JP2014209219A - 円偏光板用位相差板、円偏光板、有機el表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明は、上記円偏光板用位相差板を有する円偏光板または有機EL表示装置に関する。
また、本発明は、該位相差板を有する円偏光板および有機EL表示装置を提供することも目的とする。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
第1光学異方性層は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を含み、
第1光学異方性層中の液晶化合物の捩れ角が81±10°であり、
第1光学異方性層の第2光学異方性層側の表面での面内遅相軸と、第2光学異方性層の面内遅相軸とは平行であり、
波長550nmで測定した第1光学異方性層の屈折率異方性Δnと第1光学異方性層の厚みdとの積Δndの値と、波長550nmで測定した第2光学異方性層のレタデーション値であるReB(550)とが、それぞれ下記式(1)および式(2)を満足する、円偏光板用位相差板。
式(1) 142nm≦Δnd≦202nm
式(2) 151nm≦ReB(550)≦211nm
(2) 第2光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を含有する、(1)に記載の円偏光板用位相差板。
(3) 液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である、(1)または(2)に記載の円偏光板用位相差板。
(4) 第1光学異方性層と第2光学異方性層との間に実質的に配向膜がない、(1)〜(3)のいずれかに記載の円偏光板用位相差板。
(5) 偏光膜と、(1)〜(4)のいずれかに記載の円偏光板用位相差板とを少なくとも含む円偏光板であって、
偏光膜と、第2光学異方性層と、第1光学異方性層とをこの順で有し、
第2光学異方性層の面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が13±10°の範囲内にあり、かつ、第1光学異方性層の第2光学異方性層がある側とは反対側の表面での面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が94±20°の範囲にある、または、
第2光学異方性層の面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が103±10°の範囲内にあり、かつ、第1光学異方性層の第2光学異方性層がある側とは反対側の表面での面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が184±20°の範囲にある、円偏光板。
第1光学異方性層は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を含み、
第1光学異方性層中の液晶化合物の捩れ角が59±10°であり、
第1光学異方性層の第2光学異方性層側の表面での面内遅相軸と、第2光学異方性層の面内遅相軸とのなす角度が直交であり、
波長550nmで測定した第1光学異方性層の屈折率異方性Δnと第1光学異方性層の厚みdとの積Δndの値と、波長550nmで測定した第2光学異方性層のレタデーション値であるReB(550)とが、それぞれ下記式(3)および式(4)を満足する、円偏光板用位相差板。
式(3) 203nm≦Δnd≦263nm
式(4) 158nm≦ReB(550)≦218nm
(7) 第2光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を含有する、(6)に記載の円偏光板用位相差板。
(8) 液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である、(6)または(7)に記載の円偏光板用位相差板。
(9) 第1光学異方性層と第2光学異方性層の間に実質的に配向膜がない、(6)〜(9)のいずれかに記載の円偏光板用位相差板。
(10) 偏光膜と、(6)〜(9)のいずれかに記載の円偏光板用位相差板とを少なくとも含む円偏光板であって、
偏光膜と、第1光学異方性層と、第2光学異方性層とをこの順で有し、
第1光学異方性層の偏光膜がある側の表面での面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が123±10°の範囲にあり、かつ、第2光学異方性層の面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が26±20°の範囲内にある、または、
第1光学異方性層の偏光膜がある側の表面での面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が33±10°の範囲内にあり、かつ、第2光学異方性層の面内遅相軸と偏光膜の吸収軸とのなす角度が116±20°の範囲にある、円偏光板。
(11) (1)〜(4)、(6)〜(9)のいずれかに記載の位相差板、または、(5)若しくは(10)に記載の円偏光板を含む有機EL表示装置。
また、本発明によれば、該位相差板を有する円偏光板および有機EL表示装置を提供することもできる。
また、本明細書において、角度の関係(例えば「直交」、「平行」等)については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±10°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましい。
