JP2005199230A - 吐出装置、材料塗布方法、カラーフィルタ基板の製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、プラズマ表示装置の製造方法、および配線製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 塗布工程の時間を短縮すること。
【解決手段】 Ｙ軸方向の一方向への相対移動によって、複数の第１の吐出ノズルの少なくとも一つが被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する材料が塗布されるように、前記少なくとも一つの第１の吐出ノズルから前記材料の第１の液滴が吐出される。そして、前記一方向への相対移動によって、前記複数の第２の吐出ノズルの少なくとも一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記材料が塗布されるように、前記少なくとも一つの第２の吐出ノズルから前記材料の第２の液滴が吐出される。
【選択図】 図１

Description

本発明は、流動性を有する材料をワーク（基体）に塗布する吐出装置、および材料塗布方法に関し、特に、カラーフィルタ基板などの製造に好適な吐出装置、および材料塗布方法に関する。

カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンス表示装置などの製造に用いられるインクジェット装置が知られている（例えば特許文献１）。

特開２００２−２２１６１６号公報

流動性を有する材料または液状の材料は、塗布されるべき材料に流動性を与えるための溶媒を含む。このため、所望の厚さの材料（溶液中の溶質や、溶媒に分散された物質）を被吐出部に設けるために必要となる液状の材料の体積が、被吐出部が受け入れることができる体積を越える場合がある。このような場合には、被吐出部から液状の材料が溢れないように、インクジェット装置は、１回の主走査の期間内に被吐出部に吐出される液状の材料の液滴の体積を小さくするとともに、主走査の回数を複数回にする。そうすれば、被吐出部において、液状の材料から気化する溶媒の単位時間あたりの体積よりも、液状の材料の吐出によって増加する溶媒の単位時間あたりの体積が下回るからである。

しかしながら、上記方法においては、一つの被吐出部に対して主走査を複数回行うため、塗布工程に時間がかかる。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、塗布工程の時間を短縮することである。

本発明の吐出装置は、Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体を載せるステージと、前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、前記第１の吐出ヘッド部および前記第２の吐出ヘッド部の組と、前記基体を載せた前記ステージとの少なくとも一方を他方に体して前記Ｙ軸方向に相対移動させる走査部と、を備えている。そして、前記Ｙ軸方向への相対移動によって、前記複数の第１の吐出ノズルの少なくとも一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する材料が塗布されるように、前記少なくとも一つの第１の吐出ノズルから前記材料の第１の液滴が吐出され、前記Ｙ軸方向への相対移動によって、前記複数の第２の吐出ノズルの少なくとも一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記材料が塗布されるように、前記少なくとも一つの第２の吐出ノズルから前記材料の第２の液滴が吐出される。

上記構成によって得られる効果の一つは、１つの走査期間（例えば、ステージのＹ軸方向への１回の相対移動）のうちに、被吐出部から液状の材料をからあふれることなく、必要な体積の材料（溶質や分散された物質）を塗布することができることである。このため、塗布工程に必要な時間が短くて済む。

本発明のある態様では、前記第１の範囲に亘って複数の前記被吐出部が位置しており、前記相対移動によって、前記複数の第１の吐出ノズルが前記複数の被吐出部に対応する領域のそれぞれに達した場合には、それぞれの被吐出部に前記材料が塗布されるように、対応する第１の吐出ノズルから前記第１の液滴が吐出され、前記相対移動によって、前記複数の第２の吐出ノズルが前記複数の被吐出部に対応する領域のそれぞれに達した場合には、前記複数の被吐出部のそれぞれに前記材料が塗布されるように、対応する前記第２の吐出ノズルから前記第２の液滴が吐出される。

上記構成によって得られる効果の一つは、１つの走査期間（例えば、ステージ１０６のＹ軸方向への１回の相対移動）のうちに、一つの基体（例えば、後にカラーフィル基板となる基板）における複数の被吐出部のそれぞれに、所望量の体積の液状の材料を塗布することができることである。

本発明のある態様では、前記走査部は前記基体を載せた前記ステージを前記Ｙ軸方向の一方向に移動させる。

上記構成によって得られる効果の一つは、第１の吐出ヘッド部および第２の吐出ヘッド部からの液状の材料の吐出が安定することである。第１の吐出ヘッド部および第２の吐出ヘッド部が吐出装置に対して移動する必要がないので、液状の材料の液滴の吐出に影響を与える振動が生じないからである。

好ましくは、前記走査部は前記基体を載せた前記ステージをほぼ等速度で移動させる。

上記構成によって得られる効果の一つは、液状の材料の吐出タイミングを制御することが容易なことである。

好ましくは、前記走査部は前記ステージを前記Ｙ軸方向に第１の位置から第２の位置まで移動させ、前記ステージが第１の位置に位置する場合に前記基体が前記ステージに載せられて、前記ステージが第２の位置に達するまでに、前記基体のすべての前記被吐出部への前記材料の塗布が終了する。

上記構成によって得られる効果の一つは、複数の吐出装置を直線状に配置できることである。

本発明の材料塗布方法は、Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体をステージに載せるステップＡと、前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、に対して、前記基体を載せた前記ステージの相対位置を前記Ｙ軸方向の一方向に変化させるステップＢと、前記複数の第１の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する材料が塗布されるように、前記一つの第１の吐出ノズルから前記材料の第１の液滴を吐出するステップＣと、前記複数の第２の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記材料が塗布されるように、前記一つの第２の吐出ノズルから前記材料の第２の液滴を吐出する吐出ステップＤと、を含んでいる。

上記構成によって得られる効果の一つは、１つの走査期間（例えば、ステージのＹ軸方向への１回の相対移動）のうちに、被吐出部から液状の材料をからあふれることなく、必要な体積の材料（溶質や溶媒に分散された物質）を塗布することができることである。このため、塗布工程に必要な時間が短くて済む。

本発明は種々の態様で実施することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、プラズマ表示装置の製造方法、または配線製造方法の形態で実施することができる。

（実施形態１）
以下では、本実施形態を下記記載の順番で説明する。
Ａ．吐出装置の全体構成
Ｂ．ヘッド
Ｃ．制御部
Ｄ．吐出ヘッド部
Ｅ．塗布工程

（Ａ．吐出装置の全体構成）
図１に示す吐出装置１００は、２つのタンク１０１Ａ、１０１Ｂと、チューブ１１０Ａと、チューブ１１０Ｂと、吐出走査部１０２と、を備えている。タンク１０１Ａ、１０１Ｂはどちらも、液状の材料１１１を蓄えている。チューブ１１０Ａ、１１０Ｂはそれぞれ、タンク１０１Ａ、１０１Ｂから吐出走査部１０２に液状の材料１１１を供給している。吐出走査部１０２は、ステージ１０６と、第１の吐出ヘッド部１０３Ａと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂと、走査部と、グランドステージＧＳと、制御部１１２と、を備えている。

第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂはどちらも、ステージ１０６側に向けて液状の材料１１１の液滴を吐出するように構成されている。第１の吐出ヘッド部１０３Ａと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂとは、互いにＹ軸方向に所定の距離ＹＫだけ離れている。また、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの位置は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａに対して固定されている。そして、走査部は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの組と、ステージとの少なくとも一方を他方に体してＹ軸方向に相対移動させる。

ここで、本明細書におけるＹ軸方向は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの組とステージ１０６とのどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、本明細書においてＺ軸方向は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが液状の材料１１１の液滴を吐出する方向であり、本実施形態では地球の重力加速度の方向に一致している。Ｘ軸方向は、このようなＹ軸方向およびＺ軸方向のどちらにも垂直な方向である。そして、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００の基準部分に固定されている。

さらに、本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、第１の吐出ヘッド部１０３Ａまたは第２の吐出ヘッド部１０３Ｂに固定されていてもよい。

本実施形態では、走査部は、位置制御装置１０８と、第１の支持構造体１４Ａと、第２の支持構造体１４Ｂと、を有している。

位置制御装置１０８は、ステージ１０６を移動させる。本実施形態では、位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｙ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。

より具体的には、位置制御装置１０８は、Ｙ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイドレールと、Ｙ軸エアスライダと、θテーブルと、を備えている。一対のリニアモータおよび一対のＹ軸ガイドレールは、グランドステージＧＳ上に位置している。一方、Ｙ軸エアスライダは、一対のＹ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｙ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＹ軸ガイドレールに沿ってＹ軸方向に移動する。Ｙ軸エアスライダは、θテーブルを介してステージ１０６の裏面に連結されているので、ステージ１０６は、Ｙ軸エアスライダとともにＹ軸方向に移動する。θテーブルはモータを有しており、ステージ１０６をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる。

