JP2014005252A - 光学活性アニリン - Google Patents

Abstract

【課題】
本発明は、高い除草活性効果を有する（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを提供する。
【解決手段】
本発明は、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩、及びそれを有効成分とする除草剤に関する。本発明の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩は、（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを光学分割するか、又は（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼンを還元することにより製造することができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン、及びそれを有効成分として含有する除草剤、並びに光学活性（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドの有用な中間体に関する。

従来、重要な作物、特に水稲栽培において望まれる性質としては、低薬量で優れた除草活性を有し、広い殺草スペクトラムを有し、イネなどの有用作物に対して十分な安全性を有すること等が挙げられる。特に、近年は環境問題から低薬量で優れた除草活性を有する除草剤が望まれている。
一方、特許文献１には２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドが開示され、そこには当該化合物が、除草剤として有用であることが記載されている。さらに、特許文献２には特許文献１の光学活性体（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドが開示され、（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドが、２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドに比べて、除草剤として高い活性があることが記載されている。また、特許文献２に記載の方法では、光学分割を行う場合、合成が難しく高価なジフルオロメタンスルホニルクロリドを大量に使用する必要があり、工業的な新たな製造方法の開発が望まれていた。
しかし、特許文献１及び２のいずれにも、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンに関して何ら記載されていないし、当該化合物が除草活性を有する有用な化合物であることも記載されていない。
特許文献３には、除草剤の中間体として２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンが記載されているが、当該化合物の光学活性体は記載されていないし、それが除草活性を有することも記載されていない。また、特許文献３には、ニトロ体について一般式（ＶＩＩａ）が記載されているが（特許文献３、段落［００８７］）、当該一般式（ＶＩＩａ）で表される化合物の具体例は全く記載されていないし、当該化合物を製造した例も、当該化合物を使用した例も全く記載されていない。

特開２０００−４４５４６号公報 ＷＯ２０１０／０４４２１５号公報 特開平１１−６０５６２号公報

本発明の課題はかかる状況に鑑み成されたものであり、除草活性として優れているだけでなく、低薬量で優れた除草活性を有する光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドの有用な中間体の可能性を示す光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを提供するものである。

本発明者等は、鋭意検討した結果、前記の特許文献１に記載の化合物中において、中間体として記載されている２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンの特定の光学異性体である（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンのみが、優れた除草活性を示すことを見出し、さらに低薬量で優れた除草活性を有する光学活性（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドの有用な中間体になることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩に関する。
また、本発明は、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩、及び農薬上許容できる担体を含有してなる農薬組成物、特に除草用農薬組成物に関する。
さらに、本発明は、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンに、ジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させて、次いで所望によりそれを塩に変換することにより、（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドを製造する方法に関する。
また、本発明は、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを製造する際の有用な中間体である（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチル−ニトロベンゼンに関する。

すなわち本発明は、以下の発明に関するものである。
（１）式（Ｉ）

で表わされる光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩。
（２）前記（１）に記載の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩を有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
（３）前記（１）に記載の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩、及び農薬上許容される担体を含有してなる農薬組成物。
（４）農薬組成物が、除草用の農薬組成物である、前記（３）に記載の農薬組成物。
（５）農薬組成物の担体が、固体担体及び／又は液体担体である、前記（３）又は（４）に記載の農薬組成物。
（６）農薬組成物が、界面活性剤、結合剤や粘着付与剤、増粘剤、着色剤、拡展剤、展着剤、凍結防止剤、固結防止剤、崩壊剤、分解防止剤、及び防腐剤からなる群から選ばれる少なくとも１種の成分を含有する前記（３）から（５）のいずれか１項に記載の農薬組成物。
（７）農薬組成物が、さらに除草剤、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調整剤、薬害軽減剤、及び肥料からなる群から選ばれる少なくとも１種の成分を含有してなる前記（３）から（６）のいずれか１項に記載の農薬組成物。
（８）前記（１）に記載の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩の有効量を、農耕地又は非農耕地に散布して、農耕地又は非農耕地における雑草を除草する方法。

（９）２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンのラセミ体を光学分割して、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを製造する方法。
（１０）光学分割が、光学異性体分離用高速液体クロマトグラフィー用カラムを用いる光学分割である、前記（９）に記載の方法。
（１１）光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼンを還元して、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを製造する方法。
（１２）除草剤として有用な光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを製造する際の中間体として有用な、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン。
（１３）上記式（Ｉ）で表わされる光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンとジフルオロメタンスルホン酸ハライド又はジフルオロメタンスルホン酸無水物を反応させることを特徴とする除草剤ピリミスルファンの活性本体であるピリミスルファンの光学活性体（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドを製造する方法。

本発明の光学異性体である（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンは、低薬量で適用草種及び適用期幅の広い除草活性を有し、特に水田の雑草に対し優れた防除効果を有するため除草剤として有用であり、さらに低薬量で優れた除草活性を有する光学活性（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドの有用な中間体でもある。さらに本発明化合物はジフルオロメタンスルホニルクロリドと反応させることにより、光学活性（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドを合成する場合、通常の反応条件で行っても、驚くべきことにラセミ化がいかないで反応がいくことが確認された。さらに特許文献２での分割を行う場合、合成が難しく高価なジフルオロメタンスルホニルクロリドは大量に使用する必要があった。しかし本特許化合物を使用すれば、その使用量は半量に削減ができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
「（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン」と表記した場合、（Ｒ）体のみであることが望ましいが、自然環境のもとでは様々な条件、例えば光等の影響によって経時的に（Ｓ）体に変化することがあり、必ずしも純粋な（Ｒ）体のみに限定されるものではなく、本発明における（Ｒ）体としては実質的に（Ｒ）体を含有している全ての場合を包含している。
本発明の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンは、一般に、式（II）

で表わされるラセミ体を光学分割することにより製造できる。その光学分割方法としては、例えば、光学異性体分離用高速液体クロマトグラフィー用カラムを利用することにより、（Ｒ）光学異性体と（Ｓ）光学異件体とに分割することができる。光学異性体分離用高速液体クロマトグラフィー用カラムは一般に市販されており、例えば、ダイセル化学工業株式会社製造・販売のキラルパックアイシー（CHIRALPAK IC；カラムには分割剤としてCellulose tris(3,5-dimethylphenylcarbamate)をシリカゲルに担持したものが充填されている。) 、キラルパックエイワイエイチ（CHIRALPAK AY-H；カラムには分割剤としてAmylose tris(5-chloro-2-methylphenylcarbamate)をシリカゲルに担持したものが充填されている。）、キラルパックエーディー（CHIRALPAK AD；カラムには分割剤としてAmylose tris(3,5-dimethylphenylcarbamate)をシリカゲルに担持したものが充填されている。）又はキラルセルオーディーエイチ（CHIRALCEL OD-H；カラムには分割剤としてCellulose tris(3,5-dimethylphenylcarbamate)をシリカゲルに担持したものが充填されている。) 等を使用することができる。

光学分割で使用される溶媒としては、へキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール又はブタノール等のアルコール類；ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルアミン等のアミノ類；酢酸、水、或いはこれらの混合溶媒を例示することができる。
ラセミ体としての（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンは、前記特許文献１に記載した方法で製造することができる。
光学分割における温度及び時間は、広範囲に変化することができる。一般的には温度は−２０〜６０℃であって、好ましくは５〜５０℃である。時間は、０．０１時間〜５０時間であって、好ましくは、０．１時間〜２時間である。

本発明の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンは、別法として次の式（III）

で表わされる化合物を還元することにより、式（IV）

で表わされるラセミ体を製造し、これを光学分割することにより、式（Ｖ）

で表わされる光学活性体とし、次いでこれを還元することにより製造することもできる。
式（III）で表わされる化合物は、特許文献３に記載の方法により製造することができる。
次に式（III）で表わされる化合物を還元することによる式（IV）で表される化合物の製造工程について説明する。

（還元剤）
当工程の反応には、一般式（III）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を選択的に還元できればいかなる還元剤を用いてもよく、具体的には金属水素化物を例示することができるが、これに限定されるものではない。

（金属水素化物）
当反応に還元剤として使用できる金属水素化物としては、具体的には、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウム、又はボラン・テトラヒドロフラン錯体等の水素化ホウ素化合物；水素化リチウムアルミニウム又は水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム化合物；トリエチルシラン又はトリクロロシラン等の水素化ケイ素化合物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。なお、これらの金属水素化物等の還元剤は、単独で又は２種以上を任意の割合で混用しても良い。

入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点からは、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カルシウム、ボラン・テトラヒドロフラン錯体又は水素化リチウムアルミニウムの使用が好ましく、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウムの使用がより好ましく、水素化ホウ素ナトリウムの使用が更に好ましい。

（金属水素化物等の還元剤の使用量）
当反応における還元剤の使用モル比は、一般式（III）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）に対して反応が充分に進行する量であれば良いが、通常、一般式（III）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）１モルに対して、０．２５〜１０．０モル、好ましくは０．３〜５．０モル、より好ましくは０．３〜１．６モルの範囲を例示することができる。

（アルコール又は水）
当反応において、水素化ホウ素化合物を用いる場合にはアルコール又は水を共存させて用いることが好ましい。当反応に用いるアルコールとしては、具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールに代表されるＣ_１〜Ｃ_６アルカノール；エチレングリコールに代表されるＣ_１〜Ｃ_６アルカンジオール等を挙げることができる。これらのアルコールは単独で又は任意の割合で用いてもよい。なお、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点から、メタノール、エタノールの使用が好ましく、メタノールの使用がより好ましい。

（アルコール又は水の使用量）
当反応における、アルコール又は水の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば良いが、一般式（III）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）に対して、通常０．２〜２０．０モル、好ましくは０．５〜６．０モル、より好ましくは１．０〜４．０モルの範囲を例示することができる。ただし、後述する溶媒を兼ねてアルコール又は水を使用する場合は、ここに例示の範囲と関係なく、大過剰量を用いても差し支えない。

（溶媒）
当反応は無溶媒でも実施することができるが、反応を円滑に進行させるためには溶媒を用いることが好ましい。

当反応に用いうることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであればよく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン等の含ハロゲン炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

中でも溶媒としては、ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類が好ましく、トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類が更に好ましく、トルエン又はメタノールが特に好ましい。なお、溶媒は単独で又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（III）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０〜１０ｌ、好ましくは０．１〜１０ｌ、より好ましくは０．５〜１．５ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度は、−１０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示することができるが、−５℃〜１０℃の範囲が好ましい。

（反応時間）
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜３０時間がよい。

続いて、式（IV）で表わされる化合物を光学分割することによる式（Ｖ）で表される化合物の製造工程について説明する。
その光学分割方法としては、例えば、光学異性体分離用高速液体クロマトグラフィー用カラムを利用することにより、（Ｒ）光学異性体と（Ｓ）光学異性体とに分割することができる。光学異性体分離用高速液体クロマトグラフィー用カラムは、一般に市販されており、例えば、ダイセル化学工業株式会社製造・販売のキラルパックエーディー（CHIRALPAK AD；カラムには分割剤としてAmylose tris(3,5-dimethylphenylcarbamate)をシリカゲルに担持したものが充填されている。）、ダイセル化学工業株式会社製造・販売のキラルセルオーディーエイチ（CHIRALCEL OD-H；カラムには分割剤としてCellulose tris(3,5-dimethylphenylcarbamateをシリカゲルに担持したものが充填されている。）、ダイセル化学工業株式会社製造・販売のキラルパックエイワイエイチ（CHIRALPAK AY-H；カラムには分割剤として、Amylose tris(5-chloro-2-methylphenylcarbamateをシリカゲルに担持したものが充填されている。）を例示することができる。光学分割で使用される溶媒としては、へキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、２−プロパノール又はブタノール等のアルコール類；ジクロロメタン又はクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類；ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル等のニトリル類；ジエチルアミン等のアミノ類；酢酸、水、或いはこれらの混合溶媒を例示することができる。

光学分割における温度及び時間は、広範囲に変化することができる。一般的には温度は−２０〜６０℃であって、好ましくは５〜５０℃である。時間は、０．０１時間〜５０時間であって、好ましくは、０．１時間〜２時間である。
続いて、式（Ｖ）で表わされる化合物を還元することによる式（Ｉ）で表される化合物の製造工程について説明する。

（還元反応）
当工程の反応には、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体のニトロ基を選択的に、かつ立体配置を維持した状態で還元できれば、いかなる還元反応を用いてもよいが、当反応に用いる還元反応としては、金属を用いる還元反応、或いは、パラジウム触媒を用いる還元反応が好ましく、特殊な反応装置や高圧の水素等は必要がない。

