JP2006106128A - パターン形成方法及びパターン形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】塗布ローラの数を減らし、その塗布ローラそれぞれに形成されたパターンを基板に転写して良好な複合パターンをする小型の形成装置を得る。
【解決手段】基少なくとも一つの塗布ローラ２０を少なくとも二色のパターン構成色に対応させて、塗布ローラ２０のローラ数をパターン構成色の数より少なくし、塗布液供給部３からパターン構成色の塗布液を塗布ローラ２０に供給し、塗布ローラ２０を、供給された塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂに押圧して、塗布ローラ２０からネガパターンにして塗布液を転写除去し、転写除去された塗布ローラ２０を基板５０に押圧して、塗布ローラ２０の塗布液によるパターンを基板５０に転写する。
【選択図】 図１
【解決手段】基少なくとも一つの塗布ローラ２０を少なくとも二色のパターン構成色に対応させて、塗布ローラ２０のローラ数をパターン構成色の数より少なくし、塗布液供給部３からパターン構成色の塗布液を塗布ローラ２０に供給し、塗布ローラ２０を、供給された塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂに押圧して、塗布ローラ２０からネガパターンにして塗布液を転写除去し、転写除去された塗布ローラ２０を基板５０に押圧して、塗布ローラ２０の塗布液によるパターンを基板５０に転写する。
【選択図】 図１
Description
本発明は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタなどの細かいパターンの繰り返しを組み合わせてなる組み合わせ部分を有する複合パターンを形成する方法とその形成装置に関するものである。
従来、液晶表示装置用のカラーフィルタの製造には、フォトレジスト材を用いたフォトリソ手法が採用されているが、画素材料である前記フォトレジスト材の大部分をスピンコートの時点で捨てることとなり、このフォトレジスト材の経済的な使用が図れないという問題がある。また、色ごとに露光、現像などの工程を経ることから全体としての作業効率が低いとともに、露光装置、現像装置などの高価な光学機器を要しており、これによってコストを引き下げることができないという問題もある。
そのため、近年においては印刷によりこのカラーフィルタを得ようとする試みがある。例えば黒（ブラックマトリックス）、赤、緑、青の４色のパターン構成色によりパターンを得る場合、各パターン構成色のパターン毎に凹版又は平版の印刷版を用意して、その版から前記パターン構成色ごとのローラに着色樹脂組成物（例えば、色インキ）を転写してローラそれぞれにパターンを転写させ、そして黒（ブラックマトリックス）のパターンの位置を基準として、その間に赤、次に緑、青とそれぞれ各パターン構成色を基板に転写する方法がある。
また、各パターン構成色のパターンごとに凸版である除去版を用意し、パターン構成色ごとのローラにパターン構成色の着色樹脂組成物を定厚で塗布し、このローラをパターン構成色に対応する前記除去版に押圧して、除去版の凸部にてパターン以外の余剰の着色樹脂組成物を転写除去することで、パターン構成色ごとのローラにパターンを形成し、これらのパターンを上述と同様に黒のパターンの位置を基準として、その間に赤、次に緑、青とそれぞれ各パターン構成色が重ならないように基板に転写することで、カラーフィルタとしてのパターンを得る装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）
特開平１１−０５８９２１１号公報（段落番号０００８、図１）
また、各パターン構成色のパターンごとに凸版である除去版を用意し、パターン構成色ごとのローラにパターン構成色の着色樹脂組成物を定厚で塗布し、このローラをパターン構成色に対応する前記除去版に押圧して、除去版の凸部にてパターン以外の余剰の着色樹脂組成物を転写除去することで、パターン構成色ごとのローラにパターンを形成し、これらのパターンを上述と同様に黒のパターンの位置を基準として、その間に赤、次に緑、青とそれぞれ各パターン構成色が重ならないように基板に転写することで、カラーフィルタとしてのパターンを得る装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）
上述した印刷によるカラーフィルタの製造では、フォトリソ手法に比べて露光装置や現像装置などを必要としないため、製造コストの低減が図り易いものである。
しかしながら、上述した印刷手法によるパターン形成装置では、パターン構成色ごとに一つの塗布ローラが対応して多くの塗布ローラを備え、そしてこれらの多くの塗布ローラを該塗布ローラの移動方向に並ぶように配置することとなり、形成装置が大型化するという不都合があり、特にカラーフィルタの大型化が要望される傾向にある現状において、印刷手法を用いるパターン形成装置で実施しようとした場合には、装置の長手方向の寸法が長くなってしまうという問題がある。
この問題は液晶表示装置用のカラーフィルタの場合だけでなく、パターン構成色が異なってパターン形状が同一の複数のパターンを組み合わせる部分を有した複合パターンを印刷で形成するときに生じる問題である。
そこで、本発明は上記事情に鑑み、塗布ローラの数を減らすことを課題とし、その塗布ローラそれぞれに形成されたパターンを基板に転写して良好な複合パターンを得ることができる小型の形成装置を得ることを目的とするものである。
しかしながら、上述した印刷手法によるパターン形成装置では、パターン構成色ごとに一つの塗布ローラが対応して多くの塗布ローラを備え、そしてこれらの多くの塗布ローラを該塗布ローラの移動方向に並ぶように配置することとなり、形成装置が大型化するという不都合があり、特にカラーフィルタの大型化が要望される傾向にある現状において、印刷手法を用いるパターン形成装置で実施しようとした場合には、装置の長手方向の寸法が長くなってしまうという問題がある。
この問題は液晶表示装置用のカラーフィルタの場合だけでなく、パターン構成色が異なってパターン形状が同一の複数のパターンを組み合わせる部分を有した複合パターンを印刷で形成するときに生じる問題である。
そこで、本発明は上記事情に鑑み、塗布ローラの数を減らすことを課題とし、その塗布ローラそれぞれに形成されたパターンを基板に転写して良好な複合パターンを得ることができる小型の形成装置を得ることを目的とするものである。
（請求項１）
本発明は上記課題を考慮してなされたもので、基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成するに際し、少なくとも一つの塗布ローラを少なくとも二色のパターン構成色に対応させて、塗布ローラのローラ数をパターン構成色の数より少なくし、塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液を前記塗布ローラに供給し、前記塗布ローラを、供給された塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去し、転写除去された前記塗布ローラを基板に押圧して、前記塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写することを特徴とするパターン形成方法であり、このパターン形成方法を提供して上記課題を解消するものである。
（請求項２）
上記発明において、一色のパターン構成色の塗布液を、該塗布液のパターン構成色に対応する塗布ローラに供給する塗布液供給工程と、前記塗布液供給工程を経た塗布ローラから、該塗布ローラに対応するパターン構成色のパターンのネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラの塗布液によるパターンを基板に転写する転写工程とからなる、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返すものとすることが可能である。
（請求項３）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラの周面には、それぞれ異なるパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されていて、前記塗布ローラの分割された複数の塗布液受け領域に塗布液を供給し、該塗布ローラの塗布液受け領域ごとに転写除去と基板への転写を行なうパターンの順次形成、または前記塗布液受け領域全ての転写除去を行なったのちに基板への転写を行なうパターンの一括形成を行なものとすることが可能である。
（請求項４）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、周面にパターン組み合わせ部分のパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラであることが可能である。
（請求項５）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、パターン組み合わせ部分のパターン構成色と組み合わせ部分以外のパターン構成色とに対応する塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラであることが可能である。
（請求項６）
上記発明において、上記基板と上記塗布ローラと上記塗布液除去版との何れかの位置調整により、前記基板でのパターン転写位置と塗布ローラでのパターン形成位置とを位置合わせすることが可能である。
（請求項７）
上記発明において、上記塗布液供給手段により塗布液を定厚で供給することが可能である。
本発明は上記課題を考慮してなされたもので、基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成するに際し、少なくとも一つの塗布ローラを少なくとも二色のパターン構成色に対応させて、塗布ローラのローラ数をパターン構成色の数より少なくし、塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液を前記塗布ローラに供給し、前記塗布ローラを、供給された塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去し、転写除去された前記塗布ローラを基板に押圧して、前記塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写することを特徴とするパターン形成方法であり、このパターン形成方法を提供して上記課題を解消するものである。
（請求項２）
上記発明において、一色のパターン構成色の塗布液を、該塗布液のパターン構成色に対応する塗布ローラに供給する塗布液供給工程と、前記塗布液供給工程を経た塗布ローラから、該塗布ローラに対応するパターン構成色のパターンのネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラの塗布液によるパターンを基板に転写する転写工程とからなる、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返すものとすることが可能である。
（請求項３）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラの周面には、それぞれ異なるパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されていて、前記塗布ローラの分割された複数の塗布液受け領域に塗布液を供給し、該塗布ローラの塗布液受け領域ごとに転写除去と基板への転写を行なうパターンの順次形成、または前記塗布液受け領域全ての転写除去を行なったのちに基板への転写を行なうパターンの一括形成を行なものとすることが可能である。
（請求項４）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、周面にパターン組み合わせ部分のパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラであることが可能である。
（請求項５）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、パターン組み合わせ部分のパターン構成色と組み合わせ部分以外のパターン構成色とに対応する塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラであることが可能である。
（請求項６）
上記発明において、上記基板と上記塗布ローラと上記塗布液除去版との何れかの位置調整により、前記基板でのパターン転写位置と塗布ローラでのパターン形成位置とを位置合わせすることが可能である。
（請求項７）
上記発明において、上記塗布液供給手段により塗布液を定厚で供給することが可能である。
（請求項８）
また、もう一つの発明は、基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成する装置において、前記パターン構成色の数より少ないローラ数であって、少なくとも一つのローラが少なくとも二色のパターン構成色に対応する塗布ローラと、前記パターン構成色の塗布液を前記塗布ローラに供給する塗布液供給手段と、前記複数のパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版とを備え、前記塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液を塗布ローラに供給し、この塗布ローラを前記塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去し、前記転写除去を行なった塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写する構成としたパターン形成装置であり、このパターン形成装置を提供して上記課題を解消するものである。
（請求項９）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラの周面には、それぞれ異なるパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されて、複数色のパターン構成色に対応する前記塗布ローラにあっては、塗布液が供給された前記塗布液受け領域ごとに転写除去と基板への転写を行なうパターンの順次形成、または前記塗布液受け領域全ての転写除去を行なったのちに基板への転写を行なうパターンの一括形成を行なう構成とすることが可能である。
（請求項１０）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、周面にパターン組み合わせ部分のパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラであることが可能である。
（請求項１１）
上記発明において、上記基板と上記塗布ローラと上記塗布液除去版との何れかの位置調整により、前記基板でのパターン転写位置と塗布ローラでのパターン形成位置とを位置合わせする構成構成とすることが可能である。
（請求項１２）
上記発明において、上記塗布液供給手段は塗布液を定厚で供給することが可能である。
（請求項１３）
上記発明において、上記塗布液供給手段は塗布液を定厚供給する定厚塗布液供給ユニットを有することが可能である。