第１の支持構造体１４Ａは、第１の吐出ヘッド部１０３Ａを支持している。より具体的には、第１の支持構造体１４Ａは、第１の吐出ヘッド部１０３ＡがグランドステージＧＳからＺ軸方向に所定の距離だけ離れるように、第１の吐出ヘッド部１０３Ａを保持している。一方、第２の支持構造体１４Ｂは、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂを支持している。より具体的には、第２の支持構造体１４Ｂは、第２の吐出ヘッド部１０３ＢがグランドステージＧＳからＺ軸方向に所定の距離だけ離れるように、第１の吐出ヘッド部１０３Ａを保持している。

第１の支持構造体１４Ａおよび第２の支持構造体１４Ｂのそれぞれは、２つの支持部と、２つの支持部によって支えられている固定部と、を有する。２つの支持部は、グランドステージＧＳ上でステージ１０６を挟むように位置するとともに、それぞれがＺ軸方向に延びている。固定部は、グランドステージＧＳからＺ軸方向に距離を置いて位置するように、２つの支持部に連結されている。そして、固定部は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａまたは第２の吐出ヘッド部１０３Ｂにおける吐出ノズル１１８Ｔ（図２）が、グランドステージＧＳ側に向くように、第１の吐出ヘッド部１０３Ａまたは第２の吐出ヘッド部１０３Ｂを保持している。

第１の支持構造体１４Ａの固定部は、Ｚ軸方向に平行な軸の回りで第１の吐出ヘッド部１０３Ａを回転させる自由度も有する。この自由度は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａの微調整を行う場合に活用される。ただし、後述する吐出工程が行われている間には、固定部は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａが回転しないように第１の吐出ヘッド部１０３Ａを固定している。第２の支持構造体１４Ｂの固定部も第１の支持構造体１４Ａと同様に、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂを固定している。

本実施形態では、第１の支持構造体１４Ａおよび第２の支持構造体１４Ｂの位置は、グランドステージＧＳ（または吐出装置１００）に対して固定されている。このため、第１の吐出ヘッド部１０３Ａの位置も、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの位置も、グランドステージＧＳに対して固定されている。第１の吐出ヘッド部１０３Ａと第２の吐出ヘッド部１０３Ｂとが同じ基準に対して固定されているので、第１の吐出ヘッド部１０３Ａと第２の吐出ヘッド部１０３Ｂとの相対位置関係は一定である。したがって、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの位置は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａに対して固定されている。

本実施形態では、第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが吐出装置に対して固定されている。一方、ステージ１０６がＹ軸方向に移動する。このことによって、ステージ１０６に対する第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの相対位置が変化する。このような構成であれば、第１の吐出ヘッド部１０３Ａ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂを静止させたままでよいので、後述するヘッド１１４が液状の材料１１１を安定して吐出できる。これは、ヘッド１１１４が移動しないので、ヘッド１１４の移動に起因する振動が生じず、この結果、ヘッド１１４内の液状の材料１１１に余分な振動が伝わらないからである。

（Ｂ．ヘッド）
図２に示すヘッド１１４は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが有する複数のヘッドの一つである。図２は、ヘッド１１４の底面を示す。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

本実施形態では、ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂと、をなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、Ｙ軸方向に隣り合っている。そして、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔でＸ軸方向に一列に並んでいる。本実施形態では、この一定間隔は約１４０μｍである。つまり、ノズル列１１６ＡのノズルピッチＬＮＰおよびノズル列１１６ＢのノズルピッチＬＮＰは、ともに約１４０μｍである。

ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）だけＸ軸方向の正の方向（図２の右方向）にずれている。このため、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）である。

したがって、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。

もちろん、ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。ヘッド１１４がＭ個のノズル列を含む場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。ただし、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。

さて、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つのヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状の材料１１１が吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状の材料１１１を吐出するノズル１１８として機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル１１８Ｔ」と表記することもある。

なお、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。この場合には、ノズル列１１６Ａおよび１１６Ｂのそれぞれが、１８０個のノズル１１８からなればよい。また、本発明において吐出ノズル１１８Ｔの数は、１６０個に限定されない。１つのヘッド１１４にＰ個の吐出ノズルがあってもよい。ここで、Ｐは２以上の自然数であって、ヘッド１１４における全ノズル数以下であればよい。

本明細書では、ヘッド１１４間の相対位置関係を説明する目的で、それぞれのヘッド１１４における１６０個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、最もＸ座標が小さい吐出ノズル１１８Ｔを、「第１の基準ノズル１１８Ｒ１」と表記する。同時に、１６０個の吐出ノズル１１８Ｔのうちで、最もＸ座標が大きい吐出ノズル１１８Ｔを、「第２の基準ノズル１１８Ｒ２」と表記する。図２の場合には、ノズル列１１６Ａの左から６番目のノズル１１８が、最もＸ座標が小さい吐出ノズル１１８Ｔであるので、このノズルが第１の基準ノズル１１８Ｒ１である。一方、ノズル列１１６Ｂの右から６番目のノズル１１８が、最もＸ座標が大きい吐出ノズル１１８Ｔであるので、このノズルが第２の基準ノズル１１８Ｒ２である。なお、すべてのヘッド１１４に対して、「第１の基準ノズル１１８Ｒ１」と「第２の基準ノズル１１８Ｒ２」との組の指定の仕方が同じであればよいので、「第１基準ノズル１１８Ｒ１」の位置および「第２の基準ノズル１１８Ｒ２」の位置は、上記の位置（図２の位置）でなくてもよい。

図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、タンク１０１Ａまたはタンク１０１Ｂ（図１）から孔１３１を介して供給される液状の材料１１１が常に充填される液たまり１２９が位置している。

また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状の材料１１１が供給される。

振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状の材料１１１が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状の材料１１１が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。

ここで、本明細書において「液状の材料１１１」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。

制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される材料１１１の体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される材料１１１の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。

本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。

（Ｃ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図４に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。

入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置から液状の材料１１１の液滴の吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体上のすべての被吐出部の相対位置を表すデータと、すべての被吐出部に液状の材料１１１を所望の厚さにまで塗布するのに必要となる吐出の回数を示すデータと、休止ノズルを指定するデータと、吐出ノズル１１８Ｔのうち吐出を行うノズルを指定するデータと、吐出ノズル１１８Ｔのうち吐出を行わないノズルを指定するデータと、を含む。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図４では、記憶手段２０２はＲＡＭである。

処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図５）と、に応じた駆動信号を位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データと、吐出周期ＥＰと、に基づいて、吐出タイミング毎のノズル１１８のオン・オフを指定する選択信号ＳＣをヘッド駆動部２０８へ与える。ヘッド駆動部２０８は、選択信号ＳＣに基づいて、液状の材料１１１の吐出に必要な吐出信号ＥＳをヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状の材料１１１が液滴として吐出される。

制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、バスを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。

次に制御部１１２におけるヘッド駆動部２０８の構成と機能を説明する。

図５（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２０８は、１つの駆動信号生成部２０３と、複数のアナログスイッチＡＳと、を有する。図５（ｂ）に示すように、駆動信号生成部２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。

駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳのそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳのそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳの数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。

処理部２０４は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣを、アナログスイッチＡＳのそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣ（図５のＳＣ１〜ＳＣ７）は、アナログスイッチＡＳ毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳは、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣとに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（図５のＥＳ１〜ＥＳ７）を供給する。具体的には、選択信号ＳＣがハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳは電極１２４Ａに吐出信号ＥＳとして駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣがローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳが出力する吐出信号ＥＳの電位は基準電位Ｌとなる。振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状の材料１１１が吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。

図５（ｂ）に示す例では、２つの吐出信号ＥＳ１、ＥＳ２のそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣ１、ＳＣ２のそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状の材料１１１が吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通の駆動信号生成部２０３からの共通の駆動信号ＤＳがパラレルに与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状の材料１１１が吐出される。

一方、選択信号ＳＣ１、ＳＣ２がハイレベルになる期間も、図５（ｂ）における選択信号ＳＣ３のレベルはローレベルに維持されているので、対応する吐出信号ＥＳ３には吐出波形Ｐが現れない。具体的には、吐出信号ＥＳ３は基準レベルＬに維持されている。このため、駆動信号ＤＳに吐出波形Ｐが現れるタイミングであっても、選択信号ＳＣ３に対応するノズル１１８からは液状の材料１１１が吐出されない。

以上のような構成によって、吐出装置１００は、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、液状の材料１１１の塗布走査を行う。

（Ｄ．吐出ヘッド部）
図６に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ａは、第２の吐出ヘッド部１０３ＢからＹ軸方向に所定の距離ＹＫだけ離れている。図６の場合、第１の吐出ヘッド部１０３ＡのＹ座標は、第２の吐出ヘッド部１０３ＢのＹ座標よりも大きい。なお、上記所定の距離ＹＫは、第１の吐出ヘッド部１０３Ａにおいて最も大きいＹ座標を有するノズル列と、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂにおいて最も大きいＹ座標を有するノズル列と、の間の距離でもある。

