JP2012166338A - パッドドレッシング装置及びパッドドレッシング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】支持部32の下端には、束線バンド35で束ねられた弾性部材31が取り付けられている。弾性部材31は、線径が0.15mmで長さ25mmのタングステン線が30本ずつ1束に束ねられて構成されている。また、弾性部材31の各素線の先端部は丸切りのまま研磨パッド20に接触して研磨パッド20のドレッシングを行うようになっている。弾性部材31の各素線の先端部の線径を細くして研磨パッド20の切削幅を小さくすると共に、弾性部材31の各素線を束線バンド35で束ねることによって弾性部材31の剛性を高め、各素線の細い先端部に大きな圧力がかかるようにしている。従って、弾性部材31の先端部は研磨パッド20に有効な切り込み深さを与えることができる。
【選択図】図12
Description
[関連文献:上川大地、藤田隆他、2004年精密工学会東北支部学術講演会論文集P22参照]
この実験によって、ブラッシングにより研磨パッドの表面に滞在する異物を除去するだけでは、パッドドレッシングを行ったことにならないことを明らかにしている。この後に研磨パッド表面を削る通常のダイヤモンドドレッシング処理を施すことで、研磨レートが回復したことも確認しており、パッドドレッシングを行うには、研磨パッド表面を削る必要性があるとしている。尚、ナイロン等の樹脂製ブラシの場合、同じ樹脂材料であるポリウレタンで構成されたパッドを削る上で、同じ樹脂材料であることから、双方が同じように摩耗して朽ちてしまい、パッドを削ることにならないことは当業者であれば容易に理解しうる。
[関連文献:藤田 隆他 2005年精密工学会春季大会学術講演会講演論文集P845]そのため、パッドドレッシングにおいては、パッドの表面の凹凸が詰まることにより、研磨レートが低下すること以外にも、研磨パッドそのものが改質することによる影響もあるため、パッド状態を完全に回復させるためには、研磨パッドを削り取らなければならないことは、こうした事例からもわかる。
パッドドレッシングとは、パッドを物理的に削りつつ、表面を荒らすことで、パッド状態を一定に保つ処理のこととする。それに対して、パッドブラッシングとは、パッドを削ることなく、パッドの凹凸に含まれる研磨屑などを除去するために行う処理のこととする。両者は、その機能面でも、研磨により改質されたパッド表面そのものを、物理的に削り除去するか、しないかによって、明確に区別されるものである。
しかし、特許文献5においては、研磨ウェブをローリングターンバーで引っ張って調整し、その張設された研磨ウェブに対して、パッド表面を調整するものである。このような場合、固定支持されたパッド表面を基準とするドレッシングはできない。なぜなら、ドレッシングの圧力がパッドの張力など様々な要因が絡むからである。
しかし、特許文献6では、粗面化部材および可撓部材を固定する部分は、ピンヒンジによって、調整アームに取り付けられている。すなわち、ブラシを使用したとしても、その点群は、全体として一つの面として作用する。ブラシ面で受けた摩擦力によって、ブラシ面全体がパッド面に対して傾くため、結果的に先に述べたような、ドレッサーのパッドに対する断続的な接触を免れることはできない。そのため、パッド表面を基準とした表面基準ドレッシングを実現できるものではない。また、これは、粗面化部材としてダイヤモンドタイプと互換性があるとの記載からも、ここで取り上げるブラシは、あくまでパッドを粗面化する機能を有するだけのものであり、パッド表面を基準にドレッシングする機能を有するものではないことが容易に理解できる。
研削加工のドレッシングであるため、ドレッサーを行う際に、ナイロンブラシに練り込まれた硬質砥粒が脱落し、ドレッサー自身が自生することなども想定される。本件にのべる半導体ウェーハの平坦化などに使用される場合では、例えばドレッシング際のダイヤモンド砥粒が脱落すると、研磨パッドとウェーハの間に砥粒が挟み込まれ、ウェーハ表面に致命的なスクラッチを及ぼす。よって、砥粒の脱落を起こすドレッサーは、半導体ウェーハの研磨用のドレッサーとして、前提となる仕様から除外される。
り取ったとしても、なお水和性を維持しつづける削りとる単位大きさは、数μmから十数
μm程度である。よって、太い線材を使用したドレッサーの場合、パッドを細かく削りな
がら荒らすことは難しい。
傾斜ないしは鉛直状態で設置され、該状態で回転可能なプラテンと、
該プラテンに固定支持され、ポリウレタン素材により形成される研磨パッドと、
該研磨パッドの表面をドレッシングするドレッサーとを備え、
該ドレッサーは、前記研磨パッドの表面を削り取る先端部を有する複数の素線からなる弾性部材で構成され、
前記弾性部材は、該結束した複数の素線を一体的に曲げることで、前記弾性部材の先端が前記研磨パッドの表面に一定圧力で接触するための有効な長さを有する弾性変形部と、
前記結束が開放され、前記弾性部材の各素線の先端が独立して作用して前記研磨パッド表面を削り荒らすための先端部と、
前記結束した複数の素線のもう一端を取り付けた支持部とを有し、