また、もう一つの発明は、基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成する装置において、前記パターン構成色の数より少ないローラ数であって、少なくとも一つのローラが少なくとも二色のパターン構成色に対応する塗布ローラと、前記パターン構成色の塗布液を前記塗布ローラに供給する塗布液供給手段と、前記複数のパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版とを備え、前記塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液を塗布ローラに供給し、この塗布ローラを前記塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去し、前記転写除去を行なった塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写する構成としたパターン形成装置であり、このパターン形成装置を提供して上記課題を解消するものである。
（請求項９）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラの周面には、それぞれ異なるパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されて、複数色のパターン構成色に対応する前記塗布ローラにあっては、塗布液が供給された前記塗布液受け領域ごとに転写除去と基板への転写を行なうパターンの順次形成、または前記塗布液受け領域全ての転写除去を行なったのちに基板への転写を行なうパターンの一括形成を行なう構成とすることが可能である。
（請求項１０）
上記発明において、複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、周面にパターン組み合わせ部分のパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラであることが可能である。
（請求項１１）
上記発明において、上記基板と上記塗布ローラと上記塗布液除去版との何れかの位置調整により、前記基板でのパターン転写位置と塗布ローラでのパターン形成位置とを位置合わせする構成構成とすることが可能である。
（請求項１２）
上記発明において、上記塗布液供給手段は塗布液を定厚で供給することが可能である。
（請求項１３）
上記発明において、上記塗布液供給手段は塗布液を定厚供給する定厚塗布液供給ユニットを有することが可能である。
（パターン形成方法）
請求項１の発明のパターン形成方法により、パターン形成装置を構成したときの装置形状を小型のものとすることができる。また、複数色のパターン構成色の塗布液が供給された塗布ローラにおける転写除去時や基板への転写時のローラの動作の特性を、その塗布ローラから得られる複数のパターンに対して反映させることができる。即ち、同一の動作特性の下で複数のパターンを基板に形成できるようになる。
また、請求項２の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラの転写除去時や基板への転写時に他の塗布ローラからの振動や応力の影響を無くすことができるようになる。
また、請求項３の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減することができるようになる。
また、請求項４の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減することができるようになる。
また、請求項５の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラに対して全パターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を大幅に削減することができるようになる。
また、請求項６の発明のパターン形成方法により、パターン相互の位置関係を正確にした状態で基板上で各パターンの配置が行えるようになる。
また、請求項７の発明のパターン形成方法によれば、塗布液が定厚にして塗布ローラに供給されるので、基板に転移した塗布液の膜厚が均一となって、色むらをより確実に防止できるようになる。
請求項１の発明のパターン形成方法により、パターン形成装置を構成したときの装置形状を小型のものとすることができる。また、複数色のパターン構成色の塗布液が供給された塗布ローラにおける転写除去時や基板への転写時のローラの動作の特性を、その塗布ローラから得られる複数のパターンに対して反映させることができる。即ち、同一の動作特性の下で複数のパターンを基板に形成できるようになる。
また、請求項２の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラの転写除去時や基板への転写時に他の塗布ローラからの振動や応力の影響を無くすことができるようになる。
また、請求項３の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減することができるようになる。
また、請求項４の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減することができるようになる。
また、請求項５の発明のパターン形成方法により、一つの塗布ローラに対して全パターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を大幅に削減することができるようになる。
また、請求項６の発明のパターン形成方法により、パターン相互の位置関係を正確にした状態で基板上で各パターンの配置が行えるようになる。
また、請求項７の発明のパターン形成方法によれば、塗布液が定厚にして塗布ローラに供給されるので、基板に転移した塗布液の膜厚が均一となって、色むらをより確実に防止できるようになる。
（パターン形成装置）
また、請求項８の発明のパターン形成装置により、塗布ローラのローラ数が少なくなり、装置を小型のものとすることができる。また、複数色のパターン構成色の塗布液が供給された塗布ローラにおける転写除去時や基板への転写時のローラの動作の特性を、その塗布ローラから得られる複数のパターンに対して反映させることができる。
また、請求項９の発明のパターン形成装置により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減できる装置とすることができる。
また、請求項１０の発明のパターン形成装置により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減できる装置とするができる。
また、請求項１１の発明のパターン形成装置により、基板でのパターンの相互の位置関係がより正確なものとすることができる。
また、請求項１２の発明のパターン形成装置により、基板に転移した塗布液の膜厚が均一となって、色むらをより確実に防止できるようになる。
また、請求項１３の発明のパターン形成装置により、基板に転移した塗布液の膜厚が均一となって、色むらをより確実に防止できるようになる。そして、塗布液供給手段での各塗布液の補充をユニットごとの交換で簡単に対応できるようになる。
また、請求項８の発明のパターン形成装置により、塗布ローラのローラ数が少なくなり、装置を小型のものとすることができる。また、複数色のパターン構成色の塗布液が供給された塗布ローラにおける転写除去時や基板への転写時のローラの動作の特性を、その塗布ローラから得られる複数のパターンに対して反映させることができる。
また、請求項９の発明のパターン形成装置により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減できる装置とすることができる。
また、請求項１０の発明のパターン形成装置により、一つの塗布ローラに対して複数のパターン構成色の塗布液を供給できるようになり、塗布液の供給を受ける度の塗布ローラの復帰移動回数を削減できる装置とするができる。
また、請求項１１の発明のパターン形成装置により、基板でのパターンの相互の位置関係がより正確なものとすることができる。
また、請求項１２の発明のパターン形成装置により、基板に転移した塗布液の膜厚が均一となって、色むらをより確実に防止できるようになる。
また、請求項１３の発明のパターン形成装置により、基板に転移した塗布液の膜厚が均一となって、色むらをより確実に防止できるようになる。そして、塗布液供給手段での各塗布液の補充をユニットごとの交換で簡単に対応できるようになる。
つぎに本発明を液晶表示装置用のカラーフィルタを複合パターンとして得る場合に用いた例を示して説明する。
（第一の実施の形態）
（パターン形成装置）
図中１はパターン形成装置で、該パターン形成装置１は図１に示すカラーフィルタパターンとしての複合パターンＰを形成するものである。この複合パターンＰは、図２に示すように三色のパターン構成色である赤、緑、青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）において、赤のパターン構成色からなりストライプが一定間隔で並ぶパターンＰｒと緑のパターン構成色からなりストライプが一定間隔で並ぶパターンＰｇと青のパターン構成色からなりストライプが一定間隔で並ぶパターンＰｂとを各パターンのストライプが一定間隔をおいて順に並ぶように組み合わせて、組み合わせ部分Ｐ１を形成し、ブラックマトリックスとする黒のパターン構成色のパターンＰ２を、前記組み合わせ部分Ｐ１以外の部分として形成し、これらＰ１とＰ２とから前記複合パターンＰが形成されている。
組み合わせ部分Ｐ１を構成するパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂは相互にストライプ位置が異なるが、ストライプ幅、長さ、ピッチが同じ或いは類似しているため、パターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂのパターン形状は同一或いは類似している。
（第一の実施の形態）
（パターン形成装置）
図中１はパターン形成装置で、該パターン形成装置１は図１に示すカラーフィルタパターンとしての複合パターンＰを形成するものである。この複合パターンＰは、図２に示すように三色のパターン構成色である赤、緑、青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）において、赤のパターン構成色からなりストライプが一定間隔で並ぶパターンＰｒと緑のパターン構成色からなりストライプが一定間隔で並ぶパターンＰｇと青のパターン構成色からなりストライプが一定間隔で並ぶパターンＰｂとを各パターンのストライプが一定間隔をおいて順に並ぶように組み合わせて、組み合わせ部分Ｐ１を形成し、ブラックマトリックスとする黒のパターン構成色のパターンＰ２を、前記組み合わせ部分Ｐ１以外の部分として形成し、これらＰ１とＰ２とから前記複合パターンＰが形成されている。
組み合わせ部分Ｐ１を構成するパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂは相互にストライプ位置が異なるが、ストライプ幅、長さ、ピッチが同じ或いは類似しているため、パターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂのパターン形状は同一或いは類似している。
このカラーフィルタとする複合パターンＰを形成するパターン形成装置１は、図３に示すように塗布ローラ移動機構部２、塗布液供給部３、塗布液除去部４、基板支持部５とからなるものである。
（塗布ローラ移動機構部）
前記塗布ローラ移動機構部２は、一つの塗布ローラ２０を図示しない支持体で回転可能に支持し、前記塗布液除去部４、基板支持部５それぞれの上方位置に移動できるように設けられているものである。そして、前記塗布ローラ２０の周面が塗布液受け領域６であって、塗布液供給部３からブラックマトリックスとする黒インキ、赤パターンＰｒを得るための赤インキ、緑パターンＰｇを得るための緑インキ、青パターンＰｂを得るための青インキを下記に示すように順次塗布液受け領域６に受けることができる。なお、塗布液受け面を以降、ブランケットと記載する。
（塗布ローラ移動機構部）
前記塗布ローラ移動機構部２は、一つの塗布ローラ２０を図示しない支持体で回転可能に支持し、前記塗布液除去部４、基板支持部５それぞれの上方位置に移動できるように設けられているものである。そして、前記塗布ローラ２０の周面が塗布液受け領域６であって、塗布液供給部３からブラックマトリックスとする黒インキ、赤パターンＰｒを得るための赤インキ、緑パターンＰｇを得るための緑インキ、青パターンＰｂを得るための青インキを下記に示すように順次塗布液受け領域６に受けることができる。なお、塗布液受け面を以降、ブランケットと記載する。
（塗布液供給部）
塗布液供給部３は、上記塗布ローラ２０に対して設定されているパターン構成色の塗布液としてのインキをこの塗布ローラ２０に供給するものであり、黒インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３ＢＭ、赤インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３Ｒ、緑インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３Ｇ、青インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３Ｂから構成され、そして、待機位置にあるときの塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０に、塗布液供給ユニット３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ各インキが定厚にして上記ブランケットに塗布されるようにしている。
なお、第一の実施の形態では、以下に示すように一色のパターン構成色のパターン形成が行われるごとに塗布ローラ移動機構部２が塗布液供給部３側の待機位置に戻って塗布ローラ２０がつぎのパターン構成色の塗布液供給ユニットに対応位置するように復帰動作するように設定されており、待機位置で全てのパターン構成色の塗布液の供給を受けるものではない。また、塗布ローラ移動機構部２が待機したときに前記塗布ローラ２０が常に定まった位置とする場合には、塗布液供給部３側が、つぎのパターン構成色の定厚塗布液供給ユニットと塗布ローラ２０とが対応するように移動する構成としてもよい。
塗布液供給部３は、上記塗布ローラ２０に対して設定されているパターン構成色の塗布液としてのインキをこの塗布ローラ２０に供給するものであり、黒インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３ＢＭ、赤インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３Ｒ、緑インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３Ｇ、青インキを供給する定厚塗布液供給ユニット３Ｂから構成され、そして、待機位置にあるときの塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０に、塗布液供給ユニット３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ各インキが定厚にして上記ブランケットに塗布されるようにしている。
なお、第一の実施の形態では、以下に示すように一色のパターン構成色のパターン形成が行われるごとに塗布ローラ移動機構部２が塗布液供給部３側の待機位置に戻って塗布ローラ２０がつぎのパターン構成色の塗布液供給ユニットに対応位置するように復帰動作するように設定されており、待機位置で全てのパターン構成色の塗布液の供給を受けるものではない。また、塗布ローラ移動機構部２が待機したときに前記塗布ローラ２０が常に定まった位置とする場合には、塗布液供給部３側が、つぎのパターン構成色の定厚塗布液供給ユニットと塗布ローラ２０とが対応するように移動する構成としてもよい。
（塗布液除去部）