まず、第１の吐出ヘッド部１０３Ａにおけるヘッド１１４の相対位置関係を説明する。

複数のヘッド１１４は、それぞれがＸ軸方向に延びる３つのヘッド列ＨＬを構成している。３つのヘッド列は、Ｙ軸方向に隣り合っている。それぞれのヘッド列ＨＬにおいて、同じ数のヘッド１１４が一定の間隔で並んでいる。

説明の便宜上、図６の最も下側のヘッド列ＨＬに含まれる複数のヘッド１１４を、図６の左側から順に、ヘッドＡ₁₁、ヘッドＡ₁₂、ヘッドＡ₁₃、〜Ａ_1Nと表記する。また、図６の真中のヘッド列ＨＬに含まれるヘッド１１４を、図６の左側からヘッドＡ₂₁、ヘッドＡ₂₂、ヘッドＡ₂₃、〜Ａ_2Nと表記する。そして、図６の最も上側のヘッド列ＨＬに含まれる複数のヘッド１１４を、図６の左から、ヘッドＡ₃₁、ヘッドＡ₃₂、ヘッドＡ₃₃、〜Ａ_3Nと表記する。なお、Ｎは、正の整数であり、ヘッド列に含まれるヘッド１１４の数を表す。

ヘッドＡ₂₁の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッドＡ₁₁の第２の基準ノズル１１８Ｒ２の位置から、ノズルピッチＨＸＰ（ほぼ７０μｍ）の長さだけＸ軸方向の正の方向（図６の右方向）にずれている。ヘッドＡ₃₁の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッドＡ₂₁の第２の基準ノズル１１８Ｒ２の位置から、ノズルピッチＨＸＰ（ほぼ７０μｍ）の長さだけＸ軸方向の正の方向にずれている。ヘッドＡ₁₂の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッドＡ₃₁の第２の基準ノズル１１８Ｒ２の位置から、ノズルピッチＨＸＰ（ほぼ７０μｍ）だけＸ軸方向の正の方向にずれている。

さらに、第１の吐出ヘッド部１０３Ａにおける他のヘッド間の相対位置関係も、上記ヘッドＡ₁₁、ヘッドＡ₂₁、ヘッドＡ₃₁、ヘッドＡ₁₂の間の相対位置関係と同様である。

以上のことから、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰであるように分布している。ここで「第１の範囲ＥＸＴ」とは、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿った範囲であって、第１の吐出ヘッド部１０３Ａにおいて最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔの間で規定される範囲である。ただし、第１の範囲ＥＸＴには、これら最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔも含まれる。

次に、説明の便宜上、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂにおけるヘッド１１４を、ヘッドＢ₁₁〜Ｂ_3Nと表記する。第２の吐出ヘッド部１０３ＢにおけるヘッドＢ₁₁〜Ｂ_3Nの配置パターンは、第１の吐出ヘッド部１０３ＡにおけるヘッドヘッドＡ₁₁〜Ａ_3Nの配置パターンと同じである。つまり、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンと、第１の吐出ヘッド部１０３Ａの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンとは、同じである。

以上のことから、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂにおいても、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰとなるように、分布している。そして、共通なＸ座標を有する２つの吐出ノズル１１８Ｔが、第１の吐出ヘッド部１０３Ａと第２の吐出ヘッド部１０３Ｂとに一つずつ位置している。

（Ｅ．塗布工程）
図７および図８を参照しながら、本実施形態の塗布工程として、ストライプ状の被吐出部１８Ｌに液状の材料１１１を塗布する工程を説明する。

本実施形態の吐出装置１００において、ステージ１０６は、１つの基体１０Ｌ上の被吐出部１８Ｌに液状の材料１１１を塗布する工程（塗布工程）の際に、受け入れ領域から取り出し領域に向けて、Ｙ軸方向に１回移動する。

ステージ１０６が受け入れ領域に位置する場合には、第１のロボットのフォークによって、液状の材料１１１が塗布されるべき基体１０Ｌがステージ１０６上に載せられる。この際、ストライプ状の被吐出部１８Ｌの長手方向が、Ｘ軸方向に一致するように、基体１０Ｌが吐出装置１００に対して位置決めされる。基体１０Ｌが吐出装置１００に対して位置決めされた後で、ステージ１０６は、受け入れ領域から取り出し領域に向けて、Ｙ軸方向に移動を開始する。

そして、被吐出部１８Ｌに対応する領域を第１の吐出ヘッド部１０３Ａが通過する。被吐出部１８Ｌに対応する領域を第１の吐出ヘッド部１０３Ａが通過する期間内に、第１の吐出ヘッド部１０３Ａは、吐出ノズル１１８Ｔのそれぞれから被吐出部１８Ｌに液状の材料１１１の第１の液滴を吐出する。この結果、第１の範囲ＥＸＴ内においてノズルピッチＨＸＰで並んだ複数の着弾位置のそれぞれに、液状の材料１１１の液滴が着弾する。着弾した液滴のそれぞれは、それぞれの着弾位置から塗れ広がる。

そうすると、図７（ａ）に示すように、被吐出部１８Ｌに液状の材料１１１が充填される。第１の吐出ヘッド部１０３Ａが被吐出部１８Ｌに対応する領域を通りすぎてから、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂがその被吐出部１８Ｌに対応する領域に侵入するまでに、液状の材料１１１に含まれる溶媒が揮発して、塗布したい材料（溶質や溶媒によって分散された材料）のみが被吐出部１８Ｌに残る。この結果、図７（ｂ）に示すように、被吐出部１８Ｌにおける液状の材料１１１の体積は減少する。

被吐出部１８Ｌに対応する領域を第１の吐出ヘッド部１０３Ａが通過した後に、被吐出部１８Ｌに対応する領域を第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが通過する。被吐出部１８Ｌに対応する領域を第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが通過する期間内に、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂは、吐出ノズル１１８Ｔのそれぞれから被吐出部１８Ｌに液状の材料１１１の第２の液滴を吐出する。この結果、第１の範囲ＥＸＴ内においてノズルピッチＨＸＰで並んだ複数の着弾位置のそれぞれに、液状の材料１１１の液滴が着弾する。第２の吐出ヘッド部１０３Ｂによる複数の着弾位置は、第１の吐出ヘッド部１０３Ａによる複数の着弾位置とほぼ同じである。着弾した液滴のそれぞれは、それぞれの着弾位置から塗れ広がる。この結果、被吐出部１８Ｌの全体が液状の材料１１１で覆われる。

この結果、図７（ｃ）に示すように、再度、被吐出部１８Ｌに液状の材料１１１が充填される。その後、被吐出部１８Ｌに吐出された液状の材料１１１を乾燥させて、液状の材料１１１における溶媒を気化することで、図７（ｄ）に示すように、被吐出部１８Ｌに必要な体積の材料が塗布される。

第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが被吐出部１８Ｌに対応する領域を通過した後、ステージ１０６は取り出し領域に達して停止する。そして、第２のロボットの２つのフォークによって、塗布工程を経た基体１０Ｌが、ステージ１０６から取り上げられる。

次に、図７で示した工程をより具体的に示す。図８に示すように、ステージ１０６がＹ軸方向に移動する。そうすると、第１の吐出ヘッド部１０３Ａにおける１列目のヘッド列ＨＬに含まれる複数のヘッド１１４のノズル列１１６Ａが、被吐出部１８Ｌに対応する領域に達する。そして、これらのヘッド１１４のノズル列１１６Ａが、被吐出部１８Ｌに向けて液状の材料１１１の第１の液滴を吐出する。このことによって、図８のラベルＡ１の右側に示すように、被吐出部１８Ｌ上でノズルピッチＬＮＰ（約１４０μｍ）で並んだ複数の着弾位置ＳＢＤに複数の第１の液滴が着弾する。着弾した液滴は着弾位置ＳＢＤから塗れ広がっていく。

ここで、図８のラベルＡ１の右側には、ノズル列１１６Ａの両端の吐出ノズル１１８Ｔに対応する着弾位置ＳＢＤのみが黒丸で示されており、その他の吐出ノズル１１８Ｔに対応する着弾位置ＳＢＤの図示は省略されている。以下のラベルＡ２からＡ１２においても、同様に、対応するノズル列における両端の吐出ノズル１１８Ｔによる着弾位置ＳＢＤのみが代表の着弾位置ＳＢＤとして図示されている。