前記支持部が前記研磨パッドの表面に対して相対的に移動するともに、前記弾性部材の先端部が前記研磨パッドの表面に当接され、該弾性部材が弾性変形することにより、前記先端部が、所定のパッドドレッシング圧力で前記研磨パッドの表面に押圧され、
押圧された前記弾性部材が前記研磨パッドの表面を削り取るとともに、前記研磨パッドの表面形状に沿って均一にドレッシングすることを特徴とするパッドドレッシング装置。
を提供する。
ドレッサー30は主に弾性部材31と弾性部材31の基端部31aを支持する支持部32とで構成されている。また、支持部32は研磨パッド20に対して接離移動する圧力調整手段34に支持されている。
等を用いることもでき、固定方法も電着等のメッキの他にCVD(Chemical Vapor Deposition)やコーティングによる方法等を用いることもできる。
通常、研磨量の均一性は、研磨量の標準偏差を平均研磨量で除してその割合で定義する。通常研磨量の均一性は3〜5%程度以下であれば、均一に研磨されているとされる。
参考文献:土肥俊郎編著、詳説半導体CMP技術(工業調査会),(2000)p.71
渡邉純二:CMPのサイエンス(サイエンスフォーラム),(1997)p.77
寺崎忠士:CMPのサイエンス(サイエンスフォーラム),(1997)p.116
この数式2は、以下の一般解を与える。
x=0でy=0、dy/dx=0およびx=lでy=δとすると、
は、一辺がhの角柱の曲げ剛性を表わす。m次の座屈荷重は同様に以下となる。
こうした従来のダイヤモンドドレッサーによるパッドドレッシングでは、ダイヤモンド先端部が鈍化して丸くなると、パッドに切り込みを与えることができなくなり、パッド表面を擦り馴らしているだけと考えられる。
「効果」
・研磨レートを安定域に達するまでの研磨処理を必要としないので、CMP装置を占有せず、装置のダウンタイムを大幅に低減することが可能となる(装置ダウンタイムの低減)。
・パッド取付け後、研磨レートを安定化するための必要なスラリー、ドレッサー、ウェーハなどの消耗材料を使用せずに済む(消耗材料のコスト削減)。
12 研磨定盤
14 ウェーハキャリア
16 回転軸
18 モータ
20 研磨パッド
30、30A、30B、30C パッドドレッサー
31 弾性部材
31B 板バネ(弾性部材)
31C ピアノ線(線状体、弾性部材)
31a 基端部
31b 先端部
31d 切り欠き
32 支持部
32A 第1の支持体
32B 第2の支持体
33 先端子
34 圧力調整手段
35 束線バンド
36 補強部材
37 可撓線材
38 チューブ
40 パッド前処理装置
40A 縦型のパッド前処理装置
41 回転テーブル
42 切り屑除去ノズル
Claims (9)
- ワークを研磨する研磨装置に使用される研磨パッドの表面を目立て処理するパッドドレッシング装置において、
運動するプラテンに固定支持され、ポリウレタン素材により形成される研磨パッドと、複数の素線を結束して構成された弾性部材とを備え、
前記弾性部材は、
該結束した複数の素線を一体的に曲げることで、前記弾性部材の先端が前記研磨パッドの表面に一定圧力で接触するための有効な長さを有する弾性変形部と、
前記結束が開放され、前記弾性部材の各素線の先端が独立して作用して前記研磨パッド表面を削り荒らすための先端部と、
前記結束した複数の素線のもう一端を取り付けた支持部とを有し、
前記弾性部材を、前記研磨パッド面に対して所定のドレッシング圧力で押圧しながら、平行に相対的に移動させることにより、前記研磨パッドの表面形状に沿って均一にドレッシングすることを特徴とするパッドドレッシング装置。 - 前記弾性部材は、前記運動する研磨パッド面に対して回転運動させることを特徴とする請求項1記載のパッドドレッシング装置。
- 前記弾性部材は、複数の素線を撚り合せることによって形成されていることを特徴とする請求項1記載のパッドドレッシング装置。
- 前記弾性変形部は、前記複数の素線を結束するとともに、前記複数の素線は、前記研磨パッドに当接する素線と、前記研磨パッドに当接しない短い素線とからなることを特徴とする請求項1記載のパッドドレッシング装置。
- 前記弾性変形部は、前記複数の素線同士を結束するとともに、前記複数の素線の中央部分に補強部材を介在させて、剛性を向上させてなることを特徴とする請求項1記載のパッドドレッシング装置。
- 前記弾性変形部は、前記複数の素線を結束するとともに、前記複数の素線を束状にして、可撓性チューブの中に挿入して剛性を向上させてなることを特徴とする請求項1記載のパッドドレッシング装置。
- ワークを研磨する研磨装置に使用される研磨パッドの表面を目立て処理するパッドドレッシング装置において、
傾斜ないしは鉛直状態で設置され、該状態で回転可能なプラテンと、
該プラテンに固定支持され、ポリウレタン素材により形成される研磨パッドと、
該研磨パッドの表面をドレッシングするドレッサーとを備え、
該ドレッサーは、前記研磨パッドの表面を削り取る先端部を有する複数の素線からなる弾性部材で構成され、
前記弾性部材は、該結束した複数の素線を一体的に曲げることで、前記弾性部材の先端が前記研磨パッドの表面に一定圧力で接触するための有効な長さを有する弾性変形部と、
