JP2013226539A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013226539A5
JP2013226539A5 JP2013008619A JP2013008619A JP2013226539A5 JP 2013226539 A5 JP2013226539 A5 JP 2013226539A5 JP 2013008619 A JP2013008619 A JP 2013008619A JP 2013008619 A JP2013008619 A JP 2013008619A JP 2013226539 A5 JP2013226539 A5 JP 2013226539A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
producing
hollow particles
particles
core
hollow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013008619A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013226539A (ja
JP6103950B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013008619A priority Critical patent/JP6103950B2/ja
Priority claimed from JP2013008619A external-priority patent/JP6103950B2/ja
Publication of JP2013226539A publication Critical patent/JP2013226539A/ja
Publication of JP2013226539A5 publication Critical patent/JP2013226539A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6103950B2 publication Critical patent/JP6103950B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013008619A 2012-03-26 2013-01-21 中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法 Expired - Fee Related JP6103950B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013008619A JP6103950B2 (ja) 2012-03-26 2013-01-21 中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012069662 2012-03-26
JP2012069662 2012-03-26
JP2013008619A JP6103950B2 (ja) 2012-03-26 2013-01-21 中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013226539A JP2013226539A (ja) 2013-11-07
JP2013226539A5 true JP2013226539A5 (2) 2016-03-10
JP6103950B2 JP6103950B2 (ja) 2017-03-29

Family

ID=48050200

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013008619A Expired - Fee Related JP6103950B2 (ja) 2012-03-26 2013-01-21 中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9802175B2 (2)
EP (1) EP2812108A1 (2)
JP (1) JP6103950B2 (2)
CN (1) CN104203391B (2)
WO (1) WO2013145548A1 (2)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2771099T3 (es) 2012-05-22 2020-07-06 Dsm Ip Assets Bv Composición y proceso para producir un recubrimiento de óxido inorgánico poroso
JP2014034488A (ja) * 2012-08-08 2014-02-24 Canon Inc 中空粒子の分散液の製造方法、反射防止膜の製造方法及び光学素子の製造方法
CA2930509A1 (en) * 2013-11-22 2015-05-28 Dsm Ip Assets B.V. Process for making an anti-reflective coating composition and a porous coating made therefrom
WO2015138144A1 (en) * 2014-03-11 2015-09-17 E I Du Pont De Nemours And Company Coating compositions comprising functionalized hollow silica particles with low porosity
WO2015138162A1 (en) * 2014-03-11 2015-09-17 E I Du Pont De Nemours And Company Coating compositions comprising functionalized hollow silica particles with low porosity prepared using water-based silica precursors
KR101672532B1 (ko) * 2015-04-27 2016-11-07 계명대학교 산학협력단 메조기공 중공형 나노 실리카 물질 합성에 사용되는 코어물질 합성방법 및 그 방법으로 제조된 코어물질
JP2017114950A (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 旭化成株式会社 塗膜及び塗膜の製造方法
JP6953114B2 (ja) * 2016-06-21 2021-10-27 扶桑化学工業株式会社 シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子、並びに、それらの製造方法
KR102166236B1 (ko) * 2018-12-19 2020-10-15 동의대학교 산학협력단 3d 스캔 및 스캔 이미지 보정 방법
JP7071418B2 (ja) * 2019-02-15 2022-05-18 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー 反射防止コーティング
CN110064063B (zh) * 2019-03-15 2021-11-19 徐州医科大学 一种双层疏水-亲水改性中空纳米硅球、其制备方法及应用
CN110669362B (zh) * 2019-10-16 2021-11-23 宁波甬安光科新材料科技有限公司 一种减反射涂料及其制备方法和用途
JP2022164313A (ja) * 2021-04-16 2022-10-27 株式会社リコー 白色組成液、組成液収容容器、インクジェット記録方法、インクジェット記録装置及び記録物
US20230124794A1 (en) * 2021-10-14 2023-04-20 Lumileds Llc Micro-led with reflectance redistribution
WO2024132096A1 (de) 2022-12-19 2024-06-27 Wacker Chemie Ag Siliconharz-hohlpartikel und verfahren zu deren herstellung
KR20250145516A (ko) 2024-03-28 2025-10-13 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 규소를 포함하는 외각과, 그 내측에 공동을 갖는 입자 및 그 제조 방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5939805A (ja) 1982-08-31 1984-03-05 Mitsui Toatsu Chem Inc 水田用除草剤組成物
JP4046921B2 (ja) 2000-02-24 2008-02-13 触媒化成工業株式会社 シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
US20070036705A1 (en) * 2005-08-10 2007-02-15 Butts Matthew D Hollow silica particles and methods for making same
JP5563762B2 (ja) * 2006-03-02 2014-07-30 株式会社カネカ 中空シリコーン系微粒子の製造方法
JP2008201908A (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Kaneka Corp 中空シリコーン系微粒子とフッ素系樹脂を含む被膜を有する被膜付基材
KR20100038170A (ko) * 2007-06-26 2010-04-13 덴끼 가가꾸 고교 가부시키가이샤 구상 유기 폴리머-실리콘 화합물 복합 입자, 중공 입자 및 그들의 제조 방법
JP5194935B2 (ja) * 2008-03-27 2013-05-08 Jsr株式会社 シリカ系中空粒子の製造方法およびシリカ系中空粒子分散体の製造方法
JP5578073B2 (ja) * 2008-06-03 2014-08-27 旭硝子株式会社 コア−シェル粒子の製造方法および中空粒子の製造方法
EP2351707A4 (en) * 2008-10-31 2012-06-06 Asahi Glass Co Ltd HOLLOW PARTICLES, MANUFACTURING METHOD, COATING COMPOSITION AND ARTICLES
EP2386590B1 (en) * 2008-12-25 2014-10-29 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Composite particles and process for producing the composite particles

