本発明に用いられる赤外線吸収剤においては、上記領域内での光の透過率が２０％以下、中でも１０％以下であることが好ましい。上記透過率は、分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ 島津製作所製にてＪＩＳ Ｚ ８７２２「色の測定方法−反射及び透過物体色」に記載される方法にて測定を行った値である。
【００２９】
本発明において、赤外線吸収剤として、具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化鉛、酸化ビスマス等の無機赤外線吸収剤、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アルミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、ジイモニウム類、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類等の有機赤外線吸収剤を１種類、または２種類以上混合して用いることができる。
【００３０】
また、上記の有機赤外線吸収剤として具体的には、（以下、日本化薬社製：商品名）ＩＲＧ−００２、ＩＲＧ−００３、ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０４０、（以下、日本触媒社製：商品名）ＩＲ−１、ＩＲ−１０、ＩＲ−１２、ＩＲ−１４、ＴＸ−ＥＸ−９０６Ｂ、ＴＸ−ＥＸ−９１０Ｂ、（以下、三井化学ファイン社製：商品名）ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、（以下、みどり化学社製：商品名）ＭＩＲ−１０１、ＭＩＲ−１１１、ＭＩＲ−１２１、ＭＩＲ−１０２、ＭＩＲ−１０１１、ＭＩＲ−１０２１等が挙げられる。
【００３１】
通常、対イオン構造の赤外線吸収剤を用いた場合には、その赤外線吸収剤が含有される透明樹脂が水酸基やカルボキシル基、重合開始剤等を有する場合には、その水酸基やカルボキシル基、重合開始剤等により対イオンの均衡状態が崩れ、赤外線吸収の機能を果たすことが困難となる場合がある。
【００３２】
本発明においては、上述した透明樹脂を用いることから、対イオン構造の赤外線吸収剤であっても、反応等することがなく、本発明の効果をより発揮することができるという面から、上記の中でも対イオン構造を有するジイモニウム類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類、アルミニウム系化合物、シアニン系化合物、ピリリウム系化合物であることが好ましい。
【００３３】
また、本発明によれば、上記透明樹脂中に上記赤外線吸収剤を含有させる方法としては、上記透明樹脂を溶融させた中に、上記赤外線吸収剤を加え、溶融混練等を行う方法であってもよく、また上記赤外線吸収剤を溶剤等に溶解させて、上記透明樹脂中に混合する方法であってもよい。本発明によれば、上述した透明樹脂を用いることから、どちらの方法においても上記赤外線吸収剤を安定に分散させることが可能となるのである。
【００３４】
本発明においては、上記のうち無機赤外線吸収剤は、微粒子であることが好ましく、平均粒径は０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲内であることが好ましい。また、上記赤外線吸収剤の粒径は、可視光線透過率を良好なものとするために、１μｍ以下の分布であることが好ましい。
【００３５】
（平坦化層）
次に、本発明に用いられる平坦化層について説明する。本発明の平坦化層は、上記赤外線吸収剤を含有する上記透明基材を、溶剤等により溶解させ、後述する金属メッシュ上に塗布し、溶剤を揮発させて乾燥させることにより形成されるものである。
【００３６】
ここで、上記透明樹脂を塗布する際に用いられる溶剤としては、酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、キシレン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニトリル、トリフルオロプロパノール等が挙げられる。
【００３７】
この溶剤を揮発させる際、後述する金属メッシュの凹凸により平坦化層の表面に凹凸が形成され、これにより光学フィルタの透明性が低下する場合がある。本発明においては、この平坦化層を平坦化するために、上記溶媒を揮発させて乾燥させた後、凹凸のないミラーロール等により、上記透明樹脂のガラス転移温度以上で所定の圧力をかける工程を行うことが好ましい。これにより、平坦化層の表面の凹凸が平坦化され、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この平坦化層を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ２〜１０ｋｇ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００３８】
本発明において、このような平坦化層の膜厚は、金属メッシュが形成されていない部分、例えば図１に示すａの膜厚が、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、赤外線の吸収、および凹凸を平坦化することが可能となるからである。
【００３９】
また、本発明においては赤外線の透過率が、２０％以下、中でも１０％以下であることが好ましい。上記透過率は、上述した測定法により測定した値である。
【００４０】
２．金属メッシュ
次に、本発明に用いられる金属メッシュについて説明する。本発明に用いられる金属メッシュは、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュは、後述する透明基材上に、後述する接着層により金属箔が貼りあわせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。
【００４１】
本発明においては、この金属メッシュは、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等を用いることができる。
【００４２】
本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよいものとすることができ、また黒化処理された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００４３】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュの表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この黒化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な視認性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行うことができる。黒化処理の方法としては、ＣｒＯ２水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、後述する透明基材上に、後述する接着層により金属箔が貼りあわせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行われるものであってもよい。
【００４４】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＴＲＯＬ ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００４５】
また、本発明においては、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００４６】
さらに、本発明においては、上記金属箔は、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着層やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００４７】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、後述する接着層を用いて貼りあわせられた後に行われるものである。本発明において、このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行うことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行うことにより得ることができる。
【００４８】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュは、表面抵抗が１０−６Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０−４Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置 ロレスタ−ＧＰ （株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ Ｋ ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験方法」に記載される方法にて測定を行された値である。