前記結束が開放され、前記弾性部材の各素線の先端が独立して作用して前記研磨パッド表面を削り荒らすための先端部と、
前記結束した複数の素線のもう一端を取り付けた支持部とを有し、
前記支持部が前記研磨パッドの表面に対して相対的に移動するともに、前記弾性部材の先端部が前記研磨パッドの表面に当接され、該弾性部材が弾性変形することにより、前記先端部が、所定のパッドドレッシング圧力で前記研磨パッドの表面に押圧され、
押圧された前記弾性部材が前記研磨パッドの表面を削り取るとともに、前記研磨パッドの表面形状に沿って均一にドレッシングすることを特徴とするパッドドレッシング装置。 - ワークを研磨する研磨装置に使用される研磨パッドの表面を目立て処理するパッドドレッシング装置において、
ドレッシング部分に気体を吹き付ける機構ないしは、削り屑を含む粉塵を吸い込む機構を有することを特徴とする請求項7記載のパッドドレッシング装置。 - ワークを研磨する研磨装置に使用される研磨パッドの表面を目立て処理するパッドドレッシング方法において、
運動するプラテンに固定支持され、ポリウレタン素材により形成される研磨パッド面に対して、複数の素線で構成される弾性部材を、平行に相対的に移動しながら、ドレッシングを行うパッドドレッシング方法であって、
前記弾性部材は、前記複数の素線の一端を支持部に取り付けるとともに、前記複数の素線同士を結束し、該結束部分を一体的に曲げて、弾性部材の先端を前記研磨パッドの表面に一定圧力で接触させ、
且つ、前記複数の素線の先端付近は結束を開放して、個々の素線の先端は独立して前記研磨パッドの表面を削り荒らし、
該研磨パッドの表面形状に沿って均一にドレッシングすることを特徴とするパッドドレッシング方法。
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| JP5573061B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2014-08-20 | 株式会社Sumco | 両面研磨装置の研磨布の研削方法及び研削装置 |
| JP2011152594A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-11 | Honda Motor Co Ltd | 金属リングの研削加工方法 |
| JP5610615B2 (ja) * | 2010-06-21 | 2014-10-22 | 不二越機械工業株式会社 | 研磨布のドレッシング方法およびドレッシング装置 |
| CN102310359B (zh) * | 2010-07-01 | 2014-08-20 | 本田技研工业株式会社 | 金属环研磨装置以及金属环研磨方法 |
| KR101144981B1 (ko) * | 2011-05-17 | 2012-05-11 | 삼성전자주식회사 | Cmp 패드 컨디셔너 및 상기 cmp 패드 컨디셔너 제조방법 |
| JP6091773B2 (ja) * | 2012-06-11 | 2017-03-08 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
| JP6088919B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2017-03-01 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
| CN104742008B (zh) * | 2013-12-27 | 2017-03-22 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 化学机械研磨方法及化学机械研磨装置 |
| JP7023455B2 (ja) * | 2017-01-23 | 2022-02-22 | 不二越機械工業株式会社 | ワーク研磨方法およびワーク研磨装置 |
| TWI839075B (zh) * | 2023-01-12 | 2024-04-11 | 中國砂輪企業股份有限公司 | 研磨墊修整裝置 |
| CN118832511B (zh) * | 2024-09-24 | 2025-01-21 | 盐城环宇汽车零部件制造有限公司 | 一种高精度加工的自动化生产磨床 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10315651A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| JP2003001556A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Sony Corp | 研磨装置及び研磨方法 |
| JP2006026866A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Honda Motor Co Ltd | ブラシ研削装置 |
