JPH0268519A - 液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パネル用電極基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、液晶表示パネル用電極基板製造用に適した反
応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パネ
ル用電極基板に関するものである。

従来の技術 近年液晶表示パネルについては、■薄膜化、■軽量化、
■大型化、■任意の形状化、■曲面化、■低コスト化な
どの要求があり、これに応えるものとしてプラスチック
ス基板を用いた液晶表示パネルが検討され、実用化され
はじめた。

本発明者らのうちの１人も、この目的のプラスチク６ク
ス基板につき、下記に列挙するような特許出願にかかる
発明をしている。

すなわち、フェノキシエーテル型架橋重合体から形成さ
れた非旋光性フィルムに透明導電層を設けた透明導電膜
（特公昭６１−２７８４１号公報）、スチレン誘導体成
分を含む共重合体またはアクリロニトリル成分を含む誘
導体から形成された非旋光性フィルムに透明導電層を設
けた透明導電膜（特開昭５６−１４６７５０号公報）、
レターデーション値３０ｎｍ以下の非晶質合成樹脂フィ
ルムに硬化性樹脂または単量体を塗布したのち硬化させ
て得られる複合膜に透明導電層を形成させた液晶表示用
導電膜（特開昭５７−１１３１９号公報）、フェノキシ
エーテル型重合体を用いた着色非旋光性フィルムに透明
導電層を形成した着色導電膜（特開昭６０−３５４０９
号公報）、エポキシ化合物とカルボキシル基含有光重合
性化合物とを含む硬化型樹脂組成物を成形した非旋光性
フィルム（特開昭６０−１５８４２０号公報）、プラズ
マ処理した高分子フィルムに透明導電層を形成した透明
導電膜（特開昭６０−２３０３０７号公報）、フェノキ
シエーテル型架橋重合体から形成された非旋光性フィル
ムに硬化性高分子被膜を形成し、さらにその上に透明導
電層を設けた透明導電膜（特開昭６０−２３２６１２号
公報）、レターデーション値１１００ｎ以下の非旋光性
フィルムに耐透気性を有する高分子樹脂層を設け、さら
に透明電極を設けた液晶表示パネル用電極基板（特開昭
６１−４１１２２号公報）、レターデーション値３０ｎ
ｍ以下の非旋光性フィルムの水性のアンカーコーティン
グ層を形成した後、その上に耐透気性樹脂または／およ
び架橋性樹脂硬化物からなる保護層を設けた複合基板に
透明電極を設けた液晶表示パネル用電極基板（特開昭６
３−７１８２９号公報）などである、特に最後の２件、
つまり特開昭６１−４１１２２号公報と特開昭６３−７
１８２９号公報に記載の発明が重要である。

発明が解決しようとする課題 液晶表示パネル用のプラスチック基板としては、一般に
次のような特性が要求される。

（１）光学的に可視光線領域で透明であること。

（２）光学的に等方性で、着色干渉縞が発生しないこと
。

（３）表面が平滑で硬いこと。

（４）液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性および
１００℃以上の耐熱性があること。

（５）シール材との密着力が良く、長期にわたって気密
性があること。

（６）耐透湿性があること。

（７）耐透気性があること。

（８）耐液晶性があり、長期にわたって安定であること
。

特に長期にわたる信頼性が要求される場合や自動車用な
ど過酷な条件下で使用される場合には、耐透気性がすぐ
れているだけでなく、その湿度依存性が小さいこと（高
湿下においても耐透気性が低下しないこと）が要求され
、かつ、居間密着性、耐液晶性および耐熱性が一段とす
ぐれていることが要求される。これらの要求を全て満足
しないと、気泡が混入して標示部に黒点を生じたり、長
期にわたり安定した性能が得られないなどの問題が発生
する。

しかしながら、従来の液晶表示パネル用のプラスチック
基板は、必ずしもこのような厳しい要求を満たすもので
はなかった。

本発明者らは、特開昭６１−４１１２２号公報および特
開昭６３−７１８２９号公報に記載の発明をさらに改良
することを試みる中で、耐透気性層として特定の反応性
耐透気性ポリマーの層を用いることにより、上記要求に
充分に応えうる電極基板を見出すに至った。

課題を解決するための手段 本発明の液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透
気性ポリマーは、ビニルアルコール系重合体（Ｖ）の共
存下に、式 （式中、Ｈｌ　　、　Ｒ７−はＨまたは低級アルキル基
、Ｒ３は炭素数１〜４のフルキレン基）で示されるエチ
レン性不飽和アミド系モノマー（Ｈａ）と分子内にカル
ボキシル基を有するビニル重合性モノマー（Ｍｂ）から
なるモノマー混合物（Ｍ）を重合して得られるものであ
る。