【００４９】
本発明においては、このエッチング処理された後の金属メッシュは、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細い場合には、断線が起こる場合等があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００５０】
３．透明基材
次に、本発明に用いられる透明基材について説明する。本発明に用いられる透明基材は、可視光に対して透明性を有し、かつ後述する接着層と、その接着層上に上記金属メッシュとが積層されるものである。
【００５１】
本発明においては、この透明基材は透明性を有し、かつ接着層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、アクリル（ＰＭＭＡ）、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルファイド（ＰＥＳ）、ポリエーテルケトン等を用いることができ、中でもコストや取扱い性の面等から、ＰＥＴであることが好ましい。
【００５２】
また、本発明においては、この透明基材の膜厚が１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。
【００５３】
４．接着層
次に、本発明に用いられる接着層について説明する。本発明に用いられる接着層は、上述した金属メッシュおよび透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュを構成する金属箔および透明基材を接着層により貼りあわせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着層も耐エッチング性を有することが好ましい。
【００５４】
本発明においては、このような接着層の材料として、具体的には、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、ポリウレタンエステル系等が挙げられる。
【００５５】
また、本発明に用いられる接着層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。本発明においては、これらの接着層を用いてドライラミネーション法、ウェットラミネーション法等により上記透明基材および上記金属箔とを接着することができる。
【００５６】
本発明においては、この接着層の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、上記透明基材および上記金属メッシュとを強固に接着することができ、また、金属メッシュを形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００５７】
５．光学フィルタ
次に、本発明の光学フィルタについて説明する。本発明の光学フィルタは、上述した透明基材と、その透明基材上に形成された接着層と、その接着層上に形成された金属メッシュと、その金属メッシュ上に、上記平坦化層とを有することを特徴とするものであれば、その層構成等は特に限定されるものではない。本発明においては、必要に応じて例えば図２に示すように、透明基材１と、その透明基材１上に形成された接着層２と、その接着層２上に形成された金属メッシュ３と、その金属メッシュ３上に形成された、平坦化層４と、さらに透明基材１における上記接着層２が形成された面と反対側の面に、プラズマディスプレイパネル６と接着するための粘着層５とを有するものであってもよい。
【００５８】
また、例えば図３に示すように、透明基材１と、その透明基材１上に形成された接着層２と、その接着層２上に形成された金属メッシュ３と、その金属メッシュ３上に、上記平坦化層４とを有し、さらにその平坦化層４上に色調を調整するネオン光吸収層７が形成されたものであってもよい。
【００５９】
さらに、例えば図４に示すように、図３で示したネオン光吸収層７上に例えばガラス板や樹脂フィルム等の補強材８が形成され、さらにその補強材８上に反射防止層９等が形成されたものであってもよい。
【００６０】
ここで、本発明の光学フィルタは、視感透過率が４０％以上、中でも５０％以上であることが好ましい。これにより、光学フィルタを例えばプラズマディスプレイ等に用いる際に、視認性がよいものとすることができるからである。ここで、可視光とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内の光のことをいうこととする。上記視感透過率は分光光度計 ＵＶ−３１００（島津製作所）を用いてＪＩＳ Ｚ８７０１ 色の表現方法 ＸＹＺ表色系及びＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表示系 に記載される測定方法に従って測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２２ 色の測定方法−反射及び透過物体色 にて算出された、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内透過率を測定した値である。
【００６１】
６．その他
また、本発明の光学フィルタは、上述したように、反射防止層やネオン光吸収層、または補強材等を有していてもよい。これらの層について説明する。
【００６２】
（反射防止層）
まず、本発明に用いられる反射防止層について説明する。反射防止層は光学フィルタの外側からの可視光線の反射を防止するためのもので、その構成としては、単層、多層の各種知られており、多層のものとしては高屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的である。反射防止層の材質は特に限定されるものではなく、その光学フィルタの用途等により適宜選択されるものである。これらの反射防止層は、スパッタリングや蒸着等の乾式法により、あるいは、湿式法により形成することができ、高屈折率層としては、酸化ニオブ、Ｔｉ酸化物、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ等が挙げられる。また低屈折率層としては、硅素酸化物が一般的である。
【００６３】
（ネオン光吸収層）
次に、ネオン光吸収層について説明する。ネオン光吸収層とは、例えば光学フィルタをプラズマディスプレイに用いた際に、ネオン光を吸収する層である。このような材料としては、そのプラズマディスプレイ等の種類により、適宜選択されるものであり、例えばプラズマディスプレイにおけるネオン光の５９０ｎｍ近傍の発光を抑えるために用いられる、５７０〜６００ｎｍに吸収極大波長を有するシアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素等を挙げることができる。これにより色純度、色再現性等を向上させることが可能となるのである。また、本発明に用いられるネオン光吸収層は、例えば上述した平坦化層とガラス基板等を接着させるための粘着剤としての機能を果たすことも可能であり、この場合、上述した接着層中に上記の色調を調整するための顔料を含有させたもの等を用いることができる。
【００６４】
（補強材）
次に、補強材について説明する。本発明に用いられる補強材は、光学フィルタに強度を付与すること、及び衝撃を吸収することが可能なものであれば、特に限定されるものではなく、上記透明基材や平坦化層に透明粘着層等を用いて接着されるものであってもよく、また上記ネオン光吸収層等により接着されるものであってもよい。
【００６５】
このような補強材として、可視光に対して透明性を有しており、強度を有するものであれば、光学フィルタの用途に応じて、その補強材の材料等は適宜選択されるものであり、具体的には、ガラスや高分子樹脂基板等を用いることができる。
【００６６】
また、可撓性を有するものであってもよく、可撓性を有しないものであってもよい。このような補強材の厚さは、通常５０μｍ〜５００μｍとすることができる。
【００６７】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００６８】
【実施例】
以下、本発明について、実施例および比較例を通じてさらに詳述する。
【００６９】
（実施例１）
＜電磁波シールドメッシュの作製＞
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレート（東洋紡績製 Ａ４３００ 厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光および現像を行うことにより、不要な銅箔部分をエッチング除去し、３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成した。なお、この際黒化処理面はＰＤＰパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合せ面側とした。
【００７０】
＜平坦化層の作製＞
