JP2007165697A - プローバのプローブクリーニング装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】機械による量産が可能なように、よく知られた部品によって構成された安価なクリーニングブラシユニットの提供。
【解決手段】移動台の寸法に合わせたプレート84と、プレート84の上に載せたブラシベース85と、ブラシベース85の上に敷いたブラシベースラバー88とその上に必要な数だけ並べたクリーニングブラシ81と、クリーニングブラシ81の端を押さえて固定するクランプベース86と、サポートプレート87と、サポートプレート87を押さえて固定する六角穴付き止めネジ89とでクリーニングブラシユニットを構成する。
【選択図】図4
【解決手段】移動台の寸法に合わせたプレート84と、プレート84の上に載せたブラシベース85と、ブラシベース85の上に敷いたブラシベースラバー88とその上に必要な数だけ並べたクリーニングブラシ81と、クリーニングブラシ81の端を押さえて固定するクランプベース86と、サポートプレート87と、サポートプレート87を押さえて固定する六角穴付き止めネジ89とでクリーニングブラシユニットを構成する。
【選択図】図4
Description
本発明は、半導体ウェハ上に形成された複数の半導体チップ(ダイ)の電気的検査お行うプローバのプローブクリーニングに用いるクリーニング装置に関する。
半導体製造工程においては、薄い円盤状の半導体ウェハに各種の処理を施して、半導体装置(デバイス)をそれぞれ、または、複数有する複数のチップ(ダイ)を形成する。各チップは電気的特性が検査され、その後ダイサーで切り離された後、リードフレーム等に固定されて組み立てられる。上記の電気的特性の検査は、プローバとテスタを組み合わせたウェハテストシステムで行われる。プローバは、ウェハをステージに固定し、各チップの電極パッドにプローブを接触させる。テスタは、プローブに接続される端子から、電源及び各種の試験信号を供給し、チップの電極に出力される信号をテスタで解析して正常に動作するかを確認する。そして、正常に動作しないデバイスは後の組み立て工程から除かれることになる。
プローブはプローブカードに設けられ、プローブの配列は検査を行う半導体チップの電極パッドの配列に対応している。プローブには、カンチレバー式プローブ、スプリングレバー式プローブ等がある。検査を行う半導体チップ内のデバイスの種類が変わる時には対応するプローブカードに交換する必要がある。プローブカードを交換すると、プローバに設けられたプローブ位置検出カメラでプローブ位置の検出処理を行う。なお、プローブ位置の検出処理は、プローブカードを交換しないときでも、1枚のウェハ上の半導体チップの検査が終了したときなどに随時行われる。
一方、ウェハステージにウェハを保持すると、プローバに設けられたウェハアライメントカメラによりチップの電極パッドの位置を検出する。そして、チップの電極パッドの配列方向とプローブの配列方向が一致するようにウェハステージを回転させた後、電極パッドが対応するプローブの真下に位置するようにウェハステージに移動する。この状態でウェハステージを上昇させれば、電極パッドがプローブに接触する(このことを、プロービングと言う。)。
電極パッドとプローブの接触後に、テスタからプローブに接続される端子を通し、電源及び各種の試験信号を供給し、チップの電極に出力される信号をテスタで解析して正常に動作するかを確認することで電気的テストは終了する。
プローブは、ウェハに形成された電極パッドと接触すると、パッド滓等の付着物が付着することがあり、このような付着物により、プローブの位置検出処理が適切に行えない等の問題を生ずる。そのため、このような付着物を除去するためにクリーニング処理として、クリーニングシートによりパッド滓を除去するクリーニングシート処理と、クリーニングシート処理によりプローブに付着するクリーニングシート滓を、クリーニングブラシによって除去するクリーニングブラシ処理がある。
上述のクリーニングブラシ処理は、クリーニングブラシにより、プローブ先端約1mmをブラッシングする。そのため、クリーニングブラシの先端高さ位置の誤差を、0.1mm以内に抑える必要がある。
図1に従来のクリーニングブラシを示す。従来のクリーニングブラシ1は、羊の毛や合成繊維等の一方向に伸びた繊維2を、プレート3に、編み上げ部4のように編み上げることによって構成される。このようなブラシを機械的に製作することは困難であるため、クリーニングブラシは、人間により製作されており、そのため、高価である。
また、人間の手作業により製作されるブラシは、ブラシの大きさが制限されるため、プローブカードのプローブ占有面積に対して小さい。そのような小さい面積のブラシにより、プローブをブラッシングするため、一度プローブをブラッシングして付着物が付着したブラシで、他のプローブを複数回ブラッシングするということになる。そのため、プローブへの付着物の再付着等、プローブを十分にクリーニングできない場合があり、また、ブラシに付着物が付き易い。このため、ブラシに対し付着物を除去するためのブラシメンテナンス処理を頻繁に行う必要がある。