また、本発明の液晶表示パネル用電極基板は。

レターデーション値８０ｎ璽以下の非旋光性透明フィル
ムまたはシートよりなる基材層（１）の片面または両面
に耐透気性層（２）を設けた積層構成を有し、該積層物
の耐透気性層（２）側の面に透明電極を設けることによ
り液晶表示パネル用の基板となすための電極基板におい
て、前記耐透気性層（２）が、上記の反応性耐透気性ポ
リマー（Ｐ）の層からなることを特徴とするものである
。

さらにまた、本発明の液晶表示パネル用電極基板は、レ
ターデーション値８０ｎｍ以下の非旋光性透明フィルム
またはシートよりなる基材層（１）の片面または両面に
耐透気性層（２）を設け、さらに該耐透気性層（２）の
うちの少なくとも一方の層上に架橋性樹脂硬化物（Ｃ）
よりなる保護層（３）を設けた積層構成を有し、該積層
物の保護層（３）側の面または耐透気性層（２）側の面
に透明電極を設けることにより液晶表示パネル用の基板
となすための電極基板において、前記耐透気性層（２）
が、上記の反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層からなる
ことを特徴とするものである。

以下本発明の詳細な説明する。

基　　　ＩＱ− 基材層（１）は、レターデーション値８０ｎ−以下、殊
に３０ｎｍ以下の非旋光性透明フィルムまたはシートで
構成される。

ここでレターデーション値（Ｒ）とは、次式のように、
フィルムの厚さｄと、該フィルムに対して垂直方向の２
つの屈折率の差の絶対値との積で表わされる値である。

Ｒ＝ｄ　＊　ｌ　ｎ’　　−ｎ”　１ （ただし、ｎｌ　は任意方向の屈折率、Ｒ２−はｎ１方
向と直交する屈折率） し、タープ−ジョン値が８０ｎｍを越えると、パネルと
しての適正視角が狭くなると共に、干渉縞が発生し、液
晶表示装置に応用した場合、その判読性が低下する。

このような条件を満足するフィルムまたはシートの素材
となるべき樹脂は非品性のものであって、結晶性がある
と部分的に結晶化して透明性が悪くなり、また光学異方
性を生じてレターデーション値が高くなるという問題に
遭遇する。

基材層（１）の具体例としては、ポリカーボネート系樹
脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂
、ポリアリーレンエステル系樹脂、ポリパラバン酸系樹
脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂から形成された層があ
げられる。

耐」ピ」社」［工Ｕ 耐透気性層（２）は、ビニルアルコール系重合体（Ｖ）
の共存下に１式 （式中、Ｒ、ＲはＨまたは低級アルキル基。

Ｒは炭素数１〜４のフルキレン基）で示されるエチレン
性不飽和アミド系モノマー（Ｍａ）ト分子内にカルボキ
シル基を有するビニル重合性モノマ−（Ｍｂ）とからな
るモノマー混合物ＣＭ）を重合して得られる反応性耐透
気性ポリマー（Ｐ）の層で構成される。

ここでビニルアルコール系重合体（Ｖ）としては、■各
種重合度、ケン化度のポリビニルアルコール、■α−オ
レフィン、エチレン性不飽和カルボン酸またはそのエス
テル、アクリロニトリル、メタクリ口こトリル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミドをはじめ酢酸ビニルと共重
合可能な任意のコモノマーで変性した共重合変性ポリビ
ニルアルコール、■これらのポリビニルアルコールまた
は共重合変性ポリビニルアルコールの後変性物（たとえ
ばアセタール化やウレタン化物）、などがあげられる。

これらの中では、エチレン含量２０〜６０モル％のエチ
レン−酢酸ビニル共重合体の酢酸ビニル単位を７０モル
％以上、さらには９０モル％以上ケン化して得られるエ
チレン−ビニルアルコール共重合体が、耐水性および耐
透気性の双方の性質がすぐれているので特に有用であり
、またポリビニルアルコールも実用上有用である。

式（ｉ）で示されるエチレン性不飽和アミド系モノマー
（Ｍａ）としては、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド
、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エ
トキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシ
エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（
メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシエチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ−プロポキシエチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ−ブトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メト
キシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシプ
ロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシプロピ
ル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシプロピル（メ
タ）アクリルアミドなどがあげられる。

分子内にカルボキシル基を有するビニル重合性モノマー
（Ｍｂ）としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸などのエチレン性不飽和モノカルボン酸；マレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などのエチレン性不飽和ジ
カルボン酸、これらのモノアルキルエステル、これらの
ｇ水物（フマール酸は無水物を作らないので除く）；式
０式％ で示される不飽和トリカルボン酸；などがあげられる。

反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）は、典型的には、ビニル
アルコール系重合体（Ｖ）を水または／および低級アル
コールなどの溶媒（たとえば、水、水／ｎ−プロパツー
ル、水／イソプロパツール混合溶媒等）中に溶解し、該
溶液中において重合触媒（レドックス重合触媒、過酸化
物触媒等）の存在下にエチレン性不飽和アミド系モノマ
ー（Ｍａ）とカルボキシＪｊｋｚ基含有ビニル重合性七
ツマ−（Ｍｂ）とからなるモノマー混合物（Ｍ）を重合
させることにより得られる。このような重合により、少
なくとも部分的にグラフト重合が起こるものと考えられ
る。