次に、固形分２０ｗｔ％に溶剤希釈された透明樹脂アクリル系バインダ（Ｔｇ１００℃、平均分子量２５万、酸価０、水酸基価０）の中に、日本化薬製 ＩＲＧ−０２２（ジイモニウム系色素）０．３ｇ／ｍ２および日本触媒製 ＩＲ−１（フタロシアニン系）０．２ｇ／ｍ２の２種の赤外線吸収色素を合計０．５ｇ／ｍ２混ぜ込みを行った。この赤線吸収色素を混ぜた樹脂バインダをアプリケーターにて、乾燥膜厚２０μｍ（非メッシュ部膜厚）となるように、上記にて作製した電磁波シールドメッシュ上に塗布し、風速５〜２０ｍ／ｓｅｃのドライエアーが当たるオーブンにて１００℃で１分間乾燥し塗膜作製した。塗布乾燥後、上記樹脂バインダのＴｇより高温の表面凹凸が少ないミラーロールにて温度１２０℃、線厚１ｋｇ／ｃｍ２の圧力を掛けて平坦化層コート面より押しつけ、平坦化層表面の凹凸を消す事により平坦化層の作製を行った。
【００７１】
＜粘着層の作製＞
離型フィルム面上に、固形分２０〜３０％に溶剤希釈されたアクリル系の粘着剤を乾燥膜厚２５μｍとなるように塗布し、風速５〜２０ｍ／ｓｅｃのドライエアーが当たるオーブンにて１００℃で１分間乾燥させ、粘着層を作製した。粘着層を温度２３℃，線圧：１ｋｇ／ｃｍ２のラミネートロールにて、電磁波シールドの透明基材（ＰＥＴ）側に透明粘着層を密着させた。その後、離型フィルムを剥離し、粘着材面側をＰＤＰ前面パネルに積層した。
【００７２】
（実施例２）
電磁波シールドメッシュの作製時に、ポリエステル系接着剤を用い、平坦化層形成における透明樹脂に、アクリル系バインダ（Ｔｇ９０℃、平均分子量２３万、酸価０、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７３】
（実施例３）
平坦化層形成における透明樹脂を、アクリル系バインダ（Ｔｇ８０℃、平均分子量２３万、酸価３、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７４】
（実施例４）
平坦化層形成における透明樹脂を、ウレタン系バインダ（Ｔｇ８０℃、平均分子量２３万、酸価３、水酸基価１）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７５】
（実施例５）
平坦化層形成における透明樹脂を、実施例４と異なるエステル系バインダ（Ｔｇ８０℃、平均分子量２３万、酸価３、水酸基価１）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７６】
（実施例６）
平坦化層形成における透明樹脂を、エステル系バインダ（Ｔｇ６０℃、平均分子量２３万、酸価１、水酸基価２）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７７】
（実施例７）
平坦化層形成における透明樹脂を、ポリカーボネート系バインダ（Ｔｇ１３０℃、平均分子量３万、酸価０、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７８】
（実施例８）
平坦化層形成における透明樹脂を、ポリカーボネート系バインダ（Ｔｇ１３０℃、平均分子量５万、酸価０、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７９】
（比較例１）
平坦化層形成における透明樹脂を、ウレタン系バインダ（Ｔｇ−２０℃、平均分子量１０００、酸価２０、水酸基価１５）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００８０】
（比較例２）
平坦化層形成における透明樹脂を、ウレタン系バインダ（Ｔｇ２℃、平均分子量５００、酸価２９、水酸基価１８）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００８１】
＜評価＞
上記実施例１から実施例８、比較例１、および比較例２で得られた電磁波シールドと平坦化層とが積層された光学フィルムの開口率、視認性、透明性、製造直後の視感透過率および赤外線透過率、６０℃９０％１０００時間後の視感透過率および赤外線透過率について測定した結果を表１に示す。
【００８２】
【表１】
【００８３】
上記の測定は、以下の各測定条件で行った。
【００８４】
開口率：光学顕微鏡を用いて電磁波シールドメッシュ表面の写真を撮影し、その写真の銅メッシュ部と空隙部分の面積を測定し、その面積比率より開口率を算出した。
【００８５】
視認性：目視により確認を行った。
【００８６】
透明性：カラーコンピューター ＳＭ−Ｃ スガ試験機製にてＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に記載される方法にてヘイズ（濁度）の測定を行った。
【００８７】
視感透過率：分光光度計 ＵＶ−３１００（島津製作所）を用いてＪＩＳ Ｚ８７０１ 色の表現方法 ＸＹＺ表色系及びＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表示系 に記載される測定方法に従って測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２２ 色の測定方法−反射及び透過物体色
にて算出された、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内透過率の測定を行った。
【００８８】
赤外線透過率：分光光度計 ＵＶ−３１００ＰＣ 島津製作所製にてＪＩＳ Ｚ ８７２２「色の測定方法−反射及び透過物体色」に記載される方法にて測定を行った。
【００８９】
上記で得られた、本発明の実施例１から実施例８において、電磁波シールドと平坦化層とが積層化された光学フィルムは、耐湿熱試験６０℃９０％１０００時間を行った後であっても、赤外線吸収性能には、初期状態が維持されて、良好な状態であった。
【００９０】
また、本発明の実施例１から実施例８において、電磁波シールドと平坦化層とが積層化された光学フィルムをプラズマディスプレイの表面に直接積層した場合、赤外線吸収色素を含む最表層の平坦化層の効果により、電磁波シールドメッシュのエッチングされた断面が乱反射する事もなくプラズマディスプレイの死角に近い斜め方向から見てもギラツキ無く画像を認識する事ができる透視性と良好な電磁波遮蔽性を有していた。さらに、通常は赤外線吸収層、粘着層等を積層する透明樹脂基材を有する赤外線吸収フィルタを有するが、本発明ではディスプレイに上にコーティングされたできるだけ少ない層構成で、ディスプレイ内部から発生する近赤外線（光）をカット又は吸収し、また、ディスプレイ用パネルから発光する光と、入射してくる外光の内、特に可視光の特定の波長を吸収することができた。これにより、他の機器の誤動作が無く、また、ディスプレイ画面の画像等のコントラストを向上させることにより、良好な視認性が得られた。また、電磁波遮蔽について、銅薄膜からなるメッシュを用いることで、特にエッチング加工に適している上に、電磁波遮蔽効果も高いものとすることができた。さらに、金属薄膜からなるメッシュを黒化処理することによって、外光を吸収する性能が特に高まり、より視認性を高める事ができるものとなった。
【００９１】
【発明の効果】
本発明によれば、上記平坦化層中に赤外線吸収剤が含有されていることにより、別途赤外線吸収フィルム等を貼りあわせる工程等が必要なく、製造効率およびコスト等の面からも好ましい光学フィルタとすることができる。また、上記赤外線吸収剤が上記透明樹脂中に含有されていることにより、上記透明樹脂に含まれる水酸基により、赤外線吸収剤が反応することを防ぐことができることから、安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能な光学フィルタとすることができるのである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学フィルタの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の光学フィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の光学フィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の光学フィルタの他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１ … 透明基材
２ … 接着層
３ … 金属メッシュ
４ … 平坦化層
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ等に用いることが可能な電磁波および赤外線を遮蔽する光学フィルタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、直接人が接近して利用する電磁波を発生する電子装置、例えばプラズマディスプレイ等のディスプレイ用電子管は、人体への影響を考慮して、電磁波放出の強さを規格内に抑えることが要求されている。これらの要求に対応するため、一般には、電磁波を発生する電子装置等の外部へ流出する電磁波を除去ないし減衰させるために、電磁波シールド等が用いられており、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰともいう。）等のディスプレイ用パネルでは、良好な透視性の光学フィルタを前面に設けるのが普通である。
【０００３】
