JP2010272902A - パルス電源 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】予備充電される初段コンデンサから半導体スイッチによる放電でパルス電流を発生するパルス発生回路11a、11bと、パルス電流で充電されるコンデンサを可飽和リアクトルの磁気スイッチ動作により磁気パルス圧縮したパルス電流を得る磁気パルス圧縮回路13a、13bとを組み合わせたパルス電源を2台構成とし、それぞれ出力電圧の極性を逆にした構成とし、各パルス発生回路の時分割運転でそれぞれパルス電流を発生し、負荷14に双極性のパルス電流を出力する。
【選択図】図1
Description
前記パルス発生回路および前記磁気パルス圧縮回路は2台構成で、それぞれ出力電圧の極性を逆にした構成とし、各パルス発生回路の時分割運転でそれぞれパルス電流を発生し、負荷に双極性のパルス電流を出力することを特徴とするパルス電源。
前記パルス発生回路および前記磁気パルス圧縮回路は2台構成で、片方の出力回路にパルストランスを接続してそれぞれ出力電圧の極性を逆にした構成とし、各パルス発生回路の時分割運転でそれぞれパルス電流を発生し、負荷に双極性のパルス電流を出力することを特徴とするパルス電源。
具体的には、
・プラズマ応用装置の負荷放電電極に、双極性のパルスを印加できる。
図1は、本実施形態を示すパルス電源の構成図であり、プラズマ応用装置などの低インピーダンスとなる負荷放電管に双極性の高電圧パルスを印加できるパルス電源としている。
(初期条件)充電器12aでパルス発生回路11a内の初段コンデンサC0(図5参照)を一定電圧まで充電しておく。各可飽和リアクトルSI1a,SI2aを初期磁化状態(図中の矢印の方向)に磁化する。同様に、パルス発生回路11a内の可飽和リアクトルSI0(図5参照)を初期磁化状態に磁化しておく。
(初期条件)充電器12bでパルス発生回路11bの初段コンデンサC0(図5参照)を一定電圧まで充電しておく。各可飽和リアクトルSI1b,SI2bを初期磁化状態(図中の矢印の方向)に磁化する。同様に、パルス発生回路11b内の可飽和リアクトルSI0(図5参照)を初期磁化状態に磁化しておく。
・プラズマ応用装置の負荷放電電極に、双極性のパルスを印加できる。
図3は、本実施形態を示すパルス電源の構成図であり、図1と異なる部分は2台のパルス電源のうち、片方のパルス電源は出力をそのままコンデンサCpに接続し、もう片方のパルス電源は出力にパルストランス回路16を介してコンデンサCpに接続した構成とする。
(初期条件)充電器12aでパルス発生回路11a内の初段コンデンサC0(図5参照)を一定電圧まで充電しておく。各可飽和リアクトルSI1a,SI2aを初期磁化状態(図中の矢印の方向)に磁化する。同様に、パルス発生回路11a内の可飽和リアクトルSI0(図5参照)を初期磁化状態に磁化しておく。
(初期条件)充電器12bでパルス発生回路11bの初段コンデンサC0(図5参照)を一定電圧まで充電しておく。各可飽和リアクトルSI1b,SI2bを初期磁化状態(図中の矢印の方向)に磁化する。同様に、パルス発生回路11b内の可飽和リアクトルSI0(図5参照)を初期磁化状態に磁化しておく。
・1種類のパルス電源を2台使って構成できるため、パルス電源の製作が容易である(パルス電源外部の改造のみで対応できる)。
2、12a、12b 充電器
3、13a、13b 磁気パルス圧縮回路
4、14 負荷
5 磁化リセット回路
16 パルストランス回路
PT、PT1a、PT1b、PT2 パルストランス
C0,C1,C2,C1a、C1b、C2a、C2b コンデンサ
Cp ピーキングコンデンサ
SI0,SI1,SI2,SI1a、SI1b、SI2a,SI2b 可飽和リアクトル
Claims (2)
- 予備充電される初段コンデンサから半導体スイッチによる放電でパルス電流を発生するパルス発生回路と、前記パルス電流で充電されるコンデンサを可飽和リアクトルの磁気スイッチ動作により磁気パルス圧縮したパルス電流を得る磁気パルス圧縮回路とを組み合わせたパルス電源において、
前記パルス発生回路および前記磁気パルス圧縮回路は2台構成で、それぞれ出力電圧の極性を逆にした構成とし、各パルス発生回路の時分割運転でそれぞれパルス電流を発生し、負荷に双極性のパルス電流を出力することを特徴とするパルス電源。 - 予備充電される初段コンデンサから半導体スイッチによる放電でパルス電流を発生するパルス発生回路と、前記パルス電流で充電されるコンデンサを可飽和リアクトルの磁気スイッチ動作により磁気パルス圧縮したパルス電流を得る磁気パルス圧縮回路とを組み合わせたパルス電源において、
前記パルス発生回路および前記磁気パルス圧縮回路は2台構成で、片方の出力回路にパルストランスを接続してそれぞれ出力電圧の極性を逆にした構成とし、各パルス発生回路の時分割運転でそれぞれパルス電流を発生し、負荷に双極性のパルス電流を出力することを特徴とするパルス電源。
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103441697A (zh) * | 2013-08-20 | 2013-12-11 | 东莞市力与源电器设备有限公司 | 一种正反换向脉冲电源的控制方法 |
| JPWO2016063678A1 (ja) * | 2014-10-20 | 2017-04-27 | 三菱電機株式会社 | 電力変換装置 |
