JP2006282979A - セルロースアシレートフィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく、さらには曝光に対する光学的異方性の変化が小さく、且つ光耐久性に優れたセルロースアシレートフィルムを提供すること及び、このようなセルロースアシレートフィルムにより作製した偏光板などの光学材料を提供すること、並びにこれらを用いた広視野角で表示品位の高い液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 レターデーション調節剤を少なくとも１種と、２５０ｎｍ〜３６０ｎｍの波長範囲に少なくとも１つの吸収極大を有する紫外線吸収剤を少なくとも１種含有するセルロースアシレートフィルム。
【選択図】 なし

Description

本発明は、セルロースアシレートフィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。

従来、セルロースアシレートフィルムは、その強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向からの見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。

最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、より光学的に等方性であることが求められている。光学的に等方性であるとは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことが重要である。とりわけ、斜め方向からの表示良化のためには、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を小さくする必要がある。具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価する際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。

これまでに、正面のＲｅを小さくしたセルロースアシレートフィルムは知られていたが、角度によるＲｅ変化が小さい、すなわちＲｔｈが小さいセルロースアシレートフィルムは作製が難しかった。セルロースアシレートフィルムの正面のＲｅをほぼゼロとし、またレターデーションの角度変化も小さい、すなわちＲｔｈもほぼゼロとした、光学的に等方性である光学透明フィルムが強く望まれている。

セルロースアシレートフィルムの製造において、一般的に製膜性能を良化するため可塑剤と呼ばれる化合物が添加される。可塑剤の種類としては、リン酸トリフェニル、リン酸ビフェニルジフェニルのようなリン酸トリエステル；フタル酸エステル類などが開示されている（例えば、非特許文献１参照）。これら可塑剤の中には、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果を有するものが知られている（例えば特定の脂肪酸エステル、特許文献１参照）が、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果は十分とはいえない。

また、最近の液晶表示装置においては、モバイルや車載用途等、屋外で使用する場合が増加しており、光学性能の曝光に対する安定性（耐光性）が重要になってきている。
さらに、セルロースアシレートフィルムは偏光板保護フィルムとしての需要が急増しており、偏光板作成に必要な鹸化処理に対する光学性能の変動が小さいことも重要である。
特開２００１−２４７７１７号公報 プラスチック材料講座、第１７巻、日刊工業新聞社、「繊維素系樹脂」、１２１頁（昭和４５年）

本発明の目的は、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく、さらには曝光に対する光学
的異方性の変化が小さい、耐光性に優れたセルロースアシレートフィルムを提供することである。

本発明のさらなる目的は、上記性能に加え、鹸化処理による光学的異方性の変化が小さい、鹸化耐性に優れたセルロースアシレートフィルムを提供することである。

本発明のさらなる目的は、光学的異方性が小さく、耐光性、鹸化耐性に優れたセルロースアシレートフィルムにより作製した偏光板などの光学材料を提供すること、及びこれらを用いた広視野角で表示品位の高い液晶表示装置を提供することにある。

本発明者らは、鋭意検討した結果、以下に記載するセルロースアシレートフィルムにより、本発明の課題が達成された。

［１］レターデーション調節剤を少なくとも１種と、２５０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長範囲に少なくとも１つの吸収極大を有する紫外線吸収剤を少なくとも１種とを含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。

［２］前記レターデーション調節剤が下記数式（１１−１）を満足する化合物である上記［１］記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（１１−１）：Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)／ａ≦−１．５
（ただし、０．０１≦ａ≦３０）
Ｒｔｈ(ａ)：レターデーション調節剤をａ％含有したセルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲth（ｎｍ）
Ｒｔｈ(０)：レターデーション調節剤を含有しないセルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
ａ：セルロースアシレート１００質量部に対するレターデーション調節剤の質量部
［３］レターデーション調節剤のうち少なくとも１種が、下記一般式（１）〜（６）のいずれかで表される化合物である［１］又は［２］記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（１）：

｛一般式（１）中、Ｒ¹¹はアリール基を表す。Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、少なくとも一方はアリール基である。また、アルキル基及びアリール基はそれぞれ置換基を有していてもよい。｝
一般式（２）：

｛一般式（２）中、Ｒ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立にアルキル基を表す。また、アルキル基はそれぞれ置換基を有していてもよい。｝
一般式（３）：

｛一般式（３）中、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³及びＲ³⁴は、それぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³及びＸ³⁴は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−及びＮＲ³⁵−（Ｒ³⁵は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から
形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃ及びｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｚ³¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基（環状のものを除く）を表す。｝
一般式（４）：

｛一般式（４）中、Ｒ⁴¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³の炭素数の総和は１０以上である。｝
一般式（５）：

｛一般式（５）中、Ｒ⁵¹及びＲ⁵²は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ⁵¹及びＲ⁵²の炭素数の総和は１０以上である。｝
一般式（６）：

｛一般式（６）中、Ｒ⁶¹は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、Ｒ⁶²は水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ⁶¹は、２価〜６価の連結基を表し、ｅはＬ⁶¹の価数に応じた２〜６の整数を表す。｝

［４］レターデーション調節剤が、一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物である上記［３］に記載のセルロースアシレートフィルム。

［５］紫外線吸収剤が、下記一般式（７）〜（９）で表される化合物のうちの少なくとも１種である上記［１］〜［４］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
一般式（７）：Ｑ⁷¹−Ｑ⁷²−ＯＨ
（式中、Ｑ⁷¹は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ⁷²は芳香族環を表す。）
一般式（８）：

｛式中、Ｑ⁸¹及びＱ⁸²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁸¹はＮＲ⁸¹（Ｒ⁸¹は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。｝
一般式（９）：

（式中、Ｑ⁹¹及びＱ⁹²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁹¹及びＸ⁹²は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）

［６］紫外線吸収剤が、前記一般式（７）におけるＱ⁷¹が１，３，５−トリアジン環のトリアジン化合物である上記［５］に記載のセルロースアシレートフィルム。
［７］紫外線吸収剤が、２５℃において液状である上記［１］〜［６］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

［８］セルロースアシレートフィルムにキセノン光を照射し、その照射前と照射後におけるレターデーション調節剤及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかの含有量が、下記数式（１）を満足する上記［１］〜［７］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（１）：０．８≦Ｃｍ_x／Ｃｍ₀≦１．０
｛数式（１）中、Ｃｍ₀はキセノン光照射前の化合物の含有量であり、Ｃｍ_xはキセノン光照射後の化合物の含有量である。｝

［９］セルロースアシレートフィルムに鹸化を行い、その鹸化前後におけるレターデーション調節剤及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかの含有量が、下記数式（２）の関係を満たす上記［１］〜［８］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（２）：０．９＜Ｃｍ_s／Ｃｍ₀≦１．０
（式中、Ｃｍ₀は鹸化処理前の含量、Ｃｍ_sは鹸化処理後の含量である。）

［１０］セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈとＲｅが、それぞれ下記数式（３）及び（４）の範囲を満たす上記［１］〜［９］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（３）：−２５ｎｍ≦Ｒｔｈ₆₃₀≦２５ｎｍ、
数式（４）：０ｎｍ≦Ｒｅ₆₃₀≦１０ｎｍ
［１１］セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（５）の関係をたす上記［１］〜［１０］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（５）：｜Ｒｅ₆₃₀×Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２００

［１２］セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（６）の関係を満たす上記［１］〜［１１］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（６）：｜Ｒｅ_630(max)−Ｒｅ_630(min)｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ_630(max)−Ｒｔｈ_630(min)｜≦１０
｛式中、Ｒｅ_630(max)、Ｒｔｈ_630(max)は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの波長６３０ｎｍにおける最大レターデーション値、Ｒｅ_630(min)、Ｒｔｈ_630(min)は波長６３０ｎｍにおける最小レターデーション値である。｝

［１３］セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値の、フィルム表面をアルカリ溶液で鹸化処理する前と鹸化処理した後の変化が、下記数式（７）及び（８）の関係を満たす上記［１］〜［１２］のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（７）：｜Ｒｅ₆₃₀₍₀₎−Ｒｅ_630(s)｜≦１０で、且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎−Ｒｔｈ_630(s)｜≦２０
｛式中、Ｒｅ₆₃₀₍₀₎はアルカリ溶液で鹸化する前の波長６３０ｎｍにおけるＲｅ、Ｒｅ_630(s)はアルカリ溶液で鹸化した後の波長６３０ｎｍにおけるＲｅを表し、Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎はアルカリ溶液で鹸化する前の波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈ、Ｒｔｈ_630(s)はアルカリ溶液で鹸化した後の波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈを表す。｝

［１４］セルロースアシレートフィルムの、４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲において、Ｒｔｈの変動が２５ｎｍ以下で且つＲｅの変動が１０ｎｍ以下である上記［１］〜［１３］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
［１５］セルロースアシレートフィルムの、波長４００ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下である上記
［１］〜［１４］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

［１６］セルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートのアシル置換度が２.５０〜３．００であり、その平均重合度が１８０〜７００である上記［１］〜［１５］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
［１７］セルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートのアシル置換基が、実質的にアセチル基のみからなり、その全置換度が２．５０〜２．９５であり、その平均重合度が１８０〜７００である上記［１］〜［１６］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

［１８］セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０〜１２０μｍである上記［１］〜［１７］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

［１９］セルロースアシレートフィルムが延伸されて得られたものであり、該延伸倍率が、搬送方向に対して垂直な方向（幅方向）に１％以上１００％以下である上記［１］〜［１８］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
［２０］ 延伸されて得られたセルロースアシレートフィルムにおいて、波長６３０ｎｍにおけるＲｅが下記数式（８）の関係を満足する上記［１９］に記載のセルロースアシレートフィルム。
数式（８）：｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ≦１．０
｛式中、Ｒｅ_(n)はｎ（％）延伸されたフィルムのＲｅ、Ｒｅ₍₀₎は延伸していないフィルムのＲｅである。｝
［２１］セルロースアシレートフィルムが、セルロースアシレート溶液（ドープ）を流延製膜して得られたものであり、ドープの調製工程における最終工程に、分子量が３０００以下の化合物を添加して製造された上記［１］〜［２０］のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。

［２２］偏光子の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が［１］〜［２１］のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。

［２３］液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板からなり、その少なくとも1枚の偏光板が［２２］に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
［２４］液晶表示装置がＩＰＳモードである上記［２３］に記載の液晶表示装置。

本発明者らの研究により、光学的異方性Ｒｅ、Ｒｔｈが小さく、且つ耐光性に優れたセルロースアシレートフィルムを作製することができ、さらには鹸化耐性に優れたセルロースアシレートフィルムを作製することができ、このセルロースアシレートフィルムを用いて光学補償フィルム、偏光板などの光学材料、及びこれらを用いた液晶表示装置を提供することが可能になった。

＜セルロースアシレートフィルム＞
〔レターデーション調節剤〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、少なくとも１種のレターデーション調節剤を含有する。

本発明におけるレターデーション調節剤とは、波長６３０ｎｍにおけるＲｅ又はＲｔｈが下記数式（１０）または（１１）を満足する化合物である。
数式（１０）：｜Ｒｅ(ａ)−Ｒｅ(０)｜／ａ≧１．０
数式（１１）：｜Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)｜／ａ≧１．０
（ただし、０．０１≦ａ≦３０）
Ｒｅ(ａ)：レターデーション調節剤をａ％含有したセルロースアシレートフィルムのＲｅ（ｎｍ）
Ｒｅ(０)：レターデーション調節剤を含有しないセルロースアシレートフィルムのＲｅ（ｎｍ）
Ｒｔｈ(ａ)：レターデーション調節剤をａ％含有したセルロースアシレートフィルムのＲth（ｎｍ）
Ｒｔｈ(０)：レターデーション調節剤を含有しないセルロースアシレートフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）
ａ：セルロースアシレート１００質量部に対するレターデーション調節剤の質量部
好ましくはレターデーション調節剤はＲｔｈが数式（１１）を満足する化合物である。レターデーション調節剤は数式（１１−１）を満足することがより好ましく、数式（１１−２）を満足することがさらに好ましく、数式（１１−３）を満足することが特に好ましい。
数式（１１−１）：Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)／ａ≦−１．５
数式（１１−２）：Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)／ａ≦−２．０
数式（１１−３）：Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)／ａ≦−２．５
（ただし、０．０１≦ａ≦３０）

