JP2012254989A - ポリカーボネートの製造に使用される配位錯物を合成する化合物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】次式で示される化合物を提供。
(式中、Aは酸素であり;Qはトランス−1,2−シクロヘキシレン、エチレン、または置換されたエチレンである)。オニウム塩及びルイス酸の中心金属を含有する上記錯化合物は高分子量のポリカーボネートを生成するためのエポキシド及び二酸化炭素の共重合化に対して高温で高い触媒活性を有する。
【選択図】なし
Description
)リガンドを有する亜鉛錯化合物から構成された高活性触媒を開発したが、これは最高1,116ターンオーバー/hrの転換速度を示す[Coates, G. W. Moore, D. R. Angew. Chem., Int.Ed. 2004, 6618; 米国特許6,133,402]。コーツらは類似した構造を有する亜鉛触媒を使用して最高2,300ターンオーバー/hrの転換速度まで具現した[J. Am. Chem. Soc. 125, 11911-11924 (2003)]。ベータ−ジケチミネートリガンドを含む亜鉛錯化合物の触媒作用は下記に示したように作用するもので提案された[Moore, D. R.; Cheng, M.; Lobkovsky, E. B.; Coates, G. W. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 11911]。
<化学式1>
<化学式2>
<化学式3>
Zは窒素またはリンであり、
Xはハロゲン;C6乃至C20のアリールオキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC6乃至C20のアリールオキシ;C1乃至C20のカルボキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のカルボキシ;C1乃至C20のアルコキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルコキシ;C1乃至C20のアルキルスルホネート;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキルスルホネート;C1乃至C20のアミド;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアミドであり;
R11、R12、R13、R21、R22、R23、R24、及びR25はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R11、R12、及びR13のうち2つまたはR21、R22、R23、R24、及びR25のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し、
R31、R32、及びR33はそれぞれ独立に、水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R31、R32、及びR33のうち2つは選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し、
X´は酸素、硫黄、またはN−Rであり;
Rは水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキルである。
<化学式4a>
MはCoまたはCrであり;
X´はそれぞれ独立にハロゲン;ニトロで非置換または置換されたC6乃至C20のアリールオキシ;またはハロゲンで非置換または置換されたC1乃至C20のカルボキシであり;
Aは酸素であり;
Qはトランス−1,2−シクロヘキシレン、エチレン、または置換されたエチレンであり;
R1、R2、R4、R6、R7、及びR9は水素であり;
R5とR10はそれぞれ独立に水素、tert−ブチル、メチル、またはイソプロピルであり;
R3とR8のうち一つまたは二つ共は−[YR41 3−m{(CR42R43)nN3R44R45R46}m]X´m、または−[PR51R52=N=PR53R54R55]X´であり、もう一つは水素、メチル、イソプロピル、またはtert−ブチルであり;
YがCまたはSiであり;
R41、R42、R43、R44、R45、R46、R51、R52、R53、R54、及びR55はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R44、R45、及びR46のうち2つ、またはR51、R52、R53、R54、及びR55のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;
mは1乃至3のうち一つの整数であり;
nは1乃至20のうち一つの整数である。
<化学式7a>
Aは酸素であり;
Qはトランス−1,2−シクロヘキシレン、エチレン、または置換されたエチレンであり;
R1、R2、R4、R6、R7及びR9は水素であり;
R5及びR10はそれぞれ独立に水素、tert−ブチル、メチルまたはイソプロピルであり;
R3及びR8のうち一または二つ共は−[YR41 3−m{(CR42R43)nNR44R45R46}m]X´m、または−[PR51R52=N=PR53R54R55]X´であり、もう一つは水素、メチル、イソプロピル、またはtert−ブチルであり;
X´は化学式4aから定義された所と同様であり;
YがCまたはSiであり;
R41、R42、R43、R44、R45、R46、R51、R52、R53、R54、及びR55はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R44、R45、及びR46のうち2つ、またはR51、R52、R53、R54、及びR55のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;
mは1乃至3のうち一つの整数であり;
nは1乃至20のうち一つの整数である。
<化学式4>
Mは金属であり;
X´は中性または1価の陰イオンリガンドであり;
Aは酸素または硫黄であり;
QはC1乃至C20のアルキレン;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキレン;C3乃至C20のシクロアルキルジラジカル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC3乃至C20のシクロアルキルジラジカル;C6乃至C30のアリールジラジカル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC6乃至C30のアリールジラジカル;C1乃至C20のジオキシラジカル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のジオキシラジカルであり;
R1乃至R10はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R1乃至R10のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;R1乃至R10のうち一つ以上が前記化学式1、化学式2、及び化学式3で示す作用基から構成された群から選ばれる作用基である。