（金属を用いる還元反応）
（金属）
金属を用いる還元反応において、還元剤として使用できる金属としては、当該反応が可能な金属であれば何れでも構わず、鉄、亜鉛、スズ又は銅等を例示することができ、これらに限定されるものではないが、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から鉄の使用が好ましい。
これらの金属は、反応が進行するのであれば如何なる形態のものでも使用することができるが、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から、粉状の金属が好ましく、従って、当反応に使用できる金属としては、具体的には例えば鉄粉の使用がより好ましい。

（鉄粉等の金属の使用量）
当反応における、鉄粉に代表される還元剤としての金属の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば良いが、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して通常０．５〜５０．０モル、好ましくは０．５〜２０．０モル、より好ましくは２．０〜５．０モル、更に好ましくは２．０〜３．０モルの範囲を例示することができる。なお、理論量は２当量であり、理論量程度の還元剤を使用することにより、還元剤に由来する廃棄物量を低減することができる。

（塩）
還元剤に鉄粉に代表される金属を用いる上記還元反応には、ニトロ基を還元できれば、他にいかなる試剤を用いてもよいが、好ましくは塩を用いる。
当反応に使用できる塩としては、カチオンとアニオンから形成される化合物を示すことができるが、これらに限定されるものではない。
当該化合物（塩）を形成するカチオンとしては、金属イオン、アンモニウムイオン（ＮＨ_４ ^＋）、アミニウムイオン、４級アンモニウムイオン又は４級ホスホニウムイオン等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記金属イオンにおける金属原子としては、リチウム原子、ナトリウム原子又はカリウム原子のアルカリ金属原子；マグネシウム原子、カルシウム原子又はバリウム原子等のアルカリ土類金属原子;亜鉛等の亜鉛族金属原子;鉄原子、スズ原子又は銅原子等の遷移金属原子を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記アミニウムイオンにおけるアミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、キノリン、アニリン又はＮ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記４級アンモニウムイオンとしては、テトラブチルアンモニウムイオン、トリメチルブチルアンモニウムイオン、トリオクチルメチルアンモニウムイオン等の直鎖若しくは分岐Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基又はフェニル基を有する４級アンモニウムイオンを例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記４級ホスホニウムイオンとしては、テトラブチルホスホニウムイオン、テトラフェニルホスホニウムイオン等の直鎖若しくは分岐Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基又はフェニル基を有する４級ホスホニウムイオンを例示することができるが、これらに限定されるものではない。

当該化合物（塩）を形成するアニオンとしては、酸由来のアニオンを例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記アニオンにおける酸としては、塩酸、臭化水素酸若しくはフッ化水素酸等のハロゲン化水素酸や、硫酸、硝酸又はリン酸等の無機酸；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸又は安息香酸等のカルボン酸；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸又はｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

従って、当反応に使用できる塩としては、アンモニウム塩、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩、アミン塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、亜鉛族金属塩又は遷移金属塩を示すことができるが、これらに限定されるものではない。なお、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から、アンモニウム塩又はアルカリ土類金属塩の使用が好ましい。

上記塩としては、具体的には、塩化アンモニウム又は臭化アンモニウム等のハロゲン化アンモニウム塩；臭化テトラブチルアンモニウム、塩化トリメチルブチルアンモニウムイオン又は塩化トリオクチルメチルアンモニウムイオン等のハロゲン化４級アンモニウム塩；臭化テトラフェニルホスホニウム等のハロゲン化４級ホスホニウム塩；トリエチルアミン塩酸塩又はピリジン塩酸塩等のアミンハロゲン化水素酸塩；塩化リチウム、塩化ナトリウム又は塩化カリウム等のハロゲン化アルカリ金属塩；塩化マグネシウム、塩化バリウム又は塩化カルシウム等のハロゲン化アルカリ土類金属塩；塩化亜鉛等のハロゲン化亜鉛族金属塩；塩化鉄（II）、塩化鉄（III）、塩化スズ（II）、塩化スズ（IV）、塩化銅（Ｉ）又は塩化銅（II）等のハロゲン化遷移金属塩；炭酸アンモニウム又は炭酸水素アンモニウム等の炭酸アンモニウム塩；炭酸ナトリウム又は炭酸水素ナトリウム等の炭酸アルカリ金属塩；炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム又は炭酸水素カルシウム等の炭酸アルカリ土類金属塩；炭酸鉄（II）、炭酸水素鉄（II）又は炭酸銅（II）等の炭酸遷移金属塩；硫酸アンモニウム又は硫酸水素アンモニウムの硫酸アンモニウム塩；硫酸水素テトラブチルアンモニウム等の硫酸４級アンモニウム塩；硫酸ナトリウム又は硫酸カリウム等の硫酸アルカリ金属塩；硫酸バリウム、硫酸カルシウム又は硫酸水素カルシウム等の硫酸アルカリ土類金属塩；硫酸鉄（II）、硫酸鉄（III）、硫酸スズ（II）、硫酸スズ（IV）、硫酸銅（Ｉ）又は硫酸銅（II）等の硫酸遷移金属塩；硝酸アンモニウム；硝酸鉄（II）又は硝酸鉄（III）等の硝酸遷移金属塩；リン酸アンモニウム；リン酸ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム又はリン酸水素二ナトリウム等のリン酸アルカリ金属塩；ギ酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム、トリフルオロ酢酸アンモニウム又は安息香酸アンモニウム等のカルボン酸アンモニウム塩；酢酸テトラブチルアンモニウム等のカルボン酸４級アンモニウム塩；酢酸テトラブチルホスホニウム等のカルボン酸４級ホスホニウム塩；トリエチルアミン酢酸塩又はピリジン酢酸塩等のカルボン酸アミン塩；酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、酢酸カリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩；酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム又はプロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩；カルボン酸鉄（II）又はカルボン酸鉄（III）等のカルボン酸遷移金属塩；ベンゼンスルホン酸アンモニウム等のスルホン酸アンモニウム塩；トリフルオロメタンスルホン酸テトラブチルアンモニウム等のスルホン酸４級アンモニウム塩；トリエチルアミンベンゼンスルホン酸塩等のアミンスルホン酸塩；ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸アルカリ金属塩；ベンゼンスルホン酸バリウム等のスルホン酸アルカリ土類金属塩を例示することができるが、これらに限定されるものではない。なお、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から、ハロゲン化アンモニウム塩、炭酸アンモニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩、ハロゲン化アルカリ土類金属塩又は炭酸アルカリ土類金属塩の使用が好ましい。

これらの塩は無水物であっても水和物であっても良く、これらの塩は単塩であっても複塩であっても良い。また、これらの塩は単独で又は２種以上を任意の割合で混用しても良い。

（塩の使用量）
当反応における塩の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば何れでも良いが、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．１〜５０．０モル、好ましくは０．５〜１０．０モル、より好ましくは０．５〜５．０モルの範囲を例示することができる。

（遊離の酸）
（遊離のカルボン酸）
還元剤に金属を用いる当該還元反応は、特許文献１等の従来技術と異なり、酢酸等の遊離のカルボン酸に代表される酸を仕込むことなく、即ち実質的に中性の反応条件下にニトロ基の還元が十分に進行するので、酸性の廃液を排出したり、また、これを中和したりする必要がないために、環境負荷を低減することができる。

（水又はアルコール類）
還元剤に金属を用いる当該還元反応には、水又はアルコール類を用いることが好ましい。当反応に用いることができるアルコール類としては、当反応に用いることができる溶媒として後述するアルコール類を例示することができる。

（水又はアルコール類の使用量）
当反応における、水又はアルコール類の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば良いが、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）に対して、通常０〜２０００モル、好ましくは１〜１００モル、より好ましくは５〜２０モルの範囲を例示することができる。ただし、後述する溶媒を兼ねて使用する場合は、上記例示の範囲に拘わらず、大過剰量を用いても差し支えない。

（溶媒）
還元剤に金属を用いる当反応は、無溶媒でも実施することができるが、反応を円滑に進行させるために溶媒を用いることが好ましい。

当反応に用いうることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであればよく、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の含ハロゲン炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類；水等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。中でも溶媒としては、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類又は水が好ましく、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール又は水が更に好ましい。なお、溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．０５〜１０ｌ、好ましくは０．５〜２ｌ、より好ましくは０．５〜１．５ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度は、０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、６０〜１００℃の範囲が好ましい。

（反応時間）
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜３０時間がよい。

（パラジウム触媒を用いる還元反応）
（パラジウム触媒）
当該還元反応に用いるパラジウム触媒としては、当該反応が可能なパラジウム触媒であれば何れでも構わないが、具体的には例えば、パラジウムカーボン、パラジウム担持アルミナ、パラジウム担持硫酸バリウム、パラジウム担持炭酸カルシウム等のパラジウム触媒を挙げることができる。
中でも、反応性が高く、反応後に高価なパラジウム触媒を容易に回収可能なパラジウムカーボン、パラジウム担持アルミナの使用が好ましく、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点からは、パラジウムカーボンの使用がより好ましい。これらのパラジウム触媒は単独で又は任意の割合で混用してもよい。

（パラジウム触媒の使用量）
当反応におけるパラジウム触媒は、反応が充分に進行する量であれば良いが、その使用量は、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール（原料化合物）に対して、モル比（金属パラジウム換算）で、通常０．００００１〜１．０モル、好ましくは０．０００１〜０．１モル、より好ましくは０．００５〜０．１モル、更に好ましくは０．００５〜０．０５モル、特に好ましくは０．００５〜０．０３モルの範囲を例示することができる。

（水素源としての還元剤）
パラジウム触媒を用いる当該還元反応には還元剤（水素源）を用いる。当反応に用いる還元剤としては、当反応が可能な還元剤であればいずれでも構わないが、具体的にはギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム又はギ酸カリウム等のギ酸化合物；水素；水素化ホウ素ナトリウム等のホウ素水素化物；水素化リチウムアルミニウム等のアルミニウム水素化物等を挙げることができる。
中でも、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点からギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム等のギ酸化合物又は水素の使用が好ましく、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム又は水素の使用がより好ましく、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム又はギ酸カリウムの使用が更に好ましく、ギ酸アンモニウム又はギ酸カリウムの使用が特に好ましい。なお、これらの還元剤は単独で、又は任意の割合で混用してもよい。

（水素源としての還元剤の使用量）
当反応における還元剤（水素源）の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば良いが、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常１〜２０モル、好ましくは１〜１０モル、より好ましくは１〜６モルの範囲を例示することができる。

（水素）
パラジウム触媒を用いる当該還元反応において、還元剤に水素を用いるときは、工業的な要望から高圧の水素ではなく、常圧の水素の使用が好ましい。

（塩基性物質）
パラジウム触媒を用いる当該還元反応において還元剤に水素を用いるときは、目的の反応が進行すれば、他にいかなる試剤を用いても良いが、好ましくは塩基性物質を用いる。

当反応に使用できる塩基性物質としては、具体的には例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム又は水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム又は炭酸バリウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩；炭酸水素マグネシウム又は炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属重炭酸塩；ナトリウムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコール金属塩類；ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩；酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水素化ナトリウム等の金属水素化物類；ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類を示すことができるが、これらに限定されるものではない。

中でも、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点からは、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩又は酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム又はプロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩等のカルボン酸塩の使用が好ましく、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩の使用がより好ましく、酢酸ナトリウムの使用が更に好ましい。

（塩基性物質の使用量）
当反応におけるカルボン酸塩等の塩基性物質の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば何れでも良いが、一般式（Ｖ）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モル、より好ましくは１〜２モルの範囲を例示することができる。

（溶媒）
当反応は反応を円滑に進行するために溶媒を用いることが好ましい。当反応に用いることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば良く、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類；水；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン等の含ハロゲン溶媒；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から好ましくはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類又は水を用いることが良く、より好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール又は水を用いることが良く、更に好ましくはメタノール又は水を用いることが良く、メタノールを溶媒として用いると特に好ましい。なお、溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（Ｖ）で表されるピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．０５〜１０ｌ、好ましくは０．２〜２ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度は、０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは１０〜４０℃の範囲が良い。

（反応時間）
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜３０時間が良い。

次に、式（Ｉ）で表される本発明の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンに、ジフルオロメタンスルホニルハライド又はジフルオロメタンスルホン酸無水物を、塩基性物質の存在下、反応させることにより、式（VI）で表される（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドを製造する工程について説明する。