本発明で用いられるレターデーション調節剤は、前記一般式（１）〜（６）から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。以下にこれらレターデーション調節剤について詳細に説明する。

まず、一般式（１）で表される化合物に関して詳細に説明する。
一般式（１）：

上記一般式（１）において、Ｒ¹¹はアリール基を表す。Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、少なくとも一方はアリール基である。Ｒ¹²がアリール基であるとき、Ｒ¹³はアルキル基でもアリール基でもよいが、アルキル基であることがより好ましい。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。アリール基は炭素数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。

次に、一般式（２）で表される化合物に関して詳細に説明する。
一般式（２）：

上記一般式（２）において、Ｒ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立にアルキル基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよい。Ｒ²¹は環状のアルキル基であることが好ましく、Ｒ²²及びＲ²³の少なくとも一方が環状のアルキル基であることがより好ましい。アルキル基は炭素数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。

上記一般式（１）及び（２）におけるアルキル基及びアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。

次に、一般式（１）又は（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
なお、（Ａ− ）と付してある化合物が一般式（１）で表される化合物の具体例であり、（Ｂ− ）と付してある化合物が一般式（２）で表される化合物の具体例である。

上記の化合物は、いずれも既知の方法により製造することができる。すなわち、一般式（１）及び一般式（２）の化合物は、縮合剤｛例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）など｝を用いた、カルボン酸類とアミン類との脱水縮合反応、又はカルボン酸クロリド誘導体とアミン誘導体との置換反応などにより得ることができる。

次に、前記一般式（３）で表される化合物について説明する。
一般式（３）：

上記一般式（３）において、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³及びＲ³⁴は、それぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。

Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³及びＸ³⁴は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−及びＮＲ³⁵−（Ｒ³⁵は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³及びＸ³⁴の組み合わせは、特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ³⁵−から選ばれるのがより好ましい。ａ、ｂ、ｃ及びｄは０以上の整数であり、０又は１であることが好ましく、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上であり、２〜８であることが好ましく、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４である。Ｚ³は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｚ³の価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４がさらに好ましく、２又は３が最も好ましい。有機基とは、有機化合物からなる基をいう。

また、上記一般式（３）としては、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物
である。
一般式（３−１）：Ｒ³¹¹−Ｘ³¹¹−Ｚ³¹¹−Ｘ³¹²−Ｒ³¹²

上記一般式（３−１）において、Ｒ³¹¹及びＲ³¹²は、それぞれ、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ³¹¹及びＸ³¹²は、それぞれ独立に、−ＣＯＮＲ³¹³−又は−ＮＲ³¹⁴ＣＯ−を表し、Ｒ³¹³及びＲ³¹⁴は、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい。Ｚ³¹¹は−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ³¹⁵−（Ｒ³¹⁵は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい）、アルキレン基及びアリーレン基から選ばれる、１種以上の基から形成される２価の有機基（環状のものを除く）を表す。Ｚ³¹¹の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ³¹⁵−、及びアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

上記一般式（３−１）としては、好ましくは下記一般式（３−２）〜（３−４）で表される化合物である。
一般式（３−２）：

一般式（３−３）：

一般式（３−４）：

上記一般式（３−２）〜（３−４）において、Ｒ³²¹、Ｒ³²²、Ｒ³²³及びＲ³²⁴は、それぞれ置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｚ³²¹は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ³²⁵−（Ｒ³²⁵は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｚ³²¹の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ³²⁵−、及びアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。

以下に、上記の置換もしくは無置換の脂肪族基について説明する。
脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。

以下に、上記の芳香族基について説明する。
芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。

また、以下に前記の置換基Ｔに関して詳細に説明する。
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基など）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基など）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基など）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基など）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基など）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基など）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスル
ホニルアミノ基など）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基など）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基など）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基など）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基など）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなど）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基など）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基など）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

本発明に用いられる化合物は、いずれも既知の化合物より製造することができる。一般式（３）及び（３−１）〜（３−４）のいずれかで表される化合物は、例えば、カルボニルクロリドとアミンとの縮合反応により得られる。

次ぎに、一般式（４）及び（５）の化合物について説明する。
一般式（４）：

上記一般式（４）において、Ｒ⁴¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³の炭素数の総和が１０以上であることが特に好ましい。

一般式（５）：

また、一般式（５）中、Ｒ⁵¹及びＲ⁵²は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ⁵¹及びＲ⁵²の炭素数の総和は１０以上であり、それぞれ、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。

またアルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル）が特に好ましい。

アリール基としては炭素数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル）が特に好ましい。

一般式（４）又は一般式（５）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

以下、本発明一般式（６）で表される化合物について説明する。
一般式（６）：

上記一般式（６）において、Ｒ⁶¹は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、Ｒ⁶²は水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが挙げられる（以下、特に述べない限り同じ。）。Ｌ⁶¹は２〜６価の連結基を表す。Ｌ⁶¹の価数として、好ましくは２〜４、より好ましくは２又は３である。ｅはＬ⁶¹の価数に応じた２〜６の整数を表し、２〜４がより好ましく、２又は３が特に好ましい。
１つの化合物の中に含まれる２つ以上のＲ⁶¹及びＲ⁶²は、それぞれ、同一であってもよいし、異なっていてもよい。好ましくは同一である。

上記一般式（６）として好ましくは、下記一般式（６−１）で表される化合物である。
一般式（６−１）：

上記一般式（６−１）において、Ｒ⁶¹¹は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。Ｒ⁶¹¹として好ましくは、置換もしくは無置換の芳香族基であり、さらに好ましくは無置換の芳香族基である。Ｒ⁶¹²は水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。Ｒ⁶¹²として好ましくは水素原子、又は置換もしくは無置換の脂肪族基であり、さらに好ましくは水素原子である。Ｌ⁶¹¹は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁶¹³−（Ｒ⁶¹³は水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。連結基の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ⁶¹³−及びアルキレン基から選ばれる
のが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのが特に好ましい。また、連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれる２以上をからなる連結基が好ましい。

以下に上記置換もしくは無置換の脂肪族基について説明する。
脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。

以下に上記芳香族基について説明する。芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。

上記一般式（６）としては、下記一般式（６−２）で表される化合物であることがより好ましい。
一般式（６−２）：

上記一般式（３）において、Ｒ⁶²¹、Ｒ⁶²²、Ｒ⁶²³、Ｒ⁶²⁴、Ｒ⁶²⁵、Ｒ⁶²⁶、Ｒ⁶²⁷、Ｒ^6
28、Ｒ⁶²⁹及びＲ⁶³⁰は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。

Ｒ⁶²¹、Ｒ⁶²²、Ｒ⁶²³、Ｒ⁶²⁴、Ｒ⁶²⁵、Ｒ⁶²⁶、Ｒ⁶²⁷、Ｒ⁶²⁸、Ｒ⁶²⁹及びＲ⁶³⁰としては、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のものであり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられ、具体的には例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基であり、より好ましくは、アルキル基、アリール基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、アリールオキシカルボニルアミノ基である。これらの置換基はさらに置換されてもよく、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。Ｒ⁶²¹とＲ⁶²⁶、Ｒ⁶²²とＲ⁶²⁷、Ｒ⁶²³とＲ⁶²⁸、Ｒ⁶²⁴とＲ⁶²⁹、及びＲ⁶²⁵とＲ⁶³⁰はそれぞれ同一であることが好ましい。さらに、Ｒ⁶²¹〜Ｒ⁶³⁰はいずれも水素原子である場合がより好ましい。

Ｌ⁶²¹は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ⁶³¹−（Ｒ⁶³¹は水素原子、脂肪族基又は芳香族基を表す）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。連結基の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ⁶³¹−、及びアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのが特に好ましい。また、連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれる２以上からなる連結基がさらに好ましい。

一般式（６）、一般式（６−１）、又は一般式（６−２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

本発明に用いられる化合物は、いずれも既知の化合物より製造することができる。
一般式（６）、（６−１）及び（６−２）のいずれか１種以上で表される化合物は、一般的には、スルホニルクロリドと多官能アミンとの縮合反応により得られる。

本発明に用いられるレターデーション調節剤である一般式（１）〜（６）で表される化合物のうち、一般式（１）〜（３）で表される化合物が好ましく、一般式（２）で表される化合物が最も好ましい。

また本発明に用いられるレターデーション調節剤としては、一般式（１）〜（６）の化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい
。化合物のｌｏｇＰ値が７以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性が優れており、フィルムの白濁や粉吹きを生じるなどの問題が生じないので好ましい。またｌｏｇＰ値が０以上であれば、親水性が高くなりすぎてセルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。

オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ Ｚ−７２６０−１０７（２０００年）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。またオクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛"Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．"，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛"Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．"，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛"Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．"，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が前記の範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。

前記一般式（１）〜（６）の化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

一般式（１）〜（６）の化合物は、好ましくは２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またレターデーションを低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

一般式（１）〜（６）の化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。

一般式（１）〜（６）の化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。

一般式（１）〜（６）の化合物を添加する時期は、ドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

一般式（１）〜（６）の化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であることが好ましい。本発明に用いられる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。

〔紫外線吸収剤〕
次ぎに本発明に用いられる紫外線吸収剤について説明する。本発明は、レターデーション調節剤と紫外線吸収剤を併用することを特徴とする。フィルム中に紫外線吸収剤を含有させることにより、光によるレターデーション調節剤の分解、劣化を抑制することが可能
となり、結果として曝光に対する光学的異方性の変化が小さく耐光性の優れたセルロースアシレートフィルムを提供することが可能となる。

２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物、すなわち紫外線吸収剤はその吸収の紫外線領域の短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい特性をもつ。

一方、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に可視領域の短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが可能である。

上記化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は、紫外線領域の吸光度の長波長側、すなわち可視領域の短波長側が大きいことと同様に、短波長側が大きいと想定される。

したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が可視領域の短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。

本発明において紫外線吸収剤は、２５０以上３８０ｎｍ以下に少なくとも１つの吸収極大を有することが好ましく、さらに２５０以上３６０ｎｍ以下に少なくとも１つの吸収極大を有することが好ましい。３２０以上３５５ｎｍ以下に少なくとも１つの吸収極大を有することが最も好ましい。

本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、スルホ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物など公知の紫外線吸収剤が挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

本発明に用いられる紫外線吸収剤は、前記一般式（７）〜（９）で表される化合物であることが好ましい。一般式（７）〜（９）の中で、一般式（７）で表される化合物がさらに好ましい。

以下に、一般式（７）で表される紫外線吸収剤について説明する。
一般式（７）：Ｑ⁷¹−Ｑ⁷²−ＯＨ
一般式（７）において、Ｑ⁷¹は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環である。

好ましい含窒素芳香族ヘテロ環としては、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等があげられ、更に好ましくは、トリアジン及び５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的には、１，３，５−トリアジン、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、１，３，５−トリアジン、及びベンゾトリアゾールである。最も好ましくは１，３
，５−トリアジンである。

Ｑ⁷¹で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。

Ｑ⁷²は芳香族環を表す。Ｑ⁷²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ⁷²であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ⁷²は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。

一般式（７）で表される紫外線吸収剤は、好ましくは下記一般式（７−１）で表される１，３，５−トリアジン環を有する化合物である。
一般式（７−１）：

一般式（７−１）中、Ｒ⁷⁰¹は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ＯＨ、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ⁷⁰⁴、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁷⁰⁶、−ＣＯ−ＮＨ₂、−ＣＯ−ＮＨＲ⁷⁰⁷、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ⁷⁰⁷）（Ｒ⁷⁰⁸）、ＣＮ、ＮＨ₂、ＮＨＲ⁷⁰⁷、−Ｎ（Ｒ⁷⁰⁷）（Ｒ⁷⁰⁸）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵、フェノキシ基、炭素数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数６〜１５のビシクロアルコキシ基、炭素数６〜１５のビシクロアルキルアルコキシ基、炭素数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基、もしくは炭素数６〜１５のトリシクロアルコキシ基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基；ＯＨ、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基もしくは−Ｏ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵で置換された炭素数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁹；又は−ＳＯ₂−Ｒ⁷¹⁰を表すか；あるいは、１つ以上の酸素原子で中断され、及び／又はＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいは、−Ａ⁷¹；−ＣＨ₂−ＣＨ（Ｘ⁷¹Ａ⁷¹）−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ⁷¹²；−ＣＲ⁷¹³Ｒ'⁷¹³−（ＣＨ₂）_m−Ｘ⁷¹−Ａ⁷¹；−ＣＨ₂−ＣＨ（ＯＡ⁷¹）−Ｒ⁷¹⁴；−ＣＨ₂−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−Ｘ⁷¹Ａ⁷¹；