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013226539A5 (2)
CN103382389B (zh) 一种荧光碳量子点及其发光聚合物基复合材料与制备方法
TWI736524B (zh) 氣凝膠複合體、帶有氣凝膠複合體的支撐構件及絕熱材
JP2015034281A5 (2)
CN105452393B (zh) 可热固化涂层体系
US20170073237A1 (en) Method for manufacturing hollow silica particles, hollow silica particles, and composition and thermal insulation sheet comprising same
JP6507838B2 (ja) エアロゲル、エアロゲルの製造方法及びエアロゲルフィルム
JP2016041643A5 (ja) 中空シリカ粒子の製造方法及び中空シリカ粒子
WO2012032868A1 (ja) 表面修飾チタニア粒子の製造方法、チタニア粒子分散液およびチタニア粒子分散樹脂
JP2014029511A5 (ja) トナーの製造方法
JP2015016687A5 (2)
CN105016354A (zh) 一种制备亚微米全硅dd3r分子筛的方法
JP2019065133A5 (2)
JP2014034488A5 (2)
Rigo et al. Energetics of formation and hydration of functionalized silica nanoparticles: an atomistic computational study
JP2016011993A5 (2)
CN103449453A (zh) 一种以阴离子表面活性剂为模板的介孔二氧化硅的制备方法
JP2014019626A5 (ja) 中空粒子の製造方法、反射防止膜の製造方法、光学素子の製造方法、中空粒子、反射防止膜及び光学素子
JP2015153918A5 (2)
JP2017015916A5 (2)
JP2017167271A5 (2)
JP2014152226A5 (2)
KR20120118876A (ko) 실리카 나노졸의 입자크기제어를 통한 굴절율 제어가능 유무기 하이브리드 소재의 제조방법
JP2016011992A5 (2)
CN102765726A (zh) 一种以稻壳灰为原料制备二氧化硅气凝胶的方法