この場合、（Ｍａ）　／　（Ｍｂ）のモル比は０．０５
〜５．０の範囲内とすることが好ましく、この範囲から
はずれると重合により得られる反応性耐透気性ポリマー
（Ｐ）の架橋点が不足するため、湿度が高くなると耐透
気性が低下したり、密着性に悪影響を及ぼすおそれがあ
る。

また、（Ｍ）／　（Ｖ）（７）重量比は０．０２〜０．
５　（７）範囲内とすることが好ましく、その比が余り
に小さいと重合により得られる反応性耐透気性ポリマー
（Ｐ）の架橋点が不足し、一方余りに大きいとその耐透
気性が損なわれるようになる。

そして、このようにして得られる反応性耐透気性ポリマ
ー（Ｐ）よりなる耐透気性層（２）の酸素透過率（ＡＳ
ＴＭ　Ｄ−１４３４−７５に準じて測定）が３０ｃｃ／
　２４ｈｒ　＊　ｒｎ”　＊　ａｔｍ以下、好ましくは
２０ｃｃ／２４ｈｒ＠ゴ・ａｔｍ以下となるように、重
合原料の種類あるいは仕込み比を設定する。酸素透過率
が３０ｃｃ／　２４ｈｒ　＊　ｍ″ｅａｔ１１を越える
と、温度変化の厳しい過酷な条件や長期間の使用により
表示部に黒点が生ずるおそれがある。

保１すｉユ」つ− 保護層（３）は架橋性樹脂硬化物（Ｃ）で構成される。

この保護層（３）は、必要に応じて設ける任意層である
。

架橋性樹脂硬化物（Ｃ）としては、フェノキシエーテル
型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン
樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂などの硬化物があ
げられる。

架橋性樹脂の中で特に好ましい樹脂は、フェノキシエー
テル型重合体である。この重合体の水酸基の水素部分に
架橋剤である多官能性化合物を架橋反応させると、フェ
ノキシエーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体を
得るために反応させる架橋剤（多官能性化合物）として
は、水酸基との反、応活性が高い基、たとえば、インシ
アネート基、カルボキシル基、カルボキシル基における
反応性誘導基（たとえばハライド、活性アミド、活性エ
ステル、酸無水物基等）、メルカプト基等を同一または
異゛なって２以上有する化合物などがあげられる。

他の好ましい架橋性樹脂はアクリル樹脂である。該樹脂
としては、分子中に少なくとも３個以上のアクリロイル
オキシ基または／およびメタアクリロイルオキシ基を含
有する化合物を主成分とする多官能不飽和単量体または
／およびその初期ラジカル反応物を主成分とする組成物
をあげることができる。

アンカーコー−ング　　４ 基材層（１）と耐透気性層（２）との間、あるいは耐透
気性層（２）と保護層（３）との間には、必要に応じア
ンカーコーティング層（４）を介在させることができる
。

アンカーコーティング層（４）としては、ウレタン系、
エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系など通常の有
機溶剤タイプのものも用いることができるが、特に基材
層（１）と耐透気性層（２）との間にアンカーコーティ
ング層（４）を介在させるときは、核層（４）を、水ま
たは水とアルコールとからなる水性媒体に溶解または分
散したアンカー剤を用いて形成することが望ましい。

このような水性系のアンカー剤の中では、エステル結合
、アミド結合、ウレタン結合およびエーテル結合よりな
る群から選ばれた少なくとも１種の結合基により高分子
化した高分子であって、自身を水性媒体中に溶解または
分散させるに足る量の親木基を分子内に有するポリマー
を主剤とするものが最適であり、そのような親木基の例
としては、スルホン酸金属塩基、カルボキシル基、第１
級アミン基、第２級アミン基、第３級アミン基、第４級
アンモニウム塩基などがあげられる。アンカー剤には、
主剤、水またはこれと水溶性有機溶剤のほか、界面活性
剤、塩基性中和剤等を含有させることができる。

親木基を分子内に宥するポリマーの代表例としては、上
述の親木基を含有するポリエステル樹脂、上述の親木基
を含有するポリアミド樹脂、上述の親木基を含有するポ
リウレタン樹脂、上述の親木基を含有するポリエルテル
ウレタン樹脂、ポリエチレンイミンとポリアクリル酸と
変性デンプンとの混合物からなるイオン高分子錯体など
があげられる。