（塩基性物質）
塩基性物質としては、具体的には例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム又は水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム又は炭酸バリウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩；炭酸水素マグネシウム又は炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属重炭酸塩；ナトリウムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコール金属塩類；ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩；酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水素化ナトリウム等の金属水素化物類；ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類を示すことができるが、これらに限定されるものではない。

中でも、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点からは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩；炭酸水素マグネシウム又は炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属重炭酸塩；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類がより好ましい。

（塩基性物質の使用量）
当反応における塩基の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば何れでも良いが、一般式（Ｉ）で表される（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン１モルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは１〜５モル、より好ましくは１〜２モルの範囲を例示することができる。
（ジフルオロメタンスルホニルハライド）
ジフルオロメタンスルホニルハライドとしては、ジフルオロメタンスルホニルクロライド又はジフルオロメタンスルホニルブロマイドを例示することができる。
（ジフルオロメタンスルホニルハライド及びジフルオロメタンスルホン酸無水物の使用量）
当反応における塩基の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば何れでも良いが、一般式（Ｉ）で表される（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン１モルに対して、通常１．０〜１０モル、好ましくは１〜５モル、より好ましくは１〜２モルの範囲を例示することができる。

（溶媒）
当反応は無溶媒でも実施することができるが、反応を円滑に進行させるためには溶媒を用いることが好ましい。
当反応に用いうることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであればよく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル、スルホラン又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル又は酢酸メチル等のエステル類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等のトルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン又はクロロホルム等の含ハロゲン炭化水素類等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

中でも溶媒としては、ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類が好ましく、トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類等のアルコール類が更に好ましく、トルエンが特に好ましい。なお、溶媒は単独で又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（III）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．１〜１０ｌ、好ましくは０．１〜１０ｌ、より好ましくは０．５〜１．５ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度は、−１０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示することができるが、−５℃〜１１０℃の範囲が好ましい。

（反応時間）
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜３０時間がよい。

本発明の除草剤には、必要に応じ農薬製剤に通常用いられる添加成分（担体）を含有することもでき、有効成分及び農薬上許容される担体を含有してなる農薬組成物とすることができる。
この添加成分としては、固体担体又は液体担体等の担体、界面活性剤、結合剤や粘着付与剤、増粘剤、着色剤、拡展剤、展着剤、凍結防止剤、固結防止剤、崩壊剤、分解防止剤等が挙げられ、その他必要に応じ、防腐剤や、植物片等を添加成分に用いてもよい。
これらの添加成分は１種用いてもよいし、また、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

上記添加成分について説明する。
固体担体としては、例えば石英、クレー、カオリナイト、ピロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライト、珪藻土等の天然鉱物質類；炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、塩化カリウム等の無機塩類；合成ケイ酸、合成ケイ酸塩、デンプン、セルロース、植物粉末等の有機固体担体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック担体等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、また、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

液体担体としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の一価アルコール類や、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類に大別されるアルコール類；プロピレン系グリコールエーテル等の多価アルコール誘導体類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ノルマルパラフィン、ナフテン、イソパラフィン、ケロシン、鉱油等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、ジイソプロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、アジピン酸ジメチル等のエステル類；γ−ブチロラクトン等のラクトン類；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−アルキルピロリジノン等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物類；大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等の植物油；水等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、また、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

界面活性剤は特に制限されないが、好ましくは水中でゲル化するか、あるいは膨潤性を示すものであり、例えばソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ジエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルホルマリン縮合物、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー、アルキルポリオキシエチレンポリプロピレンブロックポリマーエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ビスフェニルエーテル、ポリアルキレンベンジルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル、アセチレンジオール、ポリオキシアルキレン付加アセチレンジオール、ポリオキシエチレンエーテル型シリコーン、エステル型シリコーン、フッ素系界面活性剤、ポリオキシエチレンひまし油、ポリオキシエチレン硬化ひまし油等の非イオン性界面活性剤；アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、脂肪酸塩、ポリカルボン酸塩、Ｎ−メチル−脂肪酸サルコシネート、樹脂酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩等のアニオン性界面活性剤；ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン塩酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジメチルベンザルコニウムクロライド等のアルキルアミン塩等のカチオン界面活性剤；アミノ酸型又はベタイン型等の両性界面活性剤等を挙げることができる。

これらの界面活性剤は１種用いてもよいし、また、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、結合剤や粘着付与剤としては、例えばカルボキシメチルセルロースやその塩、デキストリン、水溶性デンプン、キサンタンガム、グアーガム、蔗糖、ポリビニルピロリドン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸ナトリウム、平均分子量６０００〜２００００のポリエチレングリコール、平均分子量１０万
〜５００万のポリエチレンオキサイド、天然燐脂質（例えばセフアリン酸、レシチン等）等が挙げられる。

増粘剤としては、例えばキサンタンガム、グアーガム、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、アクリル系ポリマー、デンプン誘導体；多糖類のような水溶性高分子；高純度ベントナイト、ホワイトカーボンのような無機微粉等を挙げることができる。
着色剤としては、例えば酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルーのような無機顔料；アリザリン染料、アゾ染料、金属フタロシアニン染料のような有機染料等が挙げられる。

拡展剤としては、例えばシリコーン系界面活性剤、セルロース粉末、デキストリン、加工デンプン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、架橋ポリビニルピロリドン、メタアクリル酸共重合体、多価アルコールのポリマーとジカルボン酸無水物とのハーフエステル、ポリスチレンスルホン酸の水溶性塩等を挙げることができる。
展着剤としては、例えばジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルなどの種々の界面活性剤、パラフィン、テルペン、ポリアミド樹脂、ポリアクリル酸塩、ポリオキシエチレン、ワックス、ポリビニルアルキルエーテル、アルキルフェノールホルマリン縮合物、合成樹脂エマルション等を挙げることができる。

凍結防止剤としては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類等を挙げることができる。
固結防止剤としては、例えばデンプン、アルギン酸、マンノース、ガラクトース等の多糖類、ポリビニルピロリドン、ホワイトカーボン、エステルガム、石油樹脂等を挙げることができる。
崩壊剤としては、例えばトリポリリン酸ソーダ、ヘキサメタリン酸ソーダ、ステアリン酸金属塩、セルロース粉末、デキストリン、メタクリル酸エステルの共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリアミノカルボン酸キレート化合物、スルホン化スチレン・イソブチレン・無水マレイン酸共重合体、デンプン・ポリアクリロニトリルグラフト共重合体等を挙げることができる。

分解防止剤としては、例えばゼオライト、生石灰、酸化マグネシウムのような乾燥剤、フェノール系、アミン系、硫黄系、リン酸系等の酸化防止剤、サリチル酸系、ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤等を挙げることができる。
防腐剤としては、例えばソルビン酸カリウム、１，２−ベンズチアゾリン−３−オン等を挙げることができる。
植物片としては、例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸、タバコ茎等を挙げることができる。

本発明の除草剤において、上記添加成分を含有させる場合、その含有割合については、質量基準で、担体では通常５〜９５％、好ましくは２０〜９０％、界面活性剤では通常０．１％〜３０％、好ましくは０．５〜１０％、その他の添加剤は０．１〜３０％、好ましくは０．５〜１０％の範囲で選ばれる。
本発明の除草剤は、液剤、乳剤、水和剤、粉剤、油剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粒剤、ジャンボ剤、サスポエマルション、豆つぶ＜登録商標＞剤等の任意の剤型に製剤化して使用される。

この製剤化時に、他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調整剤等の農薬から少なくとも１種類、薬害軽減剤、肥料等との混合組成物とすることもできるし、併用して処理することもできる。
使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するか又は直接施用する。

本発明の除草剤における有効成分の配合割合については、必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤又は粒剤等とする場合は０．０１〜１０％（重量）、好ましくは０．０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。乳剤及び水和剤等とする場合は１〜５０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。また、フロアブル剤等とする場合は１〜４０％（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用する剤型等によって変わるが、粉剤及び粒剤等のようにそのまま使用する場合は、有効成分として１ヘクタール当り１ｇ〜５０ｋｇ、好ましくは１０ｇ〜１０ｋｇの範囲から適宜選ぶのがよい。また、乳剤、水和剤及びフロアブル剤等とする場合のように液状で使用する場合は、０．１〜５０，０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１０，０００ｐｐｍの範囲から適宜選ぶのがよい。

また、本発明の除草剤は、本発明の化合物の他に使用目的に応じて、少なくとも一種の他の農薬活性成分、例えば他の病害防除剤成分、殺虫剤成分、殺ダニ剤成分、殺線虫剤成分、協力剤成分、誘引剤成分、忌避剤成分、除草剤成分、薬害軽減剤成分、微生物農薬成分、植物生長調整剤成分や、肥料、土壌改良剤等と製剤化、混合又は併用してもよい。
他の農薬活性成分や肥料と併用する場合、それぞれの単独成分の製剤を施用時に混合して用いることもできる。更に、それぞれの単独成分の製剤各々を逐次的に用いても良いし、或いは日数をあけて施用しても良い。日数をあけて施用する場合は、使用する他の成分によって異なるが例えばその間隔が１日〜４０日程度の間隔をおいて処理してもよい。
以下に本発明の除草剤において、本発明の化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の除草剤又は植物生長調整剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。

〔除草剤〕
Ａ１．アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ（ACCase）阻害型除草剤
（Ａ１−１）アリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物：クロジナホップ(clodinafop-propargyl)、シハロホップ・ブチル(cyhalofop-butyl)、ジクロホップ・メチル(diclofop-methyl)、ジクロホップ・Ｐ・メチル(diclofop-P-methyl)、フェノキサプロップ・Ｐ・エチル(fenoxaprop-P-ethyl)、フルアジホップ(fluazifop-butyl)、フルアジホップ・Ｐ(fluazifop-P-butyl)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキシホップ−エトティル(haloxyfop-etotyl)、ハロキシホップ・Ｐ(haloxyfop-P)、メタミホップ(metamifop)、プロパキザホップ(propaquizafop)、キザロホップ(quizalofop-ethyl)、キザロホップ・Ｐ・エチル(quizalofop-P-ethyl)、キザロホップ・Ｐ・テフリル(quizalofop-P-tefuryl)、フェンチアプロップ・エチル(fenthiaprop-ethyl)；
（Ａ１−２）シクロヘキサンジオン系化合物：アロキシジム(alloxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレトジム(clethodim)、シクロキシジム(cycloxydim)、プロホキシジム(profoxydim)、セトキシジム(sethoxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)；
（Ａ１−３）フェニルピラゾリン系化合物：アミノピラリド(aminopyralid)、ピノキサデン(pinoxaden)；

Ｂ．アセト乳酸合成酵素（ALS）阻害型除草剤
（Ｂ−１）イミダゾリノン系化合物：イマザメタベンズ(imazamethabenz-methyl)、イマザモックス(imazamox)、イマザピク(imazapic)（アミン等との塩を含む。）、イマザピル(imazapyr)（イソプロピルアミン等の塩を含む。）、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)；
（Ｂ−２）ピリミジニルオキシ安息香酸系化合物：ビスピリバック・ナトリウム塩(bispyribac-sodium)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリミノバック・メチル(pyriminobac-methyl)、ピリチオバック・ナトリウム塩(pyrithiobac-sodium)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)；
（Ｂ−３）スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物：フルカルバゾン・ナトリウム塩(flucarbazone-sodium)、チエンカルバゾン(thiencarbazone)（ナトリウム塩、メチルエステル等を含む。）、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩(propoxycarbazone-sodium)、プロカルバゾン・ナトリウム塩(procarbazone-sodium)；

（Ｂ−４）スルホニルウレア系化合物：アミドスルフロン(amidosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベンスルフロン・メチル(bensulfuron-methyl)、クロリムロン・エチル(chlorimuron-ethyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、エタメトスルフロン・メチル(ethametsulfuron-methyl)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron-methyl-sodium)、フォラムスルフロン(foramsulfuron)、ハロスルフロン・メチル(halosulfuron-methyl)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩(iodosulfron-methyl-sodium)、メソスフロン・メチル(mesosulfuron-methyl)、メトスルフロン・メチル(metsulfuron-methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、プリミスルフロン(primisulfuron-methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、ピラゾスルフロン・エチル(pyrazosulfuron-ethyl)、リムスルフロン(rimsulfuron)、スルホメツロン・メチル(sulfometuron-methyl)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、チフェンスルフロン・メチル(thifensulfuron-methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロン・メチル(tribenuron-methyl)、トリフロキシスルフロンナトリウム塩(trifloxysulfuron-sodium)、トリフルスルフロン・メチル(triflusulfuron-methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、オルトスルファムロン(orthosulfamuron)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、メタゾスルフロン(metazosulfuron)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)；
（Ｂ−５）トリアゾロピリミジン系化合物：クロランスラム・メチル(cloransulam-methyl)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、フルメツラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam)、ペノキススラム(penoxsulam)、ピロクススラム(pyroxsulam)：

