JP2005012085A - 半導体モジュールの電極構造 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来の半導体モジュールでは、半導体素子が実装されるリードフレームのダイパッド部の厚みをリード部よりも厚く形成し、該ダイパッド部にヒートシンクとしての機能を持たせる技術が考案されているが、ダイパッド部をあまり厚くすることができず、充分な放熱性を確保することが困難な場合があった。
【解決手段】リードフレーム2上に半導体素子3を実装し、半導体素子3上に電極5を接続して構成したモールド型の半導体モジュール1において、前記電極5は、その一端部51を折り曲げて複数層に重ね合わせた状態で半導体素子3に接続される。
【選択図】 図2
【解決手段】リードフレーム2上に半導体素子3を実装し、半導体素子3上に電極5を接続して構成したモールド型の半導体モジュール1において、前記電極5は、その一端部51を折り曲げて複数層に重ね合わせた状態で半導体素子3に接続される。
【選択図】 図2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リードフレーム上に半導体素子を実装し、該半導体素子上に電極を接続して構成したモールド型の半導体モジュールの電極構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、リードフレーム上に半導体素子を実装し、該半導体素子上に電極を接続するとともに、半導体素子及びその周域を封止樹脂にてモールドして構成したモールド型の半導体モジュールが知られている。
モールド型の半導体モジュールのうち、特にインバータ用モジュールなどのパワーモジュールでは、動作時に発熱するため放熱性を確保することが重要である。
このような、発熱性の半導体モジュールの放熱性を高めるため、半導体素子が実装されるリードフレームのダイパッド部の厚みをリード部よりも厚く形成し、該ダイパッド部にヒートシンクとしての機能を備えさせる技術が考案されている。例えば、特許文献1に記載されている如くである。
【0003】
【特許文献1】
特開平6−244334号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、ダイパッド部がリード部よりも厚くなるようにリードフレームを形成する場合、ダイパッド部とリード部との板厚の差が大きすぎると、両者間に加工度合の差が生じて、薄板部となるリード部に波打ちが発生したり、ダイパッド部とリード部との境界にくびれ等の欠陥が発生したりするため、ダイパッド部をあまり厚くすることができなかった。
従って、ダイパッド部のヒートシンクとしての容量が制限され、充分な放熱性を確保することが困難な場合があった。
【0005】
また、半導体素子に接続される電極は、半導体素子とリードフレームのリード部とを接続しているが、ボンディングワイヤにて構成されていたためヒートマスが殆どなく、放熱性向上の効果を有していなかった。
そこで、本発明においては、従来は放熱性が何ら考慮されていなかった、半導体素子に接続されている電極を用いて、半導体モジュールの放熱性を充分に確保することを可能とする半導体モジュールの電極構造を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の半導体モジュールの電極構造は、以下の特徴を有する。
即ち、請求項1においては、リードフレーム上に半導体素子を実装し、半導体素子上に電極を接続して構成したモールド型の半導体モジュールにおいて、
前記電極は、板状に形成され、その一端部を折り曲げて複数層に重ね合わせた状態で半導体素子に面接続される。
これにより、電極の半導体素子との接続部のヒートマスを大きくすることができて、該接続部にヒートシンクとしての機能を備えさせることができ、半導体素子で発生した熱の放熱性を高めることができる。
また、電極と半導体素子との接合面積が増加して、両者の密着性を確保することができ、伝熱効率の向上が図れる。
そして、電極の半導体素子との接続部を複数層に重ね合わせることで得た、ヒートマスの効果を十分に発揮することが可能となる。
【0007】
また、請求項2においては、前記電極の半導体素子との接続部は、その厚みが2.0mm以下である。
これにより、ヒートマスの効果の増加なしに、半導体モジュールのサイズアップや生産性の悪化等の悪影響が出ることを防止でき、効果的にヒートマスの効果を得ることができる。
【0008】