次に１列目のヘッド列ＨＬに含まれる複数のヘッド１１４のノズル列１１６Ｂが、被吐出部１８Ｌに対応する領域に達する。そしてこれらのノズル列１１６Ｂが、被吐出部１８Ｌに向けて液状の材料１１１の第１の液滴を吐出する。このことによって、図８のラベルＡ２の右側に示すように、被吐出部１８Ｌ上でノズルピッチＬＮＰ（約１４０μｍ）でならんだ複数の着弾位置ＳＢＤのそれぞれに第１の液滴が着弾する。ただし、ノズル列１１６Ａによる着弾位置ＳＢＤと、ノズル列１１６Ｂによる着弾位置ＳＢＤとは、ほぼ７０μｍだけずれている。このため、ノズル列１１６Ａとノズル列１１６Ｂとによって、被吐出部１８Ｌ上にノズルピッチＨＸＰの間隔で並んだ複数の着弾位置ＳＢＤのそれぞれに第１の液滴が着弾する。

その後、２番目のヘッド列ＨＬに含まれるヘッド１１４と、３番目のヘッド列に含まれるヘッド１１４とからも、同様に液状の材料１１１の第１の液滴が吐出される。このことによって、被吐出部１８Ｌにおける第１の範囲に亘って、ノズルピッチＨＸＰで並んだ複数の着弾位置ＳＢＤのそれぞれに液状の材料１１１の第１の液滴が着弾する（図８のラベルＡ３からＡ６）。

次に、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂが被吐出部１８Ｌに対応する領域に達する。第２の吐出ヘッド部１０３Ｂにおける吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンは、第１の吐出ヘッド部１０３Ａにおける吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンと同じである。このため、第１の吐出ヘッド部１０３Ａに対応する着弾位置ＳＢＤと同じ着弾位置ＬＢＤ上に、液状の材料１１１の第２の液滴が着弾する（図８のラベルＡ７からＡ１２）。

このような塗布工程によって、ステージ１０６がＹ軸方向に１回移動するだけで、被吐出部１８Ｌに、所望の体積の液状の材料１１１を塗布することができる。

液状の材料１１１は、所望の流動性を得るように、溶媒を含む。このため、被吐出部１８Ｌに塗布されるべき所定材料（溶質や溶媒によって分散された材料）の体積に対応する液状の材料１１１の体積が、被吐出部１８Ｌが受容できる体積よりも大きいことがある。このような場合には、１つの走査期間内に被吐出部に吐出できる液状の材料１１１の体積が限られる。このため、そのような場合には、被吐出部に対して、複数の走査期間が必要になり、結果として塗布工程に時間がかかる。

本実施形態によれば、１つの走査期間（例えば、ステージ１０６の始点から終点までのＹ軸方向に沿った１回の相対移動）のうちに、第１の吐出ヘッド部１０３Ａと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂとが、時間間隔を置いて被吐出部１８Ｌにおける同じ位置に重なり合う。ここで、第１の吐出ヘッド部１０３Ａが被吐出部１８Ｌに液滴を吐出した時点から第２の吐出ヘッド部１０３Ｂがその被吐出部１８Ｌに液滴を吐出する時点までの間に、先に着弾した液状の材料１１１から溶媒が気化して液状の材料１１１の体積が収縮する。以上のことから、一つのヘッドからの液滴の体積がたとえ小さくても、１つの走査期間内に多くの液滴を被吐出部１８Ｌの同じ位置に吐出できる。以上のことから、１つの走査期間内に、被吐出部１８Ｌから液状の材料１１１を溢れさせることなく、必要量の液状の材料１１１を被吐出部１８Ｌに塗布することができる。

上記のストライプ状の被吐出部１８Ｌの例の一つは、電子機器において金属配線が形成されるための部分である。したがって、本実施形態の吐出装置１００は、液状の配線材料を吐出することで電子機器における金属配線を製造する配線製造装置に適用され得る。例えば、後述のプラズマ表示装置５０（図２５〜２６）における支持基板５２上にアドレス電極５４を形成する配線製造装置に適用され得る。

（実施形態２）
本実施形態の吐出装置の構成は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおける吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおける吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンとが、実施形態１の配置パターンと異なる点を除いて、実施形態１の吐出装置１００の構成と同じである。

図９および図１０に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃは、第２の吐出ヘッド部１０３ＤからＹ軸方向に所定の距離ＹＫだけ離れている。図９の場合、第１の吐出ヘッド部１０３ＣのＹ座標は、第２の吐出ヘッド部１０３ＤのＹ座標よりも大きい。なお、上記所定の距離ＹＫは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおいて最も大きいＹ座標を有するノズル列と、第２の吐出ヘッド部１０３Ｂにおいて最も大きいＹ座標を有するノズル列と、の間の距離でもある。

以下では、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおけるヘッド１１４の相対位置関係を説明する。

図９に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃは複数のヘッド群１１４Ｇを有する。複数のヘッド群１１４Ｇは、Ｘ軸方向に延びる１列を構成している。

それぞれのヘッド群１１４Ｇは、Ｙ軸方向に隣合う４つのヘッド１１４からなる。そして、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰが、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さとなるように、ヘッド群１１４において４つのヘッド１１４が配置されている。より具体的には、ヘッド群１１４Ｇにおいて、１つのヘッド１１４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標に対して、他のヘッド１１４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／４倍の長さだけ、Ｘ軸方向に重複無くずれて位置している。ここで、ｊは１から３までの自然数である。このため、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、ノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。

本実施形態では、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは約７０μｍだから、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、その１／４倍の約１７．５μｍである。ここで、「ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰ」は、ヘッド群１１４Ｇにおけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

もちろん、ヘッド群１１４Ｇが含むヘッド１１４の数は、４つだけに限定されない。ヘッド群１１４ＧはＮ個のヘッド１１４からなってもよい。ここで、Ｎは２以上の自然数である。ヘッド群１１４ＧがＮ個のヘッド１１４からなる場合には、ノズルピッチＧＸＰがノズルピッチＨＸＰの１／Ｎ倍の長さになるように、ヘッド群１１４ＧにおいてＮ個のヘッド１１４が配置されればよい。あるいは、Ｎ個のヘッド１１４の一つにおける第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッド１１４における基準ノズル１１８のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれていればよい。なお、この場合には、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。

以下では、本実施形態のヘッド１１４の相対位置関係をより具体的に説明する。

まず、説明を平易にする目的で、図９および図１０の最も左側のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４１、ヘッド１１４２、ヘッド１１４３、ヘッド１１４４と表記する。同様に、図９および図１０の左から２番目のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４５、ヘッド１１４６、ヘッド１１４７、ヘッド１１４８と表記する。

そして図１０に示すように、ヘッド１１４１におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列１Ａ、１Ｂと表記し、ヘッド１１４２におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列２Ａ、２Ｂと表記し、ヘッド１１４３におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列３Ａ、３Ｂと表記し、ヘッド１１４４におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列４Ａ、４Ｂと表記する。同様に、ヘッド１１４５におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列５Ａ、５Ｂと表記し、ヘッド１１４６におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列６Ａ、６Ｂと表記し、ヘッド１１４７におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列７Ａ、７Ｂと表記し、ヘッド１１４８におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列８Ａ、８Ｂと表記する。

これらノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれは、実際には９０個のノズル１１８からなる。そして、上述したように、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれにおいて、これら９０個のノズルは、Ｘ軸方向に並んでいる。ただし、図１０では説明の便宜上、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれが、４つの吐出ノズル１１８Ｔ（ノズル１１８）からなるように描かれている。さらに、図９および図１０では、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列５Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１である。なお図９および図１０の左方向は、Ｘ軸方向の負の方向である。

ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図９および図１０の例では、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図９および図１０の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４１がヘッド１１４２に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図９および図１０の右方向）であってもよい。

ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図９および図１０の例では、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図９および図１０の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４３がヘッド１１４４に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図９および図１０の右方向）であってもよい。

ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／８倍または３／８倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／４倍または３／４倍の長さ、である。図９および図１０の例では、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／８、すなわち１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向（図９および図１０の右方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４２がヘッド１１４３に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の負の方向（図９および図１０の左方向）であってもよい。

本実施形態では、Ｙ軸方向の負の方向（図面の下方向）に向かって、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４が、この順番で並んでいる。しかしながら、Ｙ軸方向に並んだこれら４つのヘッド１１４の順番は、本実施形態の順番でなくてもよい。具体的には、ヘッド１１４１とヘッド１１４２とが、Ｙ軸方向に隣合うとともに、ヘッド１１４３とヘッド１１４４とがＹ軸方向に隣合っていればよい。

上記配置によって、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。同様に、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。ノズル列１Ａの他のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの他のノズル１１８のＸ座標と、の間にも、同様にノズル列２Ａ（または２Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列３Ａ（または３Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列４Ａ（または４Ｂ）のノズル１１８のＸ座標が収まる。

より具体的には、上記のヘッドの配置によって、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。そして、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。

図９および図１０の左から２番目のヘッド群１１４Ｇにおけるヘッド１１４５、１１４６、１１４７、１１４８の配置、つまりコンフィギュレーションも、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４の配置と同様である。