良ｊ 本発明の液晶表示パネル用電極基板は、次のような積層
構成を有する。

■　基材層（１）／耐透気性層（２） ■　耐透気性層（２）／基材層（１）／耐透気性層（２
） ■　基材層（１）／耐透気性層（２）／保護層■　耐透
気性層（２）／基材層（１）／耐透気性層（２）／保護
層（３） ■　保護層（３）／耐透気性層（２）／基材層（１）／
ＩＴＦｔ透気性層（２）／保護層（３）基材層（１）と
耐透気性層（２）との間、耐透気性層（２）と保護層（
３）との間には、必要に応じアンカーコーティング層（
４）を介在させることができることは先に述べた通りで
ある。

第１〜５図は本発明の電極基板の例を示した断面図であ
り、第１図が上記■、第２図が上記■、第３図が上記■
、第４図が上記■、第５図が上記■に相当する。なお各
図においては、基材層（１）と耐透気性層（２）との間
にアンカーコーティング層（４）を介在させた場合を典
型的な例として示した。各図中、仮想線で表わした（５
）は透明電極である。

基材層（１）は、湿式製膜法（キャスティング）、乾式
製膜法、溶融製膜法などによって成形する。基材層（１
）の厚さは、２０〜１０００用ｍ程度が適当である。

基材層（１）上にアンカーコーティング層（４）を設け
るときは、基材層（１）上にアンカー剤を塗布、乾燥し
、必要に応じて加熱処理する。アンカーコーティング層
（４）の厚さは、０．５〜５ＩＬｍ程度とすることが多
い。

基材層（１）上に直接またはアンカーコーティング層（
４）を介して耐透気性層（２）を設けるには、前記の反
応性耐透気性ポリマー（Ｐ）をその溶媒に溶解ないし分
散させて（通常は重合液をそのままあるいは濃度調整し
て用いる）、基材層（１）に直接塗布、乾燥するか、ア
ンカーコーティング層（４）上に塗布、乾燥し、ついで
加熱処理すればよい、ただし保護層（３）を設けるとき
は、この加熱処理は、保護層（３）の硬化のための加熱
処理で兼ねることができる。

耐透気性層（２）の厚さ（１層の厚さ）は１〜５０ＪＬ
１１、好ましくは２〜２０ルｍの範囲に設定する。１用
層未満では耐透気性が不十分であり、５０用履を越える
と基板を形成する際、カールする傾向がある上、コスト
の点で不利となる。

基材層（１）と耐透気性層（２）との間の剥離強度（Ａ
ＳＴＭ　Ｄ−１８７８ニ準シテ測定）は、５０ｇ以上、
好ましくは１５０ｇ以上、さらには２００ｇ以上である
ことが要求される。剥離強度が５０ｇ未満では、次工程
の透明電極処理や液晶パネル製造のパターン出し、酸、
アルカリ水溶液処理、有機薬品処理、組立工程などの工
程において、基材層（１）から耐透気性層（２）（また
は耐透気性層（２）と保；Ｊ層（３））が剥離してしま
うおそれがある。従って、基材層（１）と耐透気性層（
２）との間の剥離強度が不足するときは、前述のように
アンカーコーティング層（４）ｌ）在させるのがよい。

なお、アンカーコーティング層（４）の形成を水または
水−アルコール混合溶媒に溶解または分散したアンカー
剤を用いて行うと、爾後の工程における溶剤が基材層（
１）の表面を侵すのを確実に抑えることができる。

保護層（３）を設けるときは、その形成も耐透気性層（
２）形成の場合と同様の方法で行うことができる。

耐透気性Ｍ（２）上への保護層（３）の形成に際しては
、架橋剤として、架橋性樹脂を架橋すると共に耐透気性
層（２）とも反応しうるものを用いると、両層間にアン
カーコーティング°層（４）を介在させなくても、強固
な居間密着性が得られる。たとえば、保護層（３）とし
てフェノキシエーテル型重合体にポリイソシアネートを
配合したフェノキシエーテル型架橋性樹脂を用いると、
アンカーコーティング層（４）を介在させなくても、耐
透気性層（２）との間に剥離不可能なほどの（基材破壊
を起こすほどの）強固な密着性が得られる。

保護層（３）の厚さ（１層の厚さ）は１〜１ｏｏｏ舊醜
、好ましくは５〜５００　ｐ、ｔｍの範囲に設定する。

この範囲において耐液晶性および軽量性の確保が好適に
なされる。

上記■〜■の積層構成を有する本発明の電極基板全体の
厚さは広く変えうるが、５０〜５００ｇｍ程度が適当で
ある。電極基板全体の可視光線透過率は６０％以上、好
ましくは７０％以上を必要とし、６０％未満では表示部
のコントラストが悪くなる。

透１０【極二ｍ 上記で得られた電極基板の片面または両面には、透明導
電層を形成して透明電極（５）とする。上記■および■
の場合には耐透気性層（２）側の面に透明電極（５）を
設け、■および■の場合には保護層（３）側の面に透明
電極（５）を設ける。上記■の場合には、保護層（３）
側または耐透気性層（２）側のいずれの面に透明電極（
５）を設けてもよい。