クリーニングブラシは、先端高さ位置を均等にする等の品質的な制限のため、特殊技能を要求する手作業で製作されており、大形化が困難であり、高価である。また、そのためにクリーニングブラシのメンテナンス処理を頻繁に行わなければならないという課題がある。
本発明は、上記のような問題を解決するもので、クリーニングブラシの形状、及び、プローバ内の配置に関して各種の改良を行うことを目的とする。
以上の課題を解決するために、本発明に係るプローブクリーニング装置は、ウェハ上に形成された半導体装置の動作を、半導体装置の電極パッドにプローブを接触させて電気的に検査するプローバのプローブをクリーニングするプローブクリーニング装置において、ブラシを板金で挟み込んだクリーニングブラシを複数有し、かつ、複数のプローブの全てを覆う大きさを有するクリーニングブラシユニットと、クリーニングブラシユニットを搭載するブラシステージと、を備えて構成し、ブラシステージをプローブに移動して、ブラシユニットでブラッシングすることでプローブをクリーニングする。
また、本発明に係るプローブクリーニング方法は、ウェハ上に形成された半導体装置の動作を、半導体装置の電極パッドにプローブを接触させて電気的に検査するプローバのプローブをクリーニングするプローブクリーニング方法において、ブラシを板金で挟み込んだクリーニングブラシを複数有し、かつ、複数のプローブの全てを覆う大きさを有するクリーニングブラシユニットを搭載するブラシステージを、前記プローブに移動するステップ、及び、ブラシユニットでプローブをブラッシングするステップ、を有することとした。
本発明によれば、プローブのクリーニングブラシを機械的に製作することで、クリーニングブラシの製作コストを低下し、及び、プローブ全体を覆う大きさに大形化する。また、クリーニングブラシの大型により、クリーニングブラシのメンテナンス処理頻度を少なくすることができる。
以下、本発明に係るプローブクリーニングブラシ装置の実施例を、添付図面を参照して詳述する。
図2は、本発明の実施例によるプローバの概略構成を示す図である。プローバ10は、テスタ30とGPIBシステム40とでウェハテストシステムを構成する。図示のように、プローバ10は、基台11と、その上に設けられた移動ベース12と、Y軸移動台13と、X軸移動台14と、Z軸移動部15と、Z軸移動台16と、θ回転部17と、ウェハステージ18と、F軸移動部61と、F軸移動台62と、プローブの位置を検出するプローブ位置検出カメラ19と、側板20及び21と、ヘッドステージ22と、支柱31に設けられたウェハアライメントカメラ23と、ヘッドステージ22に設けられたカードホルダー24と、カードホルダー24に取り付けられるプローブカード25と、ステージ移動制御部27、画像処理部28及び温度制御部46等を有する制御部29と、を有する。
プローブカード25には、カンチレバー式のプローブ26が設けられる。移動ベース12と、Y軸移動台13と、X軸移動台14と、Z軸移動部15と、Z軸移動台16と、θ回転部17と、F軸移動部61とは、ウェハステージ18を3軸方向及びZ軸周りに回転する移動・回転機構を構成し、ステージ移動制御部27により制御される。移動・回転機構については、広く知られているので、ここでは説明を省略する。プローブカード25は、検査するデバイスの電極配置に応じて配置されたプローブ26を有し、検査するデバイスに応じて交換される。画像処理部28は、プローブ位置検出カメラ19の撮影した画像からプローブの配置及び高さ位置を算出し、ウェハアライメントカメラ23の撮影した画像からウェハ上の半導体チップ(ダイ)の電極パッドの位置を検出する。なお、制御部29の一部の機能を実行する画像処理部28は、ウェハアライメントカメラ23、又は、プローブ位置検出カメラ19による検出画像を画像処理し、電極バッド内の接触痕の位置、大きさ等を画像認識したり、プローブ26の位置を検出できる。
テスタ30は、テスタ本体と、テスタ本体に設けられたコンタクトリング32と、を有する。プローブカード25には各プローブに接続される端子が設けられており、コンタクトリング32はこの端子に接触するように配置されたスプリングプローブを有する。テスタ本体は、図示していない支持機構により、プローバ10に対して保持される。また、テスタ本体とプローバ10の制御部29は、GPIBシステム40を介して通信可能に接続されている。制御部29は、画像処理部28とステージ移動処理部27とを有する。ステージ移動処理部27は、後述するZ軸移動台16や、F軸移動台62等の移動制御を行う。