塗布液除去部４は、四つの板状とした塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを塗布ローラ移動機構部２の移動方向（図上、左方向）に並ぶようにして配置したものであり、これら四つの塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂそれぞれが、前後左右上下への移動調整、そして回転調整できる支持盤からなる位置調整手段４１に支持されて、互いに独立して位置調整が行えるように設けられている。このようにした四つの塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを備えた塗布液除去部４は、塗布液供給手段として上記塗布液供給部３での定厚塗布液供給ユニット３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの一つから塗布液が供給された塗布ローラ移動機構部２の前記塗布ローラ２０が塗布液除去部４に達して、その塗布ローラ２０に供給された塗布液のパターン構成色に対応する一つの塗布液除去版と回転移動する前記塗布ローラ２０との接触によって、塗布ローラ２０のブランケット６上から余剰の塗布液を転写除去するものである。
塗布液除去部４は、四つの板状とした塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを塗布ローラ移動機構部２の移動方向（図上、左方向）に並ぶようにして配置したものであり、これら四つの塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂそれぞれが、前後左右上下への移動調整、そして回転調整できる支持盤からなる位置調整手段４１に支持されて、互いに独立して位置調整が行えるように設けられている。このようにした四つの塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを備えた塗布液除去部４は、塗布液供給手段として上記塗布液供給部３での定厚塗布液供給ユニット３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの一つから塗布液が供給された塗布ローラ移動機構部２の前記塗布ローラ２０が塗布液除去部４に達して、その塗布ローラ２０に供給された塗布液のパターン構成色に対応する一つの塗布液除去版と回転移動する前記塗布ローラ２０との接触によって、塗布ローラ２０のブランケット６上から余剰の塗布液を転写除去するものである。
まず、塗布液除去版４Ｒは赤色であるパターン構成色に対応しているものであり、上記組み合わせ部分Ｐ１を構成するそれぞれ形状同一のパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂ中のパターンＰｒのネガパターンにした凸部ａを備え、塗布液除去版４Ｇは緑色であるパターン構成色に対応しているものであり、前記パターンＰｇのネガパターンにした凸部ａを備え、塗布液除去版４Ｂは青色であるパターン構成色に対応しているものであり、前記パターンＰｂのネガパターンにした凸部ａを備えている。また、塗布液除去版４ＢＭはブラックマトリックスの黒色であるパターン構成色に対応しているものであり、上記組み合わせ部分以外のパターンＰ２のネガパターンにした凸部ａを備えている。なお、凸部ａは色ごとに同一であっても、異なった形状であってもよい。
本実施の形態のパターン形成装置１において上述した塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂによる転写除去それぞれをつぎに説明する。上記塗布液供給部３から黒インキが塗布供給された塗布ローラ２０にあっては、そのブランケット６を、塗布液除去版４ＢＭに押圧して塗布ローラ２０の回転移動によって、前記ブランケット６から余剰の塗布液が塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る塗布液がパターンＰ２となるようにしている。また、塗布液供給部３から赤インキが塗布供給された塗布ローラ２０の場合にあっては、ブランケット６を、塗布液除去版４Ｒに押圧して塗布ローラ２０の回転移動によって、ブランケット６から余剰の塗布液が塗布液除去版４Ｒの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る塗布液がパターンＰｒとなる。塗布液供給部３から緑インキが塗布供給された塗布ローラ２０の場合にあっては、ブランケット６を、塗布液除去版４Ｇに押圧して塗布ローラ２０の回転移動によって、ブランケット６から余剰の塗布液が塗布液除去版４Ｇの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る塗布液がパターンＰｇとなる。そして、塗布液供給部３から青インキが塗布供給された塗布ローラ２０の場合にあっては、ブランケット６を、塗布液除去版４Ｂに押圧して塗布ローラ２０の回転移動によって、ブランケット６から余剰の塗布液が塗布液除去版４Ｂの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る塗布液がパターンＰｂとなる。
なお、上記塗布液除去部４にはその上方に残存塗布液除去装置７が移動可能に設けられていて、転写除去により凸部ａに転移した塗布液をこの残存塗布液除去装置７で除去するようにしている。なお、前記残存塗布液除去装置７での除去方法は、溶剤吹付けによる塗布液の除去と空気吹付けによる乾燥との組み合わせなど、公知の手法によって行われるものであり、残存塗布液除去装置７での塗布液除去によって清浄な除去版が得られるようにしている。
（基板支持部）
上記基板支持部５はカラーフィルタの基材とするガラス板などの基板５０を、ＸＹθ駆動可能定盤５１に取り付けて位置決めしてなるものである。
上記基板支持部５はカラーフィルタの基材とするガラス板などの基板５０を、ＸＹθ駆動可能定盤５１に取り付けて位置決めしてなるものである。
（パターン形成）
上述した本実施の形態のパターン形成装置１により、複合パターンＰを基板５０に形成するにあたっては、パターン構成色ごとに前記基板５０に塗布液によるパターンを転写するようにしていて、一色のパターン構成色の塗布液を、該塗布液のパターン構成色に対応する塗布ローラに供給する塗布液供給工程と、前記塗布液供給工程を経た塗布ローラから、該塗布ローラに対応するパターン構成色のパターンのネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラの塗布液によるパターンを基板に転写する転写工程とからなる、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしている。
上述した本実施の形態のパターン形成装置１により、複合パターンＰを基板５０に形成するにあたっては、パターン構成色ごとに前記基板５０に塗布液によるパターンを転写するようにしていて、一色のパターン構成色の塗布液を、該塗布液のパターン構成色に対応する塗布ローラに供給する塗布液供給工程と、前記塗布液供給工程を経た塗布ローラから、該塗布ローラに対応するパターン構成色のパターンのネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラの塗布液によるパターンを基板に転写する転写工程とからなる、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしている。
（黒インキによるパターン形成、図４〜６）
例えば、ブラックマトリックスとする組み合わせ部分以外のパターンＰ２を始めに形成するものとした場合、待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の黒インキの定厚塗布液供給ユニット３ＢＭとが対応位置し、定位置回転する塗布ローラ２０のブランケット６に定厚塗布液供給ユニット３ＢＭから黒インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした黒インキが塗布される（塗布液供給工程、図４）。
塗布ローラ２０に塗布液の供給を終えた塗布ローラ移動機構部２は、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＢＭに向う。この塗布液除去版４ＢＭに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分、即ち、ブランケット６上において形成する黒インキによるパターンＰ２（上記基材支持部５側で設定される黒インキによるパターンＰ２の位置に対応するパターン）のネガパターンに、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが対応位置するように上記位置調整手段４１により塗布液除去版４ＢＭを位置合わせする。なお、塗布ローラ移動機構部２の移動に際して、塗布ローラ２０とこの塗布ローラ２０に供給された塗布液のパターン構成色に対応しない塗布液除去版との干渉を避けるため、塗布液のパターン構成色に対応しない塗布液除去版が一旦降下したり、塗布ローラ移動機構部がそれらから若干離れた上方を移動するように設けられている。この点は、以下のパターン形成に際しても同じである。
この位置合わせが塗布ローラ２０による押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４ＢＭを押圧して、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の黒インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６に黒インキによるパターンＰ２が形成される（転写除去工程、図５）。
上記塗布液除去版４ＢＭの位置合わせと黒インキの転写除去によるパターンＰ２の形成を塗布ローラ２０で行なった黒インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去された黒インキを除去し、この塗布液除去版４ＢＭを清浄化する。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、黒インキによるパターンＰ２をブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰ２の基板５０での形成が終了する（転写工程、図６）。
黒インキのパターンＰ２の転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は塗布液除去部４、基板支持部５、残存塗布液除去装置７との干渉を回避しながら待機位置に戻るように設けられている。そして待機位置に塗布ローラ移動機構部２が戻れば、つぎのパターンＰｒの形成を行なう。
例えば、ブラックマトリックスとする組み合わせ部分以外のパターンＰ２を始めに形成するものとした場合、待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の黒インキの定厚塗布液供給ユニット３ＢＭとが対応位置し、定位置回転する塗布ローラ２０のブランケット６に定厚塗布液供給ユニット３ＢＭから黒インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした黒インキが塗布される（塗布液供給工程、図４）。
塗布ローラ２０に塗布液の供給を終えた塗布ローラ移動機構部２は、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＢＭに向う。この塗布液除去版４ＢＭに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分、即ち、ブランケット６上において形成する黒インキによるパターンＰ２（上記基材支持部５側で設定される黒インキによるパターンＰ２の位置に対応するパターン）のネガパターンに、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが対応位置するように上記位置調整手段４１により塗布液除去版４ＢＭを位置合わせする。なお、塗布ローラ移動機構部２の移動に際して、塗布ローラ２０とこの塗布ローラ２０に供給された塗布液のパターン構成色に対応しない塗布液除去版との干渉を避けるため、塗布液のパターン構成色に対応しない塗布液除去版が一旦降下したり、塗布ローラ移動機構部がそれらから若干離れた上方を移動するように設けられている。この点は、以下のパターン形成に際しても同じである。
この位置合わせが塗布ローラ２０による押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４ＢＭを押圧して、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の黒インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６に黒インキによるパターンＰ２が形成される（転写除去工程、図５）。
上記塗布液除去版４ＢＭの位置合わせと黒インキの転写除去によるパターンＰ２の形成を塗布ローラ２０で行なった黒インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去された黒インキを除去し、この塗布液除去版４ＢＭを清浄化する。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、黒インキによるパターンＰ２をブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰ２の基板５０での形成が終了する（転写工程、図６）。
黒インキのパターンＰ２の転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は塗布液除去部４、基板支持部５、残存塗布液除去装置７との干渉を回避しながら待機位置に戻るように設けられている。そして待機位置に塗布ローラ移動機構部２が戻れば、つぎのパターンＰｒの形成を行なう。
（赤インキによるパターン形成、図７、８）
赤インキによるパターンＰｒの形成も同様の工程を経るものである。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の赤インキの定厚塗布液供給ユニット３Ｒとが対応位置し、この定厚塗布液供給ユニット３Ｒからブランケット６に赤インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした赤インキを塗布させる（塗布液供給工程）。
塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布液除去部４の塗布液除去版４Ｒに向う。塗布液除去版４Ｒに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｒの凸部ａが対応位置するように塗布液除去版４Ｒを位置合わせする。
この位置合わせ後、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４Ｒを押圧して、塗布液除去版４Ｒの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の赤インキを転写除去し、これによってブランケット６に赤インキによるパターンＰｒが形成される（転写除去工程、図７）。
上記赤インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上述したパターンＰ２の形成の場合と同じように残存塗布液除去装置７による塗布液除去版４Ｒの清浄化が行われる。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、赤インキによるパターンＰ２をブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｒの基板５０での形成が終了する（転写工程、図８）。
赤インキのパターンＰｒの転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は待機位置に戻り、つぎのパターンＰｇの形成を行なう。