これらの電磁波を遮蔽する方法としては、銀等の金属をスパッタリングにより積層する方法や、金属薄膜からなるメッシュを透明基材上に積層して用いる方法（例えば特許文献１）等が知られている。
【０００４】
また、光学フィルタには、他の機器の誤動作の防止やリモートコントロールの操作性のため、ディスプレイ内部から発生する近赤外線をカットまたは吸収する機能が求められており、一般的には赤外線吸収フィルム等を積層する方法が用いられている。ここで、上記金属薄膜からなるメッシュと、赤外線吸収フィルム等を積層した場合等には、上記メッシュの凹凸によって貼りあわせの際に、気泡を噛みこんでしまうこと等によって、透明性が劣ることから、オートクレーブ中の減圧環境下にて、一定時間放置する等の脱泡処理等を行う必要があり、製造効率やコストの面で問題があった。
【０００５】
このような問題を解決するために、上記メッシュの凹凸を平坦化するために設けられる平坦化層、または上記金属メッシュと透明基材とを接着する接着層に、赤外線吸収機能を有する赤外線吸収剤を添加する方法等が報告されている（特許文献１および特許文献２）。しかしながら、上記平坦化層に上記赤外線吸収剤を含有させた場合には、その層を構成する樹脂の種類等によっては、上記赤外線吸収剤が反応してしまう等の問題があり、赤外線吸収の機能を十分に発揮できない場合がある等の問題があった。
【０００６】
また、上記金属メッシュは、透明基材上に接着層を形成し、その接着層上に金属箔を積層後、その金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工するものであり、上記接着層に赤外線吸収剤を含有させた場合には、このエッチングの際に用いられるエッチング液により、上記赤外線吸収剤等が反応する等の問題があった。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００２−３１１８４３号公報
【特許文献２】
特開２０００−５９０８３号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、製造が容易であり、かつ電磁波および赤外線を安定して遮蔽する光学フィルタの提供が望まれている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、透明基材と、上記透明基材上に形成された接着層と、上記接着層上に形成された金属メッシュと、上記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とする光学フィルタを提供する。
【００１０】
本発明によれば、上記平坦化層中に赤外線吸収剤が含有されていることにより、別途赤外線吸収フィルム等を貼りあわせる工程等が必要なく、製造効率およびコスト等の面からも好ましい光学フィルタとすることができる。また、上記赤外線吸収剤が上記透明樹脂中に含有されていることにより、上記透明樹脂に含まれる水酸基により、赤外線吸収剤が反応すること等を防ぐことができることから、安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能な光学フィルタとすることができるのである。
【００１１】
上記発明においては、上記透明樹脂の酸価が１０以下であることが好ましい。これにより、上記赤外線吸収剤が、上記透明樹脂中の酸により影響を受けることからも防ぐことができ、より安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能となるからである。
【００１２】
上記発明においては、さらに上記透明樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、上記平坦化層を形成する際に、上記赤外線吸収剤が含有された上記透明樹脂を塗布し、乾燥させた後、例えばミラーロール等によって上記透明樹脂のガラス転移点温度以上で圧力をかけることによって、より平坦な層を形成することができるからである。
【００１３】
また、本発明の光学フィルタは、反射防止層を有していてもよい。これにより、上記電磁波遮蔽および赤外線吸収の機能だけでなく、可視光等の反射防止の機能も有する光学フィルタとすることができるからである。
【００１４】
本発明においては、さらにネオン光吸収層を有していてもよい。これにより、例えばプラズマディスプレイパネル等の色調を調整することが可能な光学フィルタとすることができるからである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明は、製造が容易であり、かつ電磁波および赤外線を安定して遮蔽する光学フィルタに関するものである。
【００１６】
本発明の光学フィルタは、透明基材と、上記透明基材上に形成された接着層と、上記接着層上に形成された金属メッシュと、上記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とするものである。
【００１７】
本発明の光学フィルタは、例えば図１に示すように、透明基材１と、その透明基材１上に形成された接着層２と、その接着層２上に形成された金属メッシュ３と、その金属メッシュ３上に形成された平坦化層４とを有するものである。
【００１８】
通常光学フィルタにおいて赤外線吸収の機能は、赤外線吸収フィルム等を貼りあわせることにより付与されるものであり、赤外線吸収フィルムを貼りあわせる工程や、上記金属メッシュと赤外線吸収フィルムとを貼りあわせた際に噛みこまれた気泡の脱泡工程等が必要とされるものである。本発明においては、この平坦化層中に、赤外線吸収剤が含有されることから、工程数を少なくすることができ、製造効率やコストの面からも好ましい光学フィルタとすることができるのである。
【００１９】
また平坦化層中に、赤外線吸収剤を含有する場合においては、上記透明樹脂が水酸基を有する場合には、その水酸基により例えば対イオンを有する赤外線吸収剤が反応等する場合がある。本発明においては、上記透明樹脂中の水酸基価が上記値以下であることから、上記透明樹脂に含まれる水酸基により赤外線吸収剤が反応すること等を防ぐことができ、安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能なものとすることができる。また、上記金属メッシュ上に形成される平坦化層中に赤外線吸収剤が含有されることから、上記金属メッシュを形成する際の酸化鉄等のエッチング液に接触することがなく、エッチング液により赤外線吸収剤が反応すること等も防ぐことができるのである。以下、本発明の光学フィルタの各構成について説明する。
【００２０】
１．平坦化層
まず、本発明の光学フィルタに用いられる平坦化層について説明する。本発明の光学フィルタに用いられる平坦化層は、後述する電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有されたものである。ここで本発明の光学フィルタにおける平坦化層は、後述する金属メッシュによる凹凸を平坦化するものであり、金属メッシュによる凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぎ、さらにプラズマディスプレイ等から発生した赤外線を吸収する機能を有するものである。また、後述する金属メッシュ形成の際に行われるエッチングによって、後述する接着層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュを斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。
【００２１】
このような本発明の平坦化層に用いられる材料について、各材料ごとに説明する。
【００２２】
（透明樹脂）
まず、本発明の平坦化層に用いられる透明樹脂について説明する。本発明に用いられる透明樹脂は、可視光に対して透過率の高い樹脂であり、かつ水酸基価が所定の値以下のものである。
【００２３】
本発明においては、この水酸基価は、１０以下、中でも５以下、特に、０であることが好ましい。これにより、透明樹脂中に含有される、例えば対イオンを有する赤外線吸収剤が、透明樹脂に含まれる水酸基により反応すること等を防ぐことができ、安定に赤外線吸収の機能を有する光学フィルタとすることができ、また赤外線吸収剤の選択の幅を広げることが可能である。ここで、水酸基価とは、試料１ｇをアセチル化するとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ量をいうものである。
【００２４】
また、本発明においては、透明樹脂の酸価が、１０以下、中でも５以下、特に、０であることが好ましい。これにより、透明樹脂中に含有される酸により、赤外線吸収剤が反応すること等を防ぐことができ、さらに安定に赤外線吸収の機能を有する光学フィルタとすることができる。ここで、酸価とは、試料１ｇを中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ量をいう。
【００２５】
