JP2007246568A - 無機粒子含有樹脂組成物、転写フィルムおよびディスプレイパネル用部材の製造方法 - Google Patents
無機粒子含有樹脂組成物、転写フィルムおよびディスプレイパネル用部材の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができ、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から形成される樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、屈折率が１．４〜１．８の範囲にあり、かつ、比表面積が０．５〜３００ｍ2/ｇの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であることを特徴とする。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、屈折率が１．４〜１．８の範囲にあり、かつ、比表面積が０．５〜３００ｍ2/ｇの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
本発明は、ディスプレイパネル用部材の製造に好適な無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から得られる転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法に関する。
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）の断面形状を示す模式図である。図１において、１０１および１０２は対抗配置されたガラス基板、１０３および１１１は隔壁であり、ガラス基板１０１、ガラス基板１０２、背面隔壁１０３および前面隔壁１１１によりセルが区画形成されている。１０４はガラス基板１０１に固定された透明電極であり、１０５は透明電極１０４の抵抗を下げる目的で該透明電極１０４上に形成されたバス電極であり、１０６はガラス基板１０２に固定されたアドレス電極である。１０７はセル内に保持された蛍光物質であり、１０８は透明電極１０４およびバス電極１０５を被覆するようガラス基板１０１の表面に形成された誘電体層であり、１０９はアドレス電極１０６を被覆するようガラス基板１０２の表面に形成された誘電体層であり、１１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにおいては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
ＰＤＰ部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、フォトリソグラフィー法が好適である。フォトリソグラフィー法とは、無機粒子とビヒクルとを含むペースト状の感光性組成物からなる層を基板等の表面に形成し、これを露光および現像することによりパターンを形成し、次いで該パターンを焼成して有機物質を除去し、無機粒子を焼結させる方法である。特に、前記感光性組成物から形成される層を有する転写フィルムを用いて、基板等の表面に転写することを特徴とするフォトリソグラフィー法は、厚みの均一性に優れた膜が得られるとともに、作業効率が改善されることから非常に好ましい。
上述した方法で、例えば隔壁を形成する場合、焼成工程で有機物質が除去されて膜厚が小さくなるので、転写層は形成すべき隔壁の膜厚の１．２〜２．０倍程度とすることが必要である。具体的には、隔壁の膜厚を５０〜２００μｍとするためには、転写層の厚みを５０〜３００μｍ程度にする必要がある。
ここで、ＰＤＰを構成する隔壁は、良好な電気的特性を発現させる観点から、アスペクト比が高く、形状が均一であることが望ましい。しかしながら、転写層の厚みが大きいと、現像の際にパターンの側壁がえぐれた形状になりやすく、パターン形状が均一かつ良好な隔壁が得られにくい。また、現像の際にパターンの側壁がえぐられた状態で焼成処理を行うと、パターンが剥離したり、変形がひどくなったりする場合がある。
このような問題点を解決するため、例えばＰＤＰ用隔壁の製造方法において、隔壁形成用組成物の膜が、現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することを特徴とするＰＤＰ用隔壁の製造方法に関する発明が開示されている（例えば特許文献１参照。）
しかしながら、上記特許文献１に開示されている方法では、隔壁形成用組成物を構成する樹脂の共重合組成比を調整して溶解性を変化させているにすぎないため、必ずしも溶解
性の違いが十分でない場合があり、パターン形状が均一かつ良好な隔壁を得る点ではいまだ問題があった。
しかしながら、上記特許文献１に開示されている方法では、隔壁形成用組成物を構成する樹脂の共重合組成比を調整して溶解性を変化させているにすぎないため、必ずしも溶解
性の違いが十分でない場合があり、パターン形状が均一かつ良好な隔壁を得る点ではいまだ問題があった。
そこで、一度の露光で高アスペクト比かつ良好な形状を得るため、無機成分と有機成分との界面における光の散乱や回折を抑制するために、フィルム中の有機成分の屈折率と無機成分の屈折率とを整合する方法が検討されている。
一般に、この用途で用いられている無機粒子の屈折率は、低屈折率のものでも１．５０〜１．６５程度であり、通常の有機成分の屈折率は１．４０〜１．５０程度である。したがって、無機粒子の屈折率と有機成分の屈折率とを整合させるためには、有機成分の中でも高屈折率を有するものを使用するほかない。しかしながら、高屈折率を有する有機成分は熱分解性が悪いため、焼成後の隔壁等の部材に有機残渣が残り、部材が着色しやすい傾向にあり、信頼性の高いディスプレイを製造できないという問題がある。
特開平９-９２１３７号公報
本発明は、上記課題を解決しようとするものであり、優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができるとともに、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記無機粒子含有樹脂組成物から形成される無機粒子含有樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供することも目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、特定の酸化物微粒子を用い、無機成分の屈折率と有機成分の屈折率とを整合させることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、屈折率が１．４〜１．８の範囲にあり、かつ、比表面積が０．５〜３００ｍ2
／ｇの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、該酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であることを特徴とする。
／ｇの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、該酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であることを特徴とする。
また、本発明の転写フィルムは、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、屈折率が１．４〜１．８の範囲にあり、かつ、比表面積が０．５〜３００ｍ2／ｇの範囲にあ
る酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、該酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部である無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有することを特徴とする。
る酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、該酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部である無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有することを特徴とする。
また、本発明のディスプレイパネル用部材の製造方法は、本発明の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程、該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該無機粒子含有樹脂層を水現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。
本発明によれば、酸化物微粒子が燃焼助剤として働くことで、高屈折率の有機成分を用いても燃焼性に優れ、本発明の組成物を用いて得られる部材に有機残渣が残らず、信頼性の高いディスプレイを製造することができる。また、酸化物微粒子が高軟化点フィラーと似た働きをするため、焼成後のパターン形状を保持することができ、優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができる。さらに、焼成時の泡抜け性が良好であり、有機残渣のない部材を形成することができる。
以下、本発明に係る無機粒子含有樹脂組成物、転写フィルムおよびディスプレイパネルの製造方法について詳細に説明する。
〔無機粒子含有樹脂組成物〕
本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含有する。
〔無機粒子含有樹脂組成物〕
本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含有する。
＜酸化物微粒子＞
本発明の組成物に用いられる酸化物微粒子は、平均粒子径が０．００１〜５μｍ、好ましくは０．００５〜３μｍ、さらに好ましくは０．０２〜０．３μｍである。この平均粒子径は、ディスプレイパネル用部材の製造工程中、露光工程で用いられる紫外線の波長（例えば、ｇ線：４３６ｎｍ、ｈ線：４０５ｎｍ、ｉ線：３６５ｎｍ）より十分小さい値である。この範囲の粒子径を有する酸化物微粒子を用いることにより、酸化物微粒子と有機成分との界面における露光光の散乱および反射が無視できる程小さくなり、組成物が光学的に均質な溶液と見なすことができるという利点がある。