また、請求項3においては、前記電極の表面にははんだめっきが施され、該電極の一端部と半導体素子とは、はんだ接合される。
これにより、複数層に重ね合わせられた電極の一端部の各層が、互いに広範囲にわたって接続されることとなり、半導体素子と電極の一端部との接合部に流れる大電流による発熱を抑えることができる。
また、この一端部の各層の接合を、電極の一端部と半導体素子とをはんだ接合する際に同時に行うことが可能であり、接合工程を簡素化することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を添付の図面を用いて説明する。
【0010】
本発明にかかる半導体モジュールの電極構造の実施形態について説明する。
図1、図2に示すように、半導体モジュール1は、ダイパッド部2aとリード部2b・2c・2dとで構成されるリードフレーム2と、リードフレーム2のダイパッド部2a上にはんだ4を介して実装される半導体素子3と、半導体素子3とリードフレーム2のリード部2bとを接続する電極5と、半導体素子3とリードフレーム2のリード部2cとを接続するボンディングワイヤ7と、半導体素子3及びその周域(電極5やリードフレーム2のダイパッド部2a等)をモールドする封止樹脂6とで構成されている。
【0011】
半導体素子3の上面には、ソース電極3a及びゲート電極3bが形成されており、板状に形成される電極5は、その一端部51がはんだ4を介してソース電極3aと接続され、他端部52がリードフレーム2のリード部2bと接続されている。
また、ボンディングワイヤ7は半導体素子3のゲート電極3bとリード部2cとを接続している。
さらに、ダイパッド部2aとリード部2dとは一体的に形成されており、ドレイン電極に形成される半導体素子3の下面をダイパッド部2aにはんだ接合することで、該ドレイン電極とリード部2dとが接続されている。
【0012】
リードフレーム2のリード部2b・2c・2dとダイパッド部2aとは、リード部2b・2c・2dが高位置となるように段差を有して配置されており、半導体素子3とリード部2bとを接続する電極5も、他端部52が一端部51よりも高位置に位置するように、途中部で屈曲されている。
【0013】
また、電極5の一端部51は、途中で折り曲げられて、複数層に重ね合わせた状態で半導体素子3に接続されている。
例えば、図2における一端部51は、途中で屈曲されて、下方に位置する下層51aと上方に位置する上層51bとを重ね合わせた状態で、下層51aがはんだ4を介して半導体素子3と面接続されている。
【0014】
電極5は、その表面にはんだめっきが施されている。
従って、電極5の一端部51と半導体素子3のソース電極3aとをはんだ接合する際に、電極5表面にめっきされたはんだが溶融して、重ね合わせられた状態の下層51aの上面と上層51bの下面とが接合される。
【0015】
このように、半導体素子3と接続される電極5の一端部51を、折り曲げて複数層に重ね合わせることで、該一端部51の厚みが電極5の他部に比べて厚くなる。(例えば、下層51aと上層51bの2層を重ね合わせた場合は、他端部52等の厚さと比べて、2倍の厚さとなる)。
これにより、半導体素子3と接続される電極5の一端部51のヒートマスを大きくすることができて、該一端部51にヒートシンクとしての機能を持たせることができ、半導体素子3で発生した熱の放熱性を高めることが可能となる。
【0016】
また、電極における半導体素子3との接続部のヒートマスを大きくするためには、図3に示す半導体モジュール60の電極65のように、電極65全体の厚みを厚くすることも考えられる。
しかし、電極65を全体的に厚くすると、一端部66と他端部67との段差部分における屈曲部65aで生じるR形状(円弧形状)部分が大きくなってしまう。
また、モールド型に構成される半導体モジュール1・60では、モジュール全体のサイズの制限等により、リードフレーム2のリード2b・2c・2dと、半導体素子3との距離W0が小さくしかとれない。
従って、前記屈曲部65aで生じるR形状部分が大きくなってしまうと、電極65の一端部66の半導体素子3と接続される範囲R0が小さくなってしまう。
【0017】
つまり、リード2c・2dの端部と半導体素子3の端部との間隔が小さいため、電極65の厚みや屈曲部65aのR形状部分の影響により、一端部66と半導体素子3のソース電極3aとの接合面積を大きく確保することができない。