赤インキによるパターンＰｒの形成も同様の工程を経るものである。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の赤インキの定厚塗布液供給ユニット３Ｒとが対応位置し、この定厚塗布液供給ユニット３Ｒからブランケット６に赤インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした赤インキを塗布させる（塗布液供給工程）。
塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布液除去部４の塗布液除去版４Ｒに向う。塗布液除去版４Ｒに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｒの凸部ａが対応位置するように塗布液除去版４Ｒを位置合わせする。
この位置合わせ後、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４Ｒを押圧して、塗布液除去版４Ｒの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の赤インキを転写除去し、これによってブランケット６に赤インキによるパターンＰｒが形成される（転写除去工程、図７）。
上記赤インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上述したパターンＰ２の形成の場合と同じように残存塗布液除去装置７による塗布液除去版４Ｒの清浄化が行われる。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、赤インキによるパターンＰ２をブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｒの基板５０での形成が終了する（転写工程、図８）。
赤インキのパターンＰｒの転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は待機位置に戻り、つぎのパターンＰｇの形成を行なう。
（緑インキによるパターン形成、図９、１０）
緑インキによるパターンＰｇの形成も同様である。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の緑インキの定厚塗布液供給ユニット３Ｇとが対応位置し、この定厚塗布液供給ユニット３Ｇからブランケット６に緑インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした緑インキを塗布させる（塗布液供給工程）。
塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布液除去部４の塗布液除去版４Ｇに向う。塗布液除去版４Ｇに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが対応位置するように塗布液除去版４Ｇを位置合わせする。
この位置合わせ後、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４Ｇを押圧して、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の緑インキを転写除去し、これによってブランケット６に緑インキによるパターンＰｇが形成される（転写除去工程、図９）。
上記緑インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には残存塗布液除去装置７による塗布液除去版４Ｇの清浄化が行われる。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、緑インキによるパターンＰｇをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｇの基板５０での形成が終了する（転写工程、図１０）。
緑インキのパターンＰｇの転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は待機位置に戻り、つぎのパターンＰｂの形成を行なう。
緑インキによるパターンＰｇの形成も同様である。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の緑インキの定厚塗布液供給ユニット３Ｇとが対応位置し、この定厚塗布液供給ユニット３Ｇからブランケット６に緑インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした緑インキを塗布させる（塗布液供給工程）。
塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布液除去部４の塗布液除去版４Ｇに向う。塗布液除去版４Ｇに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが対応位置するように塗布液除去版４Ｇを位置合わせする。
この位置合わせ後、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４Ｇを押圧して、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の緑インキを転写除去し、これによってブランケット６に緑インキによるパターンＰｇが形成される（転写除去工程、図９）。
上記緑インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には残存塗布液除去装置７による塗布液除去版４Ｇの清浄化が行われる。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、緑インキによるパターンＰｇをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｇの基板５０での形成が終了する（転写工程、図１０）。
緑インキのパターンＰｇの転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は待機位置に戻り、つぎのパターンＰｂの形成を行なう。
（青インキによるパターン形成、図１１、１２）
青インキによるパターンＰｂの形成も同様である。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の青インキの定厚塗布液供給ユニット３Ｂとが対応位置し、この定厚塗布液供給ユニット３Ｂからブランケット６に青インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした青インキを塗布させる（塗布液供給工程）。
塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布液除去部４の塗布液除去版４Ｂに向う。塗布液除去版４Ｂに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｂの凸部ａが対応位置するように塗布液除去版４Ｂを位置合わせする。
この位置合わせ後、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４Ｂを押圧して、塗布液除去版４Ｂの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の青インキを転写除去し、これによってブランケット６に青インキによるパターンＰｂが形成される（転写除去工程、図１１）。
上記青インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には残存塗布液除去装置７による塗布液除去版４Ｂの清浄化が行われる。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、青インキによるパターンＰｂをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｂの基板５０での形成が終了する（転写工程、図１２）。
青インキのパターンＰｂの転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は待機位置に戻る。このようにして基板５０にパターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが順次転写され、黒インキによるパターンＰ２と、赤インキ、緑インキ、青インキによる組み合わせ部分Ｐ１でおパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂとからなる複合パターンＰの形成が完了する。なお、各パターンＰｒ、Ｐｇ、ＰｂはＰ２に一部重なっていてもよい。また、パターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂがお互いに部分的に堰重していてもよい。
青インキによるパターンＰｂの形成も同様である。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０と塗布液供給部３の青インキの定厚塗布液供給ユニット３Ｂとが対応位置し、この定厚塗布液供給ユニット３Ｂからブランケット６に青インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした青インキを塗布させる（塗布液供給工程）。
塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布液除去部４の塗布液除去版４Ｂに向う。塗布液除去版４Ｂに塗布ローラ２０のブランケット６が押圧する前に、塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｂの凸部ａが対応位置するように塗布液除去版４Ｂを位置合わせする。
この位置合わせ後、塗布ローラ２０が接触してから回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６が塗布液除去版４Ｂを押圧して、塗布液除去版４Ｂの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の青インキを転写除去し、これによってブランケット６に青インキによるパターンＰｂが形成される（転写除去工程、図１１）。
上記青インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ移動機構部２が再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には残存塗布液除去装置７による塗布液除去版４Ｂの清浄化が行われる。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、青インキによるパターンＰｂをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｂの基板５０での形成が終了する（転写工程、図１２）。
青インキのパターンＰｂの転写が終了すれば、塗布液移動機構部２は待機位置に戻る。このようにして基板５０にパターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが順次転写され、黒インキによるパターンＰ２と、赤インキ、緑インキ、青インキによる組み合わせ部分Ｐ１でおパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂとからなる複合パターンＰの形成が完了する。なお、各パターンＰｒ、Ｐｇ、ＰｂはＰ２に一部重なっていてもよい。また、パターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂがお互いに部分的に堰重していてもよい。
なお、上記転写工程に際し、印刷移動方向での各パターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂの位置がより適正に位置合わせされるようにするために、塗布ローラ２０の周方向でのパターン位置を、塗布ローラ２０の回転で調整されるようにしている。また、基板５０へのパターンの転写順位において後転写となるパターンの転写では、塗布ローラ２０のブランケット６が、基板５０に先に転写されたパターンに接することになるが、基板５０側が塗布液を保持する強度が高く設けられていて、よって、後転写となる塗布ローラのブランケットに対して基板５０上から塗布液が再転移することがない。このように基板５０側での塗布液を保持する強度（接着強度）を、ブランケットと塗布液との間での剥離強度より大きくする方法の一つとして、前記基板５０の表面に透明な接着剤層を設けるようにすることが挙げられる。
以上のようにして複合パターンＰの形成が終了すれば、塗布ローラ移動機構部２が待機位置にあるときに基板５０の交換を行なう。本実施の形態のパターン形成装置１ではこの基板５０の交換が完了すれば、再び上述した工程を行なうように設けられているものである。
（第二の実施の形態）
（パターン形成装置）
上記第一の実施の形態では、パターン形成装置１の塗布ローラ移動機構部２において、一つの塗布ローラ２０を有して、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程（塗布液供給工程、転写除去工程、転写工程）を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしている。そして、つぎに示す第二の実施の形態では、前記塗布ローラ移動機構部２において二つの塗布ローラを有するパターン形成装置１によりパターン形成を行なうものである。なお、塗布液供給部２、基板支持部５は第一の実施の形態と同じである。
（塗布ローラ移動機構部）
第二の実施の形態におけるパターン形成装置１にあっては、図１３に示されているように塗布ローラ移動機構部２に組み合わせ部分以外のパターンＰ２のパターン構成色に対応した塗布ローラ２ＢＭと組み合わせ部分Ｐ１を構成するパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂのパターン構成色に対応した塗布ローラ２ＲＧＢとが並べ設けられているものである。
このように第二の実施の形態のパターン形成装置１では、第一の実施の形態における一つの塗布ローラ２０での複数のパターン形成を、二つの塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢで行なうようにしたものであり、塗布ローラ２ＢＭでパターンＰ２の形成を行ない、塗布ローラ２ＲＧＢでパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂを順次形成する。そして、後述するように塗布液の供給から基板への転写までの工程（塗布液供給工程、転写除去工程、転写工程）を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしている。
（パターン形成装置）
上記第一の実施の形態では、パターン形成装置１の塗布ローラ移動機構部２において、一つの塗布ローラ２０を有して、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程（塗布液供給工程、転写除去工程、転写工程）を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしている。そして、つぎに示す第二の実施の形態では、前記塗布ローラ移動機構部２において二つの塗布ローラを有するパターン形成装置１によりパターン形成を行なうものである。なお、塗布液供給部２、基板支持部５は第一の実施の形態と同じである。
（塗布ローラ移動機構部）