透明導電層の形成方法は、その方法の如何を問わないが
、代表的な方法としては、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法、金属溶射法、金属メツキ
法等が採用される。これらのうち、薄層が形成できるこ
とおよび均一層が形成できることの２点を満足するもの
として、真空蒸着法とスパッタリング法が特に推奨され
る。

透明導電層を形成するための素材としては、Ｓｎ、Ｉｎ
、Ｔｉ　、Ｐｂ等の金属、またはそれらの酸化物が汎用
され、金属単体を上記の方法で基板上に形成したときは
、希望に応じてその後酸化する場合もある。当初から酸
化物層として付着形成させる方法もあるが、最初は金属
単体または低級酸化物の形態で被膜を形成し、しかるの
ち加熱酸化：陽極酸化あるいは液相酸化等の酸化処理を
施して透明化する手段を採用することもできる。

なお上記以外に、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ等の貴金属を用いる
場合もある。

これらの金属あるいはそれらの酸化物からなる導電層は
、透明性や導電性等の要求特性に応じた層厚に設定する
が１通常は１００Ａ以上とし、安定な導電性を与えるた
めには３ｏｏＡ以上とすることが望ましい。

上記導電層は、通常単一層でもよいが、機械的強度や耐
薬品性を考慮して２層以上の複数層として形成すること
もできる。また、皮膜の均一性や密着性等、さらには耐
摩耗性等を向上する目的で、アンダーコートやオー／（
−コートを施す場合もある。前者の例としてはシリコン
系やエポキシ系の樹脂が使用され、後者の例としてはゼ
ラチン、シリコーン、コロジオン等が使用される。また
さらに必要であれば、これらの上にさらに光電溝物質の
層やエレクトロ・ルミネッセンス材料の層を形成する場
合もある。

肚童 本発明の電極基板は、液晶表示装置は勿論のこと、光導
電性感光体用電極、面発熱体、または建築物の窓貼り等
の各種デイスプレーのフィルターや化粧板等として利用
できる。

作　　　用 本発明においては、耐透気性層（２）として、特定の反
応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層、つまりビニルアルコ
ール系重合体（Ｖ）の共存下に式（ｉ）で示されるエチ
レン性不飽和アミド系モノマー（Ｍａ）と分子内にカル
ボキシル基を有するビニル重合性モノマー（Ｍｂ）とか
らなるモノマー混合物（Ｍ）を重合して得られる反応性
耐透気性ポリマー（Ｐ）の層を用いている。

反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）は、加熱により三次元化
するので、耐通気性を維持しながらも湿度依存性が小さ
くなる。

従って、耐透気性層（２）は、高湿下においても基材層
（１）に対する密着性が良好であり、高湿下にあっても
耐通気性の低下が小さく、かつ耐熱性、耐液晶性もさら
に向上する。そのため、本発明の電極基板に透明電極（
５）を設け、液晶表示パネルを作製したとき、長期にわ
たり信頼性が保たれる。

実　　施　　例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。

実施例１ １　　のフ　ルム 厚さ８０ｇｍ、レターデーション値２０ｎｍのポリカー
ボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製）を準備し
た。

アンカーコーチ　ング　　４　　のアンカーポリエステ
ルウレタンを主剤とする固形分４０％の水性分散液（楠
本化成株式会社製ＮｅｏＲｅｚＲ−９３１４）を水で稀
釈して固形分２０％の水性分散液としたちの１００部に
、水溶性エポキシ系硬化剤（協立化学産業株式会社製ワ
ールドロックＸ　−２０３０）　２．５部を配合するこ
とにより、アンカー剤を調製した。

ポリマー 攪拌器、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備えた
四つ目フラスコに、ｎ−プロパツール　１３７．５ｇと
精製水１１２．５ｇとを仕込み、攪拌しながら、エチレ
ン−ビニルアルコール（モル比３２／６８）共重合体（
株式会社クラレ製のエバールＥＰ−Ｆ　　ＩＯＩＡ）５
０ｇを加えた。系を７０〜８０℃の加熱下に約４時間攪
拌し、エチレン−ビニルアルコール共重合体を完全に溶
解させた。

系を４０〜５０℃に冷却し、Ｎ−メトキシメチルアクリ
ルアミド２．５ｇとメタクリル酸１．０ｇを加え、窒素
を通して系中の酸素を充分に追い出した。４％過硫酸ア
ンモニウム水溶液２．０ｇを加え、よく攪拌し、５分後
に２％重亜硫酸ナトリウム水溶液２．０ｇを加え、重合
を開始させた。２時間ごとに前記と同様に開始剤を加え
、約８時間重合を行った。この間、内温は４０〜５０’
０に保持した。

こ、れにより、固形公約１６％の粘稠な半透明の反応性
耐透気性ポリマー液が得られた。

３の 下記組成の架橋性樹脂液を調製した。

上記のポリカーボネートフィルム（１）の片面に、　０
．１ｍｍφのワイヤーラウンドドクターを使用して上記
のアンカー剤を塗布し、１２０℃で２分間乾燥して、厚
さ　１．５ｐｍのアンカーコーティング層（４）を形成
させた。