本発明の組成物に用いられる酸化物微粒子は、平均粒子径が０．００１〜５μｍ、好ましくは０．００５〜３μｍ、さらに好ましくは０．０２〜０．３μｍである。この平均粒子径は、ディスプレイパネル用部材の製造工程中、露光工程で用いられる紫外線の波長（例えば、ｇ線：４３６ｎｍ、ｈ線：４０５ｎｍ、ｉ線：３６５ｎｍ）より十分小さい値である。この範囲の粒子径を有する酸化物微粒子を用いることにより、酸化物微粒子と有機成分との界面における露光光の散乱および反射が無視できる程小さくなり、組成物が光学的に均質な溶液と見なすことができるという利点がある。
さらに、酸化物微粒子の比表面積が０．５〜３００ｍ2／ｇの範囲にあることにより、
酸化物微粒子と有機成分との界面における露光光の散乱を抑制でき、良好な隔壁パターンを得ることができる。
酸化物微粒子と有機成分との界面における露光光の散乱を抑制でき、良好な隔壁パターンを得ることができる。
また、本発明の組成物に用いられる酸化物微粒子は、屈折率が１．４〜１．８の範囲にある酸化物である。この範囲の屈折率を有する酸化物微粒子を用いることにより、組成物中における無機成分と有機成分との屈折率を近いものとしつつ、有機成分の燃焼性を向上させることができるという利点を有する。
本発明で用いることができる酸化物微粒子の好ましい例としては、酸化珪素、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムが挙げられる。
上記酸化物微粒子は比較的安定であり、表面での反応などが起きにくい。また、上記酸化物微粒子は市販されているため、低コストであり、かつ供給が安定している。酸化物微粒子が有する機能や、用いる有機成分との反応性などから最適な酸化物微粒子を選択することができる。また、複数の酸化物微粒子を混合して、有機成分と整合させてもよい。
上記酸化物微粒子は比較的安定であり、表面での反応などが起きにくい。また、上記酸化物微粒子は市販されているため、低コストであり、かつ供給が安定している。酸化物微粒子が有する機能や、用いる有機成分との反応性などから最適な酸化物微粒子を選択することができる。また、複数の酸化物微粒子を混合して、有機成分と整合させてもよい。
本発明の無機粒子含有樹脂組成物において、酸化物微粒子は、ガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１５重量部の範囲で用いられる。前記酸化物微粒子を前記範囲内の量で用いることにより、熱膨張係数の調整に有効であり、焼成温度での製膜性、形成される部材の安定性や緻密性の点で好ましい。
＜ガラス粉末＞
本発明の組成物に用いられるガラス粉末としては、熱軟化点が３５０〜６５０℃、好ましくは４００〜６００℃の低融点ガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲よりも低いと、上記組成物から形成された無機粒子含有樹脂層の焼成工程において、樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまう。そのため、形成される部材中に有機物質の一部が残留し、その結果、誘電体層や隔壁
などの部材が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲を超えると、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。また、上記ガラス粉末のガラス転移温度は３５０〜５５０℃であることが好ましい。
本発明の組成物に用いられるガラス粉末としては、熱軟化点が３５０〜６５０℃、好ましくは４００〜６００℃の低融点ガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲よりも低いと、上記組成物から形成された無機粒子含有樹脂層の焼成工程において、樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまう。そのため、形成される部材中に有機物質の一部が残留し、その結果、誘電体層や隔壁
などの部材が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲を超えると、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。また、上記ガラス粉末のガラス転移温度は３５０〜５５０℃であることが好ましい。
上記ガラス粉末の平均粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、平均粒子径が０．００１〜５μｍのサイズを有していることが、パターン形成上好ましい。また、ガラス粉末の比表面積は１〜３００ｍ2／ｇであることが、パターン形成上
好ましい。
好ましい。
上記ガラス粉末の屈折率は、好ましくは１．６５以下、より好ましくは１．４５〜１．６５、さらに好ましくは１．５０〜１．６０である。ガラス粉末の屈折率が前記範囲内にあることにより、露光光の直進性が向上し、形状が良好な隔壁パターンを形成することができる。
上記ガラス粉末は、酸化珪素を５〜５０重量％の範囲で含有することが好ましく、１０〜３０重量％の範囲で含有することがさらに好ましい。酸化珪素は、ガラスの緻密性、強度および安定性を向上させる働きを有するとともに、ガラスの低屈折率化にも効果がある。また、熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離等を防ぐこともできる。酸化珪素の含有量が５重量％以上であることにより、熱膨張係数を小さく抑え、ガラス基板に焼き付けた時に起こるクラックの発生を低減することができるとともに、屈折率を低く抑えることができる。また、酸化珪素の含有量が５０重量％以下であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる。
上記ガラス粉末は、酸化ホウ素を１０〜５０重量％の範囲で含有することが好ましく、２０〜４５重量％の範囲で含有することがさらに好ましい。酸化ホウ素の含有量が１０重量％以上であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付けを容易にすることができる。また、酸化ホウ素の含有量が５０重量％以下であることにより、ガラスの化学的安定性を維持することができる。なお、酸化ホウ素は低屈折率化にも有効である。
上記ガラス粉末は、酸化バリウムおよび酸化ストロンチウムのうち少なくとも１種を、その合計量が１〜３０重量％の範囲となるように含有することが好ましく、２〜２０重量％の範囲となるように含有することがさらに好ましい。これらの成分は、熱膨張係数の調整に有効であり、焼成時の基板の変形を防止する効果、電気絶縁性を付与する効果、形成される隔壁の安定性および緻密性を向上する効果などを有する。これらの含有量が１重量％以上であることにより、ガラスの結晶化による失透を防ぐこともでき、また、３０重量％以下であることにより、熱膨張係数および屈折率を小さく抑えることができるとともに、化学的安定性を維持することができる。
上記ガラス粉末は、酸化アルミニウムを１〜４０重量％の範囲で含有することが好ましい。酸化アルミニウムは、ガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、組成物のポットライフ延長にも有効である。酸化アルミニウムの含有量が前記範囲内であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く保ち、基板への密着性を向上することができる。
上記ガラス粉末は、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムのうち少なくとも１種を、その合計量が１〜２０重量％となるように含有することが好ましい。これらの成分は、ガラスを溶融しやすくするとともに、熱膨張係数を制御する効果を有する。これらの含有量
が１重量％以上であることにより、ガラスの結晶化による失透を防ぐことができ、また、１５重量％以下であることにより、ガラスの化学的安定性を維持することができる。
が１重量％以上であることにより、ガラスの結晶化による失透を防ぐことができ、また、１５重量％以下であることにより、ガラスの化学的安定性を維持することができる。
上記ガラス粉末は、酸化リチウム、酸化ナトリウムおよび酸化カリウムのアルカリ金属酸化物を１〜２０重量％の範囲で含有することが好ましい。アルカリ金属酸化物は、ガラスの熱軟化点および熱膨張係数のコントロールを容易にするとともに、ガラス粉末としての屈折率を低くする効果を有する。アルカリ金属酸化物は、イオンのマイグレーションや拡散を促進することがあるので、合計量を２０重量％以下とすることにより、ガラスの化学的安定性を維持するとともに熱膨張係数を小さく抑えることができる。
上記ガラス粉末は、上記成分に加えて、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム等を含有してもよい。
＜その他の無機成分＞
本発明の組成物には、上記酸化物微粒子以外の種々の金属酸化物を添加することによって、焼成後のパターンを着色することができる。例えば、組成物中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％の範囲で含むことによって、黒色のパターンを形成することができる。
＜その他の無機成分＞
本発明の組成物には、上記酸化物微粒子以外の種々の金属酸化物を添加することによって、焼成後のパターンを着色することができる。例えば、組成物中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％の範囲で含むことによって、黒色のパターンを形成することができる。
この際に用いる黒色の金属酸化物として、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎの酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色化が可能になる。特に、ＦｅおよびＭｎの酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによって、より黒色のパターンを形成できる。
さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色する無機顔料を添加した組成物を用いることによって、各色のパターンを形成できる。これらの着色パターンは、プラズマディスプレイのカラーフィルターなどに好適に用いることができる。
＜アルカリ可溶性樹脂＞
アルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性であれば特に限定されず、種々の樹脂を用いることができる。ここで、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、上記アルカリ現像液に溶解する性質をいう。
アルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性であれば特に限定されず、種々の樹脂を用いることができる。ここで、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、上記アルカリ現像液に溶解する性質をいう。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、下記モノマー（i）から選ばれるモ
ノマーと、モノマー（ii）および／またはモノマー（iii）から選ばれるモノマーとの共
重合体が好ましい。モノマー（i）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を
付与することができる。なお、モノマー（i）由来の構成単位の含有量は、全構成単位中
、通常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
ノマーと、モノマー（ii）および／またはモノマー（iii）から選ばれるモノマーとの共
重合体が好ましい。モノマー（i）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を
付与することができる。なお、モノマー（i）由来の構成単位の含有量は、全構成単位中
、通常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。
上記モノマー（i）としては、たとえば、
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノ
ール性水酸基含有モノマー類
などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類が挙げられる。
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノ
ール性水酸基含有モノマー類
などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類が挙げられる。
特に好ましいモノマー（i）としては、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−
アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレートが挙げられる。
アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレートが挙げられる。
上記モノマー（ii）としては、たとえば、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の上記モノマー（i）以外のエステル（メタ）アクリレート類；
スチレン、α−メチルスチレン、α−メチルクロロスチレン、α−メチルブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどの芳香族ビニル系モノマー類；
ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類
などに代表される、モノマー（i）と共重合可能なモノマー類が挙げられる。
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の上記モノマー（i）以外のエステル（メタ）アクリレート類；
スチレン、α−メチルスチレン、α−メチルクロロスチレン、α−メチルブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどの芳香族ビニル系モノマー類；
ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類
などに代表される、モノマー（i）と共重合可能なモノマー類が挙げられる。
上記モノマー（iii）としては、たとえば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、
エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類などが挙げられる。
エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類などが挙げられる。
上記アルカリ可溶性樹脂の重合は、例えばラジカル重合によって行うことができる。ラジカル重合の開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイルなどを用いることができる。ラジカル重合の溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどを用いることができる。重合温度は通常５０〜１００℃で行うことができ、重合時間は通常３０〜６００分である。
上記アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常、５，０００〜１００，０００、好ましくは８，０００〜５０，０００である。Ｍｗが前記範囲にあることにより、パターン形状に優れたＰＤＰ部材を形成することができる。なお、アルカリ可溶性樹脂のＭｗは、たとえば、モノマーと重合開始剤との比で制御することができる。
上記アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度は、２０〜９０℃、好ましくは２５〜７５℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、支持体であるガラス基板との密着性が悪くなり、転写できないことがある。なお、前記ガラス転移温度は、上記モノマー（i）、（ii）、（iii）の量を変更することによって適宜調節することができる。
カルボキシル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価は５０〜２００、好ましくは６０〜１８０の範囲である。酸価が前記範囲よりも低いと、現像許容幅が狭くなる傾向にある。また、酸価が前記範囲を超えると、未露光部の現像液に対する溶解性
が低下するようになるため、現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい傾向にある。
が低下するようになるため、現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい傾向にある。
本発明の組成物において、上記アルカリ可溶性樹脂は、上記ガラス粉末１００重量部に対して、１０〜５０重量部、好ましくは１５〜４０重量部の範囲で用いられる。アルカリ可溶性樹脂を前記範囲内で含有することにより、形状が良好なパターン（部材）を形成することができる。
＜感放射線性成分＞
本発明の組成物において、感放射線性成分は、光に対する感度の点から、有機成分中の１０重量％以上、好ましくは２０〜６０重量％となる量で用いられる。ここで、感放射線性成分としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがある。
本発明の組成物において、感放射線性成分は、光に対する感度の点から、有機成分中の１０重量％以上、好ましくは２０〜６０重量％となる量で用いられる。ここで、感放射線性成分としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがある。
光不溶化型のものとして、（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性のモノマーもしくはオリゴマーを含有するもの、（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの、（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物など、いわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
光可溶型のものとして、（Ｄ）ジアゾ化合物の無機酸や有機酸との錯体、キノンジアゾ類を含有するもの、（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させたもの、例えばフェノール樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等がある。
本発明における感放射線性成分としては、上記のすべてのものを用いることができるが、無機成分と混合して簡便に用いることができる点で、上記（Ａ）のものが好ましい。
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物が挙げられ、具体的には、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２-ヒドロキシプロピルフタレート
、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）タクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素もしくは臭素原子に置換したモノマー；および、
スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。上記感光性モノマーは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物が挙げられ、具体的には、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２-ヒドロキシプロピルフタレート
、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）タクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素もしくは臭素原子に置換したモノマー；および、
スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。上記感光性モノマーは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明では、感放射線性成分として、光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノンー１、２−ヒドロキシー２−メチルー１−フェニループロパンー１−オン、２，２‘−ジメトキシー１，２−ジフェニルエタンー１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン
、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組合せなどが挙げられる。