第二の実施の形態におけるパターン形成装置１にあっては、図１３に示されているように塗布ローラ移動機構部２に組み合わせ部分以外のパターンＰ２のパターン構成色に対応した塗布ローラ２ＢＭと組み合わせ部分Ｐ１を構成するパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂのパターン構成色に対応した塗布ローラ２ＲＧＢとが並べ設けられているものである。
このように第二の実施の形態のパターン形成装置１では、第一の実施の形態における一つの塗布ローラ２０での複数のパターン形成を、二つの塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢで行なうようにしたものであり、塗布ローラ２ＢＭでパターンＰ２の形成を行ない、塗布ローラ２ＲＧＢでパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂを順次形成する。そして、後述するように塗布液の供給から基板への転写までの工程（塗布液供給工程、転写除去工程、転写工程）を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしている。
（塗布液除去部）
また、第二の実施の形態における塗布液除去部４では、塗布液除去版４ＢＭと塗布液除去版４ＲＧＢとを塗布ローラ移動機構部２の移動方向に並ぶようにして配置していて、この二つの塗布液除去版４ＢＭ、４ＲＧＢそれぞれが、前後左右上下への移動調整、そして回転調整ができる支持盤からなる位置調整手段４１に支持され、互いに独立して位置調整が行えるように設けられている。
塗布液除去版４ＢＭは、上記第一の実施の形態での塗布液除去版４ＢＭと同じであり、組み合わせ部分以外のパターンＰ２のネガパターンにして凸部ａを備えている。そして、黒インキが塗布供給された塗布ローラ２ＢＭのブランケット６を、塗布液除去版４ＢＭに押圧して塗布ローラ２ＢＭの回転移動によって、ブランケット６から余剰の黒インキが塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る黒インキがパターンＰ２となる。
一方、塗布液除去版４ＲＧＢは、それぞれ形状同一のパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂのネガパターンにして凸部ａを備えている。そして、例えば赤インキが塗布ローラ２ＲＧＢに供給された場合、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６を塗布液除去版４ＲＧＢに押圧し、塗布ローラ２ＲＧＢが回転移動すれば、前記ブランケット６から余剰の赤インキが塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る赤インキがパターンＰｒとなるようにしている。また、緑インキが塗布ローラ２ＲＧＢに供給された場合、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６を塗布液除去版４ＲＧＢに押圧し、塗布ローラ２ＲＧＢが回転移動すれば、ブランケット６から余剰の緑インキが塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る緑インキがパターンＰｇとなる。さらに青インキが塗布ローラ２ＲＧＢに供給された場合、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６を塗布液除去版４ＲＧＢに押圧し、塗布ローラ２ＲＧＢが回転移動すれば、ブランケット６から余剰の青インキが塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去され、ブランケット６に残る青インキがパターンＰｂとなる。
また、第二の実施の形態における塗布液除去部４では、塗布液除去版４ＢＭと塗布液除去版４ＲＧＢとを塗布ローラ移動機構部２の移動方向に並ぶようにして配置していて、この二つの塗布液除去版４ＢＭ、４ＲＧＢそれぞれが、前後左右上下への移動調整、そして回転調整ができる支持盤からなる位置調整手段４１に支持され、互いに独立して位置調整が行えるように設けられている。
塗布液除去版４ＢＭは、上記第一の実施の形態での塗布液除去版４ＢＭと同じであり、組み合わせ部分以外のパターンＰ２のネガパターンにして凸部ａを備えている。そして、黒インキが塗布供給された塗布ローラ２ＢＭのブランケット６を、塗布液除去版４ＢＭに押圧して塗布ローラ２ＢＭの回転移動によって、ブランケット６から余剰の黒インキが塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る黒インキがパターンＰ２となる。
一方、塗布液除去版４ＲＧＢは、それぞれ形状同一のパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂのネガパターンにして凸部ａを備えている。そして、例えば赤インキが塗布ローラ２ＲＧＢに供給された場合、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６を塗布液除去版４ＲＧＢに押圧し、塗布ローラ２ＲＧＢが回転移動すれば、前記ブランケット６から余剰の赤インキが塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る赤インキがパターンＰｒとなるようにしている。また、緑インキが塗布ローラ２ＲＧＢに供給された場合、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６を塗布液除去版４ＲＧＢに押圧し、塗布ローラ２ＲＧＢが回転移動すれば、ブランケット６から余剰の緑インキが塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去され、そのブランケット６に残る緑インキがパターンＰｇとなる。さらに青インキが塗布ローラ２ＲＧＢに供給された場合、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６を塗布液除去版４ＲＧＢに押圧し、塗布ローラ２ＲＧＢが回転移動すれば、ブランケット６から余剰の青インキが塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去され、ブランケット６に残る青インキがパターンＰｂとなる。
（黒インキによるパターン形成、図１４〜１６）
本実施の形態のパターン形成装置１では塗布ローラ移動機構部２の印刷移動方向における前位側にパターンＰ２を形成するための上記塗布ローラ２ＢＭが位置しており、パターンＰ２の形成を始めとして動作する。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２ＢＭと塗布液供給部３の黒インキの定厚塗布液供給ユニット３ＢＭとが対応位置し、定位置回転する塗布ローラ２ＢＭのブランケット６に定厚塗布液供給ユニット３ＢＭから黒インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした黒インキを塗布させる（塗布液供給工程、図１４）。
黒インキの供給を受けた塗布ローラ２ＢＭは、上記塗布ローラ２ＲＧＢから離れて単独で上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＢＭに向う。この塗布液除去版４ＢＭに塗布ローラ２ＢＭのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＢＭの塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが対応位置するように上記位置調整手段４１により塗布液除去版４ＢＭを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＢＭによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＢＭが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＢＭのブランケット６が塗布液除去版４ＢＭを押圧して、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の黒インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＢＭのブランケット６に黒インキによるパターンＰ２が形成される（転写除去工程、図１５）。
上記塗布液除去版４ＢＭの位置合わせと黒インキの転写除去によるパターンＰ２の形成を塗布ローラ２ＢＭで行なった黒インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＢＭが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＢＭが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去された黒インキを除去し、この塗布液除去版４ＢＭを清浄化する。
塗布ローラ２ＢＭが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、黒インキによるパターンＰ２をブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰ２の基板５０での形成が終了する（転写工程、図１６）。
第二の実施の形態の場合、黒インキのパターンＰ２の転写が終了すると、つぎの塗布ローラ２ＲＧＢでのパターン形成の動作に干渉しない位置に待機する。なお、この第二の実施の形態の場合、塗布ローラ移動機構部２での二つの塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢが離れた状態で独立して移動することから、残存塗布液除去装置７は塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢの移動方向と直交する方向にも水平移動できるようにしている。
塗布ローラ２ＢＭでのパターンＰ２の形成が終了し、その塗布ローラ２ＢＭが、例えば基板支持部５の上方であって塗布ローラ２ＲＧＢの移動に干渉しない位置に待機した後、つぎのパターンＰｒの形成を行なう。
本実施の形態のパターン形成装置１では塗布ローラ移動機構部２の印刷移動方向における前位側にパターンＰ２を形成するための上記塗布ローラ２ＢＭが位置しており、パターンＰ２の形成を始めとして動作する。待機位置にある塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２ＢＭと塗布液供給部３の黒インキの定厚塗布液供給ユニット３ＢＭとが対応位置し、定位置回転する塗布ローラ２ＢＭのブランケット６に定厚塗布液供給ユニット３ＢＭから黒インキが供給され、ブランケット６上に定厚にした黒インキを塗布させる（塗布液供給工程、図１４）。
黒インキの供給を受けた塗布ローラ２ＢＭは、上記塗布ローラ２ＲＧＢから離れて単独で上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＢＭに向う。この塗布液除去版４ＢＭに塗布ローラ２ＢＭのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＢＭの塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが対応位置するように上記位置調整手段４１により塗布液除去版４ＢＭを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＢＭによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＢＭが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＢＭのブランケット６が塗布液除去版４ＢＭを押圧して、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の黒インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＢＭのブランケット６に黒インキによるパターンＰ２が形成される（転写除去工程、図１５）。
上記塗布液除去版４ＢＭの位置合わせと黒インキの転写除去によるパターンＰ２の形成を塗布ローラ２ＢＭで行なった黒インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＢＭが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＢＭが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＢＭの凸部ａに転写除去された黒インキを除去し、この塗布液除去版４ＢＭを清浄化する。
塗布ローラ２ＢＭが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、黒インキによるパターンＰ２をブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰ２の基板５０での形成が終了する（転写工程、図１６）。
第二の実施の形態の場合、黒インキのパターンＰ２の転写が終了すると、つぎの塗布ローラ２ＲＧＢでのパターン形成の動作に干渉しない位置に待機する。なお、この第二の実施の形態の場合、塗布ローラ移動機構部２での二つの塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢが離れた状態で独立して移動することから、残存塗布液除去装置７は塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢの移動方向と直交する方向にも水平移動できるようにしている。
塗布ローラ２ＢＭでのパターンＰ２の形成が終了し、その塗布ローラ２ＢＭが、例えば基板支持部５の上方であって塗布ローラ２ＲＧＢの移動に干渉しない位置に待機した後、つぎのパターンＰｒの形成を行なう。
（Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂのパターン形成）
赤インキによるパターンＰｒの形成、緑インキによるパターンＰｇの形成、青インキによるパターンＰｂの形成は、塗布ローラ２ＲＧＢに対して塗布液供給部３からの塗布液の供給によって行われるものであり、上述した第一の実施の形態における一つの塗布ローラ２０によるパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂの形成と同じように、一色のパターン構成色の塗布液の供給からその塗布液によるパターンを基板に転写するまでの工程を、一つの塗布ローラでパターン構成色ごとに行なう点は同じであり、転写除去が一つの塗布液除去版４ＲＧＢにより行なう点で異なっている。
赤インキによるパターンＰｒの形成、緑インキによるパターンＰｇの形成、青インキによるパターンＰｂの形成は、塗布ローラ２ＲＧＢに対して塗布液供給部３からの塗布液の供給によって行われるものであり、上述した第一の実施の形態における一つの塗布ローラ２０によるパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂの形成と同じように、一色のパターン構成色の塗布液の供給からその塗布液によるパターンを基板に転写するまでの工程を、一つの塗布ローラでパターン構成色ごとに行なう点は同じであり、転写除去が一つの塗布液除去版４ＲＧＢにより行なう点で異なっている。
（赤インキによるパターンＰｒの形成、図１７〜１９）
上述した塗布ローラ２ＢＭによるパターンＰ２の転写が終了すれば、つぎに待機位置にある塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６に、塗布液供給部３の定厚塗布液供給ユニット３Ｒから赤インキを定厚にして塗布させる（塗布液供給工程、図１７）。