次に、Ｘ軸方向に隣合う２つのヘッド群１１４Ｇの間の相対位置関係を、ヘッド１１４５とヘッド１１４１との間の相対位置関係に基づいて説明する。

ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置から、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰと、ヘッド１１４における吐出ノズル１１８Ｔの数と、の積の長さだけＸ軸方向の正の方向にずれている。本実施形態では、ノズルピッチＨＸＰは約７０μｍであるとともに、１つのヘッド１１４における吐出ノズル１１８Ｔの数は１６０個なので、ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置から１１．２ｍｍ（７０μｍ×１６０）だけＸ軸方向の正の方向にずれている。ただし、図９および図１０では、説明の便宜上、ヘッド１１４１における吐出ノズル１１８Ｔの数は８個なので、ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置が、ヘッド１１４１の基準ノズル１１４１の位置から５６０μｍ（７０μｍ×８）だけずれているように描かれている。

ヘッド１１４１とヘッド１１４５とが上述のように配置されているので、ノズル列１Ａの最も右の吐出ノズル１１８ＴのＸ座標と、ノズル列５Ａの最も左の吐出ノズル１１８ＴのＸ座標とは、ノズルピッチＬＮＰだけずれている。このため、２つのヘッド群１１４Ｇ全体のＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。

第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおいて、Ｙ軸方向に隣合う他の４つのヘッド１１４間の相対位置関係は、上記４つのヘッド１１４間の相対位置関係と同じである。また、Ｘ軸方向に隣合う他の２つのヘッド群１１４Ｇ間の相対位置関係も、上記２つのヘッド群１１４Ｇ間の相対位置関係と同じである。

以上のことから、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さ、つまり１７．５μｍとなるように、分布している。ここで「第１の範囲ＥＸＴ」とは、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿った範囲であって、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおいて最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔの間で規定される範囲である。ただし、第１の範囲ＥＸＴには、これら最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔも含まれる。

図９に示すように、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおけるヘッド１１４の配置パターンは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおけるヘッド１１４（図１０では１１４１〜１１４８）の配置パターンと同じである。つまり、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンと、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンとは、同じである。

以上のことから、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおいても、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さになるように、分布している。そして、共通なＸ座標を有する２つの吐出ノズル１１８Ｔが、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃと第２の吐出ヘッド部１０３Ｄとに一つずつ位置している。

本実施形態の塗布工程として、ストライプ状の被吐出部に液状の材料１１１を塗布する工程を説明する。

本実施形態の吐出装置１００において、ステージ１０６は、１つの基体上の被吐出部に液状の材料１１１を塗布する工程（塗布工程）の際に、受け入れ領域から取り出し領域に向けて、Ｙ軸方向に１回移動する。

ステージ１０６が受け入れ領域に位置する場合には、第１のロボットのフォークによって、液状の材料が塗布されるべき基体がステージ１０６上に載せられる。この際、ストライプ状の被吐出部の長手方向が、Ｘ軸方向に一致するように、基体が吐出装置１００に対して位置決めされる。基体が吐出装置１００に対して位置決めされた後で、ステージ１０６は、受け入れ領域から取り出し領域に向けて、Ｙ軸方向に移動を開始する。

そして、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが被吐出部に対応する領域を通過する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが被吐出部に対応する領域を通過する期間内に、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃは、吐出ノズル１１８Ｔのそれぞれから被吐出部に液状の材料の第１の液滴を吐出する。この結果、第１の範囲ＥＸＴ内においてノズルピッチＨＸＰの１／４倍で並んだ複数の着弾位置のそれぞれに、液状の材料の第１の液滴が着弾する。着弾した第１の液滴のそれぞれは、それぞれの着弾位置から塗れ広がる。

第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが被吐出部に対応する領域を通過した後に、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが被吐出部に対応する領域を通過する。第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが被吐出部に対応する領域を通過する期間内に、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄは、吐出ノズル１１８Ｔのそれぞれから被吐出部に液状の材料の第２の液滴を吐出する。この結果、第１の範囲ＥＸＴ内においてノズルピッチＨＸＰの１／４倍で並んだ複数の着弾位置のそれぞれに、液状の材料の第２の液滴が着弾する。第２の吐出ヘッド部１０３Ｄによる複数の着弾位置は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃによる複数の着弾位置とほぼ同じである。着弾した第２の液滴のそれぞれは、それぞれの着弾位置から塗れ広がる。この結果、被吐出部の全体が液状の材料で覆われる。

第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが被吐出部に対応する領域を通過した後、ステージ１０６は取り出し領域に達して停止する。そして、第２のロボットの２つのフォークによって、塗布工程を経た基体が、ステージ１０６から取り上げられる。

（実施形態３）
本実施形態の吐出装置の構成は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅおよび第１の吐出ヘッド部１０３Ｆにおける吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンが、実施形態２の配置パターンと異なる点を除いて、実施形態２の吐出装置の構成と同じである。

上述の実施形態２の第１の吐出ヘッド部１０３Ｅにおいて、複数のヘッド群１１４Ｇは、Ｘ軸方向に延びる一つの列を構成している（図９および図１０）。本実施形態では、図１１および図１２が示すように、複数のヘッド群１１４Ｇは、それぞれがＸ軸方向に延びる複数の列ＧＬ（本実施形態では３列）を構成している。複数の列は、Ｙ軸方向に隣合っている。

それぞれのヘッド群１１４Ｇにおける４つのヘッド１１４の相対位置関係は、実施形態２で説明した相対位置関係と同じである。このため、それぞれのヘッド１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、ノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さである。

図１１および図１２に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅには、上述の実施形態２で説明したヘッド群１１４Ｇが、２次元的に配列されている。この結果、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅの全体としてのＸ軸方向のノズルピッチが、ノズルピッチＧＸＰ、つまりノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さ、である。

説明の便宜上、図１１の最も上側の列に含まれるヘッド群１１４Ｇを、図１１の左側から順に、ヘッド群Ｇ₁₁、ヘッド群Ｇ₁₂、ヘッド群Ｇ₁₃、〜ヘッド群Ｇ_1Lと表記する。また、図１の真中の列に含まれるヘッド群１１４Ｇを、図１１の左側からヘッド群Ｇ₂₁、ヘッド群Ｇ₂₂、ヘッド群Ｇ₂₃、〜ヘッド群Ｇ_2Lと表記する。そして、図１１の最も下側の列に含まれるヘッド群１１４Ｇを、図１１の左から、ヘッド群Ｇ₃₁、ヘッド群Ｇ₃₂、ヘッド群Ｇ₃₃、〜ヘッド群Ｇ_3Lと表記する。なお、Ｌは正の整数であり、列に含まれるヘッド群１１４の数を表す。なお、図１１および図１２の左方向はＸ軸方向の負の方向である。

さて、それぞれのヘッド群１１４Ｇにおいて、最も小さいＸ座標を有する吐出ノズル１１８Ｔを、第３の基準ノズルＲ３とし、ヘッド群１１４Ｇの最も大きいＸ座標を有する吐出ノズル１１８Ｔを、第４の基準ノズルＲ４と表記する。

図１２に示すように、真中の列の左端のヘッド群Ｇ₂₁における第３の基準ノズルＲ３の位置は、最も上側の列の左端のヘッド群Ｇ₁₁の第４の基準ノズルＲ４位置から、ノズルピッチＧＸＰの長さ（ほぼ１７．５μｍ）だけ、Ｘ軸方向の正の方向にずれている。

一方、最も下の列の左端のヘッド群Ｇ₃₁の第３の基準ノズルＲ３の位置は、真中の列の左端のヘッド群ヘッド群Ｇ₂₁の第４の基準ノズルＲ４の位置から、ノズルピッチＧＸＰの長さ（ほぼ１７．５μｍ）だけ、Ｘ軸方向の正の方向にずれている。

同様に、最も上側の列の左から２番目のヘッド群Ｇ₁₂の第３の基準ノズルＲ３の位置は、最も下側の列の左端のヘッド群Ｇ₃₁の第４の基準ノズルＲ４の位置から、ノズルピッチＧＸＰの長さ（ほぼ１７．５μｍ）だけ、Ｘ軸方向の正の方向にずれている。

第１の吐出ヘッド部１０３Ｅにおける他のヘッド群の間の相対位置関係も、ヘッド群Ｇ₁₁、Ｇ₂₁、Ｇ₃₁、Ｇ₁₂の相対位置関係と同じである。したがって、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅの全体のＸ軸方向のノズルピッチは、ノズルピッチＧＸＰ、つまりノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さ、である。

以上のことから、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＧＸＰとなるように、分布している。ここで「第１の範囲ＥＸＴ」とは、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿った範囲であって、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅにおいて最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔの間で規定される範囲である。ただし、第１の範囲ＥＸＴには、これら最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔも含まれる。