、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組合せなどが挙げられる。
上記光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記光重合性開始剤は、上記無機粒子１００重量部に対して、通常０．１〜３０重量部、好ましくは０．３〜２０重量部の範囲で用いられる。特に、感放射線性成分として感光性モノマーと光重合開始剤との組み合わせを用いる場合、感光性モノマーの含有量は、ガラス粉末１００重量部に対して、通常１〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部であり、光重合開始剤の含有量は、感光性モノマー１００重量部に対して、通常１〜５０重量部、好ましくは２〜４０重量部である。感放射線成分の含有量が前記範囲を超えると、焼成後のディスプレイパネル用部材の形状が劣化することがある。
＜紫外線吸収剤＞
本発明では、組成物中に紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料または無機顔料が好ましく用いられる。
本発明では、組成物中に紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができ、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料または無機顔料が好ましく用いられる。
具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムなどの無機顔料を用いることができる。これらにおいて、有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないため、絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましいが、フラットディスプレイパネルの信頼性の観点から、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムのような無機顔料がより好ましい。
無機顔料は、ガラス粉末１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することができる。０．００１重量部以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少し、５重量部を超えると紫外線吸光剤の効果が大きく膜の下層まで光が届かなくなり、パターンを形成できなくなることや、成膜強度が保てないことがあるため、好ましくない。
＜増感剤＞
本発明の組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニ
ル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。
本発明の組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニ
ル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。
上記増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。上記増感剤は、無機成分に対して、通常０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０５〜３重量％の範囲となる量で添加することができる。増感剤の量が少なすぎると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。
＜重合禁止剤＞
本発明の組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる
＜酸化防止剤＞
本発明の組成物には、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
本発明の組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる
＜酸化防止剤＞
本発明の組成物には、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。
＜有機溶媒＞
本発明の組成物には、溶液の粘度を調整するために、有機溶媒を加えてもよい。有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などが挙げられる。上記有機溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
本発明の組成物には、溶液の粘度を調整するために、有機溶媒を加えてもよい。有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などが挙げられる。上記有機溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
＜無機粒子含有樹脂組成物の調製＞
本発明の組成物は、通常、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性成分および溶媒等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散して調製する。
本発明の組成物は、通常、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性成分および溶媒等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散して調製する。
組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、その範囲は２，０００〜２００，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。
本発明の組成物において、組成物中の酸化物微粒子とガラス粉末との平均屈折率（以下
「屈折率Ｒ1」ともいう。）と、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む有機成
分の屈折率（以下「屈折率Ｒ2」ともいう。）との差は、好ましくは±０．０５以内、特
に好ましくは±０．０３以内である。前記屈折率Ｒ1とＲ2との差が小さいことにより、優れたパターン形状および高アスペクト比のパターンを得ることができる。
「屈折率Ｒ1」ともいう。）と、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む有機成
分の屈折率（以下「屈折率Ｒ2」ともいう。）との差は、好ましくは±０．０５以内、特
に好ましくは±０．０３以内である。前記屈折率Ｒ1とＲ2との差が小さいことにより、優れたパターン形状および高アスペクト比のパターンを得ることができる。
本発明における屈折率Ｒ1およびＲ2は、本発明の組成物または転写フィルムを用いてディスプレイパネル用部材を形成する際に用いられる露光光に対する屈折率のことである。
上記屈折率Ｒ1は下記式より求められる。
上記屈折率Ｒ1は下記式より求められる。
Ｒ1＝ｎ1ｒ1＋ｎ2ｒ2
式中、ｎ1およびｎ2は、それぞれ酸化物微粒子およびガラス粉末の体積分率を表し、ｒ1およびｒ2は、それぞれ酸化物微粒子およびガラス粉末の屈折率を表す。
式中、ｎ1およびｎ2は、それぞれ酸化物微粒子およびガラス粉末の体積分率を表し、ｒ1およびｒ2は、それぞれ酸化物微粒子およびガラス粉末の屈折率を表す。
上記酸化物微粒子およびガラス粉末の屈折率の測定は、ベッケ法により行うことができる。測定する光の波長は、後述する露光工程で用いる光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。具体的には、３５０〜６５０ｎｍの波長の光、特にｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）またはｇ線（４３６ｎｍ）で測定することが好ましい。
上記屈折率Ｒ2は、例えば、酸化物微粒子やガラス粉末などの無機成分を除く有機成分
からなる組成物を調製し、これをガラス基板上に塗布し、５０〜１００℃で１〜３０分乾燥して溶媒を除去した後、得られた樹脂層の屈折率を測定することにより求めることができる。
からなる組成物を調製し、これをガラス基板上に塗布し、５０〜１００℃で１〜３０分乾燥して溶媒を除去した後、得られた樹脂層の屈折率を測定することにより求めることができる。
屈折率Ｒ2の測定方法としては、一般的に行われるエリプソメトリー法やＶブロック法
が好ましく、後述する露光工程で用いる光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。具体的には、３５０〜６５０ｎｍの波長の光、特にｈ線（４０５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）で測定することが好ましい。
が好ましく、後述する露光工程で用いる光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。具体的には、３５０〜６５０ｎｍの波長の光、特にｈ線（４０５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）で測定することが好ましい。
なお、測定時の光照射条件は、サンプルが光硬化しない条件であることが望ましく、具体的には、光量が０．１〜５０ｍW／ｃｍ2、好ましくは０．５〜２５ｍW／ｃｍ2であり、照射時間が０．１〜２０秒／１ポイント、好ましくは０．５〜１０秒／１ポイントである。
また、有機成分が光照射によって重合した後の屈折率の測定については、本発明の組成物を用いて形成される無機粒子含有樹脂層に対して光照射する場合と同様の光を、有機成分のみからなる樹脂層に照射して硬化させた後に測定することができる。
〔転写フィルム〕
本発明の転写フィルムは、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、屈折率が１．４〜１．８の範囲にある酸化物微粒子を、ガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部含有する無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有する。
本発明の転写フィルムは、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、屈折率が１．４〜１．８の範囲にある酸化物微粒子を、ガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部含有する無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有する。
