JP2012167285A - 反射板用ポリアミド組成物、反射板、該反射板を備えた発光装置、ならびに該発光装置を備えた照明装置および画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】融点280℃以上のポリアミド(A)を30質量%以上および酸化チタン(B)を25質量%以上含み、かつ前記ポリアミド(A)と前記酸化チタン(B)の合計含有量が75質量%以上である反射板用ポリアミド組成物である。
【選択図】なし
Description
そこで、本発明のLED用反射板は、上記本発明の反射板用ポリアミド組成物を用いたLED用反射板である。本発明のLED用反射板は、例えばバックライト光源、照明、自動車の各種ランプなどに用いられるLED用の反射板として好適に使用できる。特に、表面実装に対応したLED用の反射板として好適に使用できる。
そこで、本発明の発光装置は、上記本発明のLED用反射板を備えた発光装置である。本発明の発光装置の例としては、バックライト光源、照明用光源、自動車の各種ランプの光源などが挙げられる。
半導体発光素子10は、発光ピーク波長を500nm以下の波長領域に有するものを好適に使用できる。単一の発光ピークを有する半導体発光素子に限られず、複数の発光ピークを有する半導体発光素子を用いることもできる。尚、複数の発光ピークを有する場合には、500nmよりも長波長の領域に1つまたは2つ以上の発光ピークを有していてもよい。また、可視光の長波長領域(501nm〜780nm)に発光ピークを有する半導体発光素子も用いることができる。
パッケージは半導体発光素子10が搭載される部材であり、一部または全体が上述の本発明のLED用反射板により形成される。
封止部材40は半導体発光素子10を被覆するように形成される部材であり、主として外部環境から半導体発光素子10を保護する目的で備えられる。
本発明はまた、上記の発光装置を備えた照明装置である。本発明の照明装置は、上記の高寿命の発光装置を用いているため、高寿命となる。本発明の照明装置は、公知方法に準じて構成することができ、例えば、従来のLED照明装置において、LED照明用光源に用いられている従来の発光装置を、上記の発光装置に置き換える等により構成することができる。
本発明はまた、上記の発光装置を備えた画像表示装置(例、携帯電話などの移動通信機器の小型ディスプレイ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラなどの撮影機器の小型ディスプレイ、カーナビゲーションシステムの小型ディスプレイ、パソコン、液晶TVなどの中型/大型ディスプレイ等)である。本発明の画像表示装置は、上記の高寿命の発光装置を用いているため、高寿命となる。本発明の画像表示装置は、公知方法に準じて構成することができ、例えば、従来の画像表示装置において、LEDバックライト光源に用いられている従来の発光装置を、上記の発光装置に置き換える等により構成することができる。
後述するポリアミドから一部を試料として取り、濃硫酸中、30℃にて、0.05,0.1,0.2,0.4g/dlの濃度の試料の固有粘度(ηinh)を測定し、これを濃度0に外挿した値を極限粘度[η]とした。
ηinh=[ln(t1/t0)]/c
〔式中、ηinhは固有粘度(dl/g)を表し、t0は溶媒の流下時間(秒)を表し、t1は試料溶液の流下時間(秒)を表し、cは溶液中の試料の濃度(g/dl)を表す。〕
後述するポリアミドから一部を試料として取り、メトラー・トレド(株)製の示差走査熱量分析装置(DSC822)を使用して、試料約10mgを、窒素雰囲気下で、30℃から360℃へ10℃/分の速度で加熱し、360℃で2分保持して試料を完全に融解させた後、10℃/分の速度で30℃まで冷却し30℃で2分保持した。再び10℃/分の速度で360℃まで昇温した時に現れる融解ピークのピーク温度を融点とした。融解ピークが複数ある場合は最も高温側の融解ピークのピーク温度を融点とした。
各実施例および比較例で得られたポリアミド組成物を用い、ポリアミドの融点よりも約20℃高いシリンダー温度で射出成形(金型温度:140℃)を行い、厚さ1mm、幅40mm、長さ100mmの試験片を作製し、試験片の460nmの波長での反射率を株式会社日立製作所製スペクトロフォトメーター(U−4000)により求めた。