−ＣＲ⁷¹⁵Ｒ'⁷¹⁵−Ｃ（＝ＣＨ₂）−Ｒ"⁷¹⁵；−ＣＲ⁷¹³Ｒ'⁷¹³−（ＣＨ₂）_m−ＣＯ−Ｘ⁷¹−Ａ⁷¹；−ＣＲ⁷¹³Ｒ'⁷¹³−（ＣＨ₂）_m−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁷¹⁵Ｒ'⁷¹⁵−Ｃ（＝ＣＨ₂）−Ｒ"⁷¹⁵又は−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁷¹⁵Ｒ'⁷¹⁵−Ｃ（＝ＣＨ₂）−Ｒ"⁷¹⁵｛Ａ⁷¹は−ＣＯ−ＣＲ⁷¹⁶＝ＣＨ−Ｒ⁷¹⁷を表す｝を表す。

Ｒ⁷⁰²は、互いに独立して、炭素数６〜１８のアルキル基；炭素数２〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；ＣＯＯＲ⁷⁰⁴；ＣＮ；−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；又は−Ｏ−Ｒ⁷⁰³を表す。Ｒ⁷⁰³はＲ⁷⁰¹に対して与えられた定義と同一である。Ｒ⁷⁰⁴は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；又は、１つ以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷⁰⁷−、−Ｓ−で中断され、且つＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素数３〜５０のアルキル基を表す。

Ｒ⁷⁰⁵は、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数２〜１８のアルケニル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルケニル基；又は炭素数６〜１５のトリシクロアルキル基を表す。Ｒ⁷⁰⁶は、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；又は炭素数５〜１２のシクロアルキル基を表す。Ｒ⁷⁰⁷及びＲ⁷⁰⁸は、互いに独立して、炭素数１〜１２のアルキル基；炭素数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基；又は炭素数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいは、Ｒ⁷⁰⁷及びＲ⁷⁰⁸は一緒になって、炭素数３〜９のアルキレン基、炭素数３〜９のオキサアルキレン基又は炭素数３〜９のアザアルキレン基を表す。

Ｒ⁷⁰⁹は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルケニル基；又は炭素数６〜１５のトリシクロアルキル基を表す。Ｒ⁷¹⁰は、炭素数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；又は炭素数７〜１４のアルキルフェニル基を表す。

Ｒ⁷¹¹は、互いに独立して、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；ハロゲン原子；又は炭素数１〜１８のアルコキシ基を表す。

Ｒ⁷¹²は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；炭素数６〜１５のトリシクロアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素数６〜１５のビシクロアルケニルアルキル基；−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵を表すか；又はＲ⁷¹²は、１つ以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷⁰⁷−、−Ｓ−で中断され、且つＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素数３〜５０のアルキル基を表す。

Ｒ⁷¹³及びＲ'⁷¹³は、互いに独立して、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；フェニル基
を表す。Ｒ⁷¹⁴は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；又はフェニル−炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ⁷¹⁵、Ｒ'⁷¹⁵及びＲ"⁷¹⁵は、互いに独立して、Ｈ又はＣＨ₃を表す。Ｒ⁷¹⁶は、Ｈ；−ＣＨ₂−ＣＯＯ−Ｒ⁷⁰⁴；炭素数１〜４のアルキル基；又はＣＮを表す。Ｒ⁷¹⁷は、Ｈ；−ＣＯＯＲ⁷⁰⁴；炭素数１〜１７のアルキル基；又はフェニル基を表す。

Ｘ⁷¹は、−ＮＨ−；−ＮＲ⁷⁰⁷−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ₂）_p−ＮＨ−；又は−Ｏ−（ＣＨ₂）_q−ＮＨ−を表す。指数ｍは０〜１９の整数を表し；ｎは１〜８の整数を表し；ｐは０〜４の整数を表し；ｑは２〜４の整数を表す。但し式（７−２）中、基Ｒ⁷⁰¹、Ｒ⁷⁰²及びＲ⁷¹¹の少なくとも１つが２個以上の炭素原子を含む。

さらに一般式（７−１）の化合物について説明する。
アルキル基としての基Ｒ⁷⁰¹〜Ｒ⁷¹⁰、Ｒ⁷¹²〜Ｒ⁷¹⁴、Ｒ⁷¹⁶及びＲ⁷¹⁷は、直鎖もしくは分枝鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基である。

炭素数５〜１２のシクロアルキル基としてのＲ⁷⁰¹、Ｒ⁷⁰³〜Ｒ⁷⁰⁹及びＲ⁷¹²は、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基である。好ましいのもはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基及びシクロドデシル基である。

アルケニル基としてのＲ⁷⁰⁶、Ｒ⁷⁰⁹、Ｒ⁷¹¹及びＲ⁷¹²は、特にアリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエチル基、３−メチル−ブテ−２−エニル基、ｎ−オクテ−２−エニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基、イソドデセニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基及びｎ−オクタデセ−４−エニル基が含まれる。

置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基は、１回以上置換されることができ、且つ結合している炭素原子において（α−位において）、又は他の炭素原子において、置換基をもつことができ；置換基がヘテロ原子によって（例えばアルコキシ基）結合する場合、その結合は、好ましくはα−位においてではなく、且つ置換されたアルキル基は２つ、特には３つ又はそれ以上の炭素原子を含む。２つ以上の置換基を有するときは、それらの置換基は、好ましくは異なる炭素原子と結合するのがよい。

アルキル基が−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷⁰⁷−、−Ｓ−により中断されるとき、そのアルキル基はこれらの基の１つ以上で中断されていてもよく、それぞれの場合、一般に１つの結合中に１つの基が挿入されており、且つヘテロ−ヘテロ結合、例えばＯ−Ｏ、Ｓ−Ｓ、ＮＨ−ＮＨ等は生じず；中断されたアルキル基がさらに置換されている場合には、置換基は、一般にヘテロ原子に対してα位にないのがよい。１つの基の中で２以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷⁰⁷−、−Ｓ−のタイプの中断する基が存在する場合、それらは一般に同一であるのがよい。

アリール基は、一般に芳香族炭化水素基であり、例えばフェニル基、ビフェニルイル基又はナフチル基であり、好ましくはフェニル基及びビフェニルイル基である。アラルアルキル基は、一般にアリール基、特にフェニル基により置換されたアルキル基であり；従って炭素数７〜２０のアラルアルキル基は、例えばベンジル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基及びフェニルヘキシル基を含み；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基は好ましくはベンジル基、α−メチルベンジル基及びα，α−ジメチルベンジル基である。

アルキルフェニル基及びアルキルフェノキシ基は、それぞれ、アルキル基で置換されたフェニル基又はフェノキシ基である。

ハロゲン置換基となるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、より好ましいものはフッ素原子又は塩素原子であり、特に塩素原子であることが好ましい。

炭素数１〜２０のアルキレン基は、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等である。ここにアルキル鎖はまた枝分かれでき、例えばイソプロピレン基である。

炭素数４〜１２のシクロアルケニル基は、例えば２−シクロブテニ−２−イル基、２−シクロペンテニ−１−イル基、２，４−シクロペンタジエニ−１−イル基、２−シクロヘキセ−１−イル基、２−シクロヘプテニ−１−イル基、又は２−シクロオクテニ−１−イル基である。

炭素数６〜１５のビシクロアルキル基は、例えばボルニル基、ノルボルニル基、［２．２．２］ビシクロオクチル基である。ボルニル基及びノルボルニル基、特にボルニル基及びノルボルニ−２−イル基が 好ましい。

炭素数６〜１５のビシクロアルコキシ基は、例えばボルニルオキシ基又はノルボルニ−２−イルオキシ基である。

炭素数６〜１５のビシクロアルキル−アルキル基又は−アルコキシ基は、ビシクロアルキル基で置換されたアルキル基又はアルコキシ基で、炭素原子の総数が６〜１５であるものであり；具体例はノルボルナン−２−メチル基及びノルボルニル−２−メトキシ基である。

炭素数６〜１５のビシクロアルケニル基は、例えば、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基である。好ましいものは、ノルボルネニル基、特にノルボルネ−５−エン基である。

炭素数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基は、ビシクロアルケニル基で置換されたアルコキシ基で、炭素原子の総数が６〜１５であるものであり；ある実例はノルボルネ−５−エン−２−メトキシ基である。

炭素数６〜１５のトリシクロアルキル基は、例えば、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基である。好ましいものは１−アダマンチル基で示される。

炭素数６〜１５のトリシクロアルコキシ基は、例えば、アダマンチルオキシ基である。炭素数３〜１２のヘテロアリール基は、好ましくは、ピリジニル基、ピリミジニル基、ト
リアジニル基、ピロリル基、フラニル基、チオフェニル又はキノリニル基である。

式（７−１）で表される化合物は、さらに好ましくは、式中、Ｒ⁷⁰¹が、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；炭素数３〜１２のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ＯＨ、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ⁷⁰⁴、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ⁷⁰⁶、−ＣＯ−ＮＨ₂、−ＣＯ−ＮＨＲ⁷⁰⁷、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ⁷⁰⁷）（Ｒ⁷⁰⁸）、ＣＮ、ＮＨ₂、ＮＨＲ⁷⁰⁷、−Ｎ（Ｒ⁷⁰⁷）（Ｒ⁷⁰⁸）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵、フェノキシ基、炭素数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素数１〜４のアルコキシ基、ボルニルオキシ基、ノルボルニ−２−イルオキシ基、ノルボルニル−２−メトキシ基、ノルボルネ−５−エン−２−メトキシ基、アダマンチルオキシ基で置換された炭素数１〜１８のアルキル基；ＯＨ、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基及び／又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵で置換された炭素数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁹又は−ＳＯ₂−Ｒ⁷¹⁰を表すか；あるいは、Ｒ⁷⁰¹は１以上の酸素原子で中断された及び／又はＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいは、Ｒ⁷⁰¹は−Ａ⁷¹；−ＣＨ₂−ＣＨ（Ｘ⁷¹Ａ⁷¹）−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ⁷¹²；−ＣＲ⁷¹³Ｒ'⁷¹³−（ＣＨ₂）_m−Ｘ⁷¹−Ａ⁷¹；−ＣＨ₂−ＣＨ（ＯＡ）−Ｒ⁷¹⁴；−ＣＨ₂−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−Ｘ⁷¹Ａ⁷¹；

−ＣＲ⁷¹⁵Ｒ'⁷¹⁵−Ｃ（＝ＣＨ₂）−Ｒ"⁷¹⁵；−ＣＲ⁷¹³Ｒ'⁷¹³−（ＣＨ₂）_m−ＣＯ−Ｘ⁷¹−Ａ⁷¹；−ＣＲ⁷¹³Ｒ'⁷¹³−（ＣＨ₂）_m−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁷¹⁵Ｒ'⁷¹⁵−Ｃ（＝ＣＨ₂）−Ｒ"⁷¹⁵又は−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁷¹⁵Ｒ'⁷¹⁵−Ｃ（＝ＣＨ₂）−Ｒ"⁷¹⁵（式中、Ａ⁷¹は−ＣＯ−ＣＲ⁷¹⁶＝ＣＨ−Ｒ⁷¹⁷を表す）のいずれかを表す。Ｒ⁷⁰²は、炭素数６〜１８のアルキル基；炭素数２〜６のアルケニル基；フェニル基；−Ｏ−Ｒ⁷⁰³又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵を表す。そしてＲ⁷⁰³は、互いに独立して、Ｒ⁷⁰¹に対して与えられた定義と同一である。

Ｒ⁷⁰⁴は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ⁷⁰⁴は、１つ以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷⁰⁷−、−Ｓ−で中断され、且つＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素数３〜５０のアルキル基を表す。

Ｒ⁷⁰⁵は、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数２〜１８のアルケニル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；ノルボルニ−２−イル基；ノルボルネ−５−エニ−２−イル基；アダマンチル基を表す。Ｒ⁷⁰⁶は、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基を表す。