上記無機粒子含有樹脂層の厚みは、５０〜３００μｍ、好ましくは６０〜２００μｍである。樹脂層の厚みが５０μｍよりも薄いと、焼成後の厚みが４０〜１５０μｍの隔壁を形成する場合、１回のラミネートで必要厚みを形成することができない。また、樹脂層の厚みが３００μｍよりも厚いと、露光および現像時の時間が長くなり、スループットを上げられないことや、所望の厚みとするために、厚み方向の焼成収縮率を大きくする必要が生じるため、焼成時の欠点が出やすくなることから、好ましくない。
上記無機粒子含有樹脂層の屈折率は、通常１．４５〜１．６５、好ましくは１．５０〜１．６０の範囲である。無機粒子含有樹脂層の屈折率が前記範囲内にあることにより、ガラス粉末と無機粒子含有樹脂層の屈折率を整合されることで露光光の直進性が向上し、形状が優れた隔壁パターンを得ることができる。なお、無機粒子含有樹脂層の屈折率は、上述した屈折率Ｒ2の測定方法に準じて測定することができる。
＜支持フィルム＞
本発明の転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粒子含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存および供給することができる。なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、例えば２０〜１００μｍである。
本発明の転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粒子含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存および供給することができる。なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、例えば２０〜１００μｍである。
支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。
上記支持フィルムにおける部材形成材料層が形成される面には、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ディスプレイパネル用部材を形成する際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
さらに、無機粒子含有樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、上記支持フィルムと同様の可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができ、その表面（無機粒子含有樹脂層と接する面）には離型処理が施されていてもよい。
＜転写フィルムの製造方法＞
本発明の転写フィルムは、上記支持フィルム上に、本発明の無機粒子含有樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて無機粒子含有樹脂層を形成することにより得られる。乾燥後は、ロール状に巻くか、保護フィルムをラミネートする。また、本発明の転写フィルムは、支持フィルムおよび保護フィルムのそれぞれに組成物を塗布して樹脂層を形成し、互いの樹脂層面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。
本発明の転写フィルムは、上記支持フィルム上に、本発明の無機粒子含有樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて無機粒子含有樹脂層を形成することにより得られる。乾燥後は、ロール状に巻くか、保護フィルムをラミネートする。また、本発明の転写フィルムは、支持フィルムおよび保護フィルムのそれぞれに組成物を塗布して樹脂層を形成し、互いの樹脂層面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。
上記組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。
塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で、０．５〜３０分間程度である。
〔ディスプレイパネル用部材の製造方法〕
本発明のディスプレイパネル用部材の製造方法は、
本発明の転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程、
該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粒子含有樹脂層を水現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とする。
〔ディスプレイパネル用部材の製造方法〕
本発明のディスプレイパネル用部材の製造方法は、
本発明の転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程、
該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粒子含有樹脂層を水現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とする。
＜転写工程＞
本発明の転写フィルムの無機粒子含有樹脂層を、ラミネートによって基板に転写する。
転写フィルムを用いることにより、膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。また、上記転写フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、ｎ層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、上記積層体を形成してもよい。
本発明の転写フィルムの無機粒子含有樹脂層を、ラミネートによって基板に転写する。
転写フィルムを用いることにより、膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。また、上記転写フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、ｎ層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、上記積層体を形成してもよい。
転写フィルムを用いた転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて用いられる転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に樹脂層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着する。これにより、基板の表面に樹脂層が転写されて密着した状態となる。支持フィルムは、後述する露光工程の後に剥離除去することが好ましいが、露光工程の前に剥離除去してもよい。
転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が４０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分で
ある。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
ある。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。
上記転写工程において、基板と樹脂層との密着性を高めるために基板の表面処理を行うことができる。表面処理に用いられる表面処理液としては、シランカップリング剤、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどを、有機溶媒、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで、０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いることができる。次いで、この表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後、８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理することができる。
本発明で用いられる基板材料としては、例えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面には、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。
なお、本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。このようなガラス基板としては、例えば、旭硝子（株）製「ＰＤ２００」などが挙げられる。
＜露光工程＞
転写工程後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。
転写工程後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。
用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５
００μｍ幅のストライプもしくは格子である。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
００μｍ幅のストライプもしくは格子である。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。
無機粒子含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、樹脂層にパターンの潜像を形成する。なお、樹脂層上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うのが好ましい。
露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に無機粒子含有樹脂組成物を塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
露光の際に使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。
露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀
灯を用いて０．０５〜１分間露光を行なう。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上することができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上することができる。
灯を用いて０．０５〜１分間露光を行なう。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上することができる。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上することができる。
＜現像工程＞
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、無機粒子含有樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、無機粒子含有樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。
現像工程で用いられる現像液としては、無機粒子含有樹脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒を使用できる。また、該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。無機粒子含有樹脂層中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。
上記無機粒子含有樹脂層に含まれる無機粒子は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、該樹脂を現像液で溶解させて洗浄することにより、無機粒子も同時に除去される。
上記アルカリ水溶液としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液などが挙げられる。
有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
エチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。
アルカリ水溶液の濃度は、通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあることから好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
＜焼成工程＞
現像後の樹脂層残留部における有機物質を焼失させるために、焼成炉にて、形成された樹脂層のパターンを焼成処理する。
現像後の樹脂層残留部における有機物質を焼失させるために、焼成炉にて、形成された樹脂層のパターンを焼成処理する。
焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
焼成処理条件は、無機粒子含有樹脂層（残留部）中の有機物質が焼失されることが必要であり、通常、焼成温度が４００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。ガラス基板上にパターン加工する場合は、４５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。
なお、上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。
上記工程を含む本発明の製造方法により、隔壁、電極、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のディスプレイパネル用部材、特にプラズマディスプレイパネル用部材を形成することができる。なお、本発明の製造方法は、これらの中でも隔壁または誘電体を形成する方法として好ましい。
上記工程を含む本発明の製造方法により、隔壁、電極、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のディスプレイパネル用部材、特にプラズマディスプレイパネル用部材を形成することができる。なお、本発明の製造方法は、これらの中でも隔壁または誘電体を形成する方法として好ましい。
上記工程を含む本発明の方法によって得られた隔壁層を有するガラス基板は、プラズマディスプレイの前面側もしくは背面側に用いることができる。また、プラズマアドレス液晶ディスプレイのアドレス部分の放電を行うための基板として用いることができる。
形成した隔壁層の間に蛍光体を塗布した後に、前背面のガラス基板を合わせて封着し、ヘリウム、ネオン、キセノン等の希ガスを封入することによって、プラズマディスプレイのパネル部分を製造できる。さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装することによって、プラズマディスプレイを製造することができる。
［実施例］
以下、実施例に基づいて、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定はされない。
以下、実施例に基づいて、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定はされない。
まず、屈折率の測定方法、熱軟化点の測定方法、ガラス転移温度の測定方法、ポリマーの酸価の測定方法、比表面積の測定方法、平均粒子径の測定方法、隔壁パターンの現像後の評価方法、隔壁パターンの焼成後の評価方法、重量平均分子量（Ｍｗ）の測定方法について説明する。なお、実施例および比較例中の濃度（％）は、特にことわらない限り「重量％」であり、「部」は「重量部」のことである。
（屈折率）
酸化物微粒子およびガラス粉末の屈折率は、液浸法により測定した。酸化物微粒子およびガラス粉末を幾つかの屈折率浸液に浸し、光学顕微鏡で粒子と浸液との境界に発生するベッケ線が消失したときの浸液の屈折率とした。
酸化物微粒子およびガラス粉末の屈折率は、液浸法により測定した。酸化物微粒子およびガラス粉末を幾つかの屈折率浸液に浸し、光学顕微鏡で粒子と浸液との境界に発生するベッケ線が消失したときの浸液の屈折率とした。
有機成分の屈折率は、有機成分のみからなる組成物を調製し、塗布および乾燥工程後にエリプソメトリー法によって、２３℃における４０５ｎｍの波長の光に関して測定した。
無機粒子含有樹脂層の屈折率は、有機成分および無機粒子からなる組成物を調製し、塗布および乾燥工程後にエリプソメトリー法によって、２３℃における４０５ｎｍの波長の光に関して測定した。
無機粒子含有樹脂層の屈折率は、有機成分および無機粒子からなる組成物を調製し、塗布および乾燥工程後にエリプソメトリー法によって、２３℃における４０５ｎｍの波長の光に関して測定した。
（熱軟化点）
ガラス粉末を試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（TA Instruments製「２９２０NDSC」）を用い、１０℃／分で３０〜７００℃まで昇温した。得られた吸熱ピークトップの温度を熱軟化点とした。
ガラス粉末を試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（TA Instruments製「２９２０NDSC」）を用い、１０℃／分で３０〜７００℃まで昇温した。得られた吸熱ピークトップの温度を熱軟化点とした。
（ガラス転移温度）
精製したポリマーを試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（TA Instruments製「２９２０NDSC」）を用い、１０℃／分で-３０〜３５０℃まで昇温した。得られた吸熱ピーク
トップの温度をガラス転移温度とした。
精製したポリマーを試料ホルダーに封入し、示差走査熱量計（TA Instruments製「２９２０NDSC」）を用い、１０℃／分で-３０〜３５０℃まで昇温した。得られた吸熱ピーク
トップの温度をガラス転移温度とした。
（ポリマー酸価）
ポリマーの酸価は次のように測定した。精製および乾燥したポリマーを所定量（約１ｇ）秤量し、エタノールを約５０ｍｌ添加してポリマーを溶解した。ｐＨメーター（本体「D-54S」、電極「9677−１０D」、堀場製）を用いて、スターラーを撹拌しながら０．１Ｎ−ＫＯＨ水溶液を滴下し、中和終了点（ｐＨ＝７）を求めた。ポリマー１ｇ当りのＫＯＨ-ｍｇ数に換算し、これをポリマーの酸価とした。ポリマーの酸価の算出は（５６．１×
ＫＯＨ水溶液使用量×０．１）／試料採取量より求めた。
ポリマーの酸価は次のように測定した。精製および乾燥したポリマーを所定量（約１ｇ）秤量し、エタノールを約５０ｍｌ添加してポリマーを溶解した。ｐＨメーター（本体「D-54S」、電極「9677−１０D」、堀場製）を用いて、スターラーを撹拌しながら０．１Ｎ−ＫＯＨ水溶液を滴下し、中和終了点（ｐＨ＝７）を求めた。ポリマー１ｇ当りのＫＯＨ-ｍｇ数に換算し、これをポリマーの酸価とした。ポリマーの酸価の算出は（５６．１×
ＫＯＨ水溶液使用量×０．１）／試料採取量より求めた。
（比表面積）
酸化微粒子を試料ホルダーに置き、比表面積計（SHIMADZU製「ジェミニV2380」）を用
いて動的定圧法により測定した。
酸化微粒子を試料ホルダーに置き、比表面積計（SHIMADZU製「ジェミニV2380」）を用
いて動的定圧法により測定した。
（平均粒子径）
平均粒子径はコールターカウンター法およびレーザ回折散乱粒子径分布装置（日機装製「MT3300」）を用いて測定した。
平均粒子径はコールターカウンター法およびレーザ回折散乱粒子径分布装置（日機装製「MT3300」）を用いて測定した。
（現像後の隔壁パターンの評価）
パネルを切断して小片にし、図２に示す隔壁断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、隔壁の幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格±３μｍ以内であれば◎、規格±３μｍを超えて５μｍ以内であれば○、規格±５μｍを超えて±１０μｍ以内であれば△、規格±１０μｍを超えるものは×とした。
パネルを切断して小片にし、図２に示す隔壁断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、隔壁の幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格±３μｍ以内であれば◎、規格±３μｍを超えて５μｍ以内であれば○、規格±５μｍを超えて±１０μｍ以内であれば△、規格±１０μｍを超えるものは×とした。
（焼成後の隔壁パターンの評価）