<化学式4a>
MはCoまたはCrであり;
X´はそれぞれ独立にハロゲン;ニトロで非置換または置換されたC6乃至C20のアリールオキシ;またはハロゲンで非置換または置換されたC1乃至C20のカルボキシであり;
Aは酸素であり;
Qはトランス−1,2−シクロヘキシレン、エチレン、または置換されたエチレンであり;
R1、R2、R4、R6、R7、及びR9は水素であり;
R5とR10はそれぞれ独立に水素、tert−ブチル、メチル、またはイソプロピルであり;
R3とR8のうち一つまたは二つ共は−[YR41 3−m{(CR42R43)nN3R44R45R46}m]X´m、または−[PR51R52=N=PR53R54R55]X´であり、もう一つは水素、メチル、イソプロピル、またはtert−ブチルであり;
YがCまたはSiであり;
R41、R42、R43、R44、R45、R46、R51、R52、R53、R54、及びR55はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R44、R45、及びR46のうち2つ、またはR51、R52、R53、R54、及びR55のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;
mは1乃至3のうち一つの整数であり;
nは1乃至20のうち一つの整数である。
<化学式5a>
[化11]
<化学式5b>
[化12]
<化学式5c>
[化13]
<化学式5d>
[化14]
<化学式5e>
MはCoまたはCrであり;
R61、R62、及びR63はそれぞれ独立に水素、メチル、イソプロピルまたはtert−ブチルであり、
Xはハロゲン;C6乃至C20のアリールオキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC6乃至C20のアリールオキシ;C1乃至C20のカルボキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のカルボキシ;C1乃至C20のアルコキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルコキシ;C1乃至C20のアルキルスルホネート;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキルスルホネート;C1乃至C20のアミド;またはハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアミドであり;及び
nは1乃至20のうち一つの整数である。
<化学式6a>
前記式中、Xは2,4−ジニトロフェノキシである。
[化16]
<化学式6b>
前記式中、Xは2,4−ジニトロフェノキシである。
[化17]
<化学式6c>
前記式中、XはClである。
[化18]
<化学式6d>
前記式中、Xは2,4−ジニトロフェノキシであり、及びRはメチル、イソプロピル、またはtert−ブチルである。
[化19]
<化学式6e>
前記式中、Xは2,4−ジニトロフェノキシであり、及びRはメチル、イソプロピル、またはtert−ブチルである。
[化20]
<化学式6f>
前記式中、XはClである。
<化学式7>
Aは酸素または硫黄であり;
QはC1乃至C20のアルキレン;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキレン;C3乃至C20のシクロアルキルジラジカル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC3乃至C20のシクロアルキルジラジカル;C6乃至C30のアリールジラジカル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC6乃至C30のアリールジラジカル;C1乃至C20のジオキシラジカル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のジオキシラジカルであり;
R1乃至R10はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R1乃至R10のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;
R1乃至R10のうち一つ以上が請求項7に記載の化学式1、化学式2、及び化学式3で示す作用基から構成された群から選ばれる作用基である。
<化学式7a>
Aは酸素であり;
Qはトランス−1,2−シクロヘキシレン、エチレン、または置換されたエチレンであり;
R1、R2、R4、R6、R7及びR9は水素であり;
R5及びR10はそれぞれ独立に水素、tert−ブチル、メチルまたはイソプロピルであり;
R3及びR8のうち一または二つ共は−[YR41 3−m{(CR42R43)nNR44R45R46}m]X´m、または−[PR51R52=N=PR53R54R55]X´であり、もう一つは水素、メチル、イソプロピル、またはtert−ブチルであり;
X´は化学式4aから定義された所と同様であり;
YがCまたはSiであり;
R41、R42、R43、R44、R45、R46、R51、R52、R53、R54、及びR55はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R44、R45、及びR46のうち2つ、またはR51、R52、R53、R54、及びR55のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;
mは1乃至3のうち一つの整数であり;
nは1乃至20のうち一つの整数である。
<化学式8a>
[化24]
<化学式8b>
[化25]
<化学式8c>
[化26]
<化学式8d>
[化27]
<化学式8e>
R61、R62、及びR63はそれぞれ独立に水素、メチル、イソプロピルまたはtert−ブチルであり、
Xはハロゲン;BF4;C6乃至C20のアリールオキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC6乃至C20のアリールオキシ;C1乃至C20のカルボキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のカルボキシ;C1乃至C20のアルコキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルコキシ;C1乃至C20のアルキルスルホネート;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキルスルホネート;C1乃至C20のアミド;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアミドであり;及び
nは1乃至20のうち一つの整数である。
<化学式9a>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシである。
[化29]
<化学式9b>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシである。