Ｒ⁷⁰⁷及びＲ⁷⁰⁸は、互いに独立して炭素数１〜１２のアルキル基；炭素数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；又は炭素数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ⁷⁰⁷及びＲ⁷⁰⁸は、一緒になって、炭素数３〜９のアルキレン基；炭素数３〜９のオキサアルキレン基又は炭素数３〜９のアザアルキレン基を表す。Ｒ⁷⁰⁹は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；ノルボルニ−２−イル基；ノルボルネ−５−エニ−２−イル基；アダマンチル基を表す。

Ｒ⁷¹⁰は、炭素数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；又は炭素数７〜１４のアルキルフェニル基を表す。Ｒ⁷¹¹は、互いに独立して、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；又は炭素数７〜１１のフェニルアルキル基を表す。

Ｒ⁷¹²は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子又はトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基を表すか；又は炭素数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素数５〜１２のシクロアルキル基；１−アダマンチル基；２−アダマンチル基；ノルボルニル基；ノルボルナン−２−メチル−；−ＣＯ−Ｒ⁷⁰⁵を表し；又はＲ⁷¹²は、１つ以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ⁷⁰⁷−、−Ｓ−で中断され、且つＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素数３〜５０のアルキル基を表す。

Ｒ⁷¹³及びＲ'⁷¹³は、互いに独立して、Ｈ；炭素数１〜１８のアルキル基；フェニル基を表す。Ｒ⁷¹⁴は、炭素数１〜１８のアルキル基；炭素数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル−炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ⁷¹⁵、Ｒ'⁷¹⁵及びＲ"⁷¹⁵は、互いに独立して、Ｈ又はＣＨ₃を表す。Ｒ⁷¹⁶は、Ｈ；−ＣＨ₂−ＣＯＯ−Ｒ⁷⁰⁴；炭素数１〜４のアルキル基；又はＣＮを表す。Ｒ⁷¹⁷は、Ｈ；−ＣＯＯＲ⁷⁰⁴；炭素数１〜１７のアルキル基；又はフェニル基を表す。

Ｘ⁷¹は−ＮＨ−；−ＮＲ⁷¹⁷−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ₂）_p−ＮＨ−；又は−Ｏ−（ＣＨ₂）_q−ＮＨ−を表す。指数ｍは０〜１９の整数を表し；ｎは１〜８の整数を表し；ｐは０〜４の整数を表し；ｑは２〜４の整数を表す。

一般式（７）及び（７−１）で表される化合物は、慣用の方法により、例えば欧州特許第４３４６０８号明細書、又はＨ．Ｂｒｕｎｅｔｔｉ及びＣ．Ｅ．Ｌｕｔｈｉ，"Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ"，５５巻、ｐ．１５６６（１９７２年）などの刊行物に示される方法に従って、又はそれと同様に、相当するフェノールへのハロトリアジンのフリーデル−クラフツ付加によって、公知の化合物と同様に得ることができる。

次に、一般式（７）又は一般式（７−１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

前記一般式（７）で表される紫外線吸収剤の好ましい化合物には、一般式（７−１）で表される化合物の外に、下記一般式（７−２）で表される化合物がある。
一般式（７−２）：

上記一般式（７−２）において、Ｒ⁷²¹、Ｒ⁷²²、Ｒ⁷²³、Ｒ⁷²⁴、Ｒ⁷²⁵、Ｒ⁷²⁶、Ｒ⁷²⁷
及びＲ⁷²⁸は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ⁷²¹及びＲ⁷²³として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ⁷²²、及びＲ⁷²⁴として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁷²⁵及びＲ⁷²⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁷²⁶及びＲ⁷²⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。

以下に一般式（７−２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また次ぎに、一般式（７−１）にも一般式（７−２）にも含まれない、本発明で好適に用いることのできる紫外線吸収剤の具体例を挙げる。

一般式（８）で表される紫外線吸収剤について説明する。
一般式（８）：

上記一般式（８）中、Ｑ⁸¹及びＱ⁸²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｑ⁸¹及びＱ⁸²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

Ｑ⁸¹及びＱ⁸²で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。

Ｑ⁸¹及びＱ⁸²で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれかを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。芳香族ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ⁸¹及びＱ⁸²で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。

Ｑ⁸¹及びＱ⁸²は更に置換基を有してもよく、置換基としては前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

Ｘ⁸¹はＮＲ⁸¹（Ｒ⁸¹は、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｘ⁸¹として好ましくは、ＮＲ⁸¹（Ｒ⁸¹として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）又は酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。

一般式（８）として、好ましくは下記一般式（８−１）で表される化合物である。
一般式（８−１）：

式中、Ｒ⁸¹¹、Ｒ⁸¹²、Ｒ⁸¹³、Ｒ⁸¹⁴、Ｒ⁸¹⁵、Ｒ⁸¹⁶、Ｒ⁸¹⁷、Ｒ⁴¹⁸及びＲ⁸¹⁹は、それ
ぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ⁸¹¹、Ｒ⁸¹³、Ｒ⁸¹⁴、Ｒ⁸¹⁵、Ｒ⁸¹⁶、Ｒ⁸¹⁸及びＲ⁸¹⁹として、好ましくは水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁸¹²として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０
のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ⁸¹⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（８）及び（８−１）であらわされる化合物は、特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。

以下に一般式（８）又は（８−１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

以下に、一般式（９）で表される紫外線吸収剤について説明する。
一般式（９）：

上記一般式（９）中、Ｑ⁹¹及びＱ⁹²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｑ⁹¹及びＱ⁹²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ⁹¹及びＱ⁹²であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ⁹¹及びＱ⁹²は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。

Ｘ⁹¹及びＸ⁹²は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ⁹¹及びＸ⁹²で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ⁹¹及びＸ⁹²はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ⁹¹及びＸ⁹²はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ⁹¹及びＸ⁹²として、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ⁹¹（Ｒ⁹¹は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（９）として、好ましくは下記一般式（９−１）で表される化合物である。
一般式（９−１）：

式中、Ｒ⁹¹¹、Ｒ⁹¹²、Ｒ⁹¹³、Ｒ⁹¹⁴、Ｒ⁹¹⁵、Ｒ⁹¹⁶、Ｒ⁹¹⁷、Ｒ⁹¹⁸およびＲ⁹¹⁹は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ⁹¹¹及びＸ⁹¹²は、それぞれ前記一般式（９）におけるＸ⁹¹及びＸ⁹²と同義である。

Ｒ⁹¹¹、Ｒ⁹¹²、Ｒ⁹¹⁴、Ｒ⁹¹⁵、Ｒ⁹¹⁶、Ｒ⁹¹⁷およびＲ⁹¹⁹として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁹¹³及びＲ⁹¹⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

以下に一般式（９）又は（９−１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

次に、一般式（７）〜一般式（９）で表される化合物以外の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

本発明で用いられる紫外線吸収剤は、２５℃において液状であることが好ましい。液状とは２５℃において、「化学大辞典」（共立出版）（１９６３年）等に定義されているように、一定の形を有さず、流動性があり、ほぼ一定の体積を有するものを示す。上記性質を有するものであれば、融点は限定されないが、融点３０℃以下であることが好ましく、１５℃以下であることがより好ましい。２５℃において液状の紫外線吸収剤は、上記で挙げた具体例の中では、ＵＶ−１１６、ＵＶ−１１７、ＵＶ−３０９、ＵＶ−３３３等が挙げられるが、これらに限定されない。

本発明における紫外線吸収剤は、揮散性の観点から、分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合した多量体、オリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

本発明の紫外線吸収剤は一般式（７）〜一般式（９）で表される化合物中でも、これらの化合物の複数をユニットとして有する多量体であることが好ましく、このような多量体としては、下記一般式（１０）で表される化合物が好ましい。
一般式（１０）：

一般式（１０）中、Ｕ¹、Ｕ²、Ｕ³及びＵ⁴は、それぞれ前記一般式（７）〜（９）で表される化合物構造から選ばれる部分構造であり、ａ、ｂ、ｃ及びｄはそれぞれ０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｚは（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の連結基を表す。

ａ、ｂ、ｃ及びｄは、それぞれ０又は１であることが好ましく、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上であり、２〜８であることが好ましく、より好ましくは３〜６、さらに好ましくは３〜４である。Ｚは（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の連結基を表す。Ｚの価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４がさらに好ましく、２または３が最も好ましい。Ｚは環状構造を形成しないことがより好ましい。
尚、Ｕ¹、Ｕ²、Ｕ³及びＵ⁴における、一般式（７）〜（９）で表される化合物構造から選ばれる部分構造としては、それぞれの化合物から水素原子を除いたものが挙げられ、結合位置としては、当該水素原子の位置が挙げられる。

また、上記一般式（１０）としては、好ましくは下記一般式（１０−１）で表される化
合物である。
一般式（１０−１）： Ｕ¹¹−Ｌ−Ｕ¹²

上記一般式（１０−１）において、Ｕ¹¹、Ｕ¹²はそれぞれ前記一般式（７）または（８）で表される部分構造と同義であり、Ｌは２価の連結基を表し、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＣＯ−、−ＮＲ¹−（Ｒ¹は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、無置換のもの及び／又は脂肪族基がより好ましい）、アルキレン基及びアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成されることが好ましい。Ｌの組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ¹−、及びアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−及びアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−及びアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。Ｌは環状構造を形成しないことが好ましい。また、Ｌの鎖長を構成する原子数は３〜２０であることが好ましい。
尚、Ｕ¹¹、Ｕ¹²における、一般式（７）または（８）で表される化合物構造から選ばれる部分構造としては、それぞれの化合物から水素原子を除いたものが挙げられ、結合位置としては、当該水素原子の位置が挙げられる。

本発明の紫外線吸収剤はセルロースアシレートフィルムの鹸化処理での光学異方性変化が小さい観点から、前記一般式（１０）の化合物または前記一般式（７）におけるＱ⁷¹が１，３，５−トリアジン環のトリアジン化合物であることが好ましい。

さらに、セルロースアシレートフィルムの耐光性（光照射後の光学異方性変化）に優れる点から、前記一般式（７）におけるＱ⁷¹が１，３，５−トリアジン環のトリアジン化合物であることが好ましい。

紫外線吸収剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。

またこれら紫外線吸収剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら紫外線吸収剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

〔セルロースアシレートフィルムのレターデーション〕
以下にレターデーションＲｅ及びＲｔｈについて詳細に説明する。
本発明において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、それぞれ、波長λにおける正面方向のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。

［レターデーション値の測定］
本発明のセルロースアシレートフィルムのレターデーションの測定方法について説明する。

（正面方向のレターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ）
セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅλは、自動複屈折計"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝を用いて、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。またＲｔｈλは、
このＲｅλと、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から、波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値と、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から、波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値との、計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８及び膜厚を入力し算出した。

（Ｒｅ、Ｒｔｈの４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲での変動）
セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメーター"Ｍ−１５０"｛日本分光（株）製｝を用いて、波長７００ｎｍから４００ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより、各波長でのＲｅをもとめ、Ｒｅの波長による変動を測定した。また、Ｒｔｈの波長による変動については、このＲｅと、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から、７００〜４００ｎｍの波長の光を入射させて測定したレターデーション値と、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から、波長７００〜４００ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値との、計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８及び膜厚を入力して算出した。

本発明において、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さいセルロースアシレートフィルムとしては、波長６３０ｎｍにおける正面方向のレターデーションＲｅ及び膜厚方向のレターデーションＲｔｈが、それぞれ下記数式（３）及び（４）の範囲を満たすことが好ましい。
数式（３）：−２５ｎｍ≦Ｒｔｈ₆₃₀≦２５ｎｍ、
数式（４）：０ｎｍ≦Ｒｅ₆₃₀≦１０ｎｍ。
さらに好ましくは、レターデーションＲｔｈが下記数式（３−１）及び（４−１）の範囲を満たすことであり、特に好ましくは下記数式（３−２）及び（４−２）の範囲を満たすことである。
数式（３−１）：−２０ｎｍ≦Ｒｔｈ₆₃₀≦２０ｎｍ、
数式（４−１）：０ｎｍ≦Ｒｅ₆₃₀≦５ｎｍ。
数式（３−２）：−１５ｎｍ≦Ｒｔｈ₆₃₀≦１５ｎｍ、
数式（４−２）：０ｎｍ≦Ｒｅ₆₃₀≦２ｎｍ。

また本発明のセルロースアシレートフィルムの、４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲において、Ｒｔｈの変動が２５ｎｍ以下で且つＲｅの変動が１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの変動が２０ｎｍ以下で且つＲｅの変動が５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、Ｒｔｈの変動が１５ｎｍ以下で且つＲｅの変動が３ｎｍ以下であることが特に好ましい。