第２の吐出ヘッド部１０３Ｆは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅにおけるヘッド群１１４の数と同じ数のヘッド群を有している。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｆにおける複数のヘッド群１１４Ｇの間の相対位置関係は、第１の吐出ヘッド群における複数のヘッド群１１４Ｇの間のそれと同じである。このため、第１の吐出ヘッド部１０３Ｆの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンと、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンとは、同じである。

以上のことから、共通なＸ座標を有する２つの吐出ノズル１１８Ｔが、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅと第２の吐出ヘッド部１０３Ｆとに一つずつ位置している。さらに、第２の吐出ヘッド部１０３Ｆにおいても、第１の範囲ＥＸＴにおいて吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＧＸＰとなるように、分布している。

（実施形態４）
本発明をカラーフィルタ基板の製造装置に適用した例を説明する。

図１３（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述する製造装置１（図１４）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。

具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。

それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。

図１３（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。

なお、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８ＧがＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図９）に収まっている。

被吐出部１８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部１８Ｒの平面像は、互いに直交する長軸方向と短軸方向とを有する形状である。本実施形態では、被吐出部１１８Ｒの平面像は長辺と短辺とで決まるほぼ矩形である。具体的には、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。

図１４に示す製造装置１は、図１３の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する複数の搬送装置１７０も備えている。複数の搬送装置１７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図１５に示す吐出装置１００Ｒの構成は、実施形態２の吐出装置の構成と基本的に同じである。ただし、タンク１０１Ａ、１０１Ｂとチューブ１１０Ａ、１１０Ｂとに代えて、吐出装置１００Ｒが液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ用の２つのタンク１０１Ｒと２つのチューブ１１０Ｒとを備える点で、吐出装置１００Ｒの構成は吐出装置１００の構成と異なる。なお、吐出装置１００Ｒの構成要素のうち、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様なものには同じ参照符号を付して、重複する説明を省略する。

吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂは、本発明の液状の材料の一例である。

次に、吐出装置１００Ｒの動作を説明する。吐出装置１００Ｒは、基体１０Ａ上でマトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒに同一の材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）を吐出する。なお、実施形態５〜７において説明するように、基体１０Ａは、エレクトロルミネッセンス表示装置用の基板に置き換わってもよいし、プラズマ表示装置用の背面基板に置き換わってもよいし、電子放出素子を備えた画像表示装置の基板に置き換わってもよい。

図１６の基体１０Ａは、被吐出部１８Ｒの長辺方向および短辺方向がそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に一致するように、ステージ１０６に保持されている。

まず、走査期間が始る前に、制御部１１２は、吐出データに応じて、いくつかのノズル１１８のＸ座標が被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に収まるように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、またはヘッド群１１４Ｇ、を基体１０Ａに対してＸ軸方向に相対移動させる。被吐出部１８ＲのＸ座標範囲とは、被吐出部１８Ｒの両端のＸ座標で決まる範囲である。本実施形態では、被吐出部１８Ｒの長辺の長さは約３００μｍであり、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは１７．５μｍである。このため、ヘッド群１１４Ｇにおける１６個または１７個のノズル１１８が、１つの被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に入る。Ｘ座標範囲外のノズル１１８からは、走査期間の内になんらカラーフィルタ材料１１１Ｒは吐出されない。

ところで、本実施形態において「走査期間」とは、図３３に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｅの一辺がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４の一端Ｅ１（または他端Ｅ２）から他端Ｅ２（または一端Ｅ１）まで、ステージ１０６に対して相対移動を１回行う期間を意味する。「走査範囲１３４」とは、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料を塗布するために、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの組がステージ１０６に対して相対移動する範囲を意味し、走査範囲１３４によってすべての被吐出部１８Ｒが覆われている。本実施形態では、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄは、走査範囲１３４を１つの走査期間内に移動する。

なお、場合によって用語「走査範囲」は、ステージ１０６に対して１つのノズル１１８（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのノズル列１１６Ａ（１１６Ｂ）（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４（図２）が相対移動する範囲を意味することもある。

さらに、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、ヘッド群１１４Ｇ（図９）、ヘッド１１４（図２）、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対するこれらの相対位置が変わることを意味する。このため、本明細書では、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。

さて、制御部１１２は、吐出周期ＥＰ（図５（ｂ））の整数倍の時間間隔毎に、１つのノズル１１８とＹ軸方向に並んだ被吐出部１８Ｒとが重なるように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄのステージ１０６に対する相対移動の速度を決定する。そうすれば、その１つのノズル１１８を含むノズル列における他のノズル１１８も、吐出周期ＥＰの整数倍の時間間隔毎に、それぞれの被吐出部１８Ｒと重なる。本実施形態では、被吐出部１８ＲのＹ軸方向のピッチがＬＲＹ（図１３（ｂ））なので、ステージ１０６に対する第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ（または第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ）の相対移動の速度をＶとすると、Ｖ＝ＬＲＹ／（ｋ・ＥＰ）である。ここで、ｋは整数である。なお、吐出周期ＥＰはほぼ一定なので、相対移動の速度Ｖは等速である。

走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図１６の紙面上方向）に、ステージ１０６が相対移動し始める。そうすると、図１０を参照しながら説明したノズル列１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂがこの順番で、被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する。なお、走査期間の間、ヘッド群１１４ＧのＸ座標は変化しない。

図１６に示す例の場合には、ノズル列１Ａがある１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８と、左から３番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１が吐出される。さらに、ノズル列１Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズルとから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。

その後、ノズル列２Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列２Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。

そして、ノズル列３Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列３Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。

さらに、ノズル列４Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列４Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。

本実施形態によれば、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、１つのヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４であり、このため、１つの走査期間内に、より多くのノズル１１８が１つの被吐出部に重なる。

被吐出部１８Ｒ内でカラーフィルタ材料１１１Ｒが着弾する位置の順番は、図１６の左からＰ１、Ｐ６、Ｐ４、Ｐ８、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ５、Ｐ９、Ｐ２で並んだ位置のうちであれば、Ｐ１（Ｐ２）、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ９の順番に着弾する。なお、Ｐ１とＰ２には、ほぼ同時にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾する。

つまり、本実施形態によれば、カラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴は、既に液滴で覆われた２つの位置の中間位置に着弾する。このため、後に着弾する液滴は、自らの着弾位置に対して対称な２つの位置において、先に着弾した２つの液滴と接する。このため、後に着弾する液滴には、相反する２つの方向への力が働き、この結果、後に着弾した液滴はその着弾位置から対称な形状に広がる。この理由から、本実施形態の塗布工程によれば、カラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布ムラが生じにくい。

一方、図１６に示すように、走査期間内では、ノズル列１Ａにおける最も左側のノズル１１８と、ノズル列２Ａにおける右から２番目のノズル１１８と、ノズル列３Ａにおける右から２番目のノズル１１８と、ノズル列４Ａにおける右から２番目のノズル１１８とは、一度も被吐出部１８Ｒに重ならない。したがって、これらのノズルからはなんらカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出は行われない。

以上では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。

まず、以下の手順にしたがって図１３の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。

なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、1層のみとなる。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。

なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。

被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１７（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部１８Ｒに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置１００Ｒは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔからカラーフィルタ材料１１１Ｒの第１の液滴をその被吐出部１８Ｒに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部１８Ｒに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部１８Ｒに向けてカラーフィルタ材料１１１Ｒの第２の液滴を吐出する。

本実施形態では、ステージ１０６をＹ軸方向に１回相対移動を行う期間中に、被吐出部１８Ｒのすべてに、所望量の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される。被吐出部１８Ｒのすべてが、第１の範囲ＥＸＴ内に分布しているからである。

また、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの吐出ノズル１１８Ｔと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの対応する吐出ノズル１１８Ｔとが、１回の走査期間中に被吐出部１８Ｒ内の同じ位置に重なり合うので、一つの吐出ノズル１１８Ｔからのカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴の体積がたとえ小さくても、１回の走査期間中に被吐出部１８Ｒに塗布されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積を増やすことができる。

基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部１８Ｇに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置１００Ｇは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔからカラーフィルタ材料１１１Ｇの第１の液滴をその被吐出部１８Ｇに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部１８Ｇに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部１８Ｇに向けてカラーフィルタ材料１１１Ｇの第２の液滴を吐出する。

基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部１８Ｂに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置１００Ｂは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔからカラーフィルタ材料１１１Ｂの第１の液滴をその被吐出部１８Ｂに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部１８Ｂに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部１８Ｂに向けてカラーフィルタ材料１１１Ｂの第２の液滴を吐出する。