| CN113179005A (zh) * | 2021-05-25 | 2021-07-27 | 长安大学 | 一种双脉冲电源及其工作方法 |
| CN113904662A (zh) * | 2021-10-20 | 2022-01-07 | 重庆大学 | 用于输出双极性脉冲的脉冲发生电路及其方法、设备 |
| CN115021729A (zh) * | 2021-03-04 | 2022-09-06 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 磁脉冲压缩方法 |
| JP2022548206A (ja) * | 2019-08-30 | 2022-11-17 | 株式会社ミツトヨ | 高速計測撮像のための高速高パワーパルス光源システム |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02148781A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-07 | Toshiba Corp | パルスレーザ電源装置 |
| JP2000124530A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Meidensha Corp | パルス電源装置 |
| JP2001036173A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-09 | Meidensha Corp | パルス電源装置 |
| JP2007123138A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置 |
| JP2007288973A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Murata Mfg Co Ltd | 正負切り換え電源装置 |
-
2009
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02148781A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-07 | Toshiba Corp | パルスレーザ電源装置 |
| JP2000124530A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Meidensha Corp | パルス電源装置 |
| JP2001036173A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-09 | Meidensha Corp | パルス電源装置 |
| JP2007123138A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Ushio Inc | 極端紫外光光源装置 |
| JP2007288973A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Murata Mfg Co Ltd | 正負切り換え電源装置 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JPN6013013458; 笹本栄二: 'パルス電源応用技術' 明電時報 Vol.323 2009 No.2, 200904, p56-61 * |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103441697A (zh) * | 2013-08-20 | 2013-12-11 | 东莞市力与源电器设备有限公司 | 一种正反换向脉冲电源的控制方法 |
| JPWO2016063678A1 (ja) * | 2014-10-20 | 2017-04-27 | 三菱電機株式会社 | 電力変換装置 |
| JP2022548206A (ja) * | 2019-08-30 | 2022-11-17 | 株式会社ミツトヨ | 高速計測撮像のための高速高パワーパルス光源システム |
| JP7623360B2 (ja) | 2019-08-30 | 2025-01-28 | 株式会社ミツトヨ | 高速計測撮像のための高速高パワーパルス光源システム |
| CN115021729A (zh) * | 2021-03-04 | 2022-09-06 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 磁脉冲压缩方法 |
| CN115021729B (zh) * | 2021-03-04 | 2026-04-17 | 北京科益虹源光电技术有限公司 | 磁脉冲压缩方法 |
| CN113179005A (zh) * | 2021-05-25 | 2021-07-27 | 长安大学 | 一种双脉冲电源及其工作方法 |
| CN113179005B (zh) * | 2021-05-25 | 2023-08-01 | 长安大学 | 一种双脉冲电源及其工作方法 |
| CN113904662A (zh) * | 2021-10-20 | 2022-01-07 | 重庆大学 | 用于输出双极性脉冲的脉冲发生电路及其方法、设备 |
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