これにより、半導体素子3から電極65への伝熱面積が減少することとなって、電極65の厚みを増したことにより得たヒートマスの効果を十分に発揮することができなくなってしまう。
【0018】
これに対して、図2に示す半導体モジュール1ように、電極5の一端部51を途中で屈曲し、複数層に重ね合わせた状態で半導体素子3と接続した場合は、一端部51と他端部52との段差部分における屈曲部5aの下方に、一端部51の下層51aの端部を配置することができる。
さらに、下層51aの端部を、屈曲部5aよりも他端部52側にまで延出することも可能である。
下層51aの端部はR形状ではなく角張った形状に形成されているので、半導体素子3との接合面積を広く確保することが可能であり、半導体素子3から電極5への伝熱効率が向上することができる。
【0019】
このように、電極5の屈曲部5aの下方若しくはその他端部5側にまで下層51aを配置することで、電極5の一端部51と半導体素子3とが接続される範囲R1を大きくとることができる。
これにより、電極5の一端部51と半導体素子3との接合面積が増加して、両者の密着性を確保することができ、伝熱効率の向上が図れる。
そして、電極5の一端部51を下層51aと上層51bの複数層に重ね合わせることで得た、ヒートマスの効果を十分に発揮することが可能となる。
【0020】
また、電極5の一端部51と半導体素子3との接合面積を大きく確保することに加えて、一端部51の下層51aと上層51bとが、電極5表面にめっきされたはんだにより広範囲に接続されているので、半導体素子3と一端部51との接合部に流れる大電流による発熱を抑えることもできる。
【0021】
また、前記電極5は、下層51aと上層51bとを重ね合わせて構成した一端部51の厚みtを2.0mm程度以下の厚みとしているが、これは以下の理由による。
【0022】
即ち、電極5の半導体素子3との接続部である一端部51を厚くしていくと、それに従って前述のヒートマスの効果が増加すると考えられるが、一端部51の厚みを厚くすることには、半導体モジュール1のサイズや生産性に与える影響(サイズが大きくなったり、生産性が悪くなったりすること)により、限界がある。
【0023】
そこで、一端部51の板厚に対する半導体素子3の放熱効果特性を測定し、ヒートマスの効果と半導体モジュール1のサイズや生産性に与える影響とを考慮した、好適な一端部51の板厚を求めた。
図4に、一端部51の板厚に対する半導体素子3の電極5の一端部51の板厚に対する半導体素子3の温度上昇値の測定結果を示す。
【0024】
図4によれば、一端部51の板厚が薄いときには半導体素子3の温度上昇値は高く、一端部51の板厚が厚くなるに従って、半導体素子3の温度上昇値が低くなるという結果が得られた。
なお、半導体素子3の温度上昇値が低い程、放熱効果が大きいことを示している。
【0025】
しかし、一端部51の板厚が厚くなるにつれて、半導体素子3の温度上昇値の変化度合いは減少していき、一端部51の板厚が1.5mm程度になると変化度合いはかなり小さくなり、2.0mm程度にまでなると半導体素子3の温度上昇値の変化は殆ど見られず、ほぼ一定となる。
これは、一端部51の板厚が1.5mmを超えると、さらには2.0mmまで達すると、一端部51におけるヒートマスの効果の増加が殆ど無くなることを示している。
【0026】
このように、一端部51の板厚が1.5mmを超えるとヒートマスの効果は殆ど増加せず、特に2.0mmを超えるとヒートマスの効果は増加しないが、半導体モジュール1のサイズや生産性に及ぼす悪影響は板厚が増加すると増すため、本発明では、モールドタイプの半導体モジュール1に好適な一端部51の板厚を、ヒートマスの効果の増加が見られる2.0mm以下としている。
これにより、ヒートマスの効果の増加なしに、半導体モジュールのサイズアップや生産性の悪化等の悪影響が出ることを防止でき、効果的にヒートマスの効果を得ることができる。
【0027】
なお、ヒートマスの効果の増加が見られなくなる一端部51の板厚は、半導体モジュール1に流れる電流量によっても若干異なるため、一端部51の板厚の最大値を、半導体モジュール1に流れる電流量に応じて2.0mm〜1.5mmの範囲で適宜決定することが可能である。
即ち、電流量がさほど多くなくて、板厚が1.5mmを超えるとヒートマス効果の増加が見られなくなる場合には、一端部51の板厚を1.5mm以下とすることもできる。
【0028】
また、半導体素子3のゲート電極3bとリード部2cとの接続は、本実施形態ではボンディングワイヤ7にて行っているが、ソース電極3aとリード部2bとを接続する板状部材の電極5と同様の部材にて接続することも可能である。