本発明の特徴点の一つとしては、捩れ配向した液晶化合物を含む光学異方性層(以後、第1光学異方性層)を含む多層型の位相差板である点が挙げられる。より具体的には、第1光学異方性層のΔndおよび液晶化合物の捩れ角と、第1光学異方性層の面内遅相軸と所定の関係にある面内遅相軸を有する第2光学異方性層のレタデーションとを制御することにより、公知のλ/4板とλ/2板とからなる位相差板よりも、より幅広い波長の直線偏光をより完全な円偏光に変換し得る広帯域λ/4板が実現できる。
また、通常、液晶化合物を用いて2層の光学異方性を積層させる場合、配向膜を形成した後、配向膜上に1層目の光学異方性層を形成し、その後1層目の光学異方性層上に再度配向膜を形成し、その後配向膜上に2層目の光学異方性層を形成する。つまり、配向膜を2度作製する必要がある。
一方、本発明の位相差板においては、一方の光学異方性層中の液晶化合物が捩れ配向しているため、配向膜を設ける工程を1回にすることが可能となる。より具体的には、配向膜を形成した後、その配向膜上に捩れ配向する液晶化合物を含む第1光学異方性層を形成すると、第1光学異方性層の露出表面における面内遅相軸が、配向膜がある側の表面における面内遅相軸よりも所定の角度回転した状態となっている。そのため、第1光学異方性層表面にさらに液晶化合物を塗布すると、第1光学異方性層の配向膜がある側の表面における面内遅相軸と所定の角度の関係にある露出表面の面内遅相軸に沿って液晶化合物が配向するため、別途配向膜を設ける手間が省ける。
以下に、本発明の円偏光板用位相差板(以後、単に位相差板とも称する)の第1の実施態様について図面を参照して説明する。図1に、本発明の位相差板の第1の実施態様の概略断面図を示す。
位相差板10aは、第1光学異方性層12aと、第2光学異方性層14aとを有する。第1光学異方性層12aは、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物LCを含む。なお、位相差板10aには、必要に応じて後述する透明支持体が含まれていてもよい。
以下に、各層の構成について詳述する。
第1光学異方性層12aは、図1に示すように、厚み方向(図1中、z軸方向)を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物LCを含む。第1光学異方性層12aは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相、コレステリック相などを示すことが好ましい。液晶化合物LCについては後段で詳述するが、第1光学異方性層12aで使用される液晶化合物LCとしては、ネマチック液晶相を示す液晶化合物が好ましく用いられる。なお、上記相を形成する際には、ネマチック液晶相を示す液晶化合物と後述するキラル剤とを混合したものが使用されることが好ましい。
液晶化合物LCの捩れ角(液晶化合物LCの配向方向の捩れ角)は81±10°であり、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきがより少ない点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、81±8°がより好ましく、81±6°がさらに好ましい。
捩れ角が71°未満の場合および91°超の場合、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきが大きい。
なお、捩れ角の測定方法は、Axometrics社のAxoscan(ポラリメーター)装置を用い同社の装置解析ソフトウエアを用いて測定する。
また、液晶化合物が捩れ配向するとは、第1光学異方性層12aの厚み方向を軸として、第1光学異方性層12aの一方の主表面から他方の主表面までの液晶化合物が捩れることを意図する。それに伴い、液晶性化合物の配向方向(面内遅相軸方向)が、第1光学異方性層12aの厚さ方向の位置によって異なる。
式(1) 142nm≦Δnd≦202nm
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、式(1A)を満足することが好ましく、さらに式(1B)を満足することがより好ましい。
式(1A) 152nm≦Δnd≦192nm
式(1B) 162nm≦Δnd≦182nm
Δndが142nm未満および202nm超の場合、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきが大きい。
なお、屈折率異方性Δnとは、光学異方性層の屈折率異方性を意味する。
上記Δndの測定方法は、捩れ角の測定方法と同様にAxometrics社のAxoscan(ポラリメーター)装置を用い同社の装置解析ソフトウエアを用いて測定する。
第2光学異方性層14aは、上記第1光学異方性層12aとは異なり、ホモジニアス配向した液晶化合物を含む層である。ホモジニアス配向とは、液晶化合物が一定の方向に対して平行である配向状態をいう。
なお、図1においては第2光学異方性層14aにホモジニアス配向した液晶化合物が含まれる態様を示すが、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が第1光学異方性層12aの面内遅相軸と所定の関係を満たせば、他の材料で構成されていてもよい。例えば、ポリマーフィルム(特に、延伸処理が施されたポリマーフィルム)から形成されていてもよい。
波長550nmで測定した第2光学異方性層14aのレタデーション値(面内レタデーション)であるReB(550)は、下記式(2)を満たす。
式(2) 151nm≦ReB(550)≦211nm