Ｃ１．光化学系ＩＩ（Photosystem II）での光合成阻害除草剤１
（Ｃ１−１）フェニルカルバマート系除化合物：デスメディファム(desmedipham)、フェンメディファム(phenmedipham)；
（Ｃ１−２）ピリダジノン系化合物：クロリダゾン(chloridazon)、ブロムピラゾン(brompyrazon)；
（Ｃ１−３）トリアジン系化合物：アメトリン(ametryn)、アトラジン(atrazine)、シアナジン(cyanazine)、デスメトリン(desmetryne)、ジメタメトリン(dimethametryn)、エグリナジン(eglinazine-ethyl)、プロメトン(prometon)、プロメトリン(prometryn)、プロパジン(propazine)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、テルブメトン(terbumeton)、テルブチラジン(terbuthylazine)、テルブトリン(terbutryn)、トリエタジン(trietazine)；
（Ｃ１−４）トリアジノン系化合物：メタミトロン(metamitron)、メトリブジン(metribuzin)；
（Ｃ１−５）トリアゾリノン系化合物：アミカルバゾン(amicarbazone)；
（Ｃ１−６）ウラシル系化合物：ブロマシル(bromacil)、レナシル(lenacil)、ターバシル(terbacil)；

Ｃ２．光化学系ＩＩ（Photosystem II）での光合成阻害除草剤２
（Ｃ２−１）アミド系化合物：ペンタノクロール(pentanochlor)、プロパニル(propanil)；
（Ｃ２−２）尿素系化合物：クロルブロムロン(chlorbromuron)、クロロトルロン(chlorotoluron)、クロロクスロン(chloroxuron)、ジメフロン(dimefuron)、ジウロン(diuron)、エチジムロン(ethidimuron)、フェニュロン(fenuron)、フルオメツロン(fluometuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、リニュロン(linuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メトブロムロン(metobromuron)、メトキスロン(metoxuron)、モノリニュロン(monolinuron)、ネブロン(neburon)、シデュロン(siduron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メトベンズロン(metobenzuron)；
Ｃ３．光化学系ＩＩ（Photosystem II）での光合成阻害除草剤３
（Ｃ３−１）ベンゾチアジアゾン系化合物：ベンタゾン(bentazone)；
（Ｃ３−２）ニトリル系化合物：ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモキシニル(bromoxynil)（酪酸、オクタン酸又はヘプタン酸等のエステル体を含む。）、アイオキシニル(ioxynil)；
（Ｃ３−３）フェニルピラジン系除草性化合物：ピリダフォル(pyridafol)、ピリデート(pyridate)；

Ｄ．光化学系Ｉからのラジカル生成型除草性剤
（Ｄ−１）ビピリジウム系化合物：ジクワット(diquat)、パラコート(paraquat dichloride)；

Ｅ．プロトポルフィノリーゲンオキシダーゼ（PPO）阻害型除草剤
（Ｅ−１）ジフェニルエーテル系化合物：アシフルオルフェン(acifluorfen-sodium)、ビフェノックス(bifenox)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、エトキシフェン(ethoxyfen-ethyl)、フルオログリコフェン(fluoroglycofen-ethyl)、ホメサフェン(fomesafen)、ラクトフェン(lactofen)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)；
（Ｅ−２）Ｎ−フェニルフタルイミド系化合物：シニドン・エチル(cinidon-ethyl)、フルミクロラック・ペンチル(flumiclorac-pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、クロルフタリム(chlorphthalim)；
（Ｅ−３）オキシジアゾール系化合物：オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)；
（Ｅ−４）オキサゾリジンジオン系化合物：ペントキサゾン(pentoxazone)；

（Ｅ−５）フェニルピラゾール系化合物：フルアゾレート(fluazolate)、ピラフルフェン・エチル(pyraflufen-ethyl)；
（Ｅ−６）ピリミジンジオン系化合物：ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ブタフェナシル(butafenacil)、サフルフェナシル(saflufenacil)；
（Ｅ−７）チアジアゾール系化合物：フルチアセット・メチル(fluthiacet-methyl)、チジアジミン(thidiazimin)；
（Ｅ−８）トリアゾリノン系化合物：アザフェニジン(azafenidin)、カルフェントラゾン・エチル(carfentrazone-ethyl)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)；
（Ｅ−９）その他の化合物：フルフェンピル・エチル(flufenpyr-ethyl)、プロフルアゾール(profluazol)、ピラクロニル(pyraclonil)、ＳＹＰ−２９８（コード番号）、ＳＹＰ−３００（コード番号）；

Ｆ１．フィトエンデサチュラーゼ（PDS）阻害剤除草剤
（Ｆ１−１）ピリダジノン系化合物：ノルフルラゾン(norflurazon)；
（Ｆ１−２）ピリミジンカルボキサミド系化合物：ジフルフェニカン(diflufenican)、ピコリナフェン(picolinafen)；
（Ｆ１−３）その他の化合物
ベフルブタミド(beflubutamid)、フルリドン(fluridone)、フルロクロリドン(flurochloridone)、フルルタモン(flurtamone)；

Ｆ２．４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（HPPD）阻害型除草剤
（Ｆ２−１）カリステモン系化合物：メソトリオン(mesotrione)；
（Ｆ２−２）イソキサゾール系化合物：ピラスルホトール(pyrasulfotole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)；
（Ｆ２−３）ピラゾール系化合物：ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)；
（Ｆ２−４）トリケトン系化合物：スルコトリオン(sulcotrione)、テフリルトリオン(tefuryltrion)、テムボトリオン(tembotrione)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)、トプラメゾン(topramezone)、ビシクロピロン(bicyclopyrone)；

Ｆ３．カロチノイド生合成阻害剤（ターゲット未知）除草剤
（Ｆ３−１）ジフェニルエーテル系化合物：アクロニフェン(aclonifen)；
（Ｆ３−２）イソキサゾリジノン系化合物：クロマゾン(clomazone)；
（Ｆ３−３）トリアゾール系化合物：アミトロール(amitrole)；

Ｇ．ＥＰＳＰシンターゼ合成阻害（芳香族アミノ酸生合成阻害）型除草剤
（Ｇ−１）グリシン系化合物：グリホサート(glyphosate)（ナトリウム、アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン又はトリメシウム等の塩を含む。）；

Ｈ．グルタミン合成阻害剤除草剤
（Ｈ−１）ホスフィン酸系化合物：ビラナホス(bilanafos)、グルホシネート(glufosinate)（アミン又はナトリウム等の塩を含む。）；
Ｉ．ジヒドロプテロエート（DHP）阻害剤除草剤
（Ｉ−１）カルバマート系化合物：アシュラム(asulam)；

Ｋ１．微小管の集合阻害型除草性剤
（Ｋ１−１）ベンズアミド系化合物：プロピザミド(propyzamide)、テブタム(tebutam)；
（Ｋ１−２）安息香酸系化合物：クロルタル・ジメチル(chlorthal-dimethyl)；
（Ｋ１−３）ジニトロアニリン系化合物：ベンフルラリン(benfluralin)、ブトラリン(butralin)、ジニトラミン(dinitramine)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、フルクロラリン(fluchloralin)、オリザリン(oryzalin)、ペンジメタリン(pendimethalin)、プロジアミン(prodiamine)、トリフルラリン(trifluralin)；
（Ｋ１−４）ホスホロアミデート系化合物：アミプロホス・メチル(amiprofos-methyl)、ブタミホス(butamifos)；
（Ｋ１−５）ピリジン系化合物：ジチオピル(dithiopyr)、チアゾピル(thiazopyr)；

Ｋ２．有糸分裂／微小管組織形成阻害型除草剤
（Ｋ２−１）カルバマート系化合物：カルベタミド(carbetamide)、クロルプロファム(chlorpropham)、プロファム(propham)、スエップ(swep)、カルブチレート(karbutilate)；

Ｋ３．超長鎖脂肪酸（VLCFA）伸長酵素阻害型除草剤
（Ｋ３−１）アセトアミド系化合物：ジフェナミド(diphenamid)、ナプロパミド(napropamide)、ナプロアニリド(naproanilide)；
（Ｋ３−２）クロロアセトアミド系化合物：アセトクロ−ル(acetochlor)、アラクロール(alachlor)、ブタクロール(butachlor)、ブテナクロール(butenachlor)、ジエタチル(diethatyl-ethyl)、ジメタクロール(dimethachlor)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメテナミド・Ｐ(dimethenamid-P)、メタザクロール(metazachlor)、メトラクロール(metolachlor)、ペトキサミド(pethoxamid)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロパクロール(propachlor)、プロピソクロール(propisochlor)、Ｓ−メトラクロール(S-metolachlor)、テニルクロール(thenylchlor)；
（Ｋ３−３）オキシアセトアミド系化合物：フルフェナセット(flufenacet)、メフェナセット(mefenacet)；
（Ｋ３−４）テトラドリノン系化合物：フェントラザミド(fentrazamide)；
（Ｋ３−５）その他の化合物：アニロホス(anilofos)、ブロモブチド(bromobutide)、カフェンストロール(cafenstrole)、インダノファン(indanofan)、ピペロホス(piperophos)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)；

Ｌ．セルロース合成阻害剤除草剤
（Ｌ−１）ベンズアミド系化合物：イソキサベン(isoxaben)；
（Ｌ−２）ニトリル系化合物：ジクロベニル(dichlobenil)、クロルチアミド(chlorthiamid)；
（Ｌ−３）トリアゾロカルボキサミド系化合物：フルポキサム(flupoxame)；

Ｍ． アンカップラー（細胞膜破裂）型除草剤
（Ｍ−１）ジニトロフェノール系化合物：ジノテルブ(dinoterb)、ＤＮＯＣ（アミン又はナトリウム等の塩を含む。）；

Ｎ．脂質生合成（ACCase阻害以外）阻害型除草剤
（Ｎ−１）ベンゾフラン系化合物：ベンフレセート(benfuresate)、エトフメセート(ethofumesate)；
（Ｎ−２）ハロゲン化カルボン酸系化合物：ダラポン(dalapon)、フルプロパネート(flupropanate)、ＴＣＡ（ナトリウム、カルシウム又はアンモニア等の塩を含む。）；
（Ｎ−３）ホスホロジチオエート系化合物：ベンスリド(bensulide)；
（Ｎ−４）チオカルバマート系化合物：ブチレート(butylate)、シクロエート(cycloate)、ジメピペレート(dimepiperate)、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ(esprocarb)、モリネート(molinate)、オルベンカルブ(orbencarb)、ペブレート(pebulate)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、チオベンカルブ(thiobencarb)、チオカルバジル(tiocarbazil)、トリアレート(tri-allate)、バーナレート(vernolate)；

Ｏ．合成オーキシン型除草剤
（Ｏ−１）安息香酸系化合物：クロランベン(chloramben)、２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ(dicamba)（アミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ジグリコールアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む。）；
（Ｏ−２）フェノキシカルボン酸系化合物：２，４，５−Ｔ、２，４−Ｄ（アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウム等の塩を含む。）、２，４−ＤＢ、クロメプロップ(clomeprop)、ジクロルプロップ(dichlorprop)、ジクロルプロップ−Ｐ(dichlorprop-P)、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡ・チオエチル(MCPA-thioethyl)、ＭＣＰＢ（ナトリウム塩、エチルエステル等を含む。）、メコプロップ(mecoprop)（ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミン等の塩を含む。）、メコプロップ−Ｐ・カリウム塩(mecoprop-P)；
（Ｏ−３）ピリジンカルボン酸系化合物：クロピラリド(clopyralid)、フルロキシピル(fluroxypyr)、ピクロラム(picloram)、トリクロピル(triclopyr)、トリクロピル−ブトティル(triclopyr-butotyl)；
（Ｏ−４）キノリンカルボン酸系化合物：キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)；
（Ｏ−５）その他の化合物：ベナゾリン(benazolin)；

Ｐ．オーキシン輸送阻害型除草剤
（Ｐ−１）フタラマート(Phthalamates)系化合物：ナプタラム(naptalam)（ナトリウム等との塩を含む。）；
（Ｐ−２）セミカルバゾン系化合物：ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)；