さらに本発明のセルロースアシレートフィルムの、波長６３０ｎｍにおける正面方向のレターデーションＲｅと、膜厚方向のレターデーションＲｔｈは、下記数式（５）の関係を満たすことが好ましく、数式（５−１）の関係を満たすことがより好ましく、数式（５−２）の関係を満たすことがさらに好ましい。
数式（５）：｜Ｒｅ₆₃₀×Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２００
数式（５−１）：｜Ｒｅ₆₃₀×Ｒｔｈ₆₃₀｜≦１００
数式（５−２）：｜Ｒｅ₆₃₀×Ｒｔｈ₆₃₀｜≦５０

〔セルロースアシレート〕
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られ
るセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明において好適なセルロースアシレートについて記載する。
本発明に用いられるセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素数が２のアセチル基から炭素数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明においてセルロースアシレートにおける、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。

上記のように、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが好ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることが好ましく、２．８５〜３．００であることがより好ましい。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、又は芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。最も好ましい基はアセチルである。

上記のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学的異方性がより好適に低下できる。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。
上記のセルロースアシレートのアシル置換基が、アセチル基のみからなる場合においては、その全置換度が２．５０〜２．９５の場合にセルロースアシレートフィルムの光学的異方性がより好適に低下できる。

［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が該上限値以下であれば、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなりすぎることがなく流延によるフィルム作製が容易にできるので好ましい。重合度が該下限値以上であれば、作製し
たフィルムの強度が低下するなどの不都合が生じないので好ましい。平均重合度は、宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定できる。この方法は特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。

また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜３．５であることがさらに好ましく、２．３〜３．３であることが最も好ましい。

さらにセルロースアシレートの低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。

なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの製造時に使用される際には、セルロースアシレートの含水率は、２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは水を含有しており、含水率２．５〜５質量％程度が知られている。本発明でセルロースアシレートの好ましい含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。これらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

本発明においてセルロースアシレートは、置換基、置換度、重合度、分子量分布など前記した範囲であれば、単一又は異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

［セルロースアシレートへの添加剤］
本発明に用いられるセルロースアシレート溶液には、各調製工程において、前記のレターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの外に、用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、劣化防止剤、微粒子など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期は、ドープ作製工程において何れでも添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

（マット剤微粒子）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、マット剤として微粒子を含有することが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上であるものが好ましい。１次粒子の
平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌが好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常、平均粒子径が０．１〜３．０μｍの二次粒子を形成しており、フィルム中では１次粒子の凝集体として存在して、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７２」、「アエロジルＲ９７２Ｖ」、「アエロジルＲ９７４」、「アエロジルＲ８１２」、「アエロジル２００」、「アエロジル２００Ｖ」、「アエロジル３００」、「アエロジルＲ２０２」、「アエロジルＯＸ５０」、「アエロジルＴＴ６００」｛以上、日本アエロジル（株）製｝などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、「アエロジルＲ９７６」及び「アエロジルＲ８１１」｛以上、日本アエロジル（株）製｝の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中では「アエロジル２００Ｖ」及び「アエロジルＲ９７２Ｖ」が、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において、２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るため、微粒子の分散液を調製する際に、いくつかの手法が考えられる。例えば、溶媒と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液を予め作製し、この微粒子分散液を、別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。他にも、溶媒に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶媒などと混合して分散するときの、二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶媒は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶媒を用いることが好ましい。

（可塑剤、劣化防止剤、剥離剤）
本発明のセルロースアシレートフィルムには、以上述べたレターデーション調節剤、紫外線吸収剤の他に、各調製工程において、用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、
劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。また赤外吸収剤としては、例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されたものが使用できる。更に、各素材の添加量は、機能が発現する限りにおいて特に限定されない。またさらに、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよく、例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

（各化合物添加の比率）
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５質量％であることが望ましい。より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに望ましくは１５〜３０質量％である。これらの化合物としては、上述したように、レターデーション調節剤、紫外線吸収剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が望ましく、２０００以下がより望ましく、１０００以下がさらに望ましい。これら化合物の総量が該下限値以上であれば、セルロースアシレート単体の性質が出すぎることがないので、例えば温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題が生じない。またこれら化合物の総量が該上限値以下であれば、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超えて、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し)などの問題が生じないので、これら化合物は総量として該範囲内で用いることが好ましい。さらにその添加する時期は、ドープ調製工程において何れで添加してもよいが、ドープ調製工程の最終工程として、添加剤を添加し調製する工程を行ってもよい。

（セルロースアシレート溶液の有機溶媒）
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、この方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明において主溶媒として、好ましく用いられる有機溶媒は、炭素数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル及び、炭素数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトン及び、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン及びエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

以上、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく、特に限定されるものではない。また本発明にはセルロースアシレートは、主溶媒以外にセルロースアシレートの貧溶媒を用いてもよい。貧溶媒は主溶媒に対して５〜５０質量％用いてよく、５〜３０質量％がより好ましい。貧溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール等が挙げられる。

その他、セルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、本発明の好ましい態様である。それらは、例えば、特開
２０００−９５８７６号公報、特開平１２−９５８７７号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平８−１５２５１４号公報、特開平１０−３３０５３８号公報、特開平９−９５５３８号公報、特開平９−９５５５７号公報、特開平１０−２３５６６４号公報、特開平１２−６３５３４号公報、特開平１１−２１３７９号公報、特開平１０−１８２８５３号公報、特開平１０−２７８０５６号公報、特開平１０−２７９７０２号公報、特開平１０−３２３８５３号公報、特開平１０−２３７１８６号公報、特開平１１−６０８０７号公報、特開平１１−１５２３４２号公報、特開平１１−２９２９８８号公報、特開平１１−６０７５２号公報、特開平１１−６０７５２号公報などに記載されている。これらの特許によると、本発明におけるセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。

〔セルロースアシレートフィルムの製造工程〕
［溶解工程］
本発明においてセルロースアシレート溶液（ドープ溶液）の調製に際して、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解でもよく、また冷却溶解法又は高温溶解方法でもよく、さらにはこれらの組み合わせで実施されてもよい。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、濾過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

（ドープ溶液の透明度）
本発明におけるセルロースアシレート溶液である、ドープ溶液（以下、単にドープということがある）の透明度としては、８５％以上であることが望ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることが望ましい。本発明においては、セルロースアシレートドープ溶液に、各種の添加剤が十分に溶解していることを確認する。具体的なドープの透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計"ＵＶ−３１５０"｛（株）島津製作所製｝を用いて５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみを予めブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度とドープの吸光度との比から、ドープの透明度を算出した。

［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明におけるセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供される、溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）で調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調整をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、次いでドープを加圧型ダイの口金（スリット）から、エンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを、乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して、巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせは、その目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途としての、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属
支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの、流延製膜工程上の任意の点における残留溶媒含有率は下記数式（９）で定義される。
数式（９）：（Ｗ_t−Ｗ₀）×１００／Ｗ₀
Ｗ_t：実測ドープ膜の測定質量。
Ｗ₀：乾燥終了後、さらに１１０℃、３時間乾燥したときのフィルム質量。
剥離点における残留溶媒含有率は５〜９０質量％の範囲であることが好ましく、また該残留溶媒のうち貧溶媒の含有率が１０〜９５質量％の範囲であることが好ましい。

［延伸］
本発明のセルロースアシレートフィルムは延伸を施してもよく、延伸は一軸延伸、二軸延伸のどちらでも可能である。二軸延伸には、同時二軸延伸法と逐次二軸延伸法があるが、連続製造の観点から逐次二軸延伸方法が好ましく、ドープを流延した後、バンドもしくはドラムよりフィルムを剥ぎ取り、幅方向に延伸した後、長手方向に延伸される。または、長手方向に延伸した後、幅方向に延伸してもよい。

幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムは、乾燥中に延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。

長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。

本発明のセルロースアシレートフィルムの、搬送方向（長手方向）の延伸倍率（元の長さに対する延伸による増加分の比率）は、１〜１００％の範囲にあることが好ましく、１〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、１〜３５％の範囲にあることが最も好ましい。また搬送方向に対して垂直な方向（幅方向）の延伸倍率は１〜１００％にあることが好ましく、５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、１０〜４０％の範囲にあることが最も好ましい。

本発明のセルロースアシレートフィルムの、延伸終了時の残留溶媒含有率は、延伸開始時に対して４０〜８０質量％であることが好ましい。

［膜厚］
本発明のセルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。また本発明のセルロースアシレートフィルムの、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの厚さの最大値と最小値の差は、厚さの平均値に対し１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。

〔セルロースアシレートフィルム物性評価〕
［光学性能］
（高湿度処理後のフィルムの光学性能変化）
本発明のセルロースアシレートフィルムの、環境変化による光学性能の変化については
、６０℃、９０％ＲＨに２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

（高温度処理後のフィルムの光学性能変化）
また、８０℃、２４０時間処理したフィルムのＲｅ及びＲｔｈの変化量は１５ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

（フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性）
本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚方向のレターデーションＲｔｈは、湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には下記数式（１２）で示される２５℃、１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と、２５℃、８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差ΔＲｔｈが０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。
数式（１２）：ΔＲｔｈ＝Ｒｔｈ_10%RH−Ｒｔｈ_80%RH。

（延伸前後における正面レターデーション変化）
セルロースアシレートフィルムの試料１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて、温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）又は、搬送方向に対して垂直方向（ＴＤ方向）に延伸を行った。延伸前後における各試料の正面レターデーション（Ｒｅ）は、自動複屈折計"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝を用いて測定した。遅相軸の検出は上記のレターデーション測定の際に得られる配向角から決定した。
延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ_(n)をｎ(％)延伸したフィルムの正面方向レターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ₍₀₎を延伸していないフィルムの正面方向レターデーション(ｎｍ)としたときに、波長６３０ｎｍにおけるＲｅが下記数式（８）の関係を満足することが好ましく、下記数式（８−１）の関係を満足することがさらに好ましい。
数式（８）：｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ≦１．０、
数式（８−１）：｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ≦０．３。

（セルロースアシレートフィルムのレターデーションの面内ばらつき）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（６）の関係を満たすことが好ましく、下記数式（６−１）の関係を満たすことがさらに好ましい。
数式（６）：｜Ｒｅ_630(max)−Ｒｅ_630(min)｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ_630(max)−Ｒｔｈ_630(min)｜≦１０
数式（６−１）：｜Ｒｅ_630(max)−Ｒｅ_630(min)｜≦３で且つ｜Ｒｔｈ_630(max)−Ｒｔｈ_630(min)｜≦５
｛式中、Ｒｅ_630(max)、Ｒｔｈ_630(max)は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの波長６３０ｎｍにおける最大レターデーション値、Ｒｅ_630(min)、Ｒｔｈ_630(min)は波長６３０ｎｍにおける最小レターデーション値である。｝

（光弾性係数）
本発明のセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は、５０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。３０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引張応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター"Ｍ１５０"｛日本分光（株）製｝で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した
。

（フィルムのヘイズ）
本発明のセルロースアシレートフィルムのヘイズは、０．０１〜２．０％であることが好ましい。より好ましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらに好ましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター"ＨＧＭ−２ＤＰ"｛スガ試験機（株）製｝を用いＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定した。

（分光特性、分光透過率）
セルロースアシレートフィルムの試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計"Ｕ−３２１０"｛（株）日立製作所｝にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍ及び３５０ｎｍの透過率を評価した。
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長４００ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。

［物理的特性］
（フィルムのガラス転移温度Ｔｇ）
本発明のセルロースアシレートフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は、８０〜１６５℃であることが好ましい。耐熱性の観点から、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度Ｔｇの測定は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料１０ｍｇを、常温から２００℃まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計"ＤＳＣ２９１０"（Ｔ．Ａ．インスツルメント社製）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出した。

（フィルムの平衡含水率）
本発明のセルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。平衡含水率が４％以下であれば、光学補償フィルムの支持体として用いる際に、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎることがなく好ましい。
含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置"ＣＡ−０３"及び"ＶＡ−０５"｛共に三菱化学（株）製｝にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。

（フィルムの透湿度）
フィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８をもとに、６０℃、９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算することによって求められる。
透湿度は、セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ小さくなり、膜厚が薄ければ大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも、基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、下記数式（１３）に従って行うことができる。
数式（１３）：８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚（μｍ）／８０（μｍ）。