| JP2007090516A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-04-12 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | パッドドレッサー、パッドドレッシング方法及び研磨装置 |
| JP2007144604A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Kowa Co Ltd | 筒型ブラシ |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63176061U (ja) * | 1986-11-25 | 1988-11-15 | ||
| JPH04364730A (ja) * | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Hitachi Ltd | 自動ドレッシング装置 |
| KR20010005993A (ko) | 1997-04-04 | 2001-01-15 | 오브시디안 인코포레이티드 | 향상된 폴리싱을 위한 폴리싱 미디어 매거진 |
| US5885147A (en) | 1997-05-12 | 1999-03-23 | Integrated Process Equipment Corp. | Apparatus for conditioning polishing pads |
| JPH10329003A (ja) | 1997-05-28 | 1998-12-15 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 研磨クロスのドレッシング及びブラッシング方法 |
| JP2001274122A (ja) | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェハ研磨装置 |
| JP2002273656A (ja) | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Nippei Toyama Corp | 砥石ドレッシング装置 |
| JP2002307308A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-23 | Fujimori Gijutsu Kenkyusho:Kk | ケミカルマシンポリッシャの研磨盤用研磨ドレッサ |
| JP2003181756A (ja) | 2001-12-19 | 2003-07-02 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ加工装置用コンディショナー装置 |
| JP2003211355A (ja) | 2002-01-15 | 2003-07-29 | Ebara Corp | ポリッシング装置及びドレッシング方法 |
| US7182680B2 (en) * | 2004-06-22 | 2007-02-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for conditioning processing pads |
| JP4936040B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2012-05-23 | 株式会社東京精密 | パッドドレッシング方法 |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10315651A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
| JP2003001556A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Sony Corp | 研磨装置及び研磨方法 |
| JP2006026866A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Honda Motor Co Ltd | ブラシ研削装置 |
| JP2007090516A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-04-12 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | パッドドレッサー、パッドドレッシング方法及び研磨装置 |
| JP2007144604A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Kowa Co Ltd | 筒型ブラシ |
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| Publication number | Publication date |
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