Ｚ．作用性未知の除草剤
フラムプロップ・Ｍ(flamprop-M)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む。）、フラムプロップ(flamprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む。）、クロルフルレノール(chlorflurenol-methyl)、シンメチリン(cinmethylin)、クミルロン(cumyluron)、ダイムロン(daimuron)、メチルダイムロン(methyldymuron)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、エトベンザニド(etobenzanid)、ホサミン(fosamine)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、アクロレイン(acrolein)、ＡＥ−Ｆ−１５０９４４（コード番号）、アミノシクロピラクロル(aminocyclopyrachlor)、シアナミド(cyanamide)、heptamaloxyloglucan、インダジフラム(indaziflam)、トリアジフラム(triaziflam)、キノクラミン(quinoclamine)、エンドタール二ナトリウム塩(endothal-disodium)、フェニソファム(phenisopham)；

〔植物生長調整化合物剤〕
１−メチルシクロプロペン(1-methylcyclopropene)、１−ナフチルアセトアミド(1-naphthylacetamide)、２，６−ジイソプロピルナフタレン(2,6-diisopropylnaphthalene)、４−ＣＰＡ、ベンジルアミノプリン(benzylaminopurine)、アンシミドール(ancymidol)、アビグリシン(aviglycine)、カルボネ(carvone)、クロルメコート(chlormequat)、クロプロップ(cloprop)、クロキシホナック(cloxyfonac)、クロキシホナック・カリウム塩(cloxyfonac-potassium)、シクラニリド(cyclanilide)、サイトカイニン(cytokinins)、ダミノジット(daminodide)、ジケグラック(dikegulac)、ジメチピン(dimethipin)、エテホン(ethephon)、エチクロゼート(ethychlozate)、フルメトラリン(flumetralin)、フルレノール(flurenol)、フルルプリミドール(flurprimidol)、ホルクロルフェニュロン(forchlorfenuron)、ジベレリン(gibberellin acid)、イナベンフィド(inabenfide)、インドール酢酸(indole acetic acid)、インドール酪酸(indole butyric acid)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、メフルイジド(mefluidide)、メピコート・クロリド(mepiquat chloride)、デシルアルコール(n-decanol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、プロヘキサジオン・カルシウム塩(prohexadione-calcium)、プロヒドロジャスモン(prohydrojasmon)、シントフェン(sintofen)、チジアズロン(thidiazuron)、トリアコンタノール(triacontanol)、トリネキサパック・エチル(trinexapac-ethyl)、ウニコナゾール(uniconazole)、ウニコナゾール−Ｐ(uniconazole-P)

以下に本発明の化合物と混合又は併用してもよい公知の薬害軽減剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
ベノキサコル(benoxacor)、フリラゾール(furilazole)、ジクロルミド(dichlormid)、ジシクロノン(dicyclonone)、ＤＫＡ−２４（Ｎ１，Ｎ２−ジアリル−Ｎ２−ジクロロアセチルグリシンアミド）、ＡＤ−６７（４−ジクロロアセチル−１−オキサ−４−アザスピロ［４．５］デカン）、ＰＰＧ−１２９２（２，２−ジクロロ−Ｎ−（１，３−ジオキサン−２−イルメチル)−Ｎ−（２−プロペニル）アセトアミド）、Ｒ−２９１４８（３−ジクロロアセチル−２，２，５−トリメチル−１，３−オキサゾリジン）、クロキントセット−メキシル(cloquintcet-mexyl)、ナフタル酸無水物(1,8-Naphthalic Anhydride)、メフェンピル−ジエチル(mefenpyr-diethyl)、メフェンピル(mefenpyr)、メフェンピルエチル(mefenpyr-ethyl)、フェンクロラゾール−エチル(fenchlorazole-ethyl)、フェンクロリム(fenclorim)、ＭＧ−１９１（２−ジクロロメチル−２−メチル−１，３−ジオキサン）、シオメトリニル(cyometrinil)、フルラゾール(flurazole)、フルキソフェニム(fluxofenim)、イソキサジフェン(isoxadifen)、イソキサジフェン−エチル(isoxadifen-ethyl)、メコプロップ(mecoprop)、ＭＣＰＡ、ダイムロン(daimuron)、２，４−Ｄ、ＭＯＮ４６６０（コード番号）、オキサベトリニル(oxabetrinil)、シプロスルファミド(cyprosulfamide)及びＴＩ−３５（コード番号）。

以下に本発明化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の植物病害防除剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。
１．核酸生合成阻害剤
アシルアラニン化合物：ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル・Ｍ(benalaxyl-M)、フララキシル(furalaxyl)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル・Ｍ(metalaxyl-M)；
オキサゾリジノン系化合物：オキサジキシル(oxadixyl)；
ブチロラクトン系化合物：クロジラコン(clozylacon)、オフラセ(ofurace)；
ヒドロキシ−（２−アミノ）ピリミジン系化合物：ブピリメート(bupirimate)、ジメチリモル(dimethirimol)、エチリモル(ethirimol)；
イソキサゾール系化合物：ヒメキサゾール(hymexazol)；
イソチアゾロン系化合物：オクチリノン(octhilinone)；
カルボン酸系化合物：オキソリニック酸(oxolinic acid)

２．有糸分裂及び細胞分裂阻害剤
ベンゾイミダゾール系化合物：ベノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、フベリダゾール(fuberidazole)、チアベンダゾール(thiabendazole)；
チオファネート系化合物：チオファネート(thiophanate)、チオファネート・メチル(thiophanate-methyl)；
Ｎ−フェニルカルバマート系化合物：ジエトフェンカルブ(diethofencarb)；
トルアミド系化合物：ゾキサミド(zoxamide)；
フェニルウレア系化合物：ペンシクロン(pencycuron)；
ピリニジルメチルベンズアミド系化合物：フルオピコリド(fluopicolide)

３．呼吸阻害剤
ピリミジンアミン系化合物：ジフルメトリム(diflumetorim)；
カルボキサミド系化合物：ベノダニル(benodanil)、フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)、フルオピラム(fluopyram)、フェンフラム(fenfuram)、カルボキシン(carboxin)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、チフルザミド(thifluzamide)、ビキサフェン(bixafen)、フラメトピル(furametpyr)、イソピラザム(isopyrazam)、ペンフルフェン(penflufen)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、セダキサン(sedaxane)、ボスカリド(boscalid)；
メトキシアクリレート系化合物：アゾキシストロビン(azoxystrobin)、エネストロブリン(enestroburin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)；
メトキシカルバマート系化合物：ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin)；
オキシイミノアセテート化合物：クレソキシム・メチル(kresoxim-methyl)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)；
オキシイミノセトアミド系化合物：ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)；
オキサゾリジンジオン系化合物：ファモキサドン(famoxadone)；
ジヒドロジオキサジン系化合物：フルオキサストロビン(fluoxastrobin)；
イミダゾリノン系化合物：フェナミドン(fenamidone)；
ベンジルカルバマート系化合物：ピリベンカルブ(pyribencarb)；
シアノイミダゾール系化合物：シアゾファミド(cyazofamid)；
スルファモイルトリアゾール系化合物：アミスルブロム(amisulbrom)；
ジニトロフェニルクロトン酸系化合物：ビナパクリル(binapacryl)、メプチルジノカップ(meptyldinocap)、ジノカップ(dinocap)；
２，６−ジニトロアニリン系化合物：フルアジナム(fluazinam)；
ピリミジノンヒドラゾン系化合物：フェリムゾン(ferimzone)；
トリフェニルスズ系化合物：ＴＰＴＡ(TPTA)、ＴＰＴＣ(TPTC)、ＴＰＴＨ(TPTH)；
チオフェンカルボキサミド系化合物：シルチオファム(silthiofam)；
トリアゾロピリミジルアミン系化合物：アメトクトラジン(ametoctradin)

４．アミノ酸及びタンパク質合成阻害剤
アニリノピリミジン系化合物：シプロジニル(cyprodinil)、メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメタニル(pyrimethanil)；
エノピランウロン酸系抗生物質：ブラストサイジン-Ｓ(blasticidin-S)、ミルディオマイシン(mildiomycin)；
へキソピラノシル系抗生物質：カスガマイシン(kasugamycin)；
グルコピラノシル系抗生物質：ストレプトマイシン(streptomycin)；
テトラサイクリン系抗生物質：オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)

５．シグナル伝達系に作用する剤
キノリン系化合物：キノキシフェン(quinoxyfen)；
キナゾリン系化合物：プロキナジド(proquinazid)；
フェニルピロール系化合物：フェンピクロニル(fenpiclonil)、フルジオキソニル(fludioxonil)；
ジカルボキシミド系化合物：クロゾリネート(chlozolinate)、イプロジオン(iprodione)、プロシミドン(procymidone)、ビンクロゾリン(vinclozolin)

６．脂質及び細胞膜合成阻害剤
ホスホロチオレート系化合物：エジフェンホス(edifenphos)、イプロベンホス(iprobenfos)、ピラゾホス(pyrazophos)；
ジチオラン系化合物：イソプロチオラン(isoprothiolane)；
芳香族炭化水素系化合物：ビフェニル(biphenyl)、クロロネブ(chloroneb)、ジクロラン(dicloran)、キントゼン(quintozene)、テクナゼン(tecnazene)、トルクロホス・メチル(tolclofos-methyl)；
１，２，４−チアジアゾール系化合物：エトリジアゾール(etridiazole)；
カルバマート系化合物：ヨードカルブ(iodocarb)、プロパモカルブ塩酸塩(propamocarb-hydrochloride)、プロチオカルブ(prothiocarb)；
桂皮酸アミド系化合物：ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)；
バリンアミドカルバマート系化合物：ベンチアバリカルブ・イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、バリフェナレート(valifenalate)；
マンデル酸アミド系化合物：マンジプロパミド(mandipropamid)；
バチルスズブチリス及び殺菌性リポペプチド生産物：バチルスズブチリス(Bacillus subtilis)(strain：QST 713)

７．ステロール生合成阻害剤
ピペラジン系化合物：トリホリン(triforine)；
ピリジン系化合物：ピリフェノックス(pyrifenox)；
ピリミジン系化合物：フェナリモル(fenarimol)、ヌアリモル(nuarimol)；
イミダゾール系化合物：イマザリル(imazalil)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole-fumarate)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プロクロラズ(prochloraz)、トリフルミゾール(triflumizole)；
トリアゾール系化合物：アザコナゾール(azaconazole)、ビテルタノール(bitertanol)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾール・Ｍ(diniconazole-M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、エタコナゾール(etaconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ペンコナゾール(penconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリチコナゾール(triticonazole)、フルコナゾール(furconazole)、フルコナゾール・シス(furconazole-cis)、キンコナゾール(quinconazole)；
モルホリン系化合物：アルジモルフ(aldimorph)、ドデモルフ(dodemorph)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph)；
ピペリジン系化合物：フェンプロピジン(fenpropidin)、ピペラリン(piperalin)；
スピロケタールアミン系化合物：スピロキサミン(spiroxamine)；
ヒドロキシアニリド系化合物：フェンヘキサミド(fenhexamid)；
チオカルバマート系化合物：ピリブチカルブ(pyributicarb)；
アリルアミン系化合物：ナフティフィン(naftifine)、テルビナフィン(terbinafine)

８．グルカン合成阻害剤
グルコピラノシル系抗生物質：バリダマイシン(validamycin)；
ペプチジルピリジンヌクレオチド化合物：ポリオキシン(polyoxin)

９．メラニン合成阻害剤
イソベンゾフラノン系化合物：フサライド(phthalide)；
ピロロキノリン系化合物：ピロキロン(pyroquilon)；
トリアゾロベンゾチアゾール系化合物：トリシクラゾール(tricyclazole)；
カルボキサミド系化合物：カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)；
プロピオンアミド系化合物：フェノキサニル(fenoxanil)

１０．植物病害抵抗性を誘導する剤
ベンゾチアジアゾール系化合物：アシベンゾラル・Ｓ・メチル(acibenzolar-S-methyl)；
ベンゾイソチアゾール系化合物：プロベナゾール(probenazole)；
チアジアゾールカルボキサミド系化合物：チアジニル(tiadinil)、イソチアニル(isotianil)；
天然物：ラミナリン