このアンカーコーティング層（４）上に上記の反応性耐
透気性ポリマー液をアプリケーターを使用してギャップ
８５　ｐ−ｒａで塗布し、７０〜９０℃で１０分間乾燥
して、約１０４ｍの耐透気性層（２）を形成させた。

同様にして、ポリカーボネートフィルム（１）の他の面
にも同じアンカーコーティング層（４）を形成させた。

さらにそのアンカーコーティング層（４）上にも、同様
にして約１０　ｐ、ｒｓの耐透気性層（２）を形成させ
た。

これにより、（２）／　（４）／　（１）／　（４）／
（２）の層構成を有する第２図に断面図を示した電極基
板が得られた。この電極基板の特性値、外観は次の通り
であった。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度片方　　
　　　　　　　５８０　ｇ／２５ｍ＋ａ他方　　　　　
　　　　５７５　ｇ／２５＋ｓｍ酸素ガス透過性 ２０℃、９８％ＲＨ１，２ｃｃ／２４ｈｒ　＊　ｍ’　
＊　ａｔｍ３０°Ｃ１９８％ＲＨ２，Ｅｌｃｃ／２４ｈ
ｒ　＊　ｒｎ’　ｅ　ａｔｍ全光線透過率 ８９％ レターデーション値 １７部ｍ 外観 極めて優秀 上記で得た電極基板の片面に、酸化インジウムと酸化ス
ズとの重量比で９５：５の混合物による厚さ５００Ａの
透明導電層をスパッタリング法により形成させ、透明電
極（５）となした。

液ｊＬＩ友ｊヱ土止」ど 上記で得た基板を用いて常法により液晶表示パネルを作
製したが、耐通気性、居間密着性、耐熱性のいずれの点
でも極めて好ましいものであり、また透明電極（５）の
亀裂や剥離も認められず、耐液晶性もすぐれていた。

実施例２ 実施例１で得られた（２）／　（４）／　（１）／（４
）／　（２）の層構成を有する積層物の片方の面に、ア
プリケーターを使用してギャップ３５４ｍで直接上記の
架橋性樹脂液を塗布し、８０℃で１０分、さらに１２０
℃で３０分加熱し、厚さ１０　ｇｍの保護層（３）を形
成させた。同様にもう一方の面にも厚さ１０　ｇｔａの
保護層（３）を形成させた。

これにより、（３）／　（２）／　（４）／　（１）／
　（４）／　（２）／　（３）の層構成を有する第５図
に断面図を示した電極基板が得られた。この電極基板の
特性値、外観は次の通りであった。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度片方　　
　　　　　　　６２５　ｇ／２５＋ｇｎ他方　　　　　
　　　　　６００　ｇ／２５ｍｍ酎透気性層耐２）−保
護層（３）間の剥離強度片方　　　　　　　　　基材破
壊 他方　　　　　　　　　基材破壊 酸素ガス透過性 ２０℃、９８ＸＲＨ０，８ｃｃ／２４ｈｒ　＠　ｒｎ”
　ａ　ａｔｍ３０℃、９８％Ｒ８１，５ｃｃ／２４ｈｒ
　ａ　ｒｎ”　ｅ　ａｔｍ全光線透過率 ８７％ レターデーション値 ７ｎｍ 外・観 極めて優秀 上記で得た電極基板の片面に、実施例１と同様にして透
明電極（５）を形成させ、さらにこの基板を用いて常法
により液晶表示パネルを作製したが、耐通気性、層間密
着性、耐熱性のいずれの点でも極めて好ましいものであ
り、また透明電極（５）の亀裂や剥離も認められず、耐
液晶性もすぐれていた。

比較例１ 耐透気性層（２）の形成（厚さ各約ｌＯ終腸）を、エチ
レン−ビニルアルコール（モル比３２７６８）共重合体
２０部、水４８部、ｎ−プロパツール３２部およびメチ
ロール化メラミン（住友化学工業株式会社製スミチック
Ｍ−３）４部からなる溶液を用いて行ったほかは実施例
２を繰り返して、電極基板を製造した。この電極基板の
特性値、外観は次の通りであり、実施例２に比しては密
着性、耐通気性が不足していた。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度片方 他方 耐透気性層（２）−保護層 片方 他方 酸素ガス透過性 ２０℃、９８ＸＲＨ ３０℃、９８ＸＲＨ 全光線透過率 ８７”％ レターデーション値 １７ｎ＋ｓ ２．８ｃｃ／２４ｈｒ　＊　　ｒｎ”　ｅ　　ａｔｍ？
、５ｃｃ／２４ｈｒ　＠ｒｎ”　＊　ａｔｍ３　２　５
　ｇ／２５層層 ３　１　０　ｇ／２５ｍ膳 （３）間の剥離強度 基材破壊 基材破壊 外観 極めて優秀 実施例３〜５ エチレン−ビニルアルコール（モル比３２／６８）共重
合体５０ｇに、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド３．
５ｇとアクリル酸２．０ｇを重合したほかは実施例１と
同様にして反応性耐透気性ポリマー液を得た（実施例３
）。