各実施例および比較例で得られたポリアミド組成物を用い、ポリアミドの融点よりも約20℃高いシリンダー温度で射出成形(金型温度:140℃)を行い、厚さ1mm、幅40mm、長さ100mmの試験片を作製した。この試験片を熱風乾燥機中で170℃で2時間加熱処理した。加熱処理後の試験片の460nmの波長での反射率を株式会社日立製作所製スペクトロフォトメーター(U−4000)により求めた。
各実施例および比較例で得られたポリアミド組成物を用い、ポリアミドの融点よりも約20℃高いシリンダー温度で射出成形(金型温度:140℃)を行い、厚さ1mm、幅40mm、長さ100mmの試験片を作製した。この試験片をKF−1フィルター(ダイプラ・ウィンテス株式会社製)を備えた耐光性試験装置(ダイプラ・ウィンテス株式会社製スーパーウィン・ミニ)の、上部石英ガラス面から25cmの距離に設置し、24時間の光照射を行った。なお、試験片を設置した位置での300〜400nmの波長における照度は10mW/cm2であった。光照射後の試験片の460nmの波長での反射率を株式会社日立製作所製スペクトロフォトメーター(U−4000)により求めた。
各実施例および比較例で得られたポリアミド組成物を用い、ポリアミドの融点よりも約20℃高いシリンダー温度で射出成形(金型温度:140℃)を行い、厚さ1mm、幅10mm、長さ30mmの試験片を作製した。この試験片を用いて、株式会社島津製作所製オートグラフを使用して、23℃における曲げ破断歪みおよびウェルド曲げ破断歪みを測定した。
各実施例および比較例で得られたポリアミド組成物を用い、ポリアミドの融点よりも約20℃高いシリンダー温度で射出成形(金型温度:140℃)を行い、厚さ1mm、幅10mm、長さ30mmの試験片を作製した。この試験片を用いて、表面粗さを株式会社小坂研究所製表面粗さ測定器により求めた。なお、この表面粗さは、封止部材と基板との密着性の指標となる。例えば、本発明の構成例として示すSMDタイプの発光装置では、封止剤としてシリコーン樹脂を使用する際には、反射板表面の凹凸が50nmから500μm程度が最適とされ、表面性の凹凸がない場合には、シリコーン樹脂が凹凸に入り込むことができず、アンカリングされないため密着性が悪くなる。また、表面の凹凸が大きすぎると、凹凸部に入り込んだシリコーン樹脂が十分に基板とにアンカリングできないことから密着性が悪くなる。測定結果より、凹凸の粗さが良好なものを「○」、凹凸の粗さが大すぎるものを「×」として表1に示した。
(ポリアミド(a−1−i))
特開平7−228689号公報の実施例1に記載された方法に従って調製した、テレフタル酸単位と、1,9−ノナンジアミン単位および2−メチル−1,8−オクタンジアミン単位(1,9−ノナンジアミン単位:2−メチル−1,8−オクタンジアミン単位のモル比が85:15)からなる、極限粘度[η](濃硫酸中、30℃で測定)が0.9dl/g、融点が306℃、末端封止率が77%(末端封止剤:安息香酸)であるポリアミドを使用した。
テレフタル酸4788.3g(28.8モル)、1,10−デカンジアミン5093.4g(29.6モル)、末端封止剤としての安息香酸143.7g(1.18モル)、次亜リン酸ナトリウム一水和物10g、および蒸留水2.5Lを、内容積40Lのオートクレーブに入れ、窒素置換した。2時間かけて内部温度を200℃に昇温した。この時、オートクレーブは2MPaまで昇圧した。その後2時間、内部温度を230℃に保ち、水蒸気を徐々に抜いて圧力を2MPaに保ちながら反応させた。次いで、30分かけて圧力を1.2MPaまで下げ、プレポリマーを得た。このプレポリマーを1mm以下の大きさまで粉砕し、120℃、減圧下で12時間乾燥した。これを240℃、13.3Paの条件で10時間固相重合し、極限粘度[η](濃硫酸中、30℃で測定)が0.93dl/g、融点が315℃であるポリアミドを得、これを使用した。