１１．作用性不明及び多作用点の剤
銅化合物：水酸化第二銅(copper hydroxide)、オクタン酸銅(copper dioctanoate)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、硫酸銅(copper sulfate)、酸化第一銅(cuprous oxide)、オキシキノリン銅(oxine-copper)、ボルドー液(Bordeaux mixture)、ノニルフェノールスルホン酸銅(copper nonylphenol sulfonate)；
硫黄化合物：硫黄(sulfur)；
ジチオカルバマート系化合物：ファーバム(ferbam)、マンコゼブ(mancozeb)、マンネブ(maneb)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チウラム(thiram)、ジネブ(zineb)、ジラム(ziram)、クフラネブ(cufraneb)；
フタルイミド系化合物：キャプタン(captan)、フォルペット(folpet)、カプタホール(captafol)；
クロロニトリル系化合物：クロロタロニル(chlorothalonil)；
スルファミド系化合物：ジクロフルアニド(dichlofluanid)、トリルフルアニド(tolylfluanid)；
グアニジン系化合物：グアザチン(guazatine)、イミノクタジン・アルベシル酸塩(iminoctadine-albesilate)、イミノクタジン酢酸塩(iminoctadine-triacetate)、ドジン(dodine)；

その他の化合物：アニラジン(anilazine)、ジチアノン(dithianon)、シモキサニル(cymoxanil)、ホセチル(fosetyl)(alminium, calcium, sodium)、亜リン酸及び塩(phosphorous acid and salts)、テクロフタラム(tecloftalam)、トリアゾキシド(triazoxide)、フルスルファミド(flusulfamide)、ジクロメジン(diclomezine)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、エタボキサム(ethaboxam)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、メトラフェノン(metrafenone)、炭酸水素カリウム(potassium bicarbonate)、炭酸水素ナトリウム(sodium bicarbonate)、ＢＡＦ−０４５（コード番号）、ＢＡＧ−０１０（コード番号）、ベンチアゾール(benthiazole)、ブロノポール(bronopol)、カルボネ(carvone)、キノメチオネート(chinomethionat)、ダゾメット(dazomet)、ＤＢＥＤＣ(DBEDC)、デバカルブ(debacarb)、ジクロロフェン(dichlorophen)、ジフェンゾコート(difenzoquat-methyl sulfate)、ジメチルジスルフィド(dimethyl disulfide)、ジフェニルアミン(diphenylamine)、エトキシキン(ethoxyquin)、フルメトベル(flumetover)、フルオルイミド(fluoroimide)、フルチアニル(flutianil)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フランカルボン酸(furancarboxylic acid)、メタム(metam)、ナーバム(nabam)、ナタマイシン(natamycin)、ニトラピリン(nitrapyrin)、ニトロタル・イソプロピル(nitrothal-isopropyl)、オルソフェニルフェノール(o-phenylphenol)、オキサジニラゾール(oxazinylazole)、硫酸オキシキノリン(oxyquinoline sulfate)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ピリオフェノン(pyriofenone)、Ｓ−２１８８（コード番号）、銀(silver)、ＳＹＰ−Ｚ−０４８（コード番号）、テブフロキン(tebufloquin)、トルニファニド(tolnifanide)、トリクラミド(trichlamide)、ミネラルオイル(mineral oils)、オーガニックオイル(organic oils)；

１２．微生物及び微生物生産物
アグロバクテリウム・ラジオバクター(Agrobacterium radiobacter)、麹菌生産物(Fermented product from Aspergillus spp.)、バチルス属菌(Bacillus spp.)、Harpinタンパク質(Harpin protein)、エルビニア・カロトボーラ(Erwinia carotovora)、フザリウム・オキシスポラム(Fusarium oxysporum)、グリオクラディウム属菌(Gliocladium spp.)、ラッカーゼ(Laccase)、シュードモナス属菌(Pseudomonas spp.)、タラロマイセス属菌(Talaromyces spp.)、トリコデルマ属菌(Trichoderma spp.)、シイタケ菌糸体抽出物(Extract from mushroom)、バクテリオファージ(Bacteriophage)。
以下に本発明化合物と混合又は併用してもよい他の農薬活性成分のうち公知の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤物、協力剤を例示するが、これらの例に限定されるものではない。

〔殺虫活剤、殺ダニ剤、殺線虫剤〕
１．アセチルコリンエステラーゼ阻害剤：
（１Ａ）カルバマート化合物：アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、カルバリル(carbaryl)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、ホルメタネート(formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、メトルカルブ(metolcarb)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカルブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(thiofanox)、トリアザメート(triazamate)、トリメタカルブ(trimethacarb)、3,5-xylyl methylcarbamate(XMC)、キシリルカルブ(xylylcarb)；

（１Ｂ）有機リン化合物：アセフェート(acephate)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス・エチル(azinphos-ethyl)、アジンホス・メチル(azinphos-methyl)、カズサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルメホス(chlormephos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホス・メチル(chlorpyrifos-methyl)、クマホス(coumaphos)、シアノホス(cyanophos)、デメトン・Ｓ・メチル(demeton-S-methyl)、ジアミダホス(diamidafos)、ダイアジノン(diazinon)、ジクロルボス(dichlorvos)、ジクロトホス(dicrotophos)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、ジスルホトン(disulfoton)、ＤＳＰ(DSP)、ＥＰＮ、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、ファムフル(famphur)、フェナミホス(fenamiphos)、フェニトロチオン(fenitrothion)、フェンチオン(fenthion)、フォノホス(fonofos)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスチエタン(fosthietan)、ヘプテノホス(heptenophos)、イサミドホス(isamidofos)、イサゾホス(isazophos)、イソフェンホス(isofenphos-methyl)、イソプロピル Ｏ−（メトキシアミノチオホソホリル）サリチレート(isopropyl O-(methoxyaminothio-phosphoryl)salicylate)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メカルバム(mecarbam)、メタミドホス(methamidophos)、メチダチオン(methidathion)、メビンホス(mevinphos)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled)、オメトエート(omethoate)、オキシジメトン・メチル(oxydemeton-methyl)、オキシデプロホス(oxydeprofos)、パラチオン(parathion)、パラチオン・メチル(parathion-methyl)、フェントエート(phenthoate)、ホレート(phorate)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホキシム(phoxim)、ピリミホス・メチル(pirimiphos-methyl)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロペタムホス(propetamphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、キナルホス(quinalphos)、スルホテップ(sulfotep)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テルブホス(terbufos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、チオメトン(thiometon)、チオナジン(thionazin)、トリアゾホス(triazophos)、トリクロルホン(trichlorfon)、バミドチオン(vamidothion)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、イミシアホス(imicyafos)、イソカルボホス(isocarbophos)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、フルピラゾホス(flupyrazofos)；

２．ＧＡＢＡ受容体（クロライドチャネル）阻害剤
（２Ａ）シクロジエン有機塩素系化合物：クロルデン(chlordane)、エンドスルファン(endosulfan)、ガンマ−ＢＨＣ(gamma-BHC)；
（２Ｂ）フェニルピラゾール系化合物：アセトプロール(acetoprol)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、ピリプロール(pyriprole)、ＲＺＩ−０２−００３(コード番号）；

３．ナトリウムチャネルに作用する剤
（３Ａ）ピレスロイド系化合物：アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)［d-cis-trans、d-transを含む。］、ビフェントリン(bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオアレスリンＳ−シクロペンテニル(bioallethrin S-cyclopentenyl)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)［beta-を含む。］、シハロトリン(cyhalothrin)［gamma-,lambda-を含む。］、シペルメトリン(cypermethrin)［alpha-,beta-,theta-,zeta-を含む。］、シフェノトリン(cyphenothrin)[(1R)-trans-isomersを含む。]、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン(empenthrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(etofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、タウフルバリネート［tau-を含む。］、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン(phenothrin)[(1R)-trans-isomerを含む。]、プラレトリン(prallethrin)、プロフルトリン(profluthrin)、ピレトリン(pyrethrine)、レスメトリン(resmethrin)、ＲＵ１５５２５（コード番号）、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ＺＸＩ８９０１（コード番号）、フルバリネート(fluvalinate)、テトラメチルフルスリン(tetramethylfluthrin)、メペルフルスリン(meperfluthrin)；
（３Ｂ）ＤＤＴ系化合物：ＤＤＴ、メトキシクロル(methoxychlor)；

４．ニコチン性アセチルコリン受容体アゴニスト／アンタゴニスト
（４Ａ）ネオニコチノイド系化合物：アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)；
（４Ｂ）ニコチン系化合物：硫酸ニコチン(nicotine-sulfate)；
５．ニコチン性アセチルコリン受容体アロステリックアクチベーター スピノシン系化合物：スピネトラム(spinetoram)、スピノサド(spinosad)；

６．クロライドチャネルを活性化する剤
アバメクチン、ミルベマイシン系化合物：アバメクチン(abamectin)、エマメクチンベンゾエート(emamectin benzoate)、レピメクチン(lepimectin)、ミルベメクチン(milbemectin)、イベルメクチン(ivermectin)、ポリナクチン複合体(polynactins)；
７．幼若ホルモン様の剤
ジオフェノラン(diofenolan)、ハイドロプレン(hydroprene)、キノプレン(kinoprene)、メトトリン(methothrin)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)；

８．非特異的作用(多作用点)の剤
１，３−ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、ＤＣＩＰ、エチレンジブロミド(ethylene dibromide)、メチルブロマイド(methyl bromide)、クロルピクリン(chloropicrin)、フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)；
９．摂食阻害剤
ピメトロジン(pymetrozine)、フロニカミド(flonicamid)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)；
１０．ダニの成長制御剤
クロフェンテジン(clofentezine)、ジフロビダジン(diflovidazin)、ヘキサチアゾクス(hexythiazox)、エトキサゾール(etoxazole)；

１１．昆虫腸内膜を破壊する剤
ＢＴ剤：Bacillus sphaericus、Bacillus thuringiensis subsp. aizawai、Bacillus thuringiensis subsp. israelensis、Bacillus thuringiensis subsp. kurstaki、Bacillus thuringiensis subsp. tenebrionis、Bt crop proteins(Cry1Ab, Cry1Ac, Cry1Fa, Cry2Ab, mCry3A, Cry3Ab, Cry3Bb, Cry34/35Ab1)、Bacillus popilliae、Bacillus subtillis；
１２．ＡＴＰ生合成酵素阻害剤
ジアフェンチウロン(diafenthiuron)；
有機スズ化合物：アゾシクロチン(azocyclotin)、シヘキサチン(cyhexatin)、フェンブタンチン・オキシド(fenbutatin oxide)；
プロパルギット(propargite)、テトラジホン(tetradifon)；
１３．脱共役剤
クロルフェナピル(chlorfenapyr)、ＤＮＯＣ(DNOC)；

１４．ニコチン性アセチルコリンチャネルブロッカー剤
ネライストキシン系化合物：ベンスルタップ(bensultap)、カルタップ(cartap)、チオシクラム(thiocyclam)、チオスルタップ(thiosultap)；
１５．キチン生合成阻害剤（タイプ０）
ベンゾイルウレア系化合物：ビストリフルロン(bistrifluron)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、フルアズロ(fluazuron)；
１６．キチン生合成阻害剤（タイプ１）
ブプロフェジン(buprofezin)；

１７．脱皮阻害剤（ハエ目対象）
シロマジン(cyromazine)；
１８．エクダイソンアゴニスト（脱皮促進）
ジアシルヒドラジン系化合物：クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)；
１９．オクトパミンアゴニスト
アミトラズ(amitraz)；

２０．ミトコンドリア電子伝達系（複合体ＩＩ）阻害剤
ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、アセキノシル(acequinocyl)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)；
２１．ミトコンドリア電子伝達系（複合体ＩＩＩ）阻害剤
シフルメトフェン(cyflumetofen)、シエノピラフェン(cyenopyrafen) 、ＮＮＩ−０７１１；
２２．ミトコンドリア電子伝達系（複合体Ｉ）阻害剤
ＭＥＴＩ殺ダニ剤：フェナザキン(fenazaquin)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)；
その他：ロテノン(rotenone)；

２３．ナトリウムチャネル阻害剤
インドキサカルブ(indoxacarb)、メタフルミゾン(metaflumizon)；
２４．脂質生合成阻害剤
テトラニック系殺虫／殺ダニ剤：スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマト(spirotetramat)；
２５．ミトコンドリア電子伝達系（複合体ＩＶ）阻害剤
りん化アルミニウム(aluminium phosphide)、りん化水素(phosphine)、りん化亜鉛(zinc phosphide)、石灰窒素(calcium cyanide)；
２６．神経阻害（作用機作不明）剤
ビフェナゼート(bifenazate)；
２７．アコニターゼ阻害剤
フルオロ酢酸ナトリウム塩(sodium fluoroacetate)；
２８．共力剤
ピペロニルブトキシド(piperonylbutoxide)、ＤＥＦ(DEF)；
２９．リアノジン受容体に作用する剤
クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、フルベンジアミド(flubendiamide)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)；