パネルを切断して小片にし、隔壁の長手方向と、垂直な断面とを走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、隔壁の幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格であれば◎、規格内であれば○、規格から一部外れるものは△、規格外であるものは×とした。
パネルを切断して小片にし、隔壁の長手方向と、垂直な断面とを走査型電子顕微鏡（日立製作所製「Ｓ４２００」）で観察し、隔壁の幅および高さを計測した。幅および高さが所望の規格であれば◎、規格内であれば○、規格から一部外れるものは△、規格外であるものは×とした。
（重量平均分子量の測定）
Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。なお、ＧＰＣによる測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ
ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、測定温度４０℃の条件で行った。
Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。なお、ＧＰＣによる測定は、ＧＰＣカラムとして東ソー製「ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ
ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ」を用い、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用い、測定温度４０℃の条件で行った。
〔アルカリ可溶性樹脂の合成〕
＜合成例１＞
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ベンジルメタクリレート５０部、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０部およびアゾビスイソブチロニトリル１．０部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（１）」という。）のＭｗは２５，０００であった。このポリマー（１）のガラス転移温度は６０℃であった。
＜合成例１＞
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ベンジルメタクリレート５０部、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０部およびアゾビスイソブチロニトリル１．０部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（１）」という。）のＭｗは２５，０００であった。このポリマー（１）のガラス転移温度は６０℃であった。
＜合成例２＞
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ｐ−ヒドロキシベンジルメタクリレート５０部、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０部およびアゾビスイソブチロニトリル１．０部をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（２）」という。）のＭｗは２５，０００であった。このポリマー（２）のガラス転移温度は１００℃であった。
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ｐ−ヒドロキシベンジルメタクリレート５０部、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０部およびアゾビスイソブチロニトリル１．０部をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（２）」という。）のＭｗは２５，０００であった。このポリマー（２）のガラス転移温度は１００℃であった。
＜合成例３＞
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ベンジルメタクリレート５０部、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０部およびアゾビスイソブチロニトリル０．１部をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（３）」という。）のＭｗは２００，０００であった。このポリマー（３）のガラス転移温度は６５℃であった。
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ベンジルメタクリレート５０部、２−メタクリロイロキシエチルフタル酸５０部およびアゾビスイソブチロニトリル０．１部をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（３）」という。）のＭｗは２００，０００であった。このポリマー（３）のガラス転移温度は６５℃であった。
＜合成例４＞
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ベンジルメタクリレート８０部、メタクリル酸２０部およびアゾビスイソブチロニトリル１．０部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９９％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（４）」という。）のＭｗは２５，０００であった。このポリマー（４）のガラス転移温度は７５℃であった。
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ベンジルメタクリレート８０部、メタクリル酸２０部およびアゾビスイソブチロニトリル１．０部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９９％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下「ポリマー（４）」という。）のＭｗは２５，０００であった。このポリマー（４）のガラス転移温度は７５℃であった。
〔隔壁の製造方法〕
酸化物微粒子、ガラス粉末、感放射線性成分、溶媒および紫外線吸収剤からなる感光性の無機粒子含有樹脂組成物（以下「感光性ペースト」ともいう。）を次のようにして調製した。有機成分（表１参照）２５ｇを溶媒ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）３０ｇに溶解した後、酸化物微粒子およびガラス粉末（表２参照）からなる無機成分４５ｇおよび紫外線吸収剤０．０１ｇを添加し、混練機で混練することによって感光性ペーストを調製した。表３に、用いた酸化物微粒子、ガラス粉末および有機成分を示す。
酸化物微粒子、ガラス粉末、感放射線性成分、溶媒および紫外線吸収剤からなる感光性の無機粒子含有樹脂組成物（以下「感光性ペースト」ともいう。）を次のようにして調製した。有機成分（表１参照）２５ｇを溶媒ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）３０ｇに溶解した後、酸化物微粒子およびガラス粉末（表２参照）からなる無機成分４５ｇおよび紫外線吸収剤０．０１ｇを添加し、混練機で混練することによって感光性ペーストを調製した。表３に、用いた酸化物微粒子、ガラス粉末および有機成分を示す。
表１中の略語は以下のとおりである。
ＨＤＡ：２，５−ヘキサンジオールジアクリレート
ＴＭＰ：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート
ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン
ＤＭＭＰＢ：２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＤＥＴＸ：２，４−ジエチルチオキサントン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＨＤＡ：２，５−ヘキサンジオールジアクリレート
ＴＭＰ：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート
ＭＴＰＭＰ：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン
ＤＭＭＰＢ：２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＤＥＴＸ：２，４−ジエチルチオキサントン
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
得られた感光性ペーストを、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）を２枚用意し、該支持フィルム上に、ロールコーターにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を９０℃で１０分間乾燥して溶媒を除去することにより、厚さ９０μｍの感光性樹脂層を形成した。
次に、２枚のＰＥＴフィルム上に形成した感光性樹脂層を互いに貼り合せて、加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を速度１．０ｍ／分とした。このようにして、感光性の隔
壁形成用材料層（厚さ１８０μｍ）を形成し、本発明の転写フィルムを作製した。
壁形成用材料層（厚さ１８０μｍ）を形成し、本発明の転写フィルムを作製した。
次に、６インチパネル用のガラス基板の表面に、保護フィルムを剥離した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度を１．０ｍ／
分とした。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成用材料層が転写されて密着した状態となった。転写された隔壁形成用材料層の厚みを測定したところ、１８０μｍ±３μｍの範囲にあった。
分とした。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成用材料層が転写されて密着した状態となった。転写された隔壁形成用材料層の厚みを測定したところ、１８０μｍ±３μｍの範囲にあった。
次に、ネガ型クロムマスクを用いて、上面から２５ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯に
より、隔壁形成用材料層を紫外線露光した。露光量は２００ｍJ／ｃｍ2であった。