ま、た、エチレン−ビニルアルコール（モル比３２／６
８）共重合体５０ｇに、Ｎ−メトキシメチルアクリルア
ミド４．Ｏｇとアクリル酸５．０ｇを重合したほかは実
施例１と同様にして反応性耐透気性ポリマー液を得た（
実施例４）。

さらにまた、エチレン−ビニルアルコール（モル比３２
／６８）共重合体５０ｇに、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド２．５ｇとメタクリル酸２．５ｇを重合したほかは
実施例１と同様にして反応性耐透気性ポリマー液を得た
（実施例５）。

実施例１における反応性耐透気性ポリマー液として上記
で得たものを用いたほかは、実施例１を繰り返したとこ
ろ、実施例１の場合とほぼ同等の結果が得られた。

実施例６ フラスコにポリビニルアルコール（重合度１５００、ケ
ン化度８８モル％）の１３％水溶液３５０ｇを仕込んだ
後、系を４０〜５０℃に加熱し、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド４．５ｇとメタクリル酸２．０ｇを加え、窒素
を通して系中の酸素を充分に追い出した。４％過硫酸ア
ンモニウム水溶液３．０ｇを加え、よく攪拌し、５分後
に２％重亜硫酸ナトリウム水溶液３．０ｇを加え、重合
を開始させた。２時間ごとに前記と同様に開始剤を加え
、約８時間重合を行った。この間、内温は４０〜５０℃
に保持した。

これにより、固形公約１４％の粘稠な半透明の反応性耐
透気性ポリマー液が得られた。

３の 実施例１の処方の架橋性樹脂液を用いた。

１１Ｌ振二１１ 上記の反応性耐透気性ポリマー液、架橋性樹脂液を用い
たほかは実施例２に準じて、（３）／（２）／　（４）
／　（１）／　（４）／　（２）の層構成を有する第４
図に断面図を示した電極基板を作製した。ただし、耐透
気性層（２）の厚さは各８終履、保護層（３）の厚さは
１２ル履に設定した。

こ・の電極基板の特性値、外観は次の通りであった。

基材層（１）−耐透気性層（２）間の剥離強度片方　　
　　　　　　　５４０　ｇ／２５ｍｍ他方　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　５　７　０　ｇ／２５曹層
耐透気性層（２）−保護層（３）間の剥離強度片方　　
　　　　　　　基材破壊 他方　　　　　　　　　基材破壊 酸素ガス透過性 ２０℃、９８＄ＲＨ１，２ｃｃ／２４ｈｒ　＊　ｍ’　
＊　ａｔｍ３０℃、　９８＄ＲＨ２，１ｃｃ／２４ｈｒ
　＊　　ｒｎ”　　＊　　ａｔｍ全光線透過率 ８９％ レターデーション値 １ｎｍ 外観 極めて優秀 実施例７ 実施例１に準じて、基材層（１）の片面にアンカーコー
ティング層（４）、その上に耐透気性層（２）、さらに
その上に保護層（３）を形成させた。

これにより、（１）／　（４）／　（２）／　（３）の
層構成を有する第３図に断面図を示した電極基板が得ら
れたので、その保護層（３）上に実施例１と同様にして
透明電極（５）を形成させた。

実施例８ 実施例１に準じ、基材層（１）の片面にアンカーコーテ
ィング層（４）、その上に耐透気性層（２）を形成させ
た。

これにより、（２）／　（４）／　（１）の層構成を有
する第１図に断面図を示した電極基板が得られたので、
その耐透気性層（２）上に実施例１と同様にして透明電
極（５）を形成させた。

実施例９ 基材層（１）として、厚さｌｏｏ８Ｌｍ、レターデーシ
ョン値１４ｎｍのポリエーテルスルホンフィルム（ＩＣ
Ｉジャパン株式会社製のＶｉｃｔｎｅｘ３００ＰＩをジ
メチルホルムアミドに溶解した溶液を用いて製膜）を用
い、アンカー剤として実施例１で使ったものを用い、ア
ンカーコーティング層（４）の厚さをいずれも約３ｐｍ
に設定したほかは、実施例１に準じて電極基板を作製し
た。

実施例１０ アンカー剤として、樹脂濃度３０％の水性ポリアミド系
アンカー剤（スルホン酸塩基、カルボキシル基、アルキ
ル基置換第三級窒素およびアルキレン基置換第四級窒素
を含有）を用い、アンカーコーティング層（４）の厚さ
をいずれも約３ル菖に設定したほかは、実施例１に準じ
て電極基板を作製した。