【0029】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、
電極の半導体素子との接続部のヒートマスを大きくすることができて、該接続部にヒートシンクとしての機能を持たせることができるとともに、ヒートマスの効果を十分に発揮することができ、半導体素子で発生した熱の放熱性を高めることができる。また、効果的にヒートマスの効果を得ることができるとともに、半導体素子と電極との接合部の発熱を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電極構造を備える半導体モジュールを示す平面図である。
【図2】同じく半導体モジュールのモールド内部を示す側面断面図である。
【図3】電極自体の厚みを厚く形成した半導体モジュールのモールド内部を示す側面断面図である。
【図4】電極板厚と半導体素子の放熱効果特性との関係を示す図である。
【符号の説明】
1 半導体モジュール
2 リードフレーム
2a ダイパッド部
2b・2c・2d リード部
3 半導体素子
5 電極
51 一端部
52 他端部
【発明の属する技術分野】
本発明は、リードフレーム上に半導体素子を実装し、該半導体素子上に電極を接続して構成したモールド型の半導体モジュールの電極構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、リードフレーム上に半導体素子を実装し、該半導体素子上に電極を接続するとともに、半導体素子及びその周域を封止樹脂にてモールドして構成したモールド型の半導体モジュールが知られている。
モールド型の半導体モジュールのうち、特にインバータ用モジュールなどのパワーモジュールでは、動作時に発熱するため放熱性を確保することが重要である。
このような、発熱性の半導体モジュールの放熱性を高めるため、半導体素子が実装されるリードフレームのダイパッド部の厚みをリード部よりも厚く形成し、該ダイパッド部にヒートシンクとしての機能を備えさせる技術が考案されている。例えば、特許文献1に記載されている如くである。
【0003】
【特許文献1】
特開平6−244334号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
前述のように、ダイパッド部がリード部よりも厚くなるようにリードフレームを形成する場合、ダイパッド部とリード部との板厚の差が大きすぎると、両者間に加工度合の差が生じて、薄板部となるリード部に波打ちが発生したり、ダイパッド部とリード部との境界にくびれ等の欠陥が発生したりするため、ダイパッド部をあまり厚くすることができなかった。
従って、ダイパッド部のヒートシンクとしての容量が制限され、充分な放熱性を確保することが困難な場合があった。
【0005】
また、半導体素子に接続される電極は、半導体素子とリードフレームのリード部とを接続しているが、ボンディングワイヤにて構成されていたためヒートマスが殆どなく、放熱性向上の効果を有していなかった。
そこで、本発明においては、従来は放熱性が何ら考慮されていなかった、半導体素子に接続されている電極を用いて、半導体モジュールの放熱性を充分に確保することを可能とする半導体モジュールの電極構造を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の半導体モジュールの電極構造は、以下の特徴を有する。
即ち、請求項1においては、リードフレーム上に半導体素子を実装し、半導体素子上に電極を接続して構成したモールド型の半導体モジュールにおいて、
前記電極は、板状に形成され、その一端部を折り曲げて複数層に重ね合わせた状態で半導体素子に面接続される。
これにより、電極の半導体素子との接続部のヒートマスを大きくすることができて、該接続部にヒートシンクとしての機能を備えさせることができ、半導体素子で発生した熱の放熱性を高めることができる。
また、電極と半導体素子との接合面積が増加して、両者の密着性を確保することができ、伝熱効率の向上が図れる。
そして、電極の半導体素子との接続部を複数層に重ね合わせることで得た、ヒートマスの効果を十分に発揮することが可能となる。
【0007】
また、請求項2においては、前記電極の半導体素子との接続部は、その厚みが2.0mm以下である。
これにより、ヒートマスの効果の増加なしに、半導体モジュールのサイズアップや生産性の悪化等の悪影響が出ることを防止でき、効果的にヒートマスの効果を得ることができる。