透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁
〜２９４頁「蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）」に記載の方法を適用することができる。
具体的には、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを、２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置"ＫＫ−７０９００７"｛東洋精機（株）製｝にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、下記数式（１４）に従って求めた。
数式（１４）：透湿度＝調湿後質量−調湿前質量

本発明のセルロースアシレートフィルムの透湿度は、４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。透湿度が２０００ｇ／ｍ²・２４ｈ以内であれば、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超えるなどの不都合が生じることがなく、また、本発明のセルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超えることがないので好ましい。さらにこのようなフィルムを用いて作製された光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こすことがないので好ましい。一方、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ²・２４ｈ以上であれば、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられることがなく、優れた接着性を発揮するので好ましい。

（フィルムの寸度変化）
本発明のセルロースアシレートフィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率が、いずれも０.５％以下であることが好ましい。より好ましくは０.３％以下であり、さらに好ましくは０.１５％以下である。

具体的な測定方法としては、セルロースアシレートフィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ｛新東科学（株）製｝にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ₀）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ₁）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ₂）を測定した。全ての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定し、下記数式（１５）及び（１６）に従って寸度変化率を求めた。
数式（１５）：６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ₀−Ｌ₁｜／Ｌ₀｝×１００、
数式（１６）：９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ₀−Ｌ₂｜／Ｌ₀｝×１００。

（フィルムの弾性率）
本発明のセルロースアシレートフィルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ／ｍｍ²であることが好ましい、より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ／ｍｍ²であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ²である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン（株）製万能引っ張り試験機"ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰ"を用い、２３℃、７０ＲＨ％雰囲気中、引張速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めた。

［フィルム表面の性状］
本発明セルロースアシレートフィルムの表面は、ＪＩＳ Ｂ−０６０１−１９９４に基づく表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。

［フィルムの化合物保留性］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、フィルムに添加されたレターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの各種化合物の保留性が要求される。

（フィルム加熱処理後の化合物揮散量）
本発明のセルロースアシレートフィルムに添加された、レターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの化合物は、８０℃、２４０時間処理したフィルムからのそれらの揮散量が３０質量％以下であることが好ましい。より好ましくは２５質量％以下であり、２０質量％以下であることがさらに好ましい。なお、フィルムからの化合物の揮散量は、８０℃、２４０時間処理したフィルム及び未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に浸漬し、浸漬後の溶媒を液体高速クロマトグラフィーにて分析して、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記数式（１７）により算出した。
数式（１７）：揮散量（％）＝｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝／（未処理品中の残存化合物量）×１００。

（フィルム高温高湿処理後の化合物保留性）
本発明のセルロースアシレートフィルムに添加された、レターデーション調節剤、紫外線吸収剤などの化合物のフィルム高温高湿処理後の保留性、具体的には、本発明のセルロースアシレートフィルムを、８０℃、９０％ＲＨの条件下に４８時間静置したときのフィルムの質量変化が、０〜５質量％であることが好ましい。より好ましくは０〜３質量％であり、さらに好ましくは０〜２％である。

（保留性の評価方法）
セルロースアシレートフィルム試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、次いで８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、下記数式（１８）に従って高温高湿処理後の化合物の保留性を計算した。
数式（１８）：高温高湿処理後の化合物保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００

［フィルムの力学特性］
（カール）
本発明のセルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。
本発明のセルロースアシレートフィルムには後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際の、ラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、フィルムの幅方向のカール値が上記の範囲内であれば、フィルムのハンドリングに支障をきたしてフィルムの切断が起きるなどの問題が生じることがない。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触して発塵し、フィルム上への異物付着が多くなって光学補償フィルムの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えるなどの問題も生じることがない。さらにカールを上記の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができるので好ましい。

カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。

（引裂き強度）
フィルムの引裂き強度は、ＪＩＳ Ｋ−７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基ずく方法（エルメンドルフ引裂き法）により測定される。本発明のセルロースアシレートフィルムの引裂き強度は、膜厚２０〜８０μｍの範囲において２ｇ以上であることが好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。また６０μｍ換算では８ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、セルロースアシレートフィルム試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に、軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。

［フィルムの残留溶媒量］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その製膜に際して、フィルムに対する残留溶媒量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明のセルロースアシレートフィルムを、反射防止フィルムや光学補償フィルムなどの透明支持体としてもちいるとき、その残留溶媒量は、１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０質量％以下であることがより好ましい。これは、前述のドープを用いた流延法（ソルベントキャスト法）による成膜時の残留溶媒量を少なくすることで、自由堆積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。

［フィルムの吸湿膨張係数］
本発明のセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることがより好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。

［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。セルロースアシレートフィルムの表面処理には、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。

ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

（鹸化処理）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、偏光板の透明保護フィルムとして用いる場合の表面処理の有効な手段の１つとして、アルカリ鹸化処理が挙げられる。

以下、アルカリ鹸化処理を具体的に説明する。
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

上記の鹸化処理において、セルロースアシレートフィルム中のレターデーション調節剤及び／又は紫外線吸収剤の含量は、下記数式（２）の関係を満たすことが好ましく、数式（２−１）の関係を満たすことがさらに好ましい。
数式（２）：０．９＜Ｃｍ_s／Ｃｍ₀≦１．０
数式（２−１）：０．９５＜Ｃｍ_s／Ｃｍ₀≦１．０
（式中、Ｃｍ₀は鹸化処理前の含量、Ｃｍ_sは鹸化処理後の含量である。）
鹸化処理前後の化合物含量は、セルロースアシレートフィルムを、テトラヒドロフラン等の溶媒を用いてレターデーション調節剤などの化合物を抽出し、高速液体クロマトグラフィーにて検出・定量を行った。

本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることが好ましい。より好ましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらに好ましい。接触角の評価法は、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角をもとめる通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。

一般に、固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。

（フィルム表面を鹸化処理する前と鹸化処理した後におけるＲｅ、Ｒｔｈ値の変化）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム表面をアルカリ溶液で鹸化処理する前と後の、波長６３０ｎｍにおけるＲｅ、Ｒｔｈ値の変化が、下記数式（７）の関係を満たすことが好ましく、数式（７−１）の関係を満たすことがより好ましく、数式（７−２）の関係を満たすことがさらに好ましい。
数式（７）：｜Ｒｅ₆₃₀₍₀₎−Ｒｅ_630(s)｜≦１０で、且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎−Ｒｔｈ_630(s)｜≦２０、
数式（７−１）：｜Ｒｅ₆₃₀₍₀₎−Ｒｅ_630(s)｜≦８で、且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎−Ｒｔｈ_630(s)｜≦１５、
数式（７−２）：｜Ｒｅ₆₃₀₍₀₎−Ｒｅ_630(s)｜≦５で、且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎−Ｒｔｈ_630(s)｜≦１０。
上記式中、Ｒｅ₆₃₀₍₀₎はアルカリ溶液で鹸化する前の波長６３０ｎｍにおけるＲｅ、Ｒｅ_630(s)はアルカリ溶液で鹸化した後の波長６３０ｎｍにおけるＲｅを表し、Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎はアルカリ溶液で鹸化する前の波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈ、Ｒｔｈ_630(s)はアルカリ溶液で鹸化した後の波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈを表す。
上記の範囲内であれば、保護フィルムの光学性能に遜色なく、偏光板、光学補償フィルム、液晶表示装置に適用した際に、光り漏れが起こらない。

なお本発明での具体的なアルカリ鹸化処理とは、１０ｃｍ×１０ｃｍのフィルムサンプ
ルを５５℃、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸溶液で中和し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、１００℃で乾燥する手順をいう。

［耐光性］
本発明のセルロースアシレートフィルムの光耐久性の指標として、スーパーキセノン光を２００時間照射したフィルムのＲｔｈ値の変動を測定した。キセノン光照射は、セルロースアシレートフィルム単体で、スーパーキセノンウェザーメーター"ＳＸ−７５"｛スガ試験機（株）製、６０℃、５０％ＲＨ条件｝にて、キセノン光を２５万Ｌｘで２００時間照射した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、上記と同様に調湿を行った後、測定した。

また、光耐久性の指標として色差ΔＥ^*ａ^*ｂ^*を用いてもよく、上記と同様の条件でスーパーキセノン光を照射し、その前後の色差ΔＥ^*ａ^*ｂ^*が２０以下であることが好ましい。より好ましくは１８以下であり、１５以下であることがさらに好ましい。

色差の測定には、"ＵＶ３１００"｛（株）島津製作所製｝を用いた。測定の仕方は、フィルムを２５℃、６０％ＲＨに２時間以上調湿した後に、キセノン光照射前のフィルムのカラー測定を行い、初期値（Ｌ₀ ^*、ａ₀ ^*、ｂ₀ ^*）を求めた。その後、フィルム単体で、６０℃、５０％ＲＨ条件にてキセノン光を照射し、所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃、６０％ＲＨに２時間調湿した後に、再びカラー測定を行い、照射経時後の値（Ｌ₁ ^*、ａ₁ ^*、ｂ₁ ^*）を求めた。これらから、下記数式（１９）に従って色差ΔＥ^*ａ^*ｂ^*を求めた。
数式（１９）：ΔＥ^*ａ^*ｂ^*＝［（Ｌ₀ ^*−Ｌ₁ ^*）²＋（ａ₀ ^*−ａ₁ ^*）²＋（ｂ₀ ^*−ｂ₁ ^*）²］^1/2。

本発明のセルロースアシレートフィルム中の、紫外線吸収剤及び／又はレターデーション調節剤のキセノン光照射前後の含有量は、下記数式（１）の関係を満たすことが好ましく、数式（１−１）の関係を満たすことがさらに好ましい。
数式（１）：０．８≦Ｃｍ_x／Ｃｍ₀≦１．０
数式（１−１）：０．９≦Ｃｍ_x／Ｃｍ₀≦１．０
｛上記数式中、Ｃｍ₀はキセノン光照射前の化合物の含有量であり、Ｃｍ_xはキセノン光照射後の化合物の含有量である。｝
上記の関係を満たすのは、レターデーション調節剤であることがより好ましい。

上記試験は、前記と同様の条件でスーパーキセノン光を照射し、照射前と後のセルロースアシレートフィルムを、テトラヒドロフラン等の溶媒を用いてレターデーション調節剤などの化合物を抽出し、高速液体クロマトグラフィーにて検出・定量を行った。なお本発明における耐光性の試験には、同様の加速試験であるカーボンアーク照射を用いてもよい。

＜セルロースアシレートフィルムの用途＞
〔光学用途〕
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途として液晶表示装置に用いられることが好ましい。液晶表示装置は、一般に２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された２枚の偏光板を配置した構成であり、本発明のセルロースアシレートフィルムは、偏光板の保護フィルムとして、または、後述する機能層を付与して液晶表示装置に用いることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡ及びＨＡＮが好ましい。

［機能層］
上記の光学用途に、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いるに際し、各種の機能層が付与される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。

本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［用途（偏光板）］
本発明のセルロースアシレートフィルムの用途について説明する。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は、特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムはその表面をアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬・延伸して作製した偏光子の両面に、完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液などを用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。

保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。

偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは、偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられ、またセパレートフィルムは、液晶セルへ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

液晶表示装置には、通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明のセルロースアシレートフィルムを適用した偏光板保護フィルムは、どの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に、液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。

［用途（光学補償フィルム）］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。

従って本発明のセルロースアシレートフィルムを、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合、併用する光学異方性層のＲｅ及びＲｔｈは、Ｒｅ＝０〜２００ｎｍで且つ｜Ｒｔｈ｜＝０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学
異方性層でもよい。

本発明のセルロースアシレートフィルムが使用される液晶表示装置の、液晶セルの光学性能や駆動方式は、特に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成してもよいし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成してもよい。

（液晶性化合物を含有してなる光学異方性層）
光学異方性層として液晶性化合物を含有してなるものを用いる場合、液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物又は棒状液晶性化合物が好ましい。

（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献［Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの"Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．"，７１巻，ｐ．１１１（１９８１年）；日本化学会編「季刊化学総説」第２２号「液晶の化学」第５章、第１０章第２節（１９９４年）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの"Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．"，ｐ．１７９４（１９８５年）；Ｊ．Ｚｈａｎｇらの"Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．"，１１６巻，ｐ．２６５５（１９９４年）］に記載の化合物が含まれる。

光学異方性層において、ディスコティック液晶性化合物の分子は、配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性化合物について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。