次に、露光した隔壁形成用材料層に、３０℃に保持したモノエタノールアミンの０．３％水溶液を、シャワーで１２０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して背面板用ガラス基板上に格子状の隔壁パターンを形成した。
より、隔壁形成用材料層を紫外線露光した。露光量は２００ｍJ／ｃｍ2であった。
次に、露光した隔壁形成用材料層に、３０℃に保持したモノエタノールアミンの０．３％水溶液を、シャワーで１２０秒間かけることにより現像した。その後、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して背面板用ガラス基板上に格子状の隔壁パターンを形成した。
得られた隔壁パターンを焼成して隔壁を形成した後、その隔壁パターンをSEM観察によ
り評価した。
〔実施例１〜５〕
表３に結果を示す。表３に示すように、酸化物微粒子として酸化珪素を用いた。実施例
１〜５の中では、実施例１〜３の隔壁が最もアスペクト比が良いパターンであった。また、現像後の評価も実施例１〜３が最も優れ、隔壁の欠けや剥がれ等は見られなかった。実施例４および５は、やや酸化物微粒子の量が多く、隔壁の欠けが増加した点で実施例１〜３に劣るが、隔壁パターン評価は問題なかった。
り評価した。
〔実施例１〜５〕
表３に結果を示す。表３に示すように、酸化物微粒子として酸化珪素を用いた。実施例
１〜５の中では、実施例１〜３の隔壁が最もアスペクト比が良いパターンであった。また、現像後の評価も実施例１〜３が最も優れ、隔壁の欠けや剥がれ等は見られなかった。実施例４および５は、やや酸化物微粒子の量が多く、隔壁の欠けが増加した点で実施例１〜３に劣るが、隔壁パターン評価は問題なかった。
〔実施例６〜１０〕
表３に結果を示す。表３に示すように、酸化物微粒子として酸化アルミニウムを用いた。実施例６〜１０の中では、実施例６〜８の隔壁が最もアスペクト比が良いパターンであった。また、現像後の評価も実施例６〜８が最も優れ、隔壁の欠けや剥がれ等は見られなかった。実施例９および１０は、やや酸化物微粒子の量が多く、隔壁の欠けが増加した点で実施例１〜３に劣るが、隔壁パターン評価は問題なかった。
表３に結果を示す。表３に示すように、酸化物微粒子として酸化アルミニウムを用いた。実施例６〜１０の中では、実施例６〜８の隔壁が最もアスペクト比が良いパターンであった。また、現像後の評価も実施例６〜８が最も優れ、隔壁の欠けや剥がれ等は見られなかった。実施例９および１０は、やや酸化物微粒子の量が多く、隔壁の欠けが増加した点で実施例１〜３に劣るが、隔壁パターン評価は問題なかった。
〔実施例１１および１２〕
表３に結果を示す。表３に示すように、酸化物微粒子として酸化珪素を用いた。実施例１１および１２は、現像後のパターン形状および焼成後のパターン形状は問題なかった。なお、焼成後に若干の着色が見られたが、問題ない程度であった。
表３に結果を示す。表３に示すように、酸化物微粒子として酸化珪素を用いた。実施例１１および１２は、現像後のパターン形状および焼成後のパターン形状は問題なかった。なお、焼成後に若干の着色が見られたが、問題ない程度であった。
〔比較例１〕
表４に示すように、ガラス粉末と酸化物微粒子の体積比率が異なること以外は、実施例１と同様にして隔壁の製造および評価を行った。比較例１では、ガラス粉末と酸化物微粒子の体積比が７０／３０であることから、現像後に残渣が多く発生し、焼成後に支持体より剥がれ、欠けがおこり、成膜できなかった。
表４に示すように、ガラス粉末と酸化物微粒子の体積比率が異なること以外は、実施例１と同様にして隔壁の製造および評価を行った。比較例１では、ガラス粉末と酸化物微粒子の体積比が７０／３０であることから、現像後に残渣が多く発生し、焼成後に支持体より剥がれ、欠けがおこり、成膜できなかった。
〔比較例２〕
表４に示すように、酸化物微粒子の粒径が異なること以外は、実施例２と同様にして隔壁の製造および評価を行った。比較例２では、露光光が粒子表面で散乱してしまい、所望の形状の隔壁を形状することができなかった。
表４に示すように、酸化物微粒子の粒径が異なること以外は、実施例２と同様にして隔壁の製造および評価を行った。比較例２では、露光光が粒子表面で散乱してしまい、所望の形状の隔壁を形状することができなかった。
〔比較例３〜５〕
表４に示すように、屈折率の高い酸化物微粒子を用いたこと以外は、実施例１１と同様にして隔壁の製造および評価を行った。比較例１１は、厚膜の無機粒子含有樹脂層では露光光が底部分まで届かず、所望の形状の隔壁を形成することができなかった。
表４に示すように、屈折率の高い酸化物微粒子を用いたこと以外は、実施例１１と同様にして隔壁の製造および評価を行った。比較例１１は、厚膜の無機粒子含有樹脂層では露光光が底部分まで届かず、所望の形状の隔壁を形成することができなかった。
１０１ ガラス基板
１０２ ガラス基板
１０３ 背面隔壁
１０４ 透明電極
１０５ バス電極
１０６ アドレス電極
１０７ 蛍光物質
１０８ 誘電体層
１０９ 誘電体層
１１０ 保護層
１１１ 前面隔壁
１０２ ガラス基板
１０３ 背面隔壁
１０４ 透明電極
１０５ バス電極
１０６ アドレス電極
１０７ 蛍光物質
１０８ 誘電体層
１０９ 誘電体層
１１０ 保護層
１１１ 前面隔壁
Claims (10)
- 平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、屈折率が１．４〜１．８の範囲にあり、かつ、比表面積が０．５〜３００ｍ2/ｇの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、該酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であることを特徴とする無機粒子含有樹脂組成物。
- 前記酸化物微粒子が、酸化珪素、酸化アルミニウムおよび酸化マグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の無機粒子含有樹脂組成物。
- 前記ガラス粉末の屈折率が１．４５〜１．６５であることを特徴とする請求項１に記載の無機粒子含有樹脂組成物。
- 前記酸化物微粒子とガラス粉末との平均屈折率と、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含む有機成分の屈折率との差が±０．０５以内であることを特徴とする請求項１に記載の無機粒子含有樹脂組成物。
- 前記ガラス粉末の熱軟化点が４００〜６００℃であることを特徴とする請求項１に記載の無機粒子含有樹脂組成物。
- 平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、屈折率が１．４〜１．８の範囲にあり、かつ、比表面積が０．５〜３００ｍ2/ｇの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、該酸化物微粒子の含有量がガラス粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部である無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有することを特徴とする転写フィルム。
- 前記無機粒子含有樹脂層の平均屈折率が１．５０〜１．６５であることを特徴とする請求項６に記載の転写フィルム。
- 請求項６に記載の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程、
該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
該無機粒子含有樹脂層を水現像処理してパターンを形成する工程、および
該パターンを焼成処理する工程
を含むことを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法。 - 前記ディスプレイパネル用部材が、隔壁および誘電体から選ばれる少なくとも１種の部材であることを特徴とする請求項８に記載のディスプレイパネル用部材の製造方法。
- 前記ディスプレイパネルがプラズマディスプレイパネルであることを特徴とする請求項８に記載のディスプレイパネル用部材の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP2006068201A JP2007246568A (ja) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | 無機粒子含有樹脂組成物、転写フィルムおよびディスプレイパネル用部材の製造方法 |
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|---|---|
| JP2007246568A true JP2007246568A (ja) | 2007-09-27 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009255445A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Jsr Corp | 基板形成方法および転写フィルム |
| KR100944751B1 (ko) * | 2008-02-27 | 2010-03-03 | 한국세라믹기술원 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽용 비정질 구조체 및 그제조방법 |
| JP2011075612A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Toray Ind Inc | 感光性ペースト、絶縁性パターンの形成方法および平面ディスプレイ用パネルの製造方法 |
| JP2020105364A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | 東京応化工業株式会社 | 光硬化性組成物、及び硬化物 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11180732A (ja) * | 1997-12-17 | 1999-07-06 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料 |
| JPH11256047A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-21 | Toray Ind Inc | 感光性ペースト |
-
2006
- 2006-03-13 JP JP2006068201A patent/JP2007246568A/ja active Pending
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