３０．その他（作用性が不明）の剤
アザディラクチン(azadirachtin)、アミドフルメット(amidoflumet)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、ＣＬ９００１６７（コード番号）、クリオライト(cryolite)、ジコホル(dicofol)、ジシクラニル(dicyclanil)、ジエノクロル(dienochlor)、ジノブトン(dinobuton)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フルエンスルホン(fluensulfone)、フルフェネリム(flufenerim)、フルスルファミド(flusulfamide)、カランジン(karanjin)、メタム(metham)、メトプレン(methoprene)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、スルコフロン(sulcofuron-sodium)、スルフラミド(sulflramid)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)；

３１．昆虫病原性糸状菌、殺線虫微生物
ボーベリア・バッシアーナ(Beauveriabassiana)、ボーベリア・テネーラ(Beauveriatenella)、バーティシリウムレカニ(Verticilliumlecanii)、ペキロマイセス・テヌイペス(Paecilomycestenuipes)、ペキロマイセス・フモソロセウス(Paecilomycesfumosoroceus)、ボーベリア・ブロンニアティ(Beauveriabrongniartii)、モナクロスポリウム・フィマトパガム(Monacrosporiumphymatophagum)、パスツーリアペネトランス胞子(Pasteuriapenetrans)；

３２．性フェロモン
（Ｚ）−１１−ヘキサデセナール、（Ｚ）−１１−ヘキサデセニル＝アセタート、リトルアＡ(litlure-A)、リトルアＢ(litlure-B)、Ｚ−１３−イコセン−１０−オン、（Ｚ，Ｅ）−９，１２−テトラデカジエニル＝アセタート、（Ｚ）−９−テトラデセン−１−オール、（Ｚ）−１１−テトラデセニル＝アセタート、（Ｚ）−９，１２−テトラデカジエニル＝アセタート、（Ｚ，Ｅ）−９，１１−テトラデカジエニル＝アセタート。
本発明の化合物は、優れた除草効力を有し、かつあるものは作物・雑草間に優れた選択性を示し農地における農薬組成物、特に除草剤として有用である。すなわち本発明の化合物は、農園芸用植物を栽培する畑地の茎葉処理及び土壌処理において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。

アカバナ科雑草：オオマツヨイグサ（Oenothera erythrosepala）、コマツヨイグサ（Oenothera laciniata）；
キンポウゲ科雑草：トゲミノキツネノボタン（Ranunculus muricatus）、イボミキンポウゲ（Ranunculus sardous）；
タデ科雑草：ソバカズラ（Polygonum convolvulus）、サナエタデ（Polygonum lapathifolium）、アメリカサナエタデ（Polygonum pensylvanicum）、ハルタデ（Polygonum persicaria）、ナガバギシギシ（Rumex crispus）、エゾノギシギシ（Rumex obtusifolius）、イタドリ（Polygonum cuspidatum）；
スベリヒユ科雑草：スベリヒユ（Portulaca oleracea）；
ナデシコ科雑草：ハコベ（Stellaria media）、オランダミミナグサ（Cerastium glomeratum）；
アカザ科雑草：シロザ（Chenopodium album）、ホウキギ（Kochia scoparia）；
ヒユ科雑草：アオゲイトウ（Amaranthus retroflexus）、ホナガアオゲイトウ（Amaranthus hybridus）；

アブラナ科雑草：ワイルドラディッシュ（Raphanus raphanistrum）、ノハラガラシ（Sinapis arvensis）、ナズナ（Capsella bursa-pastoris）、マメグンバイナズナ（Lepidium virginicum）；
マメ科雑草：アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata）、エビスグサ（Cassia obtusifolia）、フロリダベガ−ウィード（Desmodium tortuosum）、シロツメクサ（Trifolium repens）、オオカラスノエンドウ（Vicia sativa）、コメツブウマゴヤシ（Medicago lupulina）；
アオイ科雑草：イチビ（Abutilon theophrasti）、アメリカキンゴジカ（Sida spinosa）；
スミレ科雑草：フィールドパンジー（Viola arvensis）、ワイルドパンジー（Viola tricolor）；
アカネ科雑草：ヤエムグラ（Galium aparine）；
ヒルガオ科雑草：アメリカアサガオ（Ipomoea hederacea）、マルバアサガオ（Ipomoea purpurea）、マルバアメリカアサガオ（Ipomoea hederacea var integriuscula）、マメアサガオ（Ipomoea lacunosa）、セイヨウヒルガオ（Convolvulus arvensis）；
シソ科雑草：ヒメオドリコソウ（Lamium purpureum）、ホトケノザ（Lamium amplexicaule）；
ナス科雑草：シロバナチョウセンアサガオ（Datura stramonium）、イヌホオズキ（Solanum nigrum）；

ゴマノハグサ科雑草：オオイヌノフグリ（Veronica persica）、タチイヌノフグリ（Veronica arvensis）、フラサバソウ（Veronica hederifolia）；
キク科雑草：オナモミ（Xanthium pensylvanicum）、野生ヒマワリ（Helianthus annuus）、カミツレ（Matricaria chamomilla）、イヌカミツレ（Matricaria perforata or inodora）、コーンマリーゴールド（Chrysanthemum segetum）、コシカギク（Matricaria matricarioides）、ブタクサ（Ambrosia artemisiifolia）、オオブタクサ（Ambrosia trifida）、ヒメムカシヨモギ（Erigeron canadensis）、ヨモギ（Artemisia princeps）、セイタカアワダチソウ（Solidago altissima）、セイヨウタンポポ（Taraxacum officinale）；
ムラサキ科雑草：ワスレナグサ（Myosotis arvensis）；
ガガイモ科雑草：オオトウワタ（Asclepias syriaca）；
トウダイグサ科雑草：トウダイグサ（Euphorbia helioscopia）、オオニシキソウ（Euphorbia maculata）；

フウロソウ科雑草：アメリカフウロ（Geranium carolinianum）；
カタバミ科雑草：ムラサキカタバミ（Oxalis corymbosa）；
ウリ科雑草：アレチウリ（Sicyos angulatus）；
イネ科雑草：イヌビエ（Echinochloa crus-galli）、エノコログサ（Setaria viridis）、アキノエノコログサ（Setaria faberi）、メヒシバ（Digitaria sanguinalis）、オヒシバ（Eleusine indica）、スズメノカタビラ（Poa annua）、ブラックグラス（Alopecurus myosuroides）、カラスムギ（Avena fatua）、セイバンモロコシ（Sorghum halepense）、シバムギ（Agropyron repens）、ウマノチャヒキ（Bromus tectorum）、ギョウギシバ（Cynodon dactylon）、オオクサキビ（Panicum dichotomiflorum）、テキサスパニカム（Panicum texanum）、シャターケーン（Sorghum vulgare）、スズメノテッポウ（Alopecurus geniculatus）；
ツユクサ科雑草：ツユクサ（Commelina communis）；
トクサ科雑草：スギナ（Equisetum arvense）；
カヤツリグサ科雑草：コゴメガヤツリ（Cyperus iria）、ハマスゲ（Cyperus rotundus）、キハマスゲ（Cyperus esculentus）。

本発明の化合物は、トウモロコシ（Zea mays）、コムギ（Triticum aestivum）、オオムギ（Hordeum vulgare）、イネ（Orysa sativa）、ソルガム（Sorghum bicolor）、ダイズ（Glycine max）、ワタ（Gossypium spp.）、テンサイ（Beta vulgaris）、ピ−ナッツ（Arachis hypogaea）、ヒマワリ（Helianthus annuus）、ナタネ（Brassica napus）等の主要作物、花卉、蔬菜等の園芸作物に対して問題となるような薬害を示さない。
また、本発明の化合物は、ダイズ、トウモロコシ、コムギ等の不耕起栽培において、問題となる種々の雑草を効果的に除草することができ、しかも、作物に対しては問題となるような薬害を示さない。

本発明の化合物は、水田において、次に挙げられる問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。
イネ科雑草：タイヌビエ（Echinochloa oryzicola）；
ゴマノハグサ科雑草：アゼナ（Lindernia procumbens）；
ミソハギ科雑草：キカシグサ（Rotala indica）、ヒメミソハギ（Ammannia multiflora）；
ミゾハコベ科雑草：ミゾハコベ（Elatine triandra）；
カヤツリグサ科雑草：タマガヤツリ（Cyperus difformis）、ホタルイ（Scirpus juncoides）、マツバイ（Eleocharis acicularis）、ミズガヤツリ（Cyperus serotinus）、クログワイ（Eleocharis kuroguwai）；
ミズアオイ科雑草：コナギ（Monochoria vaginalis）；
オモダカ科雑草：ウリカワ（Sagittaria pygmaea）、オモダカ（Sagittaria trifolia）、ヘラオモダカ（Alisma canaliculatum）；
ヒルムシロ科雑草：ヒルムシロ（Potamogeton distinctus）；
セリ科雑草：セリ（Oenanthe javanica）。

しかも本発明の化合物は、移植水稲に対して問題となるような薬害を示さない。
さらに、本発明の化合物は、例えば、堤防ののり面、河川敷、道路の路肩及びのり面、鉄道敷、公園緑地、グランド、駐車場、空港、工場及び貯蔵設備等の工業施設用地、休耕地、あるいは、市街の有休地等の雑草の生育を制御する必要のある非農耕地、あるいは、樹園地、牧草地、芝生地、林業地等に発生する広範囲の雑草を除草できる。また本発明の化合物は、河川、水路、運河、貯水池等に発生する、ホテイアオイ（Eichhornia crassipes）等の水生雑草に除草効力を有する。

本発明でいう農園芸用植物とは、例えば、トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ及びタバコ等の農作物類；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ及びサトイモ等の野菜類；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ及びアブラヤシ等の果実類；チャ、クワ、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ、ニレ、トチノキ等）、サンゴジュ、イヌマキ、スギ、ヒノキ、クロトン、マサキ及びカナメモチ等の果樹以外の樹木類；シバ類（ノシバ、コウライシバ等）、バミューダグラス類（ギョウギシバ等）、ベントグラス類（コヌカグサ、ハイコヌカグサ、イトコヌカグサ等）、ブルーグラス類（ナガハグサ、オオスズメノカタビラ等）、フェスク類（オニウシノケグサ、イトウシノケグサ、ハイウシノケグサ等）、ライグラス類（ネズミムギ、ホソムギ等）、カモガヤ及びオオアワガエリ等の芝生類；オイルパーム及びナンヨウアブラギリ等の油糧作物類；花卉類（バラ、カーネーション、キク、トルコギキョウ、カスミソウ、ガーベラ、マリーゴールド、サルビア、ペチュニア、バーベナ、チューリップ、アスター、リンドウ、ユリ、パンジー、シクラメン、ラン、スズラン、ラベンダー、ストック、ハボタン、プリムラ、ポインセチア、グラジオラス、カトレア、デージー、バーベナ、シンビジューム、ベゴニア等）；観葉植物等を例示できるがこれらに限定されるものではない。

本発明でいう農園芸用植物とは、イソキサフルトール等のＨＰＰＤ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のＡＬＳ阻害剤、グリホサート等のＥＰＳＰ合成酵素阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、フルミオキサジン等のＰＰＯ阻害剤、ブロモキシニル、ジカンバ及び２，４−Ｄ等の除草剤に対する耐性を古典的な育種法、ならびに遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
古典的な育種法により耐性を付与された「農園芸用植物」の例として、イマゼタピル等
のイミダゾリノン系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のナタネ、コムギ、ヒマワリ、イネ、トウモロコシがありClearfield＜登録商標＞の商品名で既に販売されている。

同様に古典的な育種法によるチフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ＡＬＳ阻害型除草剤に耐性のダイズがあり、ＳＴＳダイズの商品名で既に販売されている。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された農園芸用植物の例としてＳＲコーン等がある。アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された農園芸用植物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ（Proc.Natl.Acad.Sci.USA）87巻、7175〜7179頁（1990年）等に記載されている。またアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼがウィード・サイエンス（Weed Science）53巻、728〜746頁（2005年）等に報告されており、こうした変異アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により植物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルＣｏＡカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術（Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316-318）に代表される塩基置換変異導入核酸を植物細胞内に導入して作物（アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ／除草剤標的）遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤／除草剤に耐性の植物を作出することができる。

遺伝子組換え技術により耐性を付与された農園芸用植物の例として、グリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ、テンサイ品種があり、ラウンドアップレディ（Roundup Ready）＜登録商標＞、AgrisureGT等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタ、ナタネ品種があり、リバティーリンク（LibertyLink）＜登録商標＞等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタはＢＸＮの商品名で既に販売されている。
上記「農園芸用植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成することが可能となった植物も含まれる。