【0008】
また、請求項3においては、前記電極の表面にははんだめっきが施され、該電極の一端部と半導体素子とは、はんだ接合される。
これにより、複数層に重ね合わせられた電極の一端部の各層が、互いに広範囲にわたって接続されることとなり、半導体素子と電極の一端部との接合部に流れる大電流による発熱を抑えることができる。
また、この一端部の各層の接合を、電極の一端部と半導体素子とをはんだ接合する際に同時に行うことが可能であり、接合工程を簡素化することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を添付の図面を用いて説明する。
【0010】
本発明にかかる半導体モジュールの電極構造の実施形態について説明する。
図1、図2に示すように、半導体モジュール1は、ダイパッド部2aとリード部2b・2c・2dとで構成されるリードフレーム2と、リードフレーム2のダイパッド部2a上にはんだ4を介して実装される半導体素子3と、半導体素子3とリードフレーム2のリード部2bとを接続する電極5と、半導体素子3とリードフレーム2のリード部2cとを接続するボンディングワイヤ7と、半導体素子3及びその周域(電極5やリードフレーム2のダイパッド部2a等)をモールドする封止樹脂6とで構成されている。
【0011】
半導体素子3の上面には、ソース電極3a及びゲート電極3bが形成されており、板状に形成される電極5は、その一端部51がはんだ4を介してソース電極3aと接続され、他端部52がリードフレーム2のリード部2bと接続されている。
また、ボンディングワイヤ7は半導体素子3のゲート電極3bとリード部2cとを接続している。
さらに、ダイパッド部2aとリード部2dとは一体的に形成されており、ドレイン電極に形成される半導体素子3の下面をダイパッド部2aにはんだ接合することで、該ドレイン電極とリード部2dとが接続されている。
【0012】
リードフレーム2のリード部2b・2c・2dとダイパッド部2aとは、リード部2b・2c・2dが高位置となるように段差を有して配置されており、半導体素子3とリード部2bとを接続する電極5も、他端部52が一端部51よりも高位置に位置するように、途中部で屈曲されている。
【0013】
また、電極5の一端部51は、途中で折り曲げられて、複数層に重ね合わせた状態で半導体素子3に接続されている。
例えば、図2における一端部51は、途中で屈曲されて、下方に位置する下層51aと上方に位置する上層51bとを重ね合わせた状態で、下層51aがはんだ4を介して半導体素子3と面接続されている。
【0014】
電極5は、その表面にはんだめっきが施されている。
従って、電極5の一端部51と半導体素子3のソース電極3aとをはんだ接合する際に、電極5表面にめっきされたはんだが溶融して、重ね合わせられた状態の下層51aの上面と上層51bの下面とが接合される。
【0015】
このように、半導体素子3と接続される電極5の一端部51を、折り曲げて複数層に重ね合わせることで、該一端部51の厚みが電極5の他部に比べて厚くなる。(例えば、下層51aと上層51bの2層を重ね合わせた場合は、他端部52等の厚さと比べて、2倍の厚さとなる)。
これにより、半導体素子3と接続される電極5の一端部51のヒートマスを大きくすることができて、該一端部51にヒートシンクとしての機能を持たせることができ、半導体素子3で発生した熱の放熱性を高めることが可能となる。
【0016】
また、電極における半導体素子3との接続部のヒートマスを大きくするためには、図3に示す半導体モジュール60の電極65のように、電極65全体の厚みを厚くすることも考えられる。
しかし、電極65を全体的に厚くすると、一端部66と他端部67との段差部分における屈曲部65aで生じるR形状(円弧形状)部分が大きくなってしまう。
また、モールド型に構成される半導体モジュール1・60では、モジュール全体のサイズの制限等により、リードフレーム2のリード2b・2c・2dと、半導体素子3との距離W0が小さくしかとれない。
従って、前記屈曲部65aで生じるR形状部分が大きくなってしまうと、電極65の一端部66の半導体素子3と接続される範囲R0が小さくなってしまう。
【0017】
つまり、リード2c・2dの端部と半導体素子3の端部との間隔が小さいため、電極65の厚みや屈曲部65aのR形状部分の影響により、一端部66と半導体素子3のソース電極3aとの接合面積を大きく確保することができない。