検査を行う場合には、プローブ位置検出カメラ19がプローブ26の下に位置するように、Z軸移動台16を移動させ、プローブ位置検出カメラ19でプローブ26の先端位置を検出する。プローブ26の先端の水平面内の位置(X及びY座標)は、カメラの座標により検出され、垂直方向の位置(Z座標)はカメラの焦点位置で検出される。このプローブ26の先端位置の検出は、プローブカードを交換したときには必ず行う必要があり、プローブカードを交換しない時でも所定個数のチップを測定する毎に適宜行われる。なお、プローブカード25には、通常1000以上ものプローブ26が設けられているため、全てのプローブ26の先端位置を検出せずに、通常は作業効率を考慮して、特定のプローブの先端位置を検出する。
次に、ウェハステージ18に検査するウェハWを保持した状態で、ウェハWがウェハアライメントカメラ23の下に位置するように、Z軸移動台16を移動させ、ウェハW上の半導体チップの電極パッドの位置を検出する。
プローブ26の位置及びウェハWの位置を検出した後、チップの電極パッドの配列方向がプローブ26の配列方向に一致するように、θ回転部17によりウェハステージ18を回転する。そして、ウェハWの検査するチップの電極パッドがプローブ26の下に位置するように移動した後、ウェハステージ18を上昇させて、電極パッドをプローブ26に接触させる。
プローブ26に電極パッドを接触させる時には、電極パッドの表面がプローブ26の先端部に接触する高さ位置(接触開始位置)から、更に所定量高い位置(検査位置)まで電極パッドを上昇させる。検査位置は、プローブ26と電極パッドとの間で確実な電気的接触を実現する接触圧が得られるようなプローブ26の撓み量が得られるプローブの先端部の変位量を、接触開始位置に加えた高さ位置である。実際には、プローブ26の本数は、例えば1000本以上であり、全てのプローブ26と電極パッドの間で確実な電気的接触が実現されるように検査位置が設定される。
テスタ30は、プローブ26に接続される端子から、電源及び各種の試験信号を供給し、チップの電極に出力される信号をテスタ30で解析して正常に動作するかを確認する。
クリーニングブラシユニット63は、F軸移動台62上に載置される。ウェハWの電気的テストが終了すると、ウェハWは、図示しないロボットアームによってウェハステージ18上から取り外され、ウェハステージ18には、ロボットアームにより、図示しないクリーニングユニットが載置される。Z軸移動台18は、プローブ26の真下に移動されて、ウェハステージ18を上昇させて、クリーニングシートユニットをプローブ26に接触させ、プローブ26の付着物を除去する。
次に、F軸移動台62がプローブの真下に移動し、所定量上昇してクリーニングブラシユニット63をプローブ26に接触し、プローブ26をブラッシングする。
図3に、本発明の実施例のクリーニングブラシユニット63を構成するクリーニングブラシ81を示す。図示のように、クリーニングブラシ81は、ブラシ82とクリーニング取付用板金83により構成される。ブラシ82に接着剤を付け、クリーニング取付用板金に挟み込むことによりクリーニングブラシ81は、製作される。ブラシ82は、帯電しにくい特性を有するナイロン等の良く知られた化学繊維が使用される。ブラシ82は、同じ長さに機械的に裁断されるため、ブラシ先端位置の誤差を、0.1mm以内にすることができる。
図4に、本発明の実施例であるF軸移動台搭載用のクリーニングブラシユニット63の平面図、と正面図を示す。F軸移動台搭載用のクリーニングブラシユニット63は、F軸移動台の寸法に合わせたプレート84と、プレート84の上に載せたブラシベース85と、ブラシベース85の上に敷いたブラシベースラバー88と、その上に必要な数だけ並べたクリーニングブラシ81と、クリーニングブラシ81の端を押さえて固定するクランプベース86と、サポートプレート87と、サポートプレート87を押さえて、固定する六角穴付き止めネジ89と、を有する。プレート84と、ブラシベースラバー88は平坦であるため、クリーニングブラシ81をブラシベースラバー88に載置しても、ブラシ先端位置の誤差を、0.1mm以内にすることができ、従来のクリーニングブラシと比較して、品質の低下はない。
このように本発明に係るクリーニングブラシユニット63の製作は、特別な技能を必要とせず簡単に製作可能であり、かつ、よく知られた部品によって構成されるので安価であり、機械による大量生産も可能である。また、クリーニングブラシ81を上述のように固定しやすいので、大型化が可能である。そのため、プローブ全てを覆う大きさにすることができ、ブラッシング頻度をより少なくすることが可能である。これにより、従来のクリーニングブラシより汚れがブラシに付着しにくく、ブラシ自体の洗浄処理等のメンテナンス処理頻度を少なくできる。さらに、一度プローブをブラッシングしたブラシを、他のプローブに使用しないことも可能である。このように、適格なブラッシングにより、付着物の除去が行えることで、プローブ位置検出の際に適格にプローブ位置が適格に判別される等、異常処理出現頻度を減らし、プローバ処理能力を向上させる。
