JP2009300629A - 感温型光制御素子及びその作製方法 - Google Patents
感温型光制御素子及びその作製方法Info
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Abstract
【解決手段】ホログラフィック露光による相分離で形成された回折格子を構成する2つの相の内の一方の相にネマティック−等方(NI)相転移による屈折率変化及び光学異方−等方性変化を有する液晶相を用い、他の相に液晶相の複屈折性と同様の光学異方性を持たせた高配向性の高分子相を用いて、ホログラフィック干渉での不均質光強度露光による光重合誘起の相分離過程で、上記2つの相の分子を同時に配向させて光学異方性を適切に発現させ、特定の温度範囲で光の伝播方向あるいは偏光状態を幅広く変え、光の透過率を制御して調光を行うようにする光透過・回折制御素子の作製方法、及びその製品。
【効果】ホログラフィック−高分子分散型液晶(H−PDLC)回折素子の透過・回折特性を高度に制御し、感温型光制御素子としての性能向上を実現できる。
【選択図】図2
Description
(1)高分子分散液晶型ホログラフィック回折素子(H−PDLC回折素子)を用いた光透過・回折制御素子であって、ホログラフィック露光による相分離で形成された回折格子を構成する2つの相の内、一方の相が、ネマティック−等方(NI)相転移による屈折率変化及び光学異方−等方性変化を有する液晶相であり、もう一方の相が、液晶相の複屈折性と同様の光学異方性を持たせた配向性の高い高分子相であり、入射する偏光状態に拘らず特定の温度範囲で光の伝播方向あるいは偏光状態を幅広く変え、光の透過率を制御して調光を行うようにしたことを特徴とする光透過・回折制御素子。
(2)液晶の屈折率が、常光屈折率1.3〜1.6、異常光屈折率1.45〜1.8であり、異方性高分子の屈折率が、常光屈折率1.3〜1.6、異常光屈折率1.4〜1.9である、前記(1)に記載の光透過・回折制御素子。
(3)特定の温度範囲が、10〜80℃であり、光の波長範囲が、300〜1300nm(紫外、可視、又は近赤外波長域)である、前記(1)又は(2)に記載の光透過・回折制御素子。
(4)上記H−PDLC回折素子が、PあるいはS偏光のどちらか一方の回折光強度を優先的に温度で制御するように構成された、前記(1)から(3)のいずれかに記載の光透過・回折制御素子。
(5)0.04を上回る異方性屈折率を有し、ネマティック−等方(NI)相転移点を有する液晶材料からなるH−PDLC回折素子を用いてなる、前記(1)から(4)のいずれかに記載の光透過・回折制御素子。
(6)10〜90℃にNI相転移点を有する液晶材料からなるH−PDLC回折素子を用いてなる、前記(5)記載の光透過・回折制御素子。
(7)高分子分散液晶型ホログラフィック回折素子(H−PDLC回折素子)を用いた光透過・回折制御素子を製造する方法であって、ホログラフィック露光による相分離で形成された回折格子を構成する2つの相の内、一方の相に、ネマティック−等方(NI)相転移による屈折率変化及び光学異方−等方性変化を有する液晶相を用い、もう一方の相に、液晶相の複屈折性と同様の光学異方性を持たせた配向性の高い高分子相を用いて、ホログラフィック干渉での不均質光強度露光による光重合誘起の相分離過程で、上記2つの相の分子を同時に配向させて光学異方性を適切に発現させ、入射する偏光状態に拘らず特定の温度範囲で光の伝播方向あるいは偏光状態を幅広く変え、光の透過率を制御して調光を行うようにすることを特徴とする光透過・回折制御素子の作製方法。
(8)前記(1)から(6)のいずれかに記載の光透過・回折制御素子を含み、当該光透過・回折制御素子に対して、光の伝播方向あるいは偏光状態により透過率を変える役割を果たす光処理機能部が配置されたことを特徴とする光透過・回折制御部材。
(9)上記光処理機能部として、視野角制限部材あるいは偏光選択部材、又はこれら両部材が回折光と非回折光の内の一つの光の透過を制御するように配置された、前記(8)記載の光透過・回折制御部材。
(10)PあるいはS偏光のどちらか一方の回折光強度が優先的に、温度変化により変調されるH−PDLC回折素子を2つ組み合わせて、視野角制限部材あるいは偏光選択部材、又はこれら両部材がPとS両偏光の回折による光の透過を制御するように配置された、前記(9)記載の光透過・回折制御部材。
(11)H−PDLC回折素子が、可視光波長域の透過率(可視光透過能)及び日射透過制御能の両性能が高くなる条件として、H−PDLC厚2〜50μm、格子ピッチ0.3〜2.0μmの範囲で構成された、前記(8)から(10)のいずれかに記載の光透過・回折制御部材。
(12)可視光透過能及び日射透過制御能を高めるために、
(H−PDLC厚)=K×(格子ピッチ)2
を満たす関係式(ここで、Kは、範囲4〜15μm−1を満たす定数を表わす。)に、H−PDLC厚と格子ピッチの値が設定されている、請求項11記載の光透過・回折制御部材。
(13)上記光透過・回折制御部材が、太陽光の透過を制御する太陽光透過・回折制御窓材である、前記(8)から(12)のいずれかに記載の光透過・回折制御部材。