さらに、本発明においては、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１８０℃の範囲内、中でも４０℃〜１５０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、後述する赤外線吸収剤を含有する透明樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュの凹凸により形成される凹凸を、透明樹脂基材のＴｇ以上の温度で例えばミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。
【００２６】
本発明に用いられる、上述したような性質を有する材料として、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマ−（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂等を挙げることができ、中でもアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。
【００２７】
また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜１２０万の範囲内、中でも１万〜８０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００２８】
（赤外線吸収剤）
次に、本発明に用いられる赤外線吸収剤について説明する。本発明に用いられる赤外線吸収剤は、赤外領域の光を吸収する材料であれば、その種類等は特に限定されるものではない。一般に赤外領域とは８００〜１２００ｎｍの領域を示し、本発明に用いられる赤外線吸収剤においては、上記領域内での光の透過率が２０％以下、中でも１０％以下であることが好ましい。上記透過率は、分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ 島津製作所製にてＪＩＳ Ｚ ８７２２「色の測定方法−反射及び透過物体色」に記載される方法にて測定を行った値である。
【００２９】
本発明において、赤外線吸収剤として、具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化鉛、酸化ビスマス等の無機赤外線吸収剤、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アルミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、ジイモニウム類、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類等の有機赤外線吸収剤を１種類、または２種類以上混合して用いることができる。
【００３０】
また、上記の有機赤外線吸収剤として具体的には、（以下、日本化薬社製：商品名）ＩＲＧ−００２、ＩＲＧ−００３、ＩＲＧ−０２２、ＩＲＧ−０２３、ＩＲＧ−０４０、（以下、日本触媒社製：商品名）ＩＲ−１、ＩＲ−１０、ＩＲ−１２、ＩＲ−１４、ＴＸ−ＥＸ−９０６Ｂ、ＴＸ−ＥＸ−９１０Ｂ、（以下、三井化学ファイン社製：商品名）ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、（以下、みどり化学社製：商品名）ＭＩＲ−１０１、ＭＩＲ−１１１、ＭＩＲ−１２１、ＭＩＲ−１０２、ＭＩＲ−１０１１、ＭＩＲ−１０２１等が挙げられる。
【００３１】
通常、対イオン構造の赤外線吸収剤を用いた場合には、その赤外線吸収剤が含有される透明樹脂が水酸基やカルボキシル基、重合開始剤等を有する場合には、その水酸基やカルボキシル基、重合開始剤等により対イオンの均衡状態が崩れ、赤外線吸収の機能を果たすことが困難となる場合がある。
【００３２】
本発明においては、上述した透明樹脂を用いることから、対イオン構造の赤外線吸収剤であっても、反応等することがなく、本発明の効果をより発揮することができるという面から、上記の中でも対イオン構造を有するジイモニウム類、ニッケル錯体類、ジチオール系錯体類、アルミニウム系化合物、シアニン系化合物、ピリリウム系化合物であることが好ましい。
【００３３】
また、本発明によれば、上記透明樹脂中に上記赤外線吸収剤を含有させる方法としては、上記透明樹脂を溶融させた中に、上記赤外線吸収剤を加え、溶融混練等を行う方法であってもよく、また上記赤外線吸収剤を溶剤等に溶解させて、上記透明樹脂中に混合する方法であってもよい。本発明によれば、上述した透明樹脂を用いることから、どちらの方法においても上記赤外線吸収剤を安定に分散させることが可能となるのである。
【００３４】
本発明においては、上記のうち無機赤外線吸収剤は、微粒子であることが好ましく、平均粒径は０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．０５μｍ〜０．５μｍの範囲内であることが好ましい。また、上記赤外線吸収剤の粒径は、可視光線透過率を良好なものとするために、１μｍ以下の分布であることが好ましい。
【００３５】
（平坦化層）
次に、本発明に用いられる平坦化層について説明する。本発明の平坦化層は、上記赤外線吸収剤を含有する上記透明基材を、溶剤等により溶解させ、後述する金属メッシュ上に塗布し、溶剤を揮発させて乾燥させることにより形成されるものである。
【００３６】
ここで、上記透明樹脂を塗布する際に用いられる溶剤としては、酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、キシレン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトニトリル、トリフルオロプロパノール等が挙げられる。
【００３７】
この溶剤を揮発させる際、後述する金属メッシュの凹凸により平坦化層の表面に凹凸が形成され、これにより光学フィルタの透明性が低下する場合がある。本発明においては、この平坦化層を平坦化するために、上記溶媒を揮発させて乾燥させた後、凹凸のないミラーロール等により、上記透明樹脂のガラス転移温度以上で所定の圧力をかける工程を行うことが好ましい。これにより、平坦化層の表面の凹凸が平坦化され、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この平坦化層を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ２〜１０ｋｇ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００３８】
本発明において、このような平坦化層の膜厚は、金属メッシュが形成されていない部分、例えば図１に示すａの膜厚が、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、赤外線の吸収、および凹凸を平坦化することが可能となるからである。
【００３９】
また、本発明においては赤外線の透過率が、２０％以下、中でも１０％以下であることが好ましい。上記透過率は、上述した測定法により測定した値である。
【００４０】
２．金属メッシュ
次に、本発明に用いられる金属メッシュについて説明する。本発明に用いられる金属メッシュは、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュは、後述する透明基材上に、後述する接着層により金属箔が貼りあわせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。
【００４１】
本発明においては、この金属メッシュは、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等を用いることができる。
【００４２】
本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよいものとすることができ、また黒化処理された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００４３】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュの表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この黒化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な視認性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行うことができる。黒化処理の方法としては、ＣｒＯ２水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、後述する透明基材上に、後述する接着層により金属箔が貼りあわせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行われるものであってもよい。
【００４４】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ ＣＯＮＴＲＯＬ ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００４５】
また、本発明においては、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００４６】