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、式(2A)を満足することが好ましく、さらに式(2B)を満足することがより好ましい。
式(2A) 161nm≦ReB(550)≦201nm
式(2B) 171nm≦ReB(550)≦191nm
ReB(550)が151nm未満および211nm超の場合、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきが大きい。
なお、第2光学異方性層14aのレタデーション値の測定方法は、捩れ角の測定方法と同様にAxometrics社のAxoscan(ポラリメーター)装置を用い同社の解析ソフトウエアを用いて測定する。
また、上述したように、第1光学異方性層12a中の液晶化合物は厚み方向を螺旋軸として捩れ配向しており、第1光学異方性層12a中の面内遅相軸は表面121aから表面122a側に向かって捩れており、第1光学異方性層12aの表面121aにおける面内遅相軸と、表面122aにおける面内遅相軸とのなす角度は、上述した81±10°となる。
また、上述したように、第1光学異方性層12aは捩れ配向した液晶化合物を含むことから、ラビング処理を実施せずに、所望の位相差板を得ることができる。より具体的には、第1光学異方性層12aを作製した後、その上に液晶化合物を用いて第2光学異方性層14aを形成する場合、第1光学異方性層12aの表面122aと表面121aとでの面内遅相軸の方向が変わっており、敢えてラビング処理をすることなく、表面121a上に液晶化合物を塗布すれば、表面121aの配向状態に沿って液晶化合物が配向し、所望の位相差板を得ることができる。
なお、本明細書において「実質的に配向膜がない」とは、配向膜として機能させるためだけに形成された膜を含んでいないことを意味する。下方に位置する層の表面が、上方に位置する層の液晶性化合物が配向するのに寄与する場合であっても、下方に位置する層が配向膜としてのみ用いるために形成されていない限り、本発明に含まれる。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11−513019号公報の請求項1や特開2005−289980号公報の段落[0026]〜[0098]に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開2007−108732号公報の段落[0020]〜[0067]や特開2010−244038号公報の段落[0013]〜[0108]に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
第1光学異方性層12aまたは第2光学異方性層14aは、温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いて形成することがより好ましい。液晶化合物は2種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも1つが2以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、第1光学異方性層12aまたは第2光学異方性層14aは、重合性基を有する棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
ディスコティック液晶化合物および棒状液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
まず、高分子フィルムやガラス板等の支持体を用意し、その上に、必要に応じて配向膜を形成し、支持体表面または配向膜表面に、重合性基を有する液晶化合物および所望によりキラル剤等の添加剤を含む第1光学異方性層形成用組成物を塗布して、塗膜を形成する。この塗膜を所望により加熱して、塗膜中の液晶化合物の分子を捩れ配向させ、その後、固化する温度まで冷却して、硬化処理(紫外線の照射(光照射処理)もしくは加熱処理)により重合を進行させて、その捩れ配向を固定し、旋光作用のある第1光学異方性層を得る。液晶組成物の塗布は後述の溶媒を含有した液晶組成物の塗布液を公知の方法(例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。また、インクジェット装置を用いて吐出して形成してもよい。
次に、第1光学異方性層上(または、その上に必要に応じて形成した配向膜表面上)に、重合性基を有する液晶化合物を含む第2光学異方性層形成用組成物を塗布して、塗膜を形成する。その後、配向状態にある重合性基を有する液晶化合物に対して、硬化処理(加熱処理または光照射処理)を施し、第2光学異方性層を形成する。
配向(好ましくは垂直配向)させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、重合開始剤を用いて、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
重合開始剤の使用量は、組成物の固形分の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。
第1光学異方性層12aを形成する際に、必要に応じて、上記液晶化合物とともに、所望によりキラル剤を使用していてもよい。キラル剤は、液晶化合物を捩れ配向させるために添加されるが、勿論、液晶性化合物が、分子内に不斉炭素を有する等、光学活性を示す化合物である場合は、キラル剤の添加は不要である。また、製造方法によっては、および捩れ角度によっては、キラル剤の添加は不要である。