赤インキの供給を受けた塗布ローラ２ＲＧＢは、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＲＧＢに向う。この塗布液除去版４ＲＧＢに塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＲＧＢの塗布液を転写除去する部分（パターンＰｒのネガパターンとなる部分）に、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが対応位置するように上記位置調整手段４１により塗布液除去版４ＲＧＢを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＲＧＢによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＲＧＢが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が塗布液除去版４ＲＧＢを押圧して、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の赤インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＲＧＢのブランケット６に赤インキによるパターンＰｒが形成される（転写除去工程、図１８）。
上記塗布液除去版４ＲＧＢの位置合わせと赤インキの転写除去によるパターンＰｒの形成を塗布ローラ２ＲＧＢで行なった赤インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＲＧＢが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＲＧＢが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去された赤インキを除去し、この塗布液除去版４ＲＧＢを清浄化する。
塗布ローラ２ＲＧＢが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、赤インキによるパターンＰｒをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｒの基板５０での形成が終了する（転写工程、図１９）。
上述した塗布ローラ２ＢＭによるパターンＰ２の転写が終了すれば、つぎに待機位置にある塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６に、塗布液供給部３の定厚塗布液供給ユニット３Ｒから赤インキを定厚にして塗布させる（塗布液供給工程、図１７）。
赤インキの供給を受けた塗布ローラ２ＲＧＢは、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＲＧＢに向う。この塗布液除去版４ＲＧＢに塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＲＧＢの塗布液を転写除去する部分（パターンＰｒのネガパターンとなる部分）に、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが対応位置するように上記位置調整手段４１により塗布液除去版４ＲＧＢを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＲＧＢによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＲＧＢが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が塗布液除去版４ＲＧＢを押圧して、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の赤インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＲＧＢのブランケット６に赤インキによるパターンＰｒが形成される（転写除去工程、図１８）。
上記塗布液除去版４ＲＧＢの位置合わせと赤インキの転写除去によるパターンＰｒの形成を塗布ローラ２ＲＧＢで行なった赤インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＲＧＢが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＲＧＢが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去された赤インキを除去し、この塗布液除去版４ＲＧＢを清浄化する。
塗布ローラ２ＲＧＢが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、赤インキによるパターンＰｒをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｒの基板５０での形成が終了する（転写工程、図１９）。
（緑インキによるパターンＰｇの形成、図２０〜２２）
パターンＰｒの転写が終了すれば、塗布ローラ２ＲＧＢが待機位置に復帰する。そして、ブランケット６に、塗布液供給部３の定厚塗布液供給ユニット３Ｇから緑インキを定厚にして塗布させる（塗布液供給工程、図２０）。
緑インキの供給を受けた塗布ローラ２ＲＧＢは、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＲＧＢに向う。この塗布液除去版４ＲＧＢに塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＲＧＢの塗布液を転写除去する部分（パターンＰｇのネガパターンとなる部分）に、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４ＲＧＢを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＲＧＢによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＲＧＢが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が塗布液除去版４ＲＧＢを押圧して、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の緑インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＲＧＢのブランケット６に緑インキによるパターンＰｇが形成される（転写除去工程、図２１）。
上記塗布液除去版４ＲＧＢの位置合わせと緑インキの転写除去によるパターンＰｇの形成を塗布ローラ２ＲＧＢで行なった緑インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＲＧＢが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＲＧＢが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去された緑インキを除去し、この塗布液除去版４ＲＧＢを清浄化する。
塗布ローラ２ＲＧＢが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、緑インキによるパターンＰｇをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｇの基板５０での形成が終了する（転写工程、図２２）。
パターンＰｒの転写が終了すれば、塗布ローラ２ＲＧＢが待機位置に復帰する。そして、ブランケット６に、塗布液供給部３の定厚塗布液供給ユニット３Ｇから緑インキを定厚にして塗布させる（塗布液供給工程、図２０）。
緑インキの供給を受けた塗布ローラ２ＲＧＢは、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＲＧＢに向う。この塗布液除去版４ＲＧＢに塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＲＧＢの塗布液を転写除去する部分（パターンＰｇのネガパターンとなる部分）に、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４ＲＧＢを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＲＧＢによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＲＧＢが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が塗布液除去版４ＲＧＢを押圧して、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の緑インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＲＧＢのブランケット６に緑インキによるパターンＰｇが形成される（転写除去工程、図２１）。
上記塗布液除去版４ＲＧＢの位置合わせと緑インキの転写除去によるパターンＰｇの形成を塗布ローラ２ＲＧＢで行なった緑インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＲＧＢが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＲＧＢが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去された緑インキを除去し、この塗布液除去版４ＲＧＢを清浄化する。
塗布ローラ２ＲＧＢが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、緑インキによるパターンＰｇをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｇの基板５０での形成が終了する（転写工程、図２２）。
（青インキによるパターンＰｂの形成、図２３〜２５）
パターンＰｇの転写が終了すれば、塗布ローラ２ＲＧＢが待機位置に復帰する。そして、ブランケット６に、塗布液供給部３の定厚塗布液供給ユニット３Ｂから青インキを定厚にして塗布させる（塗布液供給工程、図２３）。
青インキの供給を受けた塗布ローラ２ＲＧＢは、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＲＧＢに向う。この塗布液除去版４ＲＧＢに塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＲＧＢの塗布液を転写除去する部分（パターンＰｂのネガパターンとなる部分）に、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４ＲＧＢを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＲＧＢによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＲＧＢが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が塗布液除去版４ＲＧＢを押圧して、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の青インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＲＧＢのブランケット６に青インキによるパターンＰｂが形成される（転写除去工程、図２４）。
上記塗布液除去版４ＲＧＢの位置合わせと青インキの転写除去によるパターンＰｂの形成を塗布ローラ２ＲＧＢで行なった青インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＲＧＢが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＲＧＢが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去された青インキを除去し、この塗布液除去版４ＲＧＢを清浄化する。
塗布ローラ２ＲＧＢが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、青インキによるパターンＰｂをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｂの基板５０での形成が終了する（転写工程、図２５）。
パターンＰｇの転写が終了すれば、塗布ローラ２ＲＧＢが待機位置に復帰する。そして、ブランケット６に、塗布液供給部３の定厚塗布液供給ユニット３Ｂから青インキを定厚にして塗布させる（塗布液供給工程、図２３）。
青インキの供給を受けた塗布ローラ２ＲＧＢは、上記基板支持部５側に移動を開始し、塗布液除去部４の塗布液除去版４ＲＧＢに向う。この塗布液除去版４ＲＧＢに塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が押圧する前に、この塗布ローラ２ＲＧＢの塗布液を転写除去する部分（パターンＰｂのネガパターンとなる部分）に、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４ＲＧＢを位置合わせする。
この位置合わせが塗布ローラ２ＲＧＢによる押圧の前に終了する。そして、塗布ローラ２ＲＧＢが接触してから回転移動し、塗布ローラ２ＲＧＢのブランケット６が塗布液除去版４ＲＧＢを押圧して、塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａが前記ブランケット６から余剰部分の青インキを転写除去し、これによって塗布ロール２ＲＧＢのブランケット６に青インキによるパターンＰｂが形成される（転写除去工程、図２４）。
上記塗布液除去版４ＲＧＢの位置合わせと青インキの転写除去によるパターンＰｂの形成を塗布ローラ２ＲＧＢで行なった青インキにおける転写除去工程が終了すると、塗布ローラ２ＲＧＢが再び移動し、基板支持部５に向う。
塗布ローラ２ＲＧＢが塗布液除去部４から離れて基板支持部５側に移動した後には、上記残存塗布液除去装置７により塗布液除去部４での上記塗布液除去版４ＲＧＢの凸部ａに転写除去された青インキを除去し、この塗布液除去版４ＲＧＢを清浄化する。
塗布ローラ２ＲＧＢが移動して基板支持部５の基板５０に達すれば、ブラケット６を基板５０に押圧して回転移動し、青インキによるパターンＰｂをブランケット６から基板５０の表面に転写する。これによってパターンＰｂの基板５０での形成が終了する（転写工程、図２５）。
基板５０での複合パターンＰの形成が終了すれば、塗布ローラ２ＢＭ、２ＲＧＢが隣り合った状態となった塗布ローラ移動機構部２が塗布液供給部３側の待機位置に戻る。第一の実施の形態、また第二の実施の形態では、パターン構成色の色数（４）より塗布ローラのローラ数が少なく、そのためパターン形成装置１はコンパクトなものとなる。
（第三の実施の形態）
上記第一、第二の実施の形態のパターン形成装置１における塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０、２ＢＭ、２ＲＧＢは周面を、シリコン樹脂などからなるブランケット６としている。一方、塗布液供給部３から供給される各塗布液のブランケット６上での塗布供給範囲は、上記転写除去工程（ネガパターンの除去版への転移）と転写工程（パターンの基板への転移）とを経ることで、そのブランケット６上に塗布液が残らないように設定されている。そして、ブランケット６上での各塗布液のローラ周方向での塗布位置も、その塗布ローラの回転角度の範囲などとして事前に設定されるものである。
そのため、上述したように上記塗布ローラ２０、２ＢＭ、２ＲＧＢに対して各塗布液の供給範囲が回転角度の範囲などとして事前に設定されるものである場合には、周面全面をブランケットとする必要はなく、ローラ周面上での設定された部分にブランケット６を配置するようにしてもよい。
