JP2014123778A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. リソグラフィ装置であって、
   放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するサポートと、
   基板を保持する基板テーブルと、
   前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
   使用中、前記投影システムに対して前記基板テーブルを位置決めするための位置決めデバイスであって、前記基板テーブルに設置された第１位置決め部材と、前記基板テーブルを位置決めするために前記第１位置決め部材と協働する、サポート構造に設置された第２位置決め部材と、を備える位置決めデバイスと、
   光軸の方向における前記基板テーブルの底面の位置を測定する位置測定システムと、を備えるリソグラフィ装置。
2. 前記位置で前記基板テーブルの底面に垂直力を加えるアクチュエータをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記位置は、前記投影システムの光軸上の実質的に固定された水平位置である、請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記位置測定システムは、干渉計ベースの測定システムを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記アクチュエータは振動絶縁フレームに設置される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記アクチュエータは前記サポート構造に設置される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記アクチュエータは、前記第２位置決め部材又は前記第１位置決め部材に設置される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された水平位置を当該アクチュエータが維持するように、前記第２位置決め部材に変位可能に設置される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記アクチュエータは、前記サポート構造に対して実質的に固定された位置を有する振動絶縁フレームに設置される、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
10. 前記アクチュエータは、前記基板の前記ターゲット部分の下での前記基板テーブルの底面に対する測定ビームの投影を可能にする中心開口を備える、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
11. 前記第１位置決め部材は、前記基板テーブルを位置決めするさらなる位置決めデバイスを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記位置測定システムは、容量測定システム及びエンコーダベースの測定システムの少なくとも１つを備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
13. 前記エンコーダベースの測定システムは、前記基板テーブルの底面に設置された格子を備える、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
14. 前記位置測定システムは、前記投影システムに対する前記基板テーブルの水平位置を測定する、請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
15. 前記位置測定システムは、
    ９０°未満の入射角で前記基板テーブルの底面に測定ビームを送信する送信器と、
    反射した前記測定ビームを受信するセンサと、を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
16. 前記送信器及び前記センサは前記サポート構造に設置される、請求項１５に記載のリソグラフィ装置。
17. 前記送信機及び前記センサは、前記投影システムを支持するメトロロジフレームに設置される、請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
18. 前記アクチュエータはローレンツアクチュエータを備える、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
19. 前記基板テーブルの底面への前記垂直力は、当該リソグラフィ装置のベアリングを介して伝達される、請求項１８に記載のリソグラフィ装置。
20. 前記ベアリングは、予めロードされたエアベアリングである、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。