（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。

光学異方性層において、棒状液晶性化合物の分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、"Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．"，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、"Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ"，５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同第５６２２６４８号明細書、同第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号パンフレット、同第９５／２４４５５号パンフレット、同第９７／００６００号パンフレット、同第９８／２３５８０号パンフレット、同第９８／５２９０５号パンフレット、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。

（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
前記した様に、本発明における光学異方性層は、ポリマーフィルムから形成してもよい
。ポリマーフィルムは、光学的異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなど）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル及びセルロースエステル（例えば、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテートなど）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体又はポリマー混合物を用いてもよい。

ポリマーフィルムの光学的異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸又は二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、又はポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、２枚以上のポリマーフィルムを用いて、２枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。

また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、及びポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。
この際、これらのポリマーフィルムと基材とを延伸して光学的異方性を発現させ、光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムは、この場合の基材として好ましく用いることができる。また、これらポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、そのポリマーフィルムを基材から剥離させたのちに、本発明のセルロースアシレートフィルムと貼合して、光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、その厚さは５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。

［一般的な液晶表示装置の構成］
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された２枚の偏光素子、及び該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも１枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。

液晶セルの液晶層は、通常は、２枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

（液晶表示装置の種類）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆ
ｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体又は偏光板の保護フィルムとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（"Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．"，３６巻（１９９７年）ｐ．１４３及びｐ．１０６８）に記載がある。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体して用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性化合物の分子が９０〜３６０゜の範囲にねじられており、棒状液晶性化合物の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎ・ｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体として、特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムのレターデーション値Ｒｅを０〜１５０ｎｍとし、レターデーション値Ｒｔｈを７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。レターデーション値Ｒｅは、２０〜７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に２枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのレターデーション値Ｒｅは７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのレターデーション値Ｒｔｈは１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。

（ＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモード及びＥＣＢモードの液晶セルを有する、ＩＰＳ型液晶表示装置及びＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体、又は偏光板の保護フィルムとしても特に有利に用いられる。これらのモードは、黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で、液晶分子を基板面に対して平行配向させて黒表示する。これらの態様において、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護フィルムのうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護フィルム（セル側の保護フィルム）に、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を、少なくとも液晶セルの片側に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護フィルムと液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のレターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。

（ＯＣＢ型液晶表示装置及びＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムには、レターデーションの絶対値が最小となるような方向が、光学補償フィルムの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムの光学的性質も、光学異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び光学異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置又はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文｛"Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．"，３８巻（１９９９年）ｐ．２８３７｝に記載がある。

（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償フィルムにも有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開第９８／４８３２０号パンフレット、特許第３０２２４７７号公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償フィルムについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。

（その他の液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有する、ＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償フィルムの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）らの論文｛Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，"ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９"，（１９９８年）｝に記載がある。

［ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面又は両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか又はそれらの全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。

［写真フィルム支持体］
さらに本発明のセルロースアシレートフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該写真感光材料の特許明細書に記載されている各種の素材や処方、さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５号公報に、カラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のセルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９号公報に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。

［液晶セルの透明基板］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性
を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。

液晶を封入する透明基板は、ガスバリアー性に優れる必要があることから、必要に応じて、本発明のセルロースアシレートフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面に、ＳｉＯ₂等を蒸着したり、又は塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど、相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設けたりする方法が考えられ、これらを適宜使用できる。

また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極は、特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって形成することができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、特に酸化スズを主成分とし、酸化亜鉛を２〜１５質量％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は、例えば特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０３号公報などに公開されている。

以下に本発明の実施例を挙げるが、これらに限定されるものではない。

＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
実施例１−１
［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液原液（ＣＡＬ−１）を調製した。

｛セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１）組成｝
セルロースアシレート １００質量部
アセチル置換度２．９４、平均重合度３１０
メチレンクロリド（第１溶媒） ４０２質量部
メタノール（第２溶媒） ６０質量部

［マット剤溶液（ＭＬ−１）の調製］
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液（ＭＬ−１）を調製した。

｛マット剤溶液（ＭＬ−１）組成｝
シリカ粒子分散液（平均粒径１６ｎｍ） １０．０質量部
"ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２"、日本アエロジル（株）製
メチレンクロリド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１） １０．３質量部

［レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）の調製］
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）を調製した。

｛レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）組成｝
紫外線吸収剤（ＵＶ−１０７） ７．６質量部
レターデーション調節剤（Ａ−２０） ４９．３質量部
メチレンリライド（第１溶媒） ５８．４質量部
エタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−１） １２．８質量部

［セルロースアシレートフィルム（１０１）の作製］
セルロースアシレート溶液原液（ＣＡＬ−１）９４．６質量部、マット剤溶液（ＭＬ−１）１．３質量部、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ−１）４．１質量部を、それぞれ濾過後に混合容器に投入し、加熱しながら充分に攪拌して各成分を溶解し、ドープ（ＤＰ１−１）を調製した。得られたドープ（ＤＰ１−１）を、バンド流延機を用いて流延した。残留溶媒量２６質量％で剥ぎ取り後に、１４０℃で４０分間乾燥させ、厚み８０μｍのセルロースアシレートフィルム試料（１０１）を作製した。

上記の組成では、セルロースアシレート１００質量部に対する添加量は、紫外線吸収剤（ＵＶ−１０７）は１．８質量部、レターデーション調節剤（Ａ−２０）は１２．０質量部であった。

実施例１−２〜１−１１及び比較例１−１〜１−３
［レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−２）〜（ＲＥＬ１−１６）の調製］
レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）の調製において、表２に示すように、レターデーション調節剤の種類を変え、もしくはこれを使用せず、及び／又は紫外線吸収剤の種類を変え、もしくはこれを使用しない以外は、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）の調製と同様にして、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−２）〜（ＲＥＬ１−１６）を調製した。なお、使用したレターデーション調節剤及び紫外線吸収剤は何れも分子量１０００以下の化合物である。さらに使用したレターデーション調節剤は比較例１−２のＴＰＰ以外は数式（１１）を満たし、何れもＲｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)／ａの値は−２．０以下である。ＴＰＰの数式（１１）の値はａ＝１２．０のとき０．１以下であり、数式（１０）の値もＴＰＰでは０．１以下である。

［セルロースアシレートフィルム（１０２）〜（１１６）の作製］
実施例１−１のセルロースアシレートフィルム（１０１）の作製において、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）用いる代わりに、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−２）〜（ＲＥＬ１−１６）の何れかを用いてドープ（ＤＰ１−２）〜（ＤＰ１−１６）を調製し、得られたドープをそれぞれ用いてセルロースアシレートフィルムを作製する以外は実施例１−１と同様にしてセルロースアシレートフィルム試料（１０２）〜（１１６）を作製した。セルロースアシレートフィルム試料（１０２）〜（１１６）の膜厚は、何れも７９．５〜８０．５μｍの範囲であった。また試料（１０１）〜（１１６）では、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの厚さの最大値と最小値の差は、厚さの平均値に対し何れも５％以内であった。

得られたセルロースアシレートフィルム（１０２）〜（１１６）の各種レターデーション特性、キセノン光照射前後のＲｔｈ変動、鹸化前後のＲｔｈ及びＲｅの変動、分光透過率、並びに鹸化前後のレターデーション調節剤及び紫外線吸収剤の含量の比を表３に示す。
なお、セルロースアシレートフィルム試料（１０１）〜（１１６）のＲｅ、Ｒｔｈの、１ｍ四方のフィルム内でのばらつきは、何れの試料も｜Ｒｅ_630(max)−Ｒｅ_630(min)｜が４ｎｍ以下、｜Ｒｔｈ_630(max)−Ｒｔｈ_630(min)｜が５ｎｍ以下であり、好ましいものであった。

上表３の結果から、本発明に好適に用いられるレターデーション調節剤は、Ｒｔｈを低下させる高い能力を有するが、キセノン照射前後の光学特性変動の点で不十分である。本発明における紫外線吸収剤と使用することによって、光耐久性と低い光学的異方性を両立することができる。また両者を組合わせることで、可視波長領域でのＲｔｈ変動・鹸化処理前後のＲｔｈ変動を小さくすることが可能となり、好ましいことが分かる。
また、鹸化処理後のＲｔｈ変動を小さくする観点からは、紫外線吸収剤として、トリアジン系化合物または紫外線吸収ユニットが複数結合した多量体化合物を用いることが好ましいことがわかる。
さらに耐光性の観点からは、紫外線吸収剤としてトリアジン系化合物を用いるて優れた効果を得られることがわかる。

実施例１１
実施例１−１〜１−２及び比較例１−１のセルロースアシレートフィルム試料（１０１）〜（１０３）の、キセノン光照射前後のフィルム試料を用いて、キセノン光照射した後の残存率（前述のＣｍ_x／Ｃｍ₀）を測定した。結果を下表４に示す。

フィルム試料（１０１）と（１０３）のように、本発明におけるＣｍ_x／Ｃｍ₀比の範囲であれば、上記の表３に示したように、好ましいレターデーションと、キセノン光照射での光学特性の変化の小さいセルロースアシレートフィルムが得られる。

実施例２
［セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）の調製］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を調製した。

｛セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）組成｝
セルロースアシレート １００質量部
アセチル置換度２．８６、平均重合度３１０
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロリド（第１溶媒） ４００質量部
メタノール（第２溶媒） ６０質量部

［レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ２−１）の調製］
下記の組成物を別のミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ２−１）を調製した。

｛レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ２−１）組成｝
紫外線吸収剤（ＵＶ−１９） ４．０質量部
レターデーション調節剤（Ａ−１４） ４０．０質量部
メチレンリライド（第１溶媒） ８０．０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０．０質量部

［セルロースアシレートフィルム（２０１）の作製］
セルロースアシレート原液（ＣＡＬ−２）を４７７質量部に、レターデーション調節剤
溶液（ＲＥＬ２−１）の４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープ（ＤＰ２−１）を調製した。得られたドープ（ＤＰ２−１）を流延口から、０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率が５０質量％になった時点で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号公報の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となるように間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍのセルロースアシレートフィルム試料（２０１）を作製した。

このようにして作製したセルロースアシレートフィルム試料（２０１）を、実施例１と同様に評価したところ、本発明のセルロースアシレートフィルムは、Ｒｅ及びＲｔｈが共に小さく、好ましいものであることがわかった。また、セルロースアシレートフィルム試料（２０１）の延伸によるＲｅの変化率｛｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ：Ｒｅ_(n)はｎ（％）延伸したフィルムのＲｅ、Ｒｅ₍₀₎は延伸していないフィルムのＲｅ｝は０．６３であり、延伸前後のＲｅの変化も小さく好ましいことがわかった。

実施例３−１〜３−２
液状の紫外線吸収剤を用いることにより、セルロースアシレートフィルムの製膜において異物析出が減少することを実証する。

［レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ３−１）の調製］
レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）の調製において、紫外線吸収剤（ＵＶ−１０７）を用いる代わりに、紫外線吸収剤（ＵＶ−１１１）を同量用いる以外は同様にして、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ３−１）を調製した。

［レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ３−２）の調製］
レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）の調製において、紫外線吸収剤（ＵＶ−１０７）を用いる代わりに、紫外線吸収剤（ＵＶ−１１６）と紫外線吸収剤（ＵＶ−１１７）の１：１混合物を同量用いる以外は同様にして、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ３−２）を調製した。

［セルロースアシレートフィルム（３０１）及び（３０２）の作製］
実施例１−１のセルロースアシレートフィルム（１０１）の作製において、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ１−１）を用いる代わりに、レターデーション調節剤溶液（ＲＥＬ３−１）又は（ＲＥＬ３−２）を用いて、ドープ（ＤＰ３−２）及び（ＤＰ３−２）を調製し、得られたドープをそれぞれ用いてセルロースアシレートフィルムを作製する以外は実施例１−１と同様にしてセルロースアシレートフィルム試料（３０１）及び（３０２）を作製した。得られたセルロースアシレートフィルム試料（３０１）及び（３０２）を実施例１と同様に評価したところ、いずれも好ましいレターデーションが得られた。