以下に示す第三の実施の形態は、第一の実施の形態で示したように塗布ローラを一つとし、さらに上述したようにその塗布ローラの周面において、全てのパターン構成色の塗布液を受けることができるように、パターン構成色に対応した複数のブランケット６がローラ周方向に分割形成されている例である。
上記第一、第二の実施の形態のパターン形成装置１における塗布ローラ移動機構部２の塗布ローラ２０、２ＢＭ、２ＲＧＢは周面を、シリコン樹脂などからなるブランケット６としている。一方、塗布液供給部３から供給される各塗布液のブランケット６上での塗布供給範囲は、上記転写除去工程（ネガパターンの除去版への転移）と転写工程（パターンの基板への転移）とを経ることで、そのブランケット６上に塗布液が残らないように設定されている。そして、ブランケット６上での各塗布液のローラ周方向での塗布位置も、その塗布ローラの回転角度の範囲などとして事前に設定されるものである。
そのため、上述したように上記塗布ローラ２０、２ＢＭ、２ＲＧＢに対して各塗布液の供給範囲が回転角度の範囲などとして事前に設定されるものである場合には、周面全面をブランケットとする必要はなく、ローラ周面上での設定された部分にブランケット６を配置するようにしてもよい。
以下に示す第三の実施の形態は、第一の実施の形態で示したように塗布ローラを一つとし、さらに上述したようにその塗布ローラの周面において、全てのパターン構成色の塗布液を受けることができるように、パターン構成色に対応した複数のブランケット６がローラ周方向に分割形成されている例である。
（パターン形成装置、図２６）
上記第一の実施の形態のパターン形成装置１の塗布ローラ移動機構部２においては、一つの塗布ローラ２０により、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしているが、この第三の実施の形態におけるパターン形成装置１の一つの塗布ローラ２０に、パターン構成色全ての塗布液の供給を受け、その一つの塗布ローラ２０において上記パターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂを形成し、これらのパターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂを基板５０に転写するようにしたものである。なお、このようにするためのパターン形成装置１にあっては、塗布液供給部２、塗布液除去部４、基板支持部５が上記第一の実施の形態と同じである。
上記第一の実施の形態のパターン形成装置１の塗布ローラ移動機構部２においては、一つの塗布ローラ２０により、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返すようにしているが、この第三の実施の形態におけるパターン形成装置１の一つの塗布ローラ２０に、パターン構成色全ての塗布液の供給を受け、その一つの塗布ローラ２０において上記パターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂを形成し、これらのパターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂを基板５０に転写するようにしたものである。なお、このようにするためのパターン形成装置１にあっては、塗布液供給部２、塗布液除去部４、基板支持部５が上記第一の実施の形態と同じである。
（塗布ローラ移動機構部）
この第三の実施の形態のパターン形成装置１における塗布ローラ移動機構部２は上述したように一つの塗布ローラ２０を回転可能にして印刷方向に移動できるようにしたものであり、この点は第一の実施の形態の塗布ローラ移動機構部２と同じである。そして、本実施の形態では、前記塗布ローラ２０の周面上にそのローラ周りにして複数のブランケットが分割形成されていて、ブラックマトリックスとする黒インキを受けるブランケット６ＢＭ、赤のパターンＰｒを得るための赤インキを受けるブランケット６Ｒ、緑のパターンＰｇを得るための緑インキを受けるブランケット６Ｇ、青のパターンＰｂを得るための青インキを受けるブランケット６Ｂが間隔をおいて配置されている。
この第三の実施の形態のパターン形成装置１における塗布ローラ移動機構部２は上述したように一つの塗布ローラ２０を回転可能にして印刷方向に移動できるようにしたものであり、この点は第一の実施の形態の塗布ローラ移動機構部２と同じである。そして、本実施の形態では、前記塗布ローラ２０の周面上にそのローラ周りにして複数のブランケットが分割形成されていて、ブラックマトリックスとする黒インキを受けるブランケット６ＢＭ、赤のパターンＰｒを得るための赤インキを受けるブランケット６Ｒ、緑のパターンＰｇを得るための緑インキを受けるブランケット６Ｇ、青のパターンＰｂを得るための青インキを受けるブランケット６Ｂが間隔をおいて配置されている。
（塗布液供給）
上記パターン形成装置１において、まず、塗布液の供給を受けるために塗布ローラ移動機構部２が塗布液供給部３に対応位置する。そして、塗布ローラ２０の回転に伴って塗布液が供給されるようにしていて、その回転で塗布ローラ２０の上部側にブランケット６ＢＭが移動してくれば、そのときに塗布液供給部３が定厚塗布液供給ユニット３ＢＭが対応位置し、塗布ローラ２０の上部を移動する前記ブランケット６ＢＭに定厚にして黒インキを供給し、つぎにブランケット６Ｒが塗布ローラ２０の上部側に移動すれば、定厚塗布液供給ユニット３Ｒが塗布ローラ２０の上に対応するように塗布液供給部３全体が移動し、塗布ローラ２０の上部を移動するブランケット６Ｒに定厚にして赤インキを供給する。同様にして、ブランケット６Ｇが塗布ローラ２０の上部側に移動すれば、定厚塗布液供給ユニット３Ｇが塗布ローラ２０の上に対応するように塗布液供給部３全体が移動し、塗布ローラ２０の上部を移動するブランケット６Ｇに定厚にして緑インキを供給し、つぎにブランケット６Ｂが塗布ローラ２０の上部側に移動すれば、定厚塗布液供給ユニット３Ｂが塗布ローラ２０の上に対応するように塗布液供給部３全体が移動し、塗布ローラ２０の上部を移動するブランケット６Ｂに定厚にして青インキを供給する。このようにして塗布ローラ２０の各ブランケット６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂに対応するパターン構成色の塗布液が供給されれば、塗布ローラ移動機構部２が上記塗布液除去部４に移動する。
なお、塗布液の供給を受けるに際して、上述のものでは塗布ローラ２０が定位置で回転し、各ブランケット６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂに塗布液を供給するために塗布液供給部３が移動したが、これに限定されるものではなく、塗布液供給部３が定位置固定とし、各定厚塗布液供給ユニット３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの位置に塗布ローラ２０が対応するように塗布ローラ移動機構部２が水平移動するようにしてもよい。
上記パターン形成装置１において、まず、塗布液の供給を受けるために塗布ローラ移動機構部２が塗布液供給部３に対応位置する。そして、塗布ローラ２０の回転に伴って塗布液が供給されるようにしていて、その回転で塗布ローラ２０の上部側にブランケット６ＢＭが移動してくれば、そのときに塗布液供給部３が定厚塗布液供給ユニット３ＢＭが対応位置し、塗布ローラ２０の上部を移動する前記ブランケット６ＢＭに定厚にして黒インキを供給し、つぎにブランケット６Ｒが塗布ローラ２０の上部側に移動すれば、定厚塗布液供給ユニット３Ｒが塗布ローラ２０の上に対応するように塗布液供給部３全体が移動し、塗布ローラ２０の上部を移動するブランケット６Ｒに定厚にして赤インキを供給する。同様にして、ブランケット６Ｇが塗布ローラ２０の上部側に移動すれば、定厚塗布液供給ユニット３Ｇが塗布ローラ２０の上に対応するように塗布液供給部３全体が移動し、塗布ローラ２０の上部を移動するブランケット６Ｇに定厚にして緑インキを供給し、つぎにブランケット６Ｂが塗布ローラ２０の上部側に移動すれば、定厚塗布液供給ユニット３Ｂが塗布ローラ２０の上に対応するように塗布液供給部３全体が移動し、塗布ローラ２０の上部を移動するブランケット６Ｂに定厚にして青インキを供給する。このようにして塗布ローラ２０の各ブランケット６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂに対応するパターン構成色の塗布液が供給されれば、塗布ローラ移動機構部２が上記塗布液除去部４に移動する。
なお、塗布液の供給を受けるに際して、上述のものでは塗布ローラ２０が定位置で回転し、各ブランケット６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂに塗布液を供給するために塗布液供給部３が移動したが、これに限定されるものではなく、塗布液供給部３が定位置固定とし、各定厚塗布液供給ユニット３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂの位置に塗布ローラ２０が対応するように塗布ローラ移動機構部２が水平移動するようにしてもよい。
（ブランケット６ＢＭの転写除去、図２７〜２８）
上記塗布液供給部３からパターン構成色全ての塗布液の供給を受けた一つの塗布ローラ２０を備える塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４に移動すると、まず、移動方向での手前位置となる塗布液除去版によって塗布液の転写除去を行ない、そして、つぎに並ぶ塗布液除去版にて塗布液の転写除去を行なうようにしており、手前位置から順にして転写除去を行なうように設けられている。
この実施の形態での塗布液除去部４では、上記塗布ローラ移動機構部３での移動方向においての並び順が塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの順としている。
まず、塗布ローラ移動機構部２は塗布液除去部４の塗布液除去版４ＢＭに向う。そして、この塗布液除去版４ＢＭに塗布ローラ２０のブランケット６ＢＭが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４ＢＭを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６ＢＭが塗布液除去版４ＢＭを押圧して、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが前記ブランケット６ＢＭから余剰部分の黒インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６ＢＭに黒インキによるパターンＰ２が形成される。
上記塗布液供給部３からパターン構成色全ての塗布液の供給を受けた一つの塗布ローラ２０を備える塗布ローラ移動機構部２が塗布液除去部４に移動すると、まず、移動方向での手前位置となる塗布液除去版によって塗布液の転写除去を行ない、そして、つぎに並ぶ塗布液除去版にて塗布液の転写除去を行なうようにしており、手前位置から順にして転写除去を行なうように設けられている。
この実施の形態での塗布液除去部４では、上記塗布ローラ移動機構部３での移動方向においての並び順が塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの順としている。
まず、塗布ローラ移動機構部２は塗布液除去部４の塗布液除去版４ＢＭに向う。そして、この塗布液除去版４ＢＭに塗布ローラ２０のブランケット６ＢＭが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４ＢＭを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６ＢＭが塗布液除去版４ＢＭを押圧して、塗布液除去版４ＢＭの凸部ａが前記ブランケット６ＢＭから余剰部分の黒インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６ＢＭに黒インキによるパターンＰ２が形成される。
（ブランケット６Ｒの転写除去、図２９）
パターンＰ２のブランケット６ＢＭでの形成が終了（即ち、ネガパターンでの転写除去が終了）して、塗布ローラ２０が塗布液除去版４ＢＭから離れると、塗布ローラ２０がつぎの塗布液除去版４Ｒに近付くように塗布ローラ移動機構部２が移動する。そして、この塗布液除去版４Ｒに塗布ローラ２０のブランケット６Ｒが対応するが、そのブランケット６Ｒが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｒの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４Ｒを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６Ｒが塗布液除去版４Ｒを押圧して、塗布液除去版４Ｒの凸部ａがブランケット６Ｒから余剰部分の赤インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６Ｒに赤インキによるパターンＰｒが形成される。
パターンＰ２のブランケット６ＢＭでの形成が終了（即ち、ネガパターンでの転写除去が終了）して、塗布ローラ２０が塗布液除去版４ＢＭから離れると、塗布ローラ２０がつぎの塗布液除去版４Ｒに近付くように塗布ローラ移動機構部２が移動する。そして、この塗布液除去版４Ｒに塗布ローラ２０のブランケット６Ｒが対応するが、そのブランケット６Ｒが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｒの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４Ｒを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６Ｒが塗布液除去版４Ｒを押圧して、塗布液除去版４Ｒの凸部ａがブランケット６Ｒから余剰部分の赤インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６Ｒに赤インキによるパターンＰｒが形成される。
（ブランケット６Ｇの転写除去、図３０）
パターンＰｒのブランケット６Ｒでの形成が終了して、塗布ローラ２０が塗布液除去版４Ｒから離れると、塗布ローラ２０がつぎの塗布液除去版４Ｇに近付くように塗布ローラ移動機構部２が移動する。そして、この塗布液除去版４Ｇに塗布ローラ２０のブランケット６Ｇが対応する。そのブランケット６Ｇが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４Ｇを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６Ｇが塗布液除去版４Ｇを押圧して、塗布液除去版４Ｇの凸部ａがブランケット６Ｇから余剰部分の緑インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６Ｇに緑インキによるパターンＰｇが形成される。
パターンＰｒのブランケット６Ｒでの形成が終了して、塗布ローラ２０が塗布液除去版４Ｒから離れると、塗布ローラ２０がつぎの塗布液除去版４Ｇに近付くように塗布ローラ移動機構部２が移動する。そして、この塗布液除去版４Ｇに塗布ローラ２０のブランケット６Ｇが対応する。そのブランケット６Ｇが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４Ｇを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６Ｇが塗布液除去版４Ｇを押圧して、塗布液除去版４Ｇの凸部ａがブランケット６Ｇから余剰部分の緑インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６Ｇに緑インキによるパターンＰｇが形成される。