この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス（Bacillus cereus）やバチルス・ポピリエ（Bacillus popilliae）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Bacillus thuringiensis）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａ等の殺虫性タンパク；線虫由来の殺虫性タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素；糸条菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。

またこの様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃ等のδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａ等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素としては、天然型毒素のアミノ酸の１つ又は複数が置換されている。

これら毒素の例及びこれら毒素を合成することができる組換え植物は、例えば欧州特許出願公開第０３７４７５３号明細書、ＷＯ９３／０７２７８号公報、ＷＯ９５／３４６５６号公報、欧州特許出願公開第０４２７５２９号明細書、欧州特許出願公開第０４５１８７８号明細書、ＷＯ０３／０５２０７３号公報等の特許文献に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、鞘翅目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。

また、１つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、イールドガード（YieldGard）＜登録商標＞（Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種）、イールドガードルートワーム（YieldGard Rootworm）＜登録商標＞（Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、イールドガードプラス（YieldGard Plus）＜登録商標＞（Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種）、ハーキュレックスＩ（Herculex I）＜登録商標＞（Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与するためのホスフィノトリシン Ｎ−アセチルトランスフェラーゼ（ＰＡＴ）を発現するトウモロコシ品種）、NuCOTN33B＜登録商標＞（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、ボルガードＩ（Bollgard I）＜登録商標＞（Cry1Ac毒素を発現するワタ品種）、ボルガードＩＩ（Bollgard II）＜登録商標＞（Cry1AcとCry2Ab毒素を発現するワタ品種）、VIPCOT＜登録商標＞（ＶＩＰ毒素を発現するワタ品種）、ニューリーフ（NewLeaf）＜登録商標＞（Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種）、ネイチャーガード アグリシュアー ＧＴ アドバンテージ（NatureGard＜登録商標＞Agrisure＜登録商標＞GT Advantage）（ＧＡ２１グリホサート耐性形質）、アグリシュアー ＣＢ アドバンテージ（Agrisure＜登録商標＞ CB Advantage）（Bt11コーンボーラー（ＣＢ）形質）、プロテクタ（Protecta）＜登録商標＞等が挙げられる。

上記「農園芸用植物」には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質としては、例えばＰＲタンパク（ＰＲＰｓ、欧州出願公開第０３９２２２５号明細書に記載されている。）；ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、ＷＯ０３／０００９０６号公報に記載されている。）等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、欧州出願公開第０３９２２２５明細書、ＷＯ９５／３３８１８号公報、欧州出願公開第０３５３１９１号等に記載されている。

上記「農園芸用植物」とは、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した作物も含まれる。例として、VISTIVE＜登録商標＞（リノレン含量を低減させた低リノレン大豆）あるいは、high-lysine（high oil）corn（リジンあるいはオイル含有量を増量したコーン）等が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質あるいは除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。

本発明化合物である光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンは以下の実施例に示す方法により製造又は有用性を示すことができる。

実施例１
光学分割による（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）の製造
ラセミ体（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（５ｍｇ）を、ｎ−へキサン／エタノール／ＤＥＡ（ジエチルアミン）＝５０／５０／０．１の混合溶媒（５ｍＬ）に溶解させた。
キラルパックアイシー（CHIRALPAK IC；ダイセル化学工業株式会社製造・販売）（内径０．４６ｃｍ×長さ２５ｃｍ）をカラムに使用し、ｎ−へキサン／エタノール／ＤＥＡ＝５０／５０／０．１の混合溶媒を移動相に用いて流速１．０ｍＬ／分、４０℃の条件で高速液体クロマトグラフィーに付し、紫外線吸収検出器（２９８ｎｍ）で分析したところ、保持時間６．９分のピーク（ピーク１）と、８．９分のピーク（ピーク２）とが得られた。 この条件によりスケールアップを行い、ラセミ体（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（３０ｇ）を、同様にｎ−へキサン／エタノール／ＤＥＡ＝５０／５０／０．１の混合溶媒に溶解してラセミ体を分割した。

各々のピーク成分を繰り返し分取し、分取した溶液を滅圧濃縮したところ、ピーク１及びピーク２に対応する結晶をそれぞれ１４．５ｇ及び１４．６ｇを得た。それぞれの比旋光度を測定すると、ピーク１の成分は〔α〕_Ｄ ^２５＝−１４１．０°（Ｃ＝２．００、メタノール）、ピーク２の成分は〔α〕_Ｄ ^２５＝＋１４０．６°の比施光度をそれぞれ示した。
前記ピーク１のものは目的の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）であり、ピーク２のものは（Ｓ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号２）であった。
光学異性体の構造に関しては、実施例２に示される合成法により（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）を反応させることにより、既に特許文献２により構造が明らかにされている（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドを合成し、キラルパックエーディー（CHIRALPAK AD；ダイセル化学工業株式会社製造・販売）で分析を行い、特許文献２で既に得られている化合物と同一のピークであることを確認することにより同定した。
化合物番号１の融点は７１−７２℃であり、化合物番号２の融点は７１℃であった。

実施例２
光学活性（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリド（化合物番号３）の合成
クロロベンゼン１０ｍｌに実施例１で得られた（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）を１０００ｍｇ（３．２７ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム３８５ｍｇ（４．５８ｍｍｏｌ）及び無水硫酸ナトリウム３３ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）を加え、２５℃でジフルオロメタンスルホニルクロリド６６４ｍｇ（４．４１ｍｍｏｌ）を滴下した。一夜撹拌後さらに炭酸水素ナトリウム７７ｍｇ（０．９２ｍｍｏｌ）及びジフルオロメタンスルホニルクロリド１３３ｍｇ（０．８９ｍｍｏｌ）を追加して室温で２時間撹拌を行った。反応終了後、反応液に水１０ｍｌを加え、さらに２５％ＮａＯＨ水溶液１１２０ｍｇ（７．０ｍｍｏｌ）を加えて分液した。水層を酢酸エチルで洗浄し、塩酸を加えて酸性にした。析出物を酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去した。冷蔵庫に約一ヶ月放置し、結晶化させ、（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリド（化合物番号３）収量８１０ｍｇ（収率５９％）を得た。純度＝９９．２％、ｅｅ＝１００％、融点１０８−１１０℃。

実施例３
還元による（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）の製造
（１）ラセミ体（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号５）の製造
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン９．３３ｇ（２８．０ｍｍоｌ)、トルエン２８ｍｌ、メタノール３．２ｍｌ（７８ｍｍоｌ)を加え、撹拌しながら０〜５℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム０．３２ｇ（８．４ｍｍоｌ)を少量ずつ分割して仕込んだ。その後０〜５℃で１時間撹拌した。反応液に２％塩酸１４．９ｍｌ（８．４ｍｍоｌ）を滴下し、５０℃で分液した後、トルエン層を水１４ｍｌで洗浄し、減圧下でトルエンを留去した。その後イソプロパノール１２ｍｌ、水５ｍｌを加えて再結晶することにより精製した。（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号５）を類白色固体として８．５４ｇ（収率９１％）を得た。
融点：９３．３℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，δ）：
7.43-7.57(m, 3H), 6.01(d, J=4.5Hz, 1H), 5.87(s, 1H), 4.91(d, J=4.5Hz, 1H), 4.50(s, 2H), 3.90(s, 6H), 3.35(s, 3H)
ＬＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：３３６．１［Ｍ＋Ｈ］^＋

（２）光学分割による（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号４）の製造
ラセミ体（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（５ｍｇ）（化合物番号５）をｎ−へキサン／エタノール＝７０／３０の混合溶媒（５ｍＬ）に溶解させた。キラルパックエイワイエイチ（CHIRALPAK AY-H；ダイセル化学工業株式会社製造・販売）（内径０．４６ｃｍ×長さ２５ｃｍ）をカラムに使用し、ｎ−へキサン／エタノール＝７０／３０の混合溶媒を移動相に用いて流速１．０ｍＬ／分、４０℃の条件で高速液体クロマトグラフィーに付し、紫外線吸収検出器（２７０ｎｍ）で分析したところ、保持時間５．３分のピーク（ピーク１）と、６．６分のピーク（ピーク２）とが得られた。この条件によりスケールアップを行い、ラセミ体（ＲＳ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（３０ｇ）を同様にして光学分割した。

各々のピーク成分を繰り返し分取し、分取した溶液を滅圧濃縮したところ、ピーク１及びピーク２に対応する結晶をそれぞれ１４．７ｇ及びｌ４．６ｇを得た。それぞれの比旋光度を測定すると、ピーク１の成分は〔α〕_Ｄ ^２５＝−３０３．３°（Ｃ＝２．００、メタノール）、ピーク２の成分は〔α〕_Ｄ ^２５＝＋３０３．３°の比施光度をそれぞれ示した。
前記ピーク１のものは目的の（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号４）であり、ピーク２のものは（Ｓ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号６）であった。
光学異性体の構造に関しては、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号４）を反応することにより、既に実施例１及び実施例２により構造が明らかにされている（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）を合成し、キラルパックアイシー（CHIRAL PAK IC；ダイセル化学工業株式会社製造・販売）で分析を行い実施例１で既に得られている化合物と同一のピークであることを確認することにより同定した。
化合物番号４の融点は７６−７８℃、化合物番号６の融点は７７−７９℃であった。

（３）（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）の製造
水２ｍｌに鉄粉４２０ｍｇ（７．５ｍｍｏｌ）、酢酸アンモニウム１１３ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）及びイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）２．５ｍｌを加え、これに前記（２）で製造した（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン（化合物番号４）１０００ｍｇ（３．０ｍｍｏｌ）を加えて１時間還流した。放冷後ろ過し、ジクロロメタンで抽出後、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮して、（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン（化合物番号１）を無色結晶として７８０ｍｇ（収率８５％）を得た。純度＝９９．２％、ｅｅ＝９９．２％、融点７２−７４℃。

これらの実施例２及び３で示された方法は、特許文献１で除草剤として有用であることが明らかにされている光学活性（Ｒ）−２’−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６’−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリド（化合物番号３）の製造だけでなく、本発明の光学活性化合物である化合物番号１の化合物の製造においても、光学活性のニトロ体からラセミ化を起こすことなく製造することができることを示すものであり、本発明の方法により、工業的に有利な新たな製造方法を提供することができることが示された。

次に代表的な製剤例を挙げて製剤方法を具体的に説明する。
化合物、添加剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において「部」は質量部を意味する。

＜製剤例１＞水和剤
本発明化合物（化合物番号１）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得た。

＜製剤例２＞フロアブル剤
粗粉砕した本発明化合物（化合物番号１）の２０部を水６９部に分散させ、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸塩４部、エチレングリコール７部を加えるとともにシリコーンＡＦ−１１８Ｎ（旭化成工業株式会社製）を製剤に対し２００ｐｐｍ加え、高速撹件機にて３０分間混合した後、湿式粉砕機にて粉砕しフロアブル剤を得た。

＜製剤例３＞乳剤
本発明化合物（化合物番号１）の３０部にキシレンとイソホロンの等量混合物６０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１０部を加え、これらを撹拌することによって乳剤を得た。

＜製剤例４＞粒剤
本発明化合物（化合物番号１）の１０部、タルクとベントナイトをｌ：３の割合で混合した増量剤の８０部、ホワイトカーボンの５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを、直径０．７ｍｍのふるい穴から押し出して乾燥した後に０．５〜１ｍｍの長さに切断し、粒剤を得た。

＜試験例＞
１／５０００アールの広さのプラスチックポットに水田土壌を充填し、入水、施肥、代かきを行った。その後、コナギ及びホタルイ各種子を０．５ｃｍの深さに播種し、水深４ｃｍに湛水した。播種３日後に製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈して、その有効成分量（ｇ／１０アール）が表２に示す薬量になるように水面に滴下したのち、温室内で育成し、３０日後に表１の基準に従って除草効果を評価した。その結果を表２に示す。

Claims (6)

1. 式（Ｉ）
   

   

   で表わされる光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩。
2. 請求項１に記載の光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンを有効成分として含有することを特徴とする除草剤。
3. ２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンのラセミ体を光学分割して、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩を製造する方法。
4. 光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼンを還元して、光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリン又はその塩を製造する方法。
5. 光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルニトロベンゼン又はその塩。
6. 上記式（Ｉ）で表わされる光学活性（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチルアニリンとジフルオロメタンスルホン酸ハライド又はジフルオロメタンスルホン酸無水物とを反応させることを特徴とする、光学活性体（Ｒ）−２−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ヒドロキシメチル］−６−メトキシメチル−（Ｎ−１，１−ジフルオロメタンスルホン）アニリドの製造方法。