キラル剤としては、併用する液晶化合物を相溶するものであれば、特に構造についての制限はない。公知のキラル剤(例えば、日本学術振興会第142委員会編「液晶デバイスハンドブック」,第3章4−3項,TN、STN用カイラル剤,199頁,1989年に記載)のいずれも用いることができる。キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が挙げられる。また、キラル剤は、液晶性を有していてもよい。
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
また、液晶化合物を水平配向、垂直配向状態とするために、水平配向、垂直配向を促進する添加剤(配向制御剤)を使用してもよい。添加剤としては各種公知のものを使用できる。
液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、70〜300℃が好ましく、70〜170℃がさらに好ましい。
組成物(塗布液)の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
本発明では、配向膜の表面に第1光学異方性層形成用組成物または第2光学異方性層形成用組成物を塗布して、液晶性化合物(例えば、ディスコティック液晶化合物)の分子を配向させてもよい。配向膜は液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。
配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射(好ましくは偏光)により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。
ラビング処理は、LCDの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
以下に、本発明の円偏光板用位相差板(以後、単に位相差板とも称する)の第2の実施態様について図面を参照して説明する。図2に、本発明の位相差板の第2の実施態様の概略断面図を示す。
位相差板10bは、第1光学異方性層12bと、第2光学異方性層14bとを有する。第1光学異方性層12bは、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物LCを含む。
位相差板10bは、上記位相差板10aと同様に2層の光学異方性層より構成されるが、光学異方性層のレタデーションや液晶化合物の捩れ角などの点で異なる。
以下に、各層の構成について詳述する。
第1光学異方性層12bは、図1に示す第1光学異方性層12aと同様に、厚み方向(図2中、z軸方向)を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物LCを含む。液晶化合物LCの好適態様は、上述の通りである。
液晶化合物LCの捩れ角は59±10°であり、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきがより少ない点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、59±8°がより好ましく、59±6°がさらに好ましい。
捩れ角が49°未満の場合および69°超の場合、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきが大きい。
なお、捩れ角の測定方法は、上述の通りである。
式(3) 203nm≦Δnd≦263nm
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、式(3A)を満足することが好ましく、さらに式(3B)を満足することがより好ましい。
式(3A) 213nm≦Δnd≦253nm
式(3B) 223nm≦Δnd≦243nm
Δndが203nm未満および263nm超の場合、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきが大きい。
波長550nmで測定した第2光学異方性層14bのレタデーション値であるReB(550)は、下記式(4)を満たす。
式(4) 158nm≦ReB(550)≦218nm
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、式(4A)を満足することが好ましく、さらに式(4B)を満足することがより好ましい。
式(4A) 168nm≦ReB(550)≦208nm
式(4B) 178nm≦ReB(550)≦198nm
ReB(550)が158nm未満および218nm超の場合、本発明の位相差板を円偏光板として表示装置に貼り合わせた際の正面方向における黒色の色味づきが大きい。
また、第1光学異方性層12bおよび第2光学異方性層14bの製造方法は特に制限されず、上述した第1光学異方性層12aおよび第2光学異方性層14aの製造方法が例示される。
本発明の円偏光板は、上述した位相差板(第1の実施態様および第2の実施態様)と偏光膜とを少なくとも備える。また、必要に応じて、透明支持体を含んでいてもよい。
上記構成を有する本発明の円偏光板は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させるためのものである。
例えば、有機EL表示装置の光取り出し面側に本発明の円偏光板を用いた態様が挙げられる。この場合、外光は偏光膜によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが金属電極にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から90°傾いた直線偏光となり、偏光膜に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。