（ブランケット６Ｂの転写除去、図３１）
パターンＰｇのブランケット６Ｇでの形成が終了して、塗布ローラ２０が塗布液除去版４Ｇから離れると、塗布ローラ２０がつぎの塗布液除去版４Ｂに近付くように塗布ローラ移動機構部２が移動する。そして、この塗布液除去版４Ｂに塗布ローラ２０のブランケット６Ｂが対応する。そのブランケット６Ｂが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４Ｂを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６Ｂが塗布液除去版４Ｂを押圧して、塗布液除去版４Ｂの凸部ａがブランケット６Ｂから余剰部分の青インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６Ｂに青インキによるパターンＰｂが形成される。
パターンＰｇのブランケット６Ｇでの形成が終了して、塗布ローラ２０が塗布液除去版４Ｇから離れると、塗布ローラ２０がつぎの塗布液除去版４Ｂに近付くように塗布ローラ移動機構部２が移動する。そして、この塗布液除去版４Ｂに塗布ローラ２０のブランケット６Ｂが対応する。そのブランケット６Ｂが押圧する前に、この塗布ローラ２０の塗布液を転写除去する部分に、塗布液除去版４Ｇの凸部ａが対応位置するように位置調整手段４１により塗布液除去版４Ｂを位置合わせする。
この位置合わせが終了すれば塗布ローラ２０が接触して回転移動し、塗布ローラ２０のブランケット６Ｂが塗布液除去版４Ｂを押圧して、塗布液除去版４Ｂの凸部ａがブランケット６Ｂから余剰部分の青インキを転写除去し、これによって塗布ロール２０のブランケット６Ｂに青インキによるパターンＰｂが形成される。
（ブランケット６ＢＭの転写、図３２）
以上のようにして塗布ローラ２０の全ブランケット６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂで転写除去が終われば、塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布ローラ２０から基板５０への転写の段階に移行する。なお、塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動した後に、残存塗布液除去装置７が塗布液除去部４上を移動して各塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを清浄化する。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基盤５０に達すれば、ブランケット６ＢＭを基板５０に対応させる位置合わせを行ない、そして、ブランケット６ＢＭを基板５０に押圧して回転移動し、黒インキによるパターンＰ２をブランケット６ＢＭから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰ２の基板５０での形成が終了する。パターンＰ２の形成が終了すれば、塗布ローラ２０が基板５０に接触しないようにしながら、そして、塗布ローラ２０が転写開始前の待機位置に戻るように塗布ローラ移動機構部２が動作する。
以上のようにして塗布ローラ２０の全ブランケット６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂで転写除去が終われば、塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動し、塗布ローラ２０から基板５０への転写の段階に移行する。なお、塗布ローラ移動機構部２が基板支持部５側に移動した後に、残存塗布液除去装置７が塗布液除去部４上を移動して各塗布液除去版４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを清浄化する。
塗布ローラ移動機構部２の移動により塗布ローラ２０が基板支持部５の基盤５０に達すれば、ブランケット６ＢＭを基板５０に対応させる位置合わせを行ない、そして、ブランケット６ＢＭを基板５０に押圧して回転移動し、黒インキによるパターンＰ２をブランケット６ＢＭから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰ２の基板５０での形成が終了する。パターンＰ２の形成が終了すれば、塗布ローラ２０が基板５０に接触しないようにしながら、そして、塗布ローラ２０が転写開始前の待機位置に戻るように塗布ローラ移動機構部２が動作する。
（ブランケット６Ｒの転写、図３３）
上記待機位置でブランケット６Ｒを基板５０に対応させて位置合わせが行われ、その後、ブランケット６Ｒを基板５０に押圧して回転移動し、赤インキによるパターンＰｒをブランケット６Ｒから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰｒの基板５０での形成が終了する。パターンＰｒの形成が終了すれば、上述したように塗布ローラ移動機構部２が転写開始前の待機位置に戻るように動作する。
上記待機位置でブランケット６Ｒを基板５０に対応させて位置合わせが行われ、その後、ブランケット６Ｒを基板５０に押圧して回転移動し、赤インキによるパターンＰｒをブランケット６Ｒから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰｒの基板５０での形成が終了する。パターンＰｒの形成が終了すれば、上述したように塗布ローラ移動機構部２が転写開始前の待機位置に戻るように動作する。
（ブランケット６Ｇの転写、図３４）
上記待機位置でブランケット６Ｇを基板５０に対応させて位置合わせが行われ、その後、ブランケット６Ｇを基板５０に押圧して回転移動し、緑インキによるパターンＰｇをブランケット６Ｇから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰｇの基板５０での形成が終了する。パターンＰｇの形成が終了すれば、上述したように塗布ローラ移動機構部２が転写開始前の待機位置に戻るように動作する。
上記待機位置でブランケット６Ｇを基板５０に対応させて位置合わせが行われ、その後、ブランケット６Ｇを基板５０に押圧して回転移動し、緑インキによるパターンＰｇをブランケット６Ｇから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰｇの基板５０での形成が終了する。パターンＰｇの形成が終了すれば、上述したように塗布ローラ移動機構部２が転写開始前の待機位置に戻るように動作する。
（ブランケット６Ｂの転写、図３５）
上記待機位置でブランケット６Ｂを基板５０に対応させて位置合わせが行われ、その後、ブランケット６Ｂを基板５０に押圧して回転移動し、青インキによるパターンＰｂをブランケット６Ｂから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰｂの基板５０での形成が終了する。
このようにして基板５０にパターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが順次転写され、黒インキによる前記パターンＰ２と、赤インキ、緑インキ、青インキによる組み合わせ部分Ｐ１でのパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂとからなる複合パターンＰの形成が完了する。
複合パターンＰの形成が終了すれば、塗布ローラ移動機構部２は塗布液供給部３側での待機位置に戻り、基板支持部５での基板５０の交換が完了すれば、上述した塗布液供給からの工程を行なうように設けられている。
上記待機位置でブランケット６Ｂを基板５０に対応させて位置合わせが行われ、その後、ブランケット６Ｂを基板５０に押圧して回転移動し、青インキによるパターンＰｂをブランケット６Ｂから基板５０の表面に転写する。これによって、パターンＰｂの基板５０での形成が終了する。
このようにして基板５０にパターンＰ２、Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂが順次転写され、黒インキによる前記パターンＰ２と、赤インキ、緑インキ、青インキによる組み合わせ部分Ｐ１でのパターンＰｒ、Ｐｇ、Ｐｂとからなる複合パターンＰの形成が完了する。
複合パターンＰの形成が終了すれば、塗布ローラ移動機構部２は塗布液供給部３側での待機位置に戻り、基板支持部５での基板５０の交換が完了すれば、上述した塗布液供給からの工程を行なうように設けられている。
上記実施の形態は液晶表示装置用のカラーフィルタを複合パターンとした例を示し、塗布液をインキとして説明しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、塗布液が有色発光する物質であってもよい。例えばＥＬ材料であってもよい。また、基板はガラス基板のような剛性のものに限られず、フィルムのようなフレキシブルのものであってもよい。
１…パターン形成装置
２…塗布ローラ移動機構部
２０、２ＢＭ、２ＲＧＢ…塗布ローラ
３…塗布液供給部
３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ…定厚塗布液供給ユニット
４…塗布液除去部
ａ…凸部
４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、４ＲＧＢ…塗布液除去版
４１…位置情勢手段
５…基板支持部
５０…基板
６…、６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ…ブランケット
Ｐ…複合パターン
Ｐｒ…赤のパターン
Ｐｇ…緑のパターン
Ｐｂ…青のパターン
Ｐ１…組み合わせ部分
Ｐ２…ＢＭのパターン
２…塗布ローラ移動機構部
２０、２ＢＭ、２ＲＧＢ…塗布ローラ
３…塗布液供給部
３ＢＭ、３Ｒ、３Ｇ、３Ｂ…定厚塗布液供給ユニット
４…塗布液除去部
ａ…凸部
４ＢＭ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ、４ＲＧＢ…塗布液除去版
４１…位置情勢手段
５…基板支持部
５０…基板
６…、６ＢＭ、６Ｒ、６Ｇ、６Ｂ…ブランケット
Ｐ…複合パターン
Ｐｒ…赤のパターン
Ｐｇ…緑のパターン
Ｐｂ…青のパターン
Ｐ１…組み合わせ部分
Ｐ２…ＢＭのパターン
Claims (13)
- 基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成するに際し、
少なくとも一つの塗布ローラを少なくとも二色のパターン構成色に対応させて、塗布ローラのローラ数をパターン構成色の数より少なくし、塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液を前記塗布ローラに供給し、
前記塗布ローラを、供給された塗布液のパターン構成色によるパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去し、
転写除去された前記塗布ローラを基板に押圧して、前記塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写する
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 一色のパターン構成色の塗布液を、該塗布液のパターン構成色に対応する塗布ローラに供給する塗布液供給工程と、
前記塗布液供給工程を経た塗布ローラから、該塗布ローラに対応するパターン構成色のパターンのネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、
前記転写除去工程を経た塗布ローラの塗布液によるパターンを基板に転写する転写工程とからなる、一色のパターン構成色の塗布液の供給から該塗布液のパターンによる基板への転写までの工程を、パターン構成色ごとに繰り返す請求項１に記載のパターン形成方法。 - 複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラの周面には、それぞれ異なるパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されていて、
前記塗布ローラの分割された複数の塗布液受け領域に塗布液を供給し、該塗布ローラの塗布液受け領域ごとに転写除去と基板への転写を行なうパターンの順次形成、または前記塗布液受け領域全ての転写除去を行なったのちに基板への転写を行なうパターンの一括形成を行なう請求項１に記載のパターン形成方法。 - 複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、周面にパターン組み合わせ部分のパターン形状を同一にするパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラである請求項３に記載のパターン形成方法。
- 複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、パターン組み合わせ部分のパターン構成色と組み合わせ部分以外のパターン構成色とに対応する塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラである請求項３に記載のパターン形成方法。
- 上記基板と上記塗布ローラと上記塗布液除去版との何れかの位置調整により、前記基板でのパターン転写位置と塗布ローラでのパターン形成位置とを位置合わせする請求項１に記載のパターン形成方法。
- 上記塗布液供給手段は塗布液を定厚で供給する請求項１から７の何れか一項に記載のパターン形成方法。
- 基板に、パターン構成色が異なる塗布液からなる複数のパターンを塗布ローラを介して転写して、パターンの組み合わせ部分を有する複合パターンを前記基板に形成する装置において、
前記パターン構成色の数より少ないローラ数であって、少なくとも一つのローラが少なくとも二色のパターン構成色に対応する塗布ローラと、前記パターン構成色の塗布液を前記塗布ローラに供給する塗布液供給手段と、前記複数のパターンのネガパターンとした凸部を有する板状の塗布液除去版とを備え、
前記塗布液供給手段からパターン構成色の塗布液を塗布ローラに供給し、この塗布ローラを前記塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去し、前記転写除去を行なった塗布ローラの塗布液によるパターンを前記基板に転写する構成としたパターン形成装置。 - 複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラの周面には、それぞれ異なるパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されて、
複数色のパターン構成色に対応する前記塗布ローラにあっては、塗布液が供給された前記塗布液受け領域ごとに転写除去と基板への転写を行なうパターンの順次形成、または前記塗布液受け領域全ての転写除去を行なったのちに基板への転写を行なうパターンの一括形成を行なう構成とした請求項８に記載のパターン形成装置。 - 複数色のパターン構成色に対応する上記塗布ローラは、周面にパターン組み合わせ部分のパターン構成色に対応する複数の塗布液受け領域が分割形成されている一つの塗布ローラである請求項８に記載のパターン形成装置。
- 上記基板と上記塗布ローラと上記塗布液除去版との何れかの位置調整により、前記基板でのパターン転写位置と塗布ローラでのパターン形成位置とを位置合わせする請求項８に記載のパターン形成装置。
- 上記塗布液供給手段は塗布液を定厚で供給する請求項８から１１の何れか一項に記載のパターン形成装置。
- 上記塗布液供給手段は、塗布液を定厚供給する定厚塗布液供給ユニットを有する請求項８から１２の何れか一項に記載のパターン形成装置。
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