基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。

（実施形態４の変形例）
図１４に示す製造装置１が、さらに検査装置とリペア用吐出装置とを有してもよい。例えば、１つの基体１０Ａに対する乾燥装置１５０Ｂの工程が終了してから吐出装置１００Ｃの工程が始るまでの間に、その基体１０Ａが、検査装置による工程と、リペア用吐出装置による工程とを、この順番で受けるように、製造装置１が構成されてもよい。ここで、検査装置とは、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂが適切に塗布されたかどうかを検査する装置である。また、リペア用吐出装置とは、検査装置の検査結果に応じて、適切に塗布されていない被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂに対して、再度、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。製造装置１がこのような２つの装置をさらに含むことによって、カラーフィルタ基板の歩留まりがより向上する。

検査装置の工程とリペア用吐出装置の工程とが行われるタイミングは、オーブン１６０によるポストベークの前段であれば、より好ましい。ただし、吐出装置１６０Ｃによる保護膜２０の塗布前であれば、検査装置による工程とリペア用吐出装置による工程とは、どの段階に挿入されても、実施し得る。また例えば、吐出装置１００Ｒによる工程、吐出装置１００Ｇによる工程、および吐出装置１００Ｂによる工程のそれぞれの直後に、検査装置による工程とリペア用吐出装置による工程とのペアが、それぞれ挿入されてもよい。

（実施形態５）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。

図１８（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１９）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０（例えば有機ＥＬ表示装置）となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。

具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。

回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１３（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。

基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。

図１８（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。

なお、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８ＧがＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図９）に収まっている。

被吐出部３８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部３８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部３８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。

図１９に示す製造装置２は、図１８の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する複数の搬送装置２７０も備えている。複数の搬送装置２７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図２０に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持する２つのタンク２０１Ｒと、２つのチューブ２１０Ｒと、２つのチューブ２１０Ｒを介して２つのタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態２の吐出走査部の構成と同じである。なお、吐出装置２００において、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２０１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。

製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１８に示す基体３０Ａを製造する。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。

なお、画素電極３６の材質、無機物バンク４０Ａの材質、および有機物バンク４０Ｂの材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。

ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ（図２１）を形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを設ける場合には、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂと、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。

なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ（図２１）をインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。

被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２１（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）から発光材料２１１Ｒを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部３８Ｒに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置２００Ｒは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから発光材料２１１Ｒの第１の液滴をその被吐出部３８Ｒに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部３８Ｒに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部３８Ｒに向けて発光材料２１１Ｒの第２の液滴を吐出する。

本実施形態では、ステージ１０６をＹ軸方向に１回相対移動を行う期間中に、被吐出部３８Ｒのすべてに、所望量の液状の発光材料２１１Ｒが塗布される。被吐出部３８Ｒのすべてが、第１の範囲ＥＸＴ内に分布しているからである。

また、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの吐出ノズル１１８Ｔと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの対応する吐出ノズル１１８Ｔとが、１回の走査期間中に被吐出部３８Ｒ内の同じ位置に重なり合うので、一つの吐出ノズル１１８Ｔからの発光材料２１１Ｒの液滴の体積がたとえ小さくても、１回の走査期間中に被吐出部３８Ｒに塗布される発光材料２１１Ｒの体積を増やすことができる。

基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。

次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）から発光材料２１１Ｇを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部３８Ｇに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置２００Ｇは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから発光材料２１１Ｇの第１の液滴をその被吐出部３８Ｇに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部３８Ｇに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部３８Ｇに向けて発光材料２１１Ｇの第２の液滴を吐出する。

基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。

次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）から発光材料２１１Ｂを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部３８Ｂに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置２００Ｂは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから発光材料２１１Ｂの第１の液滴をその被吐出部３８Ｂに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部３８Ｂに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部３８Ｂに向けて発光材料２１１Ｂの第２の液滴を吐出する。

基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。

図２１（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図２１（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。

エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。

（実施形態６）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。

図２２（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図２３）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。

具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。

基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。

図２２（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。

なお、被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８ＧがＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図９）に収まっている。

被吐出部５８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部５８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部５８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。

図２３に示す製造装置３は、図２２の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する複数の搬送装置３７０も備えている。複数の搬送装置３７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図２４に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持する２つのタンク３０１Ｒと、２つのチューブ３１０Ｒと、２つのチューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒから蛍光材料３１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態２の吐出走査部と基本的に同じである。なお、吐出装置３００Ｒにおいて、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様な構成要素には、同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。

吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、発光材料の一種であり、本発明の液状の材料に対応する。

製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図２２に示す基体５０Ａを得る。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。

被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２５（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部５８Ｒに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置３００Ｒは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから蛍光材料３１１Ｒの第１の液滴をその被吐出部５８Ｒに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部５８Ｒに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部５８Ｒに向けて蛍光材料３１１Ｒの第２の液滴を吐出する。

本実施形態では、ステージ１０６をＹ軸方向に１回相対移動を行う期間中に、被吐出部５８Ｒのすべてに、所望量の液状の蛍光材料３１１Ｒが塗布される。被吐出部５８Ｒのすべてが、第１の範囲ＥＸＴ内に分布しているからである。

また、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの吐出ノズル１１８Ｔと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの対応する吐出ノズル１１８Ｔとが、１回の走査期間中に被吐出部５８Ｒ内の同じ位置に重なり合うので、一つの吐出ノズル１１８Ｔからの蛍光材料３１１Ｒの液滴の体積がたとえ小さくても、１回の走査期間中に被吐出部５８Ｒに塗布される発光材料３１１Ｒの体積を増やすことができる。

基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。

次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２５（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部５８Ｇに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置３００Ｇは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから蛍光材料３１１Ｇの第１の液滴をその被吐出部５８Ｇに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部５８Ｇに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部５８Ｇに向けて蛍光材料３１１Ｇの第２の液滴を吐出する。

基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。

次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２５（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４（図９）から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部５８Ｂに対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置３００Ｂは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから蛍光材料３１１Ｂの第１の液滴をその被吐出部５８Ｂに向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部５８Ｂに対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部５８Ｂに向けて蛍光材料３１１Ｂの第２の液滴を吐出する。

基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。

以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。

次に図２６に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。

（実施形態７）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。

図２７（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置４（図２８）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。

具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。

１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。

基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図３１）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２７（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。

図２７（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。

なお、被吐出部７８がＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図９）に収まっている。

被吐出部７８同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔や大きさに対応する。

図２８に示す製造装置４は、図２７の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。搬送装置４７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図２９に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持する２つのタンク４０１と、２つのチューブ４１０と、２つのチューブ４１０を介して２つのタンク４０１から導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態２の吐出走査部の構成と基本的に同じである。なお、吐出装置４００の構成要素のうち、実施形態１の構成要素まはた実施形態２の構成要素と同様の構成要素には、同じ参照符号を付して、説明を省略する。

本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。そして、本実施形態における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の液状の材料の一例である。

製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ₂を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ₂膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。

その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２７に示す基体７０Ａを得る。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。

被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図３０に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４（図９）から導電性薄膜材料４１１を吐出する。

具体的には、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが、ある被吐出部７８に対応する領域に位置する。そうすると、吐出装置４００Ｂは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃのそれぞれの吐出ノズル１１８Ｔから導電性薄膜材料４１１の第１の液滴をその被吐出部７８に向けて吐出する。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに引き続いて、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄがその被吐出部７８に対応する領域に位置する。そして、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄから、その被吐出部７８に向けて導電性薄膜材料４１１の第２の液滴を吐出する。

本実施形態では、ステージ１０６をＹ軸方向に１回相対移動を行う期間中に、被吐出部７８のすべてに、所望量の液状の導電性薄膜材料４１１が塗布される。被吐出部７８のすべてが、第１の範囲ＥＸＴ内に分布しているからである。

また、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの吐出ノズル１１８Ｔと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの対応する吐出ノズル１１８Ｔとが、１回の走査期間中に被吐出部７８内の同じ位置に重なり合うので、一つの吐出ノズル１１８Ｔからの導電性薄膜材料４１１の液滴の体積がたとえ小さくても、１回の走査期間中に被吐出部７８に塗布される導電性薄膜材料４１１の体積を増やすことができる。

本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。

次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。

以上の工程によって、図３１に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。

次に図３２に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。

なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ(Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display)と呼ばれることもある。また、本明細書では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した画像表示装置など、を「電気光学装置」と表記することもある。ここで、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化や、旋光性の変化や、光散乱性の変化などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。