シス:トランス比が70:30の1,4−シクロヘキサンジカルボン酸5111.2g(29.7モル)、1,9−ノナンジアミン4117.6g(26.0モル)、2−メチル−1,8−オクタンジアミン726.6g(4.59モル)、末端封止剤としての安息香酸224.2g(1.84モル)、次亜リン酸ナトリウム一水和物10g、および蒸留水2.5Lを、内容積40Lのオートクレーブに入れ、窒素置換した。2時間かけて内部温度を200℃に昇温した。この時、オートクレーブは2MPaまで昇圧した。その後2時間、内部温度を215℃に保ち、水蒸気を徐々に抜いて圧力を2MPaに保ちながら反応させた。次いで、30分かけて圧力を1.2MPaまで下げ、プレポリマーを得た。このプレポリマーを1mm以下の大きさまで粉砕し、120℃、減圧下で12時間乾燥した。これを230℃、13.3Paの条件で10時間固相重合し、末端封止剤単位が4.3モル%、極限粘度[η](濃硫酸中、30℃で測定)が0.87dl/g、融点が315℃であるポリアミドを得、これを使用した。
石原産業(株)製、「タイペークCR−90」(二酸化チタン:平均粒径0.25μm)
日東紡績(株)社製、「CS3J256」(ガラス繊維:GF)
キンセイマテック(株)社製、「SH−1250」(ワラストナイト:WS)
クラリアントジャパン(株)社製、「ナイロスタブS−EED」(2−エチル−2−エトキシ−オキザルアニリド)
協和化学工業(株)社製、「MF−150」(酸化マグネシウム:平均粒径0.71μm)
ポリアミド(A)、酸化チタン(B)、強化剤(C)、光安定剤(D)、酸化マグネシウム(E)および離型剤を、表1に示す配合量にて、ふるい選別機を用いてドライブレンドした。得られた混合物を、2軸スクリュー型押出機を用いて、用いるポリアミドの融点より20℃高い温度で溶融混練し、ペレット状に押出してポリアミド組成物を調製した。得られたポリアミド組成物を使用し、前記した方法に従って所定形状の試験片を作製し、各種物性を評価した。結果を表1に示す。
発光装置は、図1に示すSMDタイプの発光装置1の構成とした。発光素子10には460nmに発光ピーク波長を持つ青色に発光するものを用いた。封止部材40はシリコーン(信越化学株式会社製:商品名KER2500)を用いた。リフレクタ30は、自社製3228サイズのリフレクタを使用した。
比較例4は、リフレクタ30の材料を比較例1に示すポリアミド組成物へ変更して、実施例11と同様に図1に示すSMDタイプの発光装置を作製した。
実施例11および比較例4の発光装置を、85℃、15mAで1000時間通電試験を行い、0時間の光度に対する1000時間後の光度を求めることで光度保持率(1000時間の光度/0時間の光度)を測定した。なお、各実施例および比較例ごとに150個の発光装置の光度を測定し、その平均値を各実施例および比較例の光度とした。
Claims (12)
- 融点280℃以上のポリアミド(A)を30質量%以上および酸化チタン(B)を25質量%以上含み、かつ前記ポリアミド(A)と前記酸化チタン(B)の合計含有量が75質量%以上である反射板用ポリアミド組成物。
- 前記ポリアミド(A)のジカルボン酸単位が、テレフタル酸単位を50モル%以上含む請求項1に記載の反射板用ポリアミド組成物。
- 前記ポリアミド(A)のジアミン単位が、炭素数4〜18の脂肪族ジアミン単位を50モル%以上含む請求項1に記載の反射板用ポリアミド組成物。
- 前記炭素数4〜18の脂肪族ジアミン単位が、1,9−ノナンジアミン単位および/または2−メチル−1,8−オクタンジアミン単位である請求項3に記載の反射板用ポリアミド組成物。
- さらに15質量%以下の強化材(C)を含む請求項1に記載の反射板用ポリアミド組成物。
- 前記強化材(C)が、ガラス繊維および/またはワラストナイトである請求項5に記載の反射板用ポリアミド組成物。
- さらに酸化マグネシウムおよび/または水酸化マグネシウムを含む請求項1に記載の反射板用ポリアミド組成物。
- 請求項1に記載の反射板用ポリアミド組成物を用いたLED用反射板。
- 紫外線を24時間照射後に測定するスペクトロフォトメーターによる波長460nmの光の反射率が、85%以上である請求項8に記載のLED用反射板。
- 請求項8に記載のLED用反射板を備えた発光装置。
- 請求項10に記載の発光装置を備えた照明装置。
- 請求項10に記載の発光装置を備えた画像表示装置。
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