本発明は、高分子分散液晶型ホログラフィック回折素子(H−PDLC回折素子)を用いた光透過・回折制御素子であって、ホログラフィック露光による相分離で形成された回折格子を構成する2つの相の内、一方の相が、ネマティック−等方(NI)相転移による屈折率変化及び光学異方−等方性変化を有する液晶相であり、もう一方の相が、液晶相の複屈折性と同様の光学異方性を持たせた配向性の高い高分子相であり、入射する偏光状態に拘らず特定の温度範囲で光の伝播方向あるいは偏光状態を幅広く変え、光の透過率を制御して調光を行うようにしたことを特徴とするものである。
(1)H−PDLC回折素子に関して、これまでの材料構成及び作製方法では、原理的に難しかった、回折光が互いに直交する、いわゆるPとS偏光成分それぞれを、同時に制御することを可能とするH−PDLC回折素子を用いた光透過・回折制御素子を提供することができる。
(2)H−PDLC回折素子の室温での透過・回折特性を、格子構造設計により、その制御性を向上させることが可能となる。
(3)これにより、特に、感温型光制御素子で重要となる温度変化に伴う透過・回折光特性の制御幅を拡大することが可能となる。
Claims (13)
- 高分子分散液晶型ホログラフィック回折素子(H−PDLC回折素子)を用いた光透過・回折制御素子であって、ホログラフィック露光による相分離で形成された回折格子を構成する2つの相の内、一方の相が、ネマティック−等方(NI)相転移による屈折率変化及び光学異方−等方性変化を有する液晶相であり、もう一方の相が、液晶相の複屈折性と同様の光学異方性を持たせた配向性の高い高分子相であり、入射する偏光状態に拘らず特定の温度範囲で光の伝播方向あるいは偏光状態を幅広く変え、光の透過率を制御して調光を行うようにしたことを特徴とする光透過・回折制御素子。
- 液晶の屈折率が、常光屈折率1.3〜1.6、異常光屈折率1.45〜1.8であり、異方性高分子の屈折率が、常光屈折率1.3〜1.6、異常光屈折率1.4〜1.9である、請求項1に記載の光透過・回折制御素子。
- 特定の温度範囲が、10〜80℃であり、光の波長範囲が、300〜1300nm(紫外、可視、又は近赤外波長域)である、請求項1又は2に記載の光透過・回折制御素子。
- 上記H−PDLC回折素子が、PあるいはS偏光のどちらか一方の回折光強度を優先的に温度で制御するように構成された、請求項1から3のいずれかに記載の光透過・回折制御素子。
- 0.04を上回る異方性屈折率を有し、ネマティック−等方(NI)相転移点を有する液晶材料からなるH−PDLC回折素子を用いてなる、請求項1から4のいずれかに記載の光透過・回折制御素子。
- 10〜90℃にNI相転移点を有する液晶材料からなるH−PDLC回折素子を用いてなる、請求項5記載の光透過・回折制御素子。
- 高分子分散液晶型ホログラフィック回折素子(H−PDLC回折素子)を用いた光透過・回折制御素子を製造する方法であって、ホログラフィック露光による相分離で形成された回折格子を構成する2つの相の内、一方の相に、ネマティック−等方(NI)相転移による屈折率変化及び光学異方−等方性変化を有する液晶相を用い、もう一方の相に、液晶相の複屈折性と同様の光学異方性を持たせた配向性の高い高分子相を用いて、ホログラフィック干渉での不均質光強度露光による光重合誘起の相分離過程で、上記2つの相の分子を同時に配向させて光学異方性を適切に発現させ、入射する偏光状態に拘らず特定の温度範囲で光の伝播方向あるいは偏光状態を幅広く変え、光の透過率を制御して調光を行うようにすることを特徴とする光透過・回折制御素子の作製方法。
- 請求項1から6のいずれかに記載の光透過・回折制御素子を含み、当該光透過・回折制御素子に対して、光の伝播方向あるいは偏光状態により透過率を変える役割を果たす光処理機能部が配置されたことを特徴とする光透過・回折制御部材。
- 上記光処理機能部として、視野角制限部材あるいは偏光選択部材、又はこれら両部材が回折光と非回折光の内の一つの光の透過を制御するように配置された、請求項8記載の光透過・回折制御部材。
- PあるいはS偏光のどちらか一方の回折光強度が優先的に、温度変化により変調されるH−PDLC回折素子を2つ組み合わせて、視野角制限部材あるいは偏光選択部材、又はこれら両部材がPとS両偏光の回折による光の透過を制御するように配置された、請求項9記載の光透過・回折制御部材。
- H−PDLC回折素子が、可視光波長域の透過率(可視光透過能)及び日射透過制御能の両性能が高くなる条件として、H−PDLC厚2〜50μm、格子ピッチ0.3〜2.0μmの範囲で構成された、請求項8から10のいずれかに記載の光透過・回折制御部材。
- 可視光透過能及び日射透過制御能を高めるために、
(H−PDLC厚)=K×(格子ピッチ)2
を満たす関係式(ここで、Kは、範囲4〜15μm−1を満たす定数を表わす。)に、H−PDLC厚と格子ピッチの値が設定されている、請求項11記載の光透過・回折制御部材。 - 上記光透過・回折制御部材が、太陽光の透過を制御する太陽光透過・回折制御窓材である、請求項8から12のいずれかに記載の光透過・回折制御部材。
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