JP2005169920A - 化粧シートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エンボス加工された化粧シートを製造する方法であって、シートをエンボス加工処理する工程及びエンボス加工処理により得られるエンボスシートのエンボス面上に透明性保護層を形成する工程を有する化粧シートの製造方法に係る。
【選択図】なし
Description
1.第1工程
第1工程では、シートをエンボス加工処理する。
最下面のプライマー層7は、化粧シートと被着体(木質材、金属板等の基材)との接着性を向上させるために、必要に応じて設けることができる。プライマー層は、どの段階で形成しても良い。例えば、1)何も積層されていない状態の基材シート1にプライマー層7を積層する、2)基材シート1上に透明性樹脂層4までを含む各層を積層した後にプライマー層7を積層する、3)基材シート3上に透明性保護層7までを含む各層を積層した後にプライマー層2を積層することができる。また、これら以外の順序・方法で積層することもできる。
基材シート1は、公知の化粧シートに用いられる素材であればいずれも使用可能である。例えば、各種の紙類、プラスチックス、金属又は合金、これらの複合材料等が挙げられる。これらの材料をシート、箔等の形態で使用すれば良い。この中でも、印刷又は塗装による美観の付与が容易であり、化粧シートの製造時の加工性あるいは化粧シートを対象物品の表面に適用するときの加工性(例えば、折り曲げ、成形)に優れているという点でプラスチックスが好ましい。
ここで、エラストマーとしては、ジエン系ゴム、水素添加ジエン系ゴム、オレフィンエラストマー等が用いられる。ジエン系ゴムとしては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、ブチルゴム、プロピレン/ブタジエンゴム、アクリロニトリル/ブタジエンゴム、アクリロニトリル/イソプレンゴム、スチレン/ブタジエンゴム等がある。水素添加ジエンゴムは、上記のジエン系ゴム分子の二重結合の少なくとも一部分に水素原子を付加させてなるもので、ポリオレフィン系樹脂(本発明においては、高密度ポリエチレン又はポリプロピレン)の結晶化を抑え、柔軟性を向上させたものである。オレフィンエラストマーとしては、2種類又は3種類以上のオレフィンと共重合しうるポリエンを少なくとも1種加えた弾性共重合体であり、オレフィンとしてはエチレン、プロピレン、α−オレフィン等が使用され、ポリエンとしては、1,4−ヘキサジエン、環状ジエン、ノルボルネン等が使用される。好ましいオレフィン系共重合体ゴムとしては、例えばエチレン/プロピレン共重合体ゴム等のオレフィンを主成分とする弾性共重合体が挙げられる。なお、これらのエラストマーは、必要に応じて有機過酸化物、硫黄等の架橋剤を用いて、適量架橋させても良い。
(3)エチレン/プロピレン/ブテンの共重合体で、ブテンとして、1−ブテン、2−ブテン、又はイソブチレンの3種の構造異性体の1種を含むもの
次の(3a)〜(3c)が代表的である。
(5)ハードセグメントとしてのオレフィン系共重合体(結晶質)とソフトセグメントとしての未架橋モノオレフィン共重合体ゴムとを加熱しつつ剪断応力を加え、部分架橋させてあるもの(特公昭53−34210号公報記載)
(6)過酸化物と混合・加熱すると分子量が減って流動性が増す過酸化物分解型オレフィン重合体、例えば、アイソタクチックポリプロピレン、プロピレン/エチレン共重合体、又はプロピレン/ブテン−1共重合体をハードセグメントとし、同様な操作で流動性が減る過酸化物架橋型モノオレフィン重合体、例えば、エチレン/プロピレン共重合体ゴム、エチレン/プロピレン/非共役ジエン3元共重合体ゴム等をソフトセグメントとし、更には、同様な操作で架橋せず、流動性も変わらない過酸化物非架橋型炭化水素ゴム、等を過酸化物の存在下で混合・加熱して得られるもの(特公昭56−15741号公報記載)
(7)エチレン/スチレン/ブタジエン共重合体(特開平2−139232号
公報記載)
(8)水酸基又はカルボキシル基を持たせた上記(1)〜(7)のオレフィン
系エラストマー
上記のポリオレフィン系樹脂は、紫外線吸収剤及び光安定剤の少なくとも1種を添加したものを使用することができる。これらの紫外線吸収剤及び光安定剤は、公知又は市販のものを使用すれば良い。
絵柄層2は、絵、文字、図等の任意のもので良く、用途に合わせて適宜組み合わせることができる
絵柄層の形成方法は限定されないが、一般的には印刷インキを用いる印刷法により好適に形成できる。印刷法としては、バインダーの選択範囲が広いという点でグラビア印刷法が適しているが、これ以外の印刷法によっても良い。また、印刷法のほかに、電子写真法、インキジェット法等も適用できる。
接着剤層3は、化粧シートを構成する基材シート1と透明性樹脂層4を絵柄層2を介して積層するために形成される。