さらに、本発明においては、上記金属箔は、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着層やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００４７】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、後述する接着層を用いて貼りあわせられた後に行われるものである。本発明において、このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行うことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行うことにより得ることができる。
【００４８】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュは、表面抵抗が１０−６Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０−４Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置 ロレスタ−ＧＰ （株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ Ｋ ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験方法」に記載される方法にて測定を行された値である。
【００４９】
本発明においては、このエッチング処理された後の金属メッシュは、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細い場合には、断線が起こる場合等があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００５０】
３．透明基材
次に、本発明に用いられる透明基材について説明する。本発明に用いられる透明基材は、可視光に対して透明性を有し、かつ後述する接着層と、その接着層上に上記金属メッシュとが積層されるものである。
【００５１】
本発明においては、この透明基材は透明性を有し、かつ接着層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、アクリル（ＰＭＭＡ）、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルファイド（ＰＥＳ）、ポリエーテルケトン等を用いることができ、中でもコストや取扱い性の面等から、ＰＥＴであることが好ましい。
【００５２】
また、本発明においては、この透明基材の膜厚が１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。
【００５３】
４．接着層
次に、本発明に用いられる接着層について説明する。本発明に用いられる接着層は、上述した金属メッシュおよび透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュを構成する金属箔および透明基材を接着層により貼りあわせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着層も耐エッチング性を有することが好ましい。
【００５４】
本発明においては、このような接着層の材料として、具体的には、アクリル系、エステル系、ウレタン系、フッ素系、ポリイミド系、エポキシ系、ポリウレタンエステル系等が挙げられる。
【００５５】
また、本発明に用いられる接着層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。本発明においては、これらの接着層を用いてドライラミネーション法、ウェットラミネーション法等により上記透明基材および上記金属箔とを接着することができる。
【００５６】
本発明においては、この接着層の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、上記透明基材および上記金属メッシュとを強固に接着することができ、また、金属メッシュを形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００５７】
５．光学フィルタ
次に、本発明の光学フィルタについて説明する。本発明の光学フィルタは、上述した透明基材と、その透明基材上に形成された接着層と、その接着層上に形成された金属メッシュと、その金属メッシュ上に、上記平坦化層とを有することを特徴とするものであれば、その層構成等は特に限定されるものではない。本発明においては、必要に応じて例えば図２に示すように、透明基材１と、その透明基材１上に形成された接着層２と、その接着層２上に形成された金属メッシュ３と、その金属メッシュ３上に形成された、平坦化層４と、さらに透明基材１における上記接着層２が形成された面と反対側の面に、プラズマディスプレイパネル６と接着するための粘着層５とを有するものであってもよい。
【００５８】
また、例えば図３に示すように、透明基材１と、その透明基材１上に形成された接着層２と、その接着層２上に形成された金属メッシュ３と、その金属メッシュ３上に、上記平坦化層４とを有し、さらにその平坦化層４上に色調を調整するネオン光吸収層７が形成されたものであってもよい。
【００５９】
さらに、例えば図４に示すように、図３で示したネオン光吸収層７上に例えばガラス板や樹脂フィルム等の補強材８が形成され、さらにその補強材８上に反射防止層９等が形成されたものであってもよい。
【００６０】
ここで、本発明の光学フィルタは、視感透過率が４０％以上、中でも５０％以上であることが好ましい。これにより、光学フィルタを例えばプラズマディスプレイ等に用いる際に、視認性がよいものとすることができるからである。ここで、可視光とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内の光のことをいうこととする。上記視感透過率は分光光度計 ＵＶ−３１００（島津製作所）を用いてＪＩＳ Ｚ８７０１ 色の表現方法 ＸＹＺ表色系及びＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表示系 に記載される測定方法に従って測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２２ 色の測定方法−反射及び透過物体色 にて算出された、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内透過率を測定した値である。
【００６１】
６．その他
また、本発明の光学フィルタは、上述したように、反射防止層やネオン光吸収層、または補強材等を有していてもよい。これらの層について説明する。
【００６２】
（反射防止層）
まず、本発明に用いられる反射防止層について説明する。反射防止層は光学フィルタの外側からの可視光線の反射を防止するためのもので、その構成としては、単層、多層の各種知られており、多層のものとしては高屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的である。反射防止層の材質は特に限定されるものではなく、その光学フィルタの用途等により適宜選択されるものである。これらの反射防止層は、スパッタリングや蒸着等の乾式法により、あるいは、湿式法により形成することができ、高屈折率層としては、酸化ニオブ、Ｔｉ酸化物、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ等が挙げられる。また低屈折率層としては、硅素酸化物が一般的である。
【００６３】
（ネオン光吸収層）
次に、ネオン光吸収層について説明する。ネオン光吸収層とは、例えば光学フィルタをプラズマディスプレイに用いた際に、ネオン光を吸収する層である。このような材料としては、そのプラズマディスプレイ等の種類により、適宜選択されるものであり、例えばプラズマディスプレイにおけるネオン光の５９０ｎｍ近傍の発光を抑えるために用いられる、５７０〜６００ｎｍに吸収極大波長を有するシアニン系色素、サブフタロシアニン系色素、ポルフィリン系色素等を挙げることができる。これにより色純度、色再現性等を向上させることが可能となるのである。また、本発明に用いられるネオン光吸収層は、例えば上述した平坦化層とガラス基板等を接着させるための粘着剤としての機能を果たすことも可能であり、この場合、上述した接着層中に上記の色調を調整するための顔料を含有させたもの等を用いることができる。
【００６４】
（補強材）
次に、補強材について説明する。本発明に用いられる補強材は、光学フィルタに強度を付与すること、及び衝撃を吸収することが可能なものであれば、特に限定されるものではなく、上記透明基材や平坦化層に透明粘着層等を用いて接着されるものであってもよく、また上記ネオン光吸収層等により接着されるものであってもよい。
【００６５】
このような補強材として、可視光に対して透明性を有しており、強度を有するものであれば、光学フィルタの用途に応じて、その補強材の材料等は適宜選択されるものであり、具体的には、ガラスや高分子樹脂基板等を用いることができる。
【００６６】
また、可撓性を有するものであってもよく、可撓性を有しないものであってもよい。このような補強材の厚さは、通常５０μｍ〜５００μｍとすることができる。