これにより、半導体素子3から電極65への伝熱面積が減少することとなって、電極65の厚みを増したことにより得たヒートマスの効果を十分に発揮することができなくなってしまう。
【0018】
これに対して、図2に示す半導体モジュール1ように、電極5の一端部51を途中で屈曲し、複数層に重ね合わせた状態で半導体素子3と接続した場合は、一端部51と他端部52との段差部分における屈曲部5aの下方に、一端部51の下層51aの端部を配置することができる。
さらに、下層51aの端部を、屈曲部5aよりも他端部52側にまで延出することも可能である。
下層51aの端部はR形状ではなく角張った形状に形成されているので、半導体素子3との接合面積を広く確保することが可能であり、半導体素子3から電極5への伝熱効率が向上することができる。
【0019】
このように、電極5の屈曲部5aの下方若しくはその他端部5側にまで下層51aを配置することで、電極5の一端部51と半導体素子3とが接続される範囲R1を大きくとることができる。
これにより、電極5の一端部51と半導体素子3との接合面積が増加して、両者の密着性を確保することができ、伝熱効率の向上が図れる。
そして、電極5の一端部51を下層51aと上層51bの複数層に重ね合わせることで得た、ヒートマスの効果を十分に発揮することが可能となる。
【0020】
また、電極5の一端部51と半導体素子3との接合面積を大きく確保することに加えて、一端部51の下層51aと上層51bとが、電極5表面にめっきされたはんだにより広範囲に接続されているので、半導体素子3と一端部51との接合部に流れる大電流による発熱を抑えることもできる。
【0021】
また、前記電極5は、下層51aと上層51bとを重ね合わせて構成した一端部51の厚みtを2.0mm程度以下の厚みとしているが、これは以下の理由による。
【0022】
即ち、電極5の半導体素子3との接続部である一端部51を厚くしていくと、それに従って前述のヒートマスの効果が増加すると考えられるが、一端部51の厚みを厚くすることには、半導体モジュール1のサイズや生産性に与える影響(サイズが大きくなったり、生産性が悪くなったりすること)により、限界がある。
【0023】
そこで、一端部51の板厚に対する半導体素子3の放熱効果特性を測定し、ヒートマスの効果と半導体モジュール1のサイズや生産性に与える影響とを考慮した、好適な一端部51の板厚を求めた。
図4に、一端部51の板厚に対する半導体素子3の電極5の一端部51の板厚に対する半導体素子3の温度上昇値の測定結果を示す。
【0024】
図4によれば、一端部51の板厚が薄いときには半導体素子3の温度上昇値は高く、一端部51の板厚が厚くなるに従って、半導体素子3の温度上昇値が低くなるという結果が得られた。
なお、半導体素子3の温度上昇値が低い程、放熱効果が大きいことを示している。
【0025】
しかし、一端部51の板厚が厚くなるにつれて、半導体素子3の温度上昇値の変化度合いは減少していき、一端部51の板厚が1.5mm程度になると変化度合いはかなり小さくなり、2.0mm程度にまでなると半導体素子3の温度上昇値の変化は殆ど見られず、ほぼ一定となる。
これは、一端部51の板厚が1.5mmを超えると、さらには2.0mmまで達すると、一端部51におけるヒートマスの効果の増加が殆ど無くなることを示している。
【0026】
このように、一端部51の板厚が1.5mmを超えるとヒートマスの効果は殆ど増加せず、特に2.0mmを超えるとヒートマスの効果は増加しないが、半導体モジュール1のサイズや生産性に及ぼす悪影響は板厚が増加すると増すため、本発明では、モールドタイプの半導体モジュール1に好適な一端部51の板厚を、ヒートマスの効果の増加が見られる2.0mm以下としている。
これにより、ヒートマスの効果の増加なしに、半導体モジュールのサイズアップや生産性の悪化等の悪影響が出ることを防止でき、効果的にヒートマスの効果を得ることができる。
【0027】
なお、ヒートマスの効果の増加が見られなくなる一端部51の板厚は、半導体モジュール1に流れる電流量によっても若干異なるため、一端部51の板厚の最大値を、半導体モジュール1に流れる電流量に応じて2.0mm〜1.5mmの範囲で適宜決定することが可能である。
即ち、電流量がさほど多くなくて、板厚が1.5mmを超えるとヒートマス効果の増加が見られなくなる場合には、一端部51の板厚を1.5mm以下とすることもできる。
【0028】