[化30]
<化学式9c>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシである。
[化31]
<化学式9d>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシであり;及びRはメチル、イソプロピル、またはtert−ブチルである。
[化32]
<化学式9e>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシであり;及びRはメチル、イソプロピル、またはtert−ブチルである。
[化33]
<化学式9f>
前記式中、XはClである。
<化学式10>
<化学式11>
[化36]
<化学式12>
または
[化37]
<化学式13>
反応図A
反応図B
反応図C
反応図D
反応図E
<表1>
[a]:重合条件:プロピレンオキシド(10.0g、172mmol)、CO2(初期圧力、2.0 MPa)。
TON[b]:ターンオーバー数(turnover number)、つまり触媒1モルが不活性される前に転換させられる分子の数。
TOF[b]:ターンオーバー頻度(turnover frequency)、つまり単位時間当りターンオーバー数。前記数値は生成された重合体の重量を測定して計算された値であって、これは副生成物の環状カーボネート量を含まない。TON及びTOFは下記のように計算される。
TON=生成された重合体の質量(g)/[102*投入触媒モル数];TOF=TON/[時間(h)]
[c]:選択性は生成されたポリマー溶液の1H NMR spectroscopy分析によって計算された。
[d]:標準物質であって分子量の単一分布を有するポリスチレンで補正されたGPCで測定された分子量及び分子量分布。
[e]:環状カーボネートのみ1950 h-1のTOFで収得される。
[f]:文献[X.-B. Lu, L. Shi, Y.-M. Wang, R. Zhang, Y.-J. Zhang, X.-J. Peng, Z.-C. Zhang, B.Li, J. Am.Chem. Soc. 2006,128, 1664]に報告された重合データ。
[g]:低分子量のオリゴマーのみが得られるから、重合体の分子量は測定することができなく、従って、TOFとTONは生成された溶液の1H NMR spectra分析によって計算された。
[h]:文献[K. Nakano, T. Kamada, K. Nozaki, Angew. Chem. 2006, 118, 7432; Angew. Chem. Int. Ed. 2006, 45, 7274]に報告された重合データ。
化合物44の回収された触媒を使用した90−gスケールCO2/(プロピレンオキシド)の共重合化
Claims (3)
- 下記化学式7aで示されることを特徴とする化合物。
[化1]
<化学式7a>
前記式中、
Aは酸素であり;
Qはトランス−1,2−シクロヘキシレン、エチレン、または置換されたエチレンであり;
R1、R2、R4、R6、R7及びR9は水素であり;
R5及びR10はそれぞれ独立に水素、tert−ブチル、メチルまたはイソプロピルであり;
R3及びR8のうち一つまたは二つ共は−[YR41 3−m{(CR42R43)nNR44R45R46}m]X´m、または−[PR51R52=N=PR53R54R55]X´であり、もう一つは水素、メチル、イソプロピル、またはtert−ブチルであり;
X´は化学式4aから定義された所と同様であり;
YがCまたはSiであり;
R41、R42、R43、R44、R45、R46、R51、R52、R53、R54、及びR55はそれぞれ独立に水素;C1乃至C20のアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキル;C2乃至C20のアルケニル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC2乃至C20のアルケニル;C7乃至C20のアルキルアリール;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアルキルアリール;C7乃至C20のアリールアルキル;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC7乃至C20のアリールアルキル;またはヒドロカルビルで置換されたXIV族金属のメタルロイドラジカルであり、R44、R45、及びR46のうち2つ、またはR51、R52、R53、R54、及びR55のうち2つが選択的に互いに連結されてブリッジ構造を形成し;
mは1乃至3のうち一つの整数であり;
nは1乃至20のうち一つの整数である。 - 下記化学式8a乃至化学式8eのうちいずれか一つで示されることを特徴とする請求項1に記載の化合物。
[化2]
<化学式8a>
[化3]
<化学式8b>
[化4]
<化学式8c>
[化5]
<化学式8d>
[化6]
<化学式8e>
前記式中、
R61、R62、及びR63はそれぞれ独立に水素、メチル、イソプロピルまたはtert−ブチルであり、
Xはハロゲン;BF4;C6乃至C20のアリールオキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC6乃至C20のアリールオキシ;C1乃至C20のカルボキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のカルボキシ;C1乃至C20のアルコキシ;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルコキシ;C1乃至C20のアルキルスルホネート;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアルキルスルホネート;C1乃至C20のアミド;ハロゲン、窒素、酸素、珪素、硫黄、及びリンから構成された群から選ばれる一つ以上の作用基を有するC1乃至C20のアミドであり;及び
nは1乃至20のうち一つの整数である。 - 下記化学式9a乃至化学式9eのうちいずれか一つで示されることを特徴とする請求項2に記載の化合物。
[化7]
<化学式9a>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシである。
[化8]
<化学式9b>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシである。
[化9]
<化学式9c>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシである。
[化10]
<化学式9d>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシであり;及びRはメチル、イソプロピル、またはtert−ブチルである。
[化11]
<化学式9e>
前記式中、Xはハロゲン、BF4、または2,4−ジニトロフェノキシであり;及びRはメチル、イソプロピル、またはtert−ブチルである。
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