【００６７】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００６８】
【実施例】
以下、本発明について、実施例および比較例を通じてさらに詳述する。
【００６９】
（実施例１）
＜電磁波シールドメッシュの作製＞
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレート（東洋紡績製 Ａ４３００ 厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光および現像を行うことにより、不要な銅箔部分をエッチング除去し、３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成した。なお、この際黒化処理面はＰＤＰパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合せ面側とした。
【００７０】
＜平坦化層の作製＞
次に、固形分２０ｗｔ％に溶剤希釈された透明樹脂アクリル系バインダ（Ｔｇ１００℃、平均分子量２５万、酸価０、水酸基価０）の中に、日本化薬製 ＩＲＧ−０２２（ジイモニウム系色素）０．３ｇ／ｍ２および日本触媒製 ＩＲ−１（フタロシアニン系）０．２ｇ／ｍ２の２種の赤外線吸収色素を合計０．５ｇ／ｍ２混ぜ込みを行った。この赤線吸収色素を混ぜた樹脂バインダをアプリケーターにて、乾燥膜厚２０μｍ（非メッシュ部膜厚）となるように、上記にて作製した電磁波シールドメッシュ上に塗布し、風速５〜２０ｍ／ｓｅｃのドライエアーが当たるオーブンにて１００℃で１分間乾燥し塗膜作製した。塗布乾燥後、上記樹脂バインダのＴｇより高温の表面凹凸が少ないミラーロールにて温度１２０℃、線厚１ｋｇ／ｃｍ２の圧力を掛けて平坦化層コート面より押しつけ、平坦化層表面の凹凸を消す事により平坦化層の作製を行った。
【００７１】
＜粘着層の作製＞
離型フィルム面上に、固形分２０〜３０％に溶剤希釈されたアクリル系の粘着剤を乾燥膜厚２５μｍとなるように塗布し、風速５〜２０ｍ／ｓｅｃのドライエアーが当たるオーブンにて１００℃で１分間乾燥させ、粘着層を作製した。粘着層を温度２３℃，線圧：１ｋｇ／ｃｍ２のラミネートロールにて、電磁波シールドの透明基材（ＰＥＴ）側に透明粘着層を密着させた。その後、離型フィルムを剥離し、粘着材面側をＰＤＰ前面パネルに積層した。
【００７２】
（実施例２）
電磁波シールドメッシュの作製時に、ポリエステル系接着剤を用い、平坦化層形成における透明樹脂に、アクリル系バインダ（Ｔｇ９０℃、平均分子量２３万、酸価０、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７３】
（実施例３）
平坦化層形成における透明樹脂を、アクリル系バインダ（Ｔｇ８０℃、平均分子量２３万、酸価３、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７４】
（実施例４）
平坦化層形成における透明樹脂を、ウレタン系バインダ（Ｔｇ８０℃、平均分子量２３万、酸価３、水酸基価１）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７５】
（実施例５）
平坦化層形成における透明樹脂を、実施例４と異なるエステル系バインダ（Ｔｇ８０℃、平均分子量２３万、酸価３、水酸基価１）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７６】
（実施例６）
平坦化層形成における透明樹脂を、エステル系バインダ（Ｔｇ６０℃、平均分子量２３万、酸価１、水酸基価２）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７７】
（実施例７）
平坦化層形成における透明樹脂を、ポリカーボネート系バインダ（Ｔｇ１３０℃、平均分子量３万、酸価０、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７８】
（実施例８）
平坦化層形成における透明樹脂を、ポリカーボネート系バインダ（Ｔｇ１３０℃、平均分子量５万、酸価０、水酸基価０）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００７９】
（比較例１）
平坦化層形成における透明樹脂を、ウレタン系バインダ（Ｔｇ−２０℃、平均分子量１０００、酸価２０、水酸基価１５）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００８０】
（比較例２）
平坦化層形成における透明樹脂を、ウレタン系バインダ（Ｔｇ２℃、平均分子量５００、酸価２９、水酸基価１８）を用いた以外は、上記実施例１と同様に行った。
【００８１】
＜評価＞
上記実施例１から実施例８、比較例１、および比較例２で得られた電磁波シールドと平坦化層とが積層された光学フィルムの開口率、視認性、透明性、製造直後の視感透過率および赤外線透過率、６０℃９０％１０００時間後の視感透過率および赤外線透過率について測定した結果を表１に示す。
【００８２】
【表１】
上記の測定は、以下の各測定条件で行った。
【００８４】
開口率：光学顕微鏡を用いて電磁波シールドメッシュ表面の写真を撮影し、その写真の銅メッシュ部と空隙部分の面積を測定し、その面積比率より開口率を算出した。
【００８５】
視認性：目視により確認を行った。
【００８６】
透明性：カラーコンピューター ＳＭ−Ｃ スガ試験機製にてＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に記載される方法にてヘイズ（濁度）の測定を行った。
【００８７】
視感透過率：分光光度計 ＵＶ−３１００（島津製作所）を用いてＪＩＳ Ｚ８７０１ 色の表現方法 ＸＹＺ表色系及びＸ１０Ｙ１０Ｚ１０表示系 に記載される測定方法に従って測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７２２ 色の測定方法−反射及び透過物体色
にて算出された、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内透過率の測定を行った。
【００８８】
赤外線透過率：分光光度計 ＵＶ−３１００ＰＣ 島津製作所製にてＪＩＳ Ｚ ８７２２「色の測定方法−反射及び透過物体色」に記載される方法にて測定を行った。
【００８９】
上記で得られた、本発明の実施例１から実施例８において、電磁波シールドと平坦化層とが積層化された光学フィルムは、耐湿熱試験６０℃９０％１０００時間を行った後であっても、赤外線吸収性能には、初期状態が維持されて、良好な状態であった。
【００９０】
また、本発明の実施例１から実施例８において、電磁波シールドと平坦化層とが積層化された光学フィルムをプラズマディスプレイの表面に直接積層した場合、赤外線吸収色素を含む最表層の平坦化層の効果により、電磁波シールドメッシュのエッチングされた断面が乱反射する事もなくプラズマディスプレイの死角に近い斜め方向から見てもギラツキ無く画像を認識する事ができる透視性と良好な電磁波遮蔽性を有していた。さらに、通常は赤外線吸収層、粘着層等を積層する透明樹脂基材を有する赤外線吸収フィルタを有するが、本発明ではディスプレイに上にコーティングされたできるだけ少ない層構成で、ディスプレイ内部から発生する近赤外線（光）をカット又は吸収し、また、ディスプレイ用パネルから発光する光と、入射してくる外光の内、特に可視光の特定の波長を吸収することができた。これにより、他の機器の誤動作が無く、また、ディスプレイ画面の画像等のコントラストを向上させることにより、良好な視認性が得られた。また、電磁波遮蔽について、銅薄膜からなるメッシュを用いることで、特にエッチング加工に適している上に、電磁波遮蔽効果も高いものとすることができた。さらに、金属薄膜からなるメッシュを黒化処理することによって、外光を吸収する性能が特に高まり、より視認性を高める事ができるものとなった。
【００９１】
【発明の効果】
本発明によれば、上記平坦化層中に赤外線吸収剤が含有されていることにより、別途赤外線吸収フィルム等を貼りあわせる工程等が必要なく、製造効率およびコスト等の面からも好ましい光学フィルタとすることができる。また、上記赤外線吸収剤が上記透明樹脂中に含有されていることにより、上記透明樹脂に含まれる水酸基により、赤外線吸収剤が反応することを防ぐことができることから、安定に赤外線吸収の機能を発揮することが可能な光学フィルタとすることができるのである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学フィルタの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の光学フィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の光学フィルタの他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の光学フィルタの他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１ … 透明基材
２ … 接着層