また、半導体素子3のゲート電極3bとリード部2cとの接続は、本実施形態ではボンディングワイヤ7にて行っているが、ソース電極3aとリード部2bとを接続する板状部材の電極5と同様の部材にて接続することも可能である。
【0029】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、
電極の半導体素子との接続部のヒートマスを大きくすることができて、該接続部にヒートシンクとしての機能を持たせることができるとともに、ヒートマスの効果を十分に発揮することができ、半導体素子で発生した熱の放熱性を高めることができる。また、効果的にヒートマスの効果を得ることができるとともに、半導体素子と電極との接合部の発熱を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電極構造を備える半導体モジュールを示す平面図である。
【図2】同じく半導体モジュールのモールド内部を示す側面断面図である。
【図3】電極自体の厚みを厚く形成した半導体モジュールのモールド内部を示す側面断面図である。
【図4】電極板厚と半導体素子の放熱効果特性との関係を示す図である。
【符号の説明】
1 半導体モジュール
2 リードフレーム
2a ダイパッド部
2b・2c・2d リード部
3 半導体素子
5 電極
51 一端部
52 他端部
Claims (3)
- リードフレーム上に半導体素子を実装し、半導体素子上に電極を接続して構成したモールド型の半導体モジュールにおいて、
前記電極は、板状に形成され、その一端部を折り曲げて複数層に重ね合わせた状態で半導体素子に面接続されることを特徴とする半導体モジュールの電極構造。 - 前記電極の半導体素子との接続部は、その厚みが2.0mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュールの電極構造。
- 前記電極の表面にははんだめっきが施され、該電極の一端部と半導体素子とは、はんだ接合されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体モジュールの電極構造。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2003176518A JP2005012085A (ja) | 2003-06-20 | 2003-06-20 | 半導体モジュールの電極構造 |
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|---|---|
| JP2005012085A true JP2005012085A (ja) | 2005-01-13 |
Family
ID=34099390
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2003176518A Pending JP2005012085A (ja) | 2003-06-20 | 2003-06-20 | 半導体モジュールの電極構造 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP2005012085A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011199161A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2012195492A (ja) * | 2011-03-17 | 2012-10-11 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体モジュール及びその取り付け構造 |
| JP2016029688A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-03 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
| JP2016082048A (ja) * | 2014-10-16 | 2016-05-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
-
2003
- 2003-06-20 JP JP2003176518A patent/JP2005012085A/ja active Pending
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