以上説明したように、本発明は、従来は小型で、高価であったクリーニングブラシを、容易に製作可能であり安価な製作コストを実現でき、かつ、大型化することによって、ブラシへの付着物の付着を少なくできる。そのため、メンテナンスの頻度が少なく、かつ、ブラッシングが適格に行えることで、本発明に係るプローブクリーニング装置は、プローバのテスト処理能力の向上を可能としている。
10 プローバ
18 ウェハステージ
19 プローブ位置検出カメラ
22 ヘッドステージ
23 ウェハアライメントカメラ
25 プローブカード
63 クリーニングブラシユニット
81 クリーニングブラシ
82 ブラシ
83 クリーニング取付用板金
84 プレート
85 ブラシベース
86 クランプベース
87 サポートプレート
88 ブラシベースラバー
18 ウェハステージ
19 プローブ位置検出カメラ
22 ヘッドステージ
23 ウェハアライメントカメラ
25 プローブカード
63 クリーニングブラシユニット
81 クリーニングブラシ
82 ブラシ
83 クリーニング取付用板金
84 プレート
85 ブラシベース
86 クランプベース
87 サポートプレート
88 ブラシベースラバー
Claims (2)
- ウェハ上に形成された半導体装置の動作を、該半導体装置の電極パッドにプローブを接触させて電気的に検査するプローバにおいて、
一方向に伸びた細長いブラシを板金で挟み込んだクリーニングブラシを複数有し、かつ、前記複数のプローブの全てを覆う大きさを有するクリーニングブラシユニットと、
前記クリーニングブラシユニットを搭載するブラシステージと、を備え、
前記ブラシステージを前記プローブに移動して、前記ブラシユニットでブラッシングすることで該プローブをクリーニングするプローバ。 - ウェハ上に形成された半導体装置の動作を、該半導体装置の電極パッドにプローブを接触させて電気的に検査するプローバであって、前記プローブをクリーニングする方法において、
一方向に伸びた細長いブラシを板金で挟み込んだクリーニングブラシを複数有し、かつ、前記複数のプローブの全てを覆う大きさを有するクリーニングブラシユニットを搭載するブラシステージを、前記プローブに移動するステップ、及び、
前記ブラシユニットで前記プローブをブラッシングするステップ、を有する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005361713A JP2007165697A (ja) | 2005-12-15 | 2005-12-15 | プローバのプローブクリーニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005361713A JP2007165697A (ja) | 2005-12-15 | 2005-12-15 | プローバのプローブクリーニング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007165697A true JP2007165697A (ja) | 2007-06-28 |
Family
ID=38248236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005361713A Pending JP2007165697A (ja) | 2005-12-15 | 2005-12-15 | プローバのプローブクリーニング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007165697A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000174080A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバの触針のクリーニング機構 |
| JP2000223539A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Tokyo Electron Ltd | クリーナ及びクリーニング方法 |
-
2005
- 2005-12-15 JP JP2005361713A patent/JP2007165697A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000174080A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバの触針のクリーニング機構 |
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