透明性樹脂層4は、透明性を有するものであれば特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、アイオノマー、ポリメチルペンテン、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル、ポリカーボネート、セルローストリアセテート等を挙げることができる。
2.第2工程
第2工程は、エンボス加工処理により得られるエンボスシートのエンボス面上に透明性保護層(いわゆるOP層:オーバープリント層)を形成する。
図1に示す構造を有する化粧用シートを作製した。
平均高低差25μmであるローラー型エンボス版に代えて、平均高低差35μmであるローラー型エンボス版を使用したほかは、実施例1と同様にして化粧シートを作製した。得られた化粧シートのエンボス再現率は約80%と良好であった。また、このときのエンボス加工速度は約30m/minであった。
平均高低差25μmであるローラー型エンボス版に代えて、平均高低差が45μmであるローラー型エンボス版を使用したほかは、実施例1と同様にして化粧シートを作製した。得られた化粧シートのエンボス再現率は約67%と良好であった。また、このときのエンボス加工速度は約24m/minであった。
平均高低差25μmであるローラー型エンボス版に代えて、平均高低差が55μmであるローラー型エンボス版を使用したほかは、実施例1と同様にして化粧シートを作製した。得られた化粧シートのエンボス再現率は約73%と良好であった。また、このときのエンボス加工速度は約18m/minであった。
ローラー型エンボス版による賦形を透明性保護層の形成後に実施したほかは、実施例1と同様に化粧シートを作製した。得られた化粧シートのエンボス再現率は実施例1と同じであったが、透明性保護層の艶が少し失われた結果、当初予定していた意匠性は得られなかった。また、このときのエンボス加工速度は約18m/minであった。
平均高低差25μmであるローラー型エンボス版に代えて、平均高低差が80μmであるローラー型エンボス版を使用したほかは、実施例1と同様にして化粧シートを作製した。得られた化粧シートのエンボス再現率は約50%であった。また、このときのエンボス加工速度は約15m/minであった。
平均高低差25μmであるローラー型エンボス版に代えて、平均高低差が10μmであるローラー型エンボス版を使用したほかは、実施例1と同様にして化粧シートを作製した。得られた化粧シートのエンボス再現率は約80%であったが、凹凸が乏しく意匠性が不十分であった。また、このときのエンボス加工速度は約15m/minであった。
実施例で得られた化粧シート耐候性試験及び剥離試験を行った。
(1)耐候性試験
耐候性は、サンシャインウエザーメーター(スガ試験機製)にて2000時間、メタルウエザーメーター(ダイプラ・ウィンテス製)にて200時間の試験をそれぞれ行て、試験実施後の試験体表面の劣化(白化・割れの有無)、意匠性の変化(退色・艶変化の有無)を肉眼で観察した。その結果、いずれも劣化等は認められなかった。
(2)剥離試験
耐候性試験後の試験体について、セロテープ(商標名、ニチバン製)による剥離試験を実施した。透明性保護層を2mm角で碁盤目状(10×10=100個)にカットし、その上からセロテープを貼着し、垂直上方に向かって剥がしたときの剥離片の数を測定した。その結果、いずれも剥離が認められなかった。
実施例で得られた直後の化粧シートを120℃で10分間かけて残存溶剤の揮発量を測定した。測定は、ガスクロマトグラフ装置(製品名「GC−17A」島津製作所製)により実施した。その結果、いずれのシートも、残留溶剤が少ないことが確認された。特に炭素数6以上の溶剤の揮発量は10mg/m2以下であった。
2 絵柄層
3 接着剤層
4 透明ポリプロピレン系樹脂フィルム(透明性樹脂層)
5 透明性保護層
7 プライマー層
Claims (6)
- エンボス加工処理された化粧シートを製造する方法であって、シートをエンボス加工処理する工程及びエンボス加工処理により得られるエンボスシートのエンボス面上に透明性保護層を形成する工程を有する化粧シートの製造方法。
- エンボス加工処理が、表面に凹凸を有するローラーにシートを押圧することよってエンボス面が形成され、かつ、当該ローラー表面の凹凸における平均高低差が20〜60μmである請求項1記載の製造方法。
- エンボスシートが、基材シート上に少なくとも絵柄層及び透明性樹脂層が順に形成されたシートをエンボス加工処理により得られる請求項1又は2に記載の製造方法。
- エンボスシートが、基材シート上に少なくとも絵柄層を形成してなるシート上に、透明性樹脂を押し出しラミネートすると同時にエンボス加工処理を施す請求項1又は2に記載の製造方法。
- 基材シートの裏面にプライマー層がさらに形成されている請求項3又は4に記載の製造方法。
- 絵柄層、透明性保護層及びプライマー層の少なくとも1つが水性組成物により形成されてなる請求項5記載の製造方法。
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