実施例１１ 基材層（１）として、厚さ１００ＪＬ鵬、レターデーシ
ョン値１７ｎｍのポリアリーレンエステルフィルム（ユ
ニチカ株式会社製）を用い、アンカー剤として、樹脂濃
度２０％の水性ポリウレタン系アンカー剤（スルホン酸
塩基、カルボキシル基、アルキル基置換第三級窒素およ
びアルキレン基置換第四級窒素を含有）を用い、アンカ
ーコーティング層（４）の厚さをいずれも約１．５１部
ｍに設定したほかは、実施例１に準じて電極基板を作製
した。

実施例１２ 基材層（１）として、厚さ１００μｍ、レターデーショ
ン値１５ｎｍのポリスルホンフィルム（ユニオンカーバ
イド社製のニーデルを１．１，２゜２−テトラクロルエ
タンに溶解した溶液を用いて製膜）を用い、保護層（３
）として、ペンタエリスルトールテトラアクリレート４
０部、ベンゾインエチルエーテル０．０２部、メチルセ
ロソルブ６０部、ベンゾイルパーオキサイド１．５部か
らなる組成物を塗布形成させた暦を用いたほかは、実施
例２と同様にして電極基板を作製した。

以上実施例６〜１２で得た電極基板の特性値は、実施例
１または２に準するものであった。

発明の効果 本発明の電極基板は、特定の耐透気性層を用いたため、
この電極基板を用いて作製した液晶表示パネルは、高湿
雰囲気下、高温雰囲気下など過酷な条件下で使用しても
、長期にわたり製造直後と同様の安定した性能が発揮さ
れる。

【図面の簡単な説明】

第１〜５図は本発明の電極基板の例を示した断面図であ
る。 （１）・・・基材層、（２）・・・耐透気性層、（３）
・・・保護層、（４）・・・アンカーコーティング層、
（５）・・・透明電極 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ビニルアルコール系重合体（Ｖ）の共存下に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ｉ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はＨまたは低級アルキル基、Ｒ
   ＾３は炭素数１〜４のアルキレン基）で示されるエチレ
   ン性不飽和アミド系モノマー（Ｍａ）と分子内にカルボ
   キシル基を有するビニル重合性モノマー（Ｍｂ）からな
   るモノマー混合物（Ｍ）を重合して得られる液晶表示パ
   ネル用電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマー。 ２、ビニルアルコール系重合体（Ｖ）の水または／およ
   び低級アルコール溶液に式（ｉ）で示されるモノマー混
   合物（Ｍ）を加えて重合して得られるものである請求項
   １記載の液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透
   気性ポリマー。 ３、反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）における（Ｍａ）／
   （Ｍｂ）のモル比が０．０５〜５．０であり、かつ（Ｍ
   ）／（Ｖ）の重量比が０．０２〜０．５である請求項１
   記載の電極基板。 ４、ビニルアルコール系重合体（Ｖ）が、エチレン−ビ
   ニルアルコール共重合体またはポリビニルアルコールで
   ある請求項１記載の電極基板。 ５、レターデーション値８０ｎｍ以下の非旋光性透明フ
   ィルムまたはシートよりなる基材層（１）の片面または
   両面に耐透気性層（２）を設けた積層構成を有し、該積
   層物の耐透気性層（２）側の面に透明電極を設けること
   により液晶表示パネル用の基板となすための電極基板に
   おいて、前記耐透気性層（２）が、請求項１の反応性耐
   透気性ポリマー（Ｐ）の層からなることを特徴とする液
   晶表示パネル用電極基板。 ６、レターデーション値８０ｎｍ以下の非旋光性透明フ
   ィルムまたはシートよりなる基材層（１）の片面または
   両面に耐透気性層（２）を設け、さらに該耐透気性層（
   ２）のうちの少なくとも一方の層上に架橋性樹脂硬化物
   （Ｃ）よりなる保護層（３）を設けた積層構成を有し、
   該積層物の保護層（３）側の面または耐透気性層（２）
   側の面に透明電極を設けることにより液晶表示パネル用
   の基板となすための電極基板において、前記耐透気性層
   （２）が、請求項１の反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の
   層からなることを特徴とする液晶表示パネル用電極基板
   。 ７、反応性耐透気性ポリマー（Ｐ）の層からなる耐透気
   性層（２）の酸素透過率（ＡＳＴＭＤ−１４３４−７５
   に準じて測定）が、３０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ＾２・ａｔ
   ｍ以下である請求項５または６記載の電極基板。 ８、基材層（１）が、ポリカーボネート系樹脂、ポリエ
   ーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアリ
   ーレンエステル系樹脂、ポリパラバン酸系樹脂またはポ
   リイミド系樹脂系樹脂から形成された層である請求項５
   または６記載の電極基板。 ９、保護層（３）を構成する架橋性樹脂硬化物（Ｃ）が
   、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、ア
   クリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂またはウレ
   タン樹脂から選ばれた架橋性樹脂の硬化物である請求項
   ５または６記載の電極基板。