［異物析出の評価］
実施例１で得られたセルロースアシレートフィルム試料（１０１）及び（１１２）、並びに実施例３で得られたセルロースアシレートフィルム試料（３０１）及び（３０２）を作製後、ロール状に巻き取り、この元巻きを３５℃、９０％ＲＨで２ヶ月間保存した。各セルロースアシレートフィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに裁断し、偏光顕微鏡を用いてクロスニコル下で倍率３０倍で観察し、異物の個数で下記の評価を行った。
○：異物の個数０〜１０個
△：異物の個数１１〜５０個
×：異物の個数５１個以上

上記の表より、本発明に好適な液状の紫外線吸収剤を用いると好ましいレターデーションを有しながら、異物析出の故障を低減することができ、製造適性を向上することができる。

＜偏光板の作製＞
実施例２１
［鹸化処理］
実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム試料（１０３）を、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアシレートフィルムの表面を鹸化した。

［偏光板の作製］
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
次に、鹸化処理したセルロースアシレートフィルム試料（１０３）を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の片側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸と偏光子の透過軸とが平行になるように配置した。

市販のセルローストリアセテートフィルム「フジタックＴＤ８０ＵＦ」｛富士写真フイルム（株）製｝を、上記と同様に鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして、偏光板（Ｐ−１）を作製した。

［位相差フィルムつき偏光板の作製］
厚さ１００μｍのノルボルネン系樹脂フィルム｛ＪＳＲ（株）製、「アートン」｝を、テンター延伸機にて１７５℃で延伸処理して、ｎ_x＞ｎ_y＞ｎ_zの屈折率特性を有して、Ｒｅが４０ｎｍ、Ｒｔｈが３０ｎｍの位相差フィルムを作製し、粘着剤を用いて上記偏光板（Ｐ−１）のセルロースアシレートフィルム（１０３）側に貼り付け、位相差フィルムつき偏光板を作製した。

実施例３１
［ＩＰＳ液晶表示装置への実装評価］
実施例１で作製した本発明のセルロースアシレートフィルム試料（１０４）を用いて、実施例２１と同様にして作製した偏光板（Ｐ−２）に対して、一軸延伸した光学補償フィルムを貼合して光学補償機能を持たせた。この際、光学補償フィルムの正面方向レターデーションの遅相軸を、偏光板の透過軸と直交させることで、正面特性を何ら変えることなく視覚特性を向上させることができた。光学補償フィルムの正面方向レターデーションＲｅは２７０ｎｍ、厚さ方向のレターデーションＲｔｈは０ｎｍで、Ｎｚファクターは０．５のものを用いた。

上記のようにして作製した、本発明のセルロースアシレートフィルム試料（１０４）を用いた偏光板と光学補償フィルムとの積層体、ＩＰＳ型の液晶セル、本発明のセルロースアシレートフィルム試料（１０１）を用いた偏光板、の順番に上から重ね合わせて組み込んだ表示装置を作製した。この際、上下の偏光板の透過軸を直交させ、上側の偏光板の透過軸は、液晶セルの分子長軸方向と平行（すなわち光学補償層の遅相軸と液晶セルの分子長軸方向は直交）とした。液晶セルや電極・基板は、ＩＰＳとして従来から用いられているものがそのまま使用できる。液晶セルの配向は水平配向であり、液晶は正の誘電率異方性を有しており、ＩＰＳ液晶用に開発され市販されているものを用いることができる。液晶セルの物性は、液晶のΔｎ：０．０９９、液晶層のセルギャップ：３．０μｍ、プレチ
ルト角：５゜、ラビング方向：基板上下とも７５゜とした。

以上のようにして作製した液晶表示装置において、装置正面からの方位角方向４５゜、極角方向７０゜における黒表示時の光漏れ率を測定したところ、本発明のセルロースアシレートフィルムにより作製した光学補償フィルム及び偏光板は、コントラスト視野角が広く好ましいことがわかった。

本発明の偏光板と機能性光学フィルムを複合した構成例を示した説明図である。 本発明の偏光板が使用される液晶表示装置の一例を示した説明図である。

符号の説明

１、１ａ、１ｂ：保護膜
２：偏光子
３：機能性光学フィルム
４：粘着層
１１：上側偏光板
１２：上側偏光板吸収軸
１３：上光学異方性層
１４：上光学異方性層配向制御方向
１５：液晶セル上側基板
１６：上側基板配向制御方向
１７：液晶分子
１８：液晶セル下側基板
１９：下基板配向制御方向
２０：下光学異方性層
２１：下光学異方性層配向制御方向
２２：下側側偏光板
２３：下側偏光板吸収軸

Claims (24)

1. レターデーション調節剤を少なくとも１種と、
   ２５０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長範囲に少なくとも１つの吸収極大を有する紫外線吸収剤を少なくとも１種とを含有することを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
2. 前記レターデーション調節剤が下記数式（１１−１）を満足する化合物である請求項１記載のセルロースアシレートフィルム。
   数式（１１−１）：Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(０)／ａ≦−１．５
   （ただし、０．０１≦ａ≦３０）
   Ｒｔｈ(ａ)：レターデーション調節剤をａ％含有したセルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲth（ｎｍ）
   Ｒｔｈ(０)：レターデーション調節剤を含有しないセルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）
   ａ：セルロースアシレート１００質量部に対するレターデーション調節剤の質量部
3. レターデーション調節剤のうち少なくとも１種が、下記一般式（１）〜（６）のいずれかで表される化合物である請求項１又は２記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（１）：
   

   

   ｛一般式（１）中、Ｒ¹¹はアリール基を表す。Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、少なくとも一方はアリール基である。また、アルキル基及びアリール基はそれぞれ置換基を有していてもよい。｝
   一般式（２）：
   

   

   ｛一般式（２）中、Ｒ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は、それぞれ独立にアルキル基を表す。また、アルキル基はそれぞれ置換基を有していてもよい。｝
   一般式（３）：
   

   

   ｛一般式（３）中、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³及びＲ³⁴は、それぞれ、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ³¹、Ｘ³²、Ｘ³³及びＸ³⁴は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−及びＮＲ³⁵−（Ｒ³⁵は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃ及びｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｚ³¹は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基（環状のものを除く）を表す。｝
   一般式（４）：
   

   

   ｛一般式（４）中、Ｒ⁴¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³の炭素数の総和は１０以上である。｝
   一般式（５）：
   

   

   ｛一般式（５）中、Ｒ⁵¹及びＲ⁵²は、それぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ⁵¹及びＲ⁵²の炭素数の総和は１０以上である。｝
   一般式（６）：
   

   

   ｛一般式（６）中、Ｒ⁶¹は置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表し、Ｒ⁶²は水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族基、又は置換もしくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ⁶¹は、２価〜６価の連結基を表し、ｅはＬ⁶¹の価数に応じた２
   〜６の整数を表す。｝
4. レターデーション調節剤が、一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物である請求項３に記載のセルロースアシレートフィルム。
5. 紫外線吸収剤が、下記一般式（７）〜（９）で表される化合物のうちの少なくとも１種である請求項１〜４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
   一般式（７）：Ｑ⁷¹−Ｑ⁷²−ＯＨ
   （式中、Ｑ⁷¹は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ⁷²は芳香族環を表す。）
   一般式（８）：
   

   

   ｛式中、Ｑ⁸¹及びＱ⁸²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁸¹はＮＲ⁸¹（Ｒ⁸¹は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。｝
   一般式（９）：
   

   

   （式中、Ｑ⁹¹及びＱ⁹²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ⁹¹及びＸ⁹²は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）
6. 紫外線吸収剤が、前記一般式（７）におけるＱ⁷¹が１，３，５−トリアジン環のトリアジン化合物である請求項５に記載のセルロースアシレートフィルム。
7. 紫外線吸収剤が２５℃において液状の化合物である請求項１〜６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
8. セルロースアシレートフィルムにキセノン光を照射し、その照射前と照射後におけるレターデーション調節剤及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかの含有量が、下記数式（１）を満足する請求項１〜７のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
   数式（１）：０．８≦Ｃｍ_x／Ｃｍ₀≦１．０
   ｛数式（１）中、Ｃｍ₀はキセノン光照射前の化合物の含有量であり、Ｃｍ_xはキセノン光照射後の化合物の含有量である。｝
9. セルロースアシレートフィルムに鹸化を行い、その鹸化前後におけるレターデーション調節剤及び紫外線吸収剤の少なくともいずれかの含有量が、下記数式（２）の関係を満たす請求項１〜８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
   数式（２）：０．９＜Ｃｍ_s／Ｃｍ₀≦１．０
   （式中、Ｃｍ₀は鹸化処理前の含量、Ｃｍ_sは鹸化処理後の含量である。）
10. セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈとＲｅが、それぞれ下記数式（３）及び（４）の範囲を満たす請求項１〜９のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
    数式（３）：−２５ｎｍ≦Ｒｔｈ₆₃₀≦２５ｎｍ、
    数式（４）：０ｎｍ≦Ｒｅ₆₃₀≦１０ｎｍ
11. セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記数式（５）の関係を満たす請求項１〜１０のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
    数式（５）：｜Ｒｅ₆₃₀×Ｒｔｈ₆₃₀｜≦２００
12. セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値が、下記
    数式（６）の関係を満たす請請求項１〜１１のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
    数式（６）：｜Ｒｅ_630(max)−Ｒｅ_630(min)｜≦５で且つ｜Ｒｔｈ_630(max)−Ｒｔｈ_630(min)｜≦１０
    ｛式中、Ｒｅ_630(max)、Ｒｔｈ_630(max)は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの波長６３０ｎｍにおける最大レターデーション値、Ｒｅ_630(min)、Ｒｔｈ_630(min)は波長６３０ｎｍにおける最小レターデーション値である。｝
13. セルロースアシレートフィルムの波長６３０ｎｍにおけるＲｅ及びＲｔｈの値の、フィルム表面をアルカリ溶液で鹸化処理する前と後の変化が、下記数式（７）の関係を満たす請求項１〜１２のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルム。
    数式（７）：｜Ｒｅ₆₃₀₍₀₎−Ｒｅ_630(s)｜≦１０で、且つ｜Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎−Ｒｔｈ_630(s)｜≦２０
    ｛式中、Ｒｅ₆₃₀₍₀₎はアルカリ溶液で鹸化する前の波長６３０ｎｍにおけるＲｅ、Ｒｅ_630(s)はアルカリ溶液で鹸化した後の波長６３０ｎｍにおけるＲｅを表し、Ｒｔｈ₆₃₀₍₀₎はアルカリ溶液で鹸化する前の波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈ、Ｒｔｈ_630(s)はアルカリ溶液で鹸化した後の波長６３０ｎｍにおけるＲｔｈを表す。｝
14. セルロースアシレートフィルムの、４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長範囲において、Ｒｔｈの変動が２５ｎｍ以下で且つＲｅの変動が１０ｎｍ以下である請求項１〜１３のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
15. セルロースアシレートフィルムの、波長４００ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下である請求項１〜１４のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
16. セルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートのアシル置換度が２.５０〜３．００であり、その平均重合度が１８０〜７００である請求項１〜１５のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
17. セルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートのアシル置換基が、実質的にアセチル基のみからなり、その全置換度が２．５０〜２．９５であり、その平均重合度が１８０〜５５０である請求項１〜１６のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
18. セルロースアシレートフィルムの膜厚が１０〜１２０μｍである請求項１〜１７のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
19. セルロースアシレートフィルムが延伸されて得られたものであり、該延伸倍率が、搬送方向に対して垂直な方向（幅方向）に１％以上１００％以下である請求項１〜１８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
20. 延伸されて得られたセルロースアシレートフィルムにおいて、波長６３０ｎｍにおけるＲｅが下記数式（８）の関係を満足する請求項１９に記載のセルロースアシレートフィルム。
    数式（８）：｜Ｒｅ_(n)−Ｒｅ₍₀₎｜／ｎ≦１．０
    ｛式中、Ｒｅ_(n)はｎ（％）延伸されたフィルムのＲｅ、Ｒｅ₍₀₎は延伸していないフィルムのＲｅである。｝
21. セルロースアシレートフィルムが、セルロースアシレート溶液（ドープ）を流延製膜し
    て得られたものであり、ドープの調製工程における最終工程に、分子量が３０００以下の化合物を添加して製造された請求項１〜２０のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム。
22. 偏光子の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、該保護フィルムの少なくとも１枚が、請求項１〜２１のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする偏光板。
23. 液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板からなり、その少なくとも１枚の偏光板が請求項２２に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
24. 液晶表示装置がＩＰＳモードである請求項２３記載の液晶表示装置。
    

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