JP2009111402A - プローブ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハ状の基板上に配置された複数の被検査体を検査するプローブ装置において、プローバ室と;プローバ室内に配置され、第1の枠構造をなし、その中心に第1の空間を有するX−Yステージ12と;X−Yステージ12上に配置され、第2の枠構造をなし、その中心に第1の空間と連続する第2の空間を有する基板固定機構23と;プローバ室内において、ウエハ状の基板と対向して配置され、かつ複数のプローブを有するプローブカード14と;第1の空間内に配置されたプロービングステージ昇降機構24と;プロービングステージ昇降機構24に取り付けられ、プロービング昇降機構24により上昇した際に、基板の底面に接触して基板を下方から支持するプロービングステージ3と、を具備する。
【選択図】図6
Description
Claims (12)
- ウェハ状の基板上に配置された複数の被検査体を検査するプローブ装置、該プローブ装置は下記を具備する:
プローバ室;
該プローバ室内に配置されたX−Yステージ、該X−Yステージは第1の枠構造であって、その中心に第1の空間を有し、該X−Yステージは、該X−Yステージを少なくともX及びY方向に移動させるためのX−Y駆動機構を具備する;
該X−Yステージ上に配置された基板固定機構、該基板固定機構は、第2の枠構造であって、その中心に該第1の空間と連続する第2の空間を有する;
該プローバ室内において、該ウエハ状の基板と対向して配置され、かつ複数のプローブを有するプローブカード;
該第1の空間内に配置されたプロービングステージ昇降機構;
該プロービングステージ昇降機構に取り付けられたプロービングステージ、該プロービングステージは下記を具備する:
該プロービングステージは、その軸心が該プローブカードのプローブ中心から垂下した延長線と一致するように配置される;
該プロービングステージの上部平面、該上部平面の広さは、該第1の空間及び第2の空間の広さよりも狭く、該上部平面は該プロービングステージが該プロービング昇降機構により上昇した際に、該基板の底面に接触して該基板を下方から支持する。 - 該プロービングステージの上部平面の広さは、プローブカードの複数のプローブの先端が占める領域に対応している、請求項1のプローブ装置。
- 該プロービングステージの上部平面の広さは、1つの被検査体の大きさに対応する大きさである、請求項1のプローブ装置。
- 該プロービングステージは、該複数の被検査体の内で、該プローブカードの複数のプローブが電気的に接触する少なくとも1つの被検査体を加熱するための加熱装置と、これら被検査体の温度及び加熱装置の温度の少なくとも1つを測定するための温度センサーを備える、請求項1のプローブ装置。
- 該プロービングステージは、さらに該被検査体を冷却するための熱交換器を備える、請求項1のプローブ装置。
- 該基板固定機構は、チャックプレート、チャックプレート固定機構、及び該チャックプレート固定機構をθ方向に回転させるための回転駆動機構を具備する、請求項1のプローブ装置。
- 該プロービングステージは着脱可能にプロービングステージ昇降機構に取り付けられる、請求項1のプローブ装置。
- 該チャックプレートは該チャックプレート固定機構に着脱可能に取り付けられる、請求項6のプローブ装置。
- 該プローバ室内には、ステージベース及び該ステージベース上に配置されたZステージを具備し、
該X−Yステージ駆動機構は、該X−Yステージを該Zステージ上で少なくともX−Y方向に移動するX−Yステージ移動機構、及び該X−Yステージを該Zステージ上で円滑に移動可能に支持するX−Yステージ支持機構を備える、請求項2のプローブ装置。 - 該X−Yステージ移動機構はリニアモーター機構を具備する、請求項9のプローブ装置。
- 該X−Yステージ支持機構はエアベアリング機構を具備する、請求項9のプローブ装置。
- 該チャックプレートは、基板を固定するための複数の押さえ具機構、及び基板を吸引固定する機構、及び基板を押さえるためのリング機構、のうちの少なくとも一つの機構を具備する、請求項2のプローブ装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2009111402A true JP2009111402A (ja) | 2009-05-21 |
| JP4959669B2 JP4959669B2 (ja) | 2012-06-27 |
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