３ … 金属メッシュ
４ … 平坦化層
Claims (5)
- 透明基材と、前記透明基材上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された金属メッシュと、前記金属メッシュ上に形成され、かつ水酸基価が１０以下である透明樹脂に赤外線を吸収する赤外線吸収剤が含有された平坦化層とを有することを特徴とする光学フィルタ。
- 前記透明樹脂の酸価が１０以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタ。
- 前記透明樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学フィルタ。
- 反射防止層を有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の光学フィルタ。
- ネオン光吸収層を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の光学フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003127936A JP2004333742A (ja) | 2003-05-06 | 2003-05-06 | 光学フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003127936A JP2004333742A (ja) | 2003-05-06 | 2003-05-06 | 光学フィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004333742A true JP2004333742A (ja) | 2004-11-25 |
Family
ID=33504269
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003127936A Pending JP2004333742A (ja) | 2003-05-06 | 2003-05-06 | 光学フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004333742A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210572A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽部材 |
| JP2007233134A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Bridgestone Corp | ディスプレイ用光学フィルタ、その製造方法及びこれを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2011146716A (ja) * | 2011-01-17 | 2011-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽部材 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120002A (ja) * | 1984-07-07 | 1986-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学フイルタ−材 |
| JPS6173902A (ja) * | 1984-09-20 | 1986-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線吸収性組成物 |
| JPH04317441A (ja) * | 1991-04-12 | 1992-11-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 近赤外線吸収ガラス |
| JP2002082219A (ja) * | 1996-04-18 | 2002-03-22 | Kanebo Ltd | 近赤外線吸収フィルム及び当該フィルムを含む多層パネル |
| JP2002198688A (ja) * | 2000-10-19 | 2002-07-12 | Nisshinbo Ind Inc | 透視性電磁波シールド・近赤外線カット材料及びその製造方法 |
| JP2002264278A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-18 | Nisshinbo Ind Inc | 近赤外線カット材料及びその製造方法 |
| JP2002311843A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽用部材及びディスプレイ |
| JP2002335095A (ja) * | 2002-02-20 | 2002-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体及びディスプレイの製造法 |
| JP2002359491A (ja) * | 2002-02-20 | 2002-12-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ |
| JP2002366048A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | プラズマディスプレイ用フィルター |
-
2003
- 2003-05-06 JP JP2003127936A patent/JP2004333742A/ja active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6120002A (ja) * | 1984-07-07 | 1986-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学フイルタ−材 |
| JPS6173902A (ja) * | 1984-09-20 | 1986-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線吸収性組成物 |
| JPH04317441A (ja) * | 1991-04-12 | 1992-11-09 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 近赤外線吸収ガラス |
| JP2002082219A (ja) * | 1996-04-18 | 2002-03-22 | Kanebo Ltd | 近赤外線吸収フィルム及び当該フィルムを含む多層パネル |
| JP2002198688A (ja) * | 2000-10-19 | 2002-07-12 | Nisshinbo Ind Inc | 透視性電磁波シールド・近赤外線カット材料及びその製造方法 |
| JP2002264278A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-18 | Nisshinbo Ind Inc | 近赤外線カット材料及びその製造方法 |
| JP2002311843A (ja) * | 2001-04-17 | 2002-10-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽用部材及びディスプレイ |
| JP2002366048A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | プラズマディスプレイ用フィルター |
| JP2002335095A (ja) * | 2002-02-20 | 2002-11-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体及びディスプレイの製造法 |
| JP2002359491A (ja) * | 2002-02-20 | 2002-12-13 | Hitachi Chem Co Ltd | 電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006210572A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽部材 |
| JP2007233134A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Bridgestone Corp | ディスプレイ用光学フィルタ、その製造方法及びこれを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル |
| JP2011146716A (ja) * | 2011-01-17 | 2011-07-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 電磁波遮蔽部材 |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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