実施形態１の吐出装置を示す模式図。 実施形態１から７の吐出装置におけるヘッドの底面を示す模式図。 （ａ）および（ｂ）は実施形態１から７の吐出装置におけるヘッドの構造を示す模式図。 実施形態１から７の吐出装置における制御部の機能ブロック図。 （ａ）および（ｂ）は実施形態１から７の吐出装置におけるヘッド駆動部の模式図。 実施形態１の２つの吐出ヘッド部の模式図。 実施形態１の塗布工程を示す模式図。 実施形態１の塗布工程を示す模式図。 実施形態２の２つの吐出ヘッド部の模式図。 実施形態２のヘッド群を示す模式図。 実施形態３の２つの吐出ヘッド部のうちの一つを示す模式図。 実施形態３のヘッド群を示す模式図。 （ａ）は実施形態４の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の上面を示す模式図。 実施形態４のカラーフィルタ製造装置を示す模式図。 実施形態４の吐出装置を示す模式図。 実施形態４の塗布工程を示す模式図。 実施形態４のカラーフィルタ基板の製造方法を示す模式図。 （ａ）は実施形態５の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態５の基体の平面を示す模式図。 実施形態５のエレクトロルミネッセンス表示装置を示す模式図。 実施形態５の吐出装置を示す模式図。 （ａ）〜（ｄ）は実施形態５のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を示す模式図。 （ａ）は実施形態６の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態６の基体の平面を示す模式図。 実施形態６のプラズマ表示装置の一部を示す模式図。 実施形態６の吐出装置を示す模式図。 （ａ）〜（ｃ）は実施形態６のプラズマ表示装置の製造方法の一部を示す模式図。 実施形態６の製造方法によって製造されるプラズマ表示装置の断面を示す模式図。 （ａ）は実施形態７の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態７の基体の平面を示す模式図。 実施形態７の画像表示装置の製造装置を示す模式図。 実施形態７の吐出装置を示す模式図。 実施形態７の画像表示装置の製造方法を示す模式図。 実施形態７の画像表示装置の製造方法を示す模式図。 実施形態７の画像表示装置の製造方法を示す模式図。 基体上の被吐出部と走査範囲との関係を示す模式図。

符号の説明

１、２、３、４…製造装置、１Ａ〜８Ｂ…ノズル列、１０…カラーフィルタ基板、１０Ａ、１０Ｌ…基体、ＧＳ…グランドステージ、１４Ａ…第１の支持構造体、１４Ｂ…第２の支持構造体、１８Ｌ…被吐出部、１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ…被吐出部、１００、１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ…吐出装置、１０１Ａ、１０１Ｂ…タンク、１０２…吐出走査部、１０６…ステージ、１０３Ａ、１０３Ｃ、１０３Ｅ…第１の吐出ヘッド部、１０３Ｂ、１０３Ｄ、１０３Ｆ…第２の吐出ヘッド部、１０８…位置制御装置、１１０Ａ、１１０Ｂ…チューブ、１１１…液状の材料、１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ…カラーフィルタ材料、１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ…フィルタ層、１１２…制御部、１１４…ヘッド、１１４Ｇ…ヘッド群、１１６Ａ…ノズル列、１１６Ｂ…ノズル列、１１８…ノズル、１１８Ｒ１…第１の基準ノズル、１１８Ｒ２…第２の基準ノズル、１１８Ｔ…吐出ノズル、１２４…振動子、１２４Ａ、１２４Ｂ…電極、１２４Ｃ…ピエゾ素子、１２６…振動板、１２７…吐出部、１２８…ノズルプレート、１２９…液たまり、１３１…孔、２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂ…吐出装置、２１１Ｒ、２１１Ｇ、２１１Ｂ…発光材料、３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂ…吐出装置、３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂ…蛍光材料、３１１ＦＲ、３１１ＦＧ、３１１ＦＢ…蛍光層、４１１…吐出装置。

Claims (10)

1. Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体を載せるステージと、
   前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、
   前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、
   前記第１の吐出ヘッド部および前記第２の吐出ヘッド部の組と、前記基体を載せた前記ステージとの少なくとも一方を他方に体して前記Ｙ軸方向に相対移動させる走査部と、
   を備えた吐出装置であって、
   前記Ｙ軸方向への相対移動によって、前記複数の第１の吐出ノズルの少なくとも一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する材料が塗布されるように、前記少なくとも一つの第１の吐出ノズルから前記材料の第１の液滴が吐出され、
   前記Ｙ軸方向への相対移動によって、前記複数の第２の吐出ノズルの少なくとも一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記材料が塗布されるように、前記少なくとも一つの第２の吐出ノズルから前記材料の第２の液滴が吐出される、
   吐出装置。
2. 請求項１記載の吐出装置であって、
   前記第１の範囲に亘って複数の前記被吐出部が位置しており、
   前記相対移動によって、前記複数の第１の吐出ノズルが前記複数の被吐出部に対応する領域のそれぞれに達した場合には、それぞれの被吐出部に前記材料が塗布されるように、対応する第１の吐出ノズルから前記第１の液滴が吐出され、
   前記相対移動によって、前記複数の第２の吐出ノズルが前記複数の被吐出部に対応する領域のそれぞれに達した場合には、前記複数の被吐出部のそれぞれに前記材料が塗布されるように、対応する前記第２の吐出ノズルから前記第２の液滴が吐出される、
   吐出装置。
3. 請求項１記載の吐出装置であって、
   前記走査部は前記基体を載せた前記ステージを前記Ｙ軸方向の一方向に移動させる、
   吐出装置。
4. 請求項１記載の吐出装置であって、
   前記走査部は前記基体を載せた前記ステージをほぼ等速度で移動させる、
   吐出装置。
5. 請求項３記載の吐出装置であって、
   前記走査部は前記ステージを前記Ｙ軸方向に第１の位置から第２の位置まで移動させ、
   前記ステージが第１の位置に位置する場合に前記基体が前記ステージに載せられて、
   前記ステージが第２の位置に達するまでに、前記基体のすべての前記被吐出部への前記材料の塗布が終了する、
   吐出装置。
6. Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体をステージに載せるステップＡと、
   前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、に対して、前記基体を載せた前記ステージの相対位置を前記Ｙ軸方向の一方向に変化させるステップＢと、
   前記複数の第１の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する材料が塗布されるように、前記一つの第１の吐出ノズルから前記材料の第１の液滴を吐出するステップＣと、
   前記複数の第２の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記材料が塗布されるように、前記一つの第２の吐出ノズルから前記材料の第２の液滴を吐出する吐出ステップＤと、
   を含んだ材料塗布方法。
7. Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体をステージに載せるステップＡと、
   前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、に対して、前記基体を載せた前記ステージの相対位置を前記Ｙ軸方向の一方向に変化させるステップＢと、
   前記複数の第１の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有するカラーフィルタ材料が塗布されるように、前記一つの第１の吐出ノズルから前記カラーフィルタ材料の第１の液滴を吐出するステップＣと、
   前記複数の第２の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記カラーフィルタ材料が塗布されるように、前記一つの第２の吐出ノズルから前記カラーフィルタ材料の第２の液滴を吐出する吐出ステップＤと、
   を含んだカラーフィルタ基板の製造方法。
8. Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体をステージに載せるステップＡと、
   前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、に対して、前記基体を載せた前記ステージの相対位置を前記Ｙ軸方向の一方向に変化させるステップＢと、
   前記複数の第１の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する発光材料が塗布されるように、前記一つの第１の吐出ノズルから前記発光材料の第１の液滴を吐出するステップＣと、
   前記複数の第２の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記発光材料が塗布されるように、前記一つの第２の吐出ノズルから前記発光材料の第２の液滴を吐出する吐出ステップＤと、
   を含んだエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
9. Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体をステージに載せるステップＡと、
   前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、に対して、前記基体を載せた前記ステージの相対位置を前記Ｙ軸方向の一方向に変化させるステップＢと、
   前記複数の第１の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する蛍光材料が塗布されるように、前記一つの第１の吐出ノズルから前記蛍光材料の第１の液滴を吐出するステップＣと、
   前記複数の第２の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記蛍光材料が塗布されるように、前記一つの第２の吐出ノズルから前記蛍光材料の第２の液滴を吐出する吐出ステップＤと、
   を含んだプラズマ表示装置の製造方法。
10. Ｘ軸方向に沿った第１の範囲内に被吐出部が位置している基体をステージに載せるステップＡと、
    前記第１の範囲に亘って複数の第１の吐出ノズルが分布するように構成された第１の吐出ヘッド部と、前記第１の範囲に亘って複数の第２の吐出ノズルが分布するように構成された第２の吐出ヘッド部であって、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に前記第１の吐出ヘッド部から第１の距離だけ離れているとともに、前記第１の吐出ヘッド部に対して位置が固定された第２の吐出ヘッド部と、に対して、前記基体を載せた前記ステージの相対位置を前記Ｙ軸方向の一方向に変化させるステップＢと、
    前記複数の第１の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に流動性を有する導電性材料が塗布されるように、前記一つの第１の吐出ノズルから前記導電性材料の第１の液滴を吐出するステップＣと、
    前記複数の第２の吐出ノズルの一つが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記被吐出部に前記導電性材料が塗布されるように、前記一つの第２の吐出ノズルから前記導電性材料の第２の液滴を吐出する吐出ステップＤと、
    を含んだ配線製造方法。
    

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