偏光膜(偏光子層)は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子を利用することができる。
偏光膜の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、およびポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光膜は、その両面に保護フィルムが貼合された偏光板として用いられることが一般的である。
円偏光板用位相差板を用いて円偏光板を作製する場合に、後述する透明支持体を用いず円偏光板用位相差板を直接偏光膜と組み合わせることもできる。この場合は透明支持体がないため円偏光板の薄型化の特長が得られる。特に、Rthが0に近い透明支持体で良い視野角特性を得られる実施例では、薄型化と視野角特性の両立が得られるために透明支持体を用いないことが好ましい。
円偏光板用位相差板を直接偏光膜と組み合わせる方法として、円偏光板用位相差板を転写して偏光膜に貼合する方法や、偏光膜にラビングやUV配向等の配向処理を施したあとに偏光膜上で円偏光板用位相差板を形成する方法があり、どちらも用いることが出来る。
透明支持体は、上述した第1光学異方性層および第2光学異方性層を支持する基材である。
透明支持体の550nmにおける厚み方向のレタデーション値(Rth(550))は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、−110〜110nmが好ましく、−80〜80nmがより好ましい。
透明支持体の550nmにおける面内のレタデーション値(Re(550))は特に制限されないが、0〜50nmであることが好ましく、0〜30nmであることがより好ましく、0〜10nmであることがさらに好ましい。上記の範囲であると、反射光の光漏れを視認されない程度まで低減できるため好ましい。
透明支持体として用いることのできるポリマーフィルムとしては、例えば、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルム、脂環式構造を有するポリマーのフィルム(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))などが挙げられる。
なかでも、ポリマーフィルムの材料としては、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、または脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
また、透明支持体の上に、接着層(下塗り層)を設けてもよい。また、透明支持体や長尺の透明支持体には、搬送工程でのすべり性を付与したり、巻き取った後の裏面と表面の貼り付きを防止したりするために、平均粒径が10〜100nm程度の無機粒子を固形分重量比で5%〜40%混合したポリマー層を支持体の片側に塗布や支持体との共流延によって形成したものを用いることが好ましい。
透明支持体には、種々の添加剤(例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、など)を加えることができる。また、透明支持体がセルロースアシレートフィルムである場合、その添加する時期はドープ作製工程(セルロースアシレート溶液の作製工程)における何れでもよいが、ドープ作製工程の最後に添加剤を添加し調製する工程を行ってもよい。
円偏光板の第1の実施形態としては、図3に示すように、第1光学異方性層12aと、第2光学異方性層14aと、透明支持体16と、偏光膜18とをこの順で有する円偏光板100aが挙げられる。
円偏光板100aにおいて、偏光膜18の吸収軸と、第1光学異方性層12aおよび第2光学異方性層14aの面内遅相軸との関係は、以下の(X)または(Y)の要件を満たす。
(X)第2光学異方性層14aの面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度は13±10°の範囲内(好ましくは、13±6°の範囲内)にあり、かつ、第1光学異方性層12aの第2光学異方性層14aがある側とは反対側の表面での面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度が94±20°の範囲(好ましくは、94±12°の範囲内)にある。
(Y)第2光学異方性層14aの面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度は103±10°(好ましくは、103±6°の範囲内)の範囲内にあり、かつ、第1光学異方性層12aの第2光学異方性層14aがある側とは反対側の表面での面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度が184±20°(好ましくは、184±12°の範囲内)の範囲にある。
なお、上述したように、第1光学異方性層12aの第2光学異方性層14a側の表面(表面121a)における面内遅相軸と、第2光学異方性層14bの面内遅相軸とは平行である。また、第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ角は81±10°である。
図4(A)においては、図3に示す円偏光板100aから透明支持体16を除いた構成を示す。図4(A)中の偏光膜18中の矢印は吸収軸を、第2光学異方性層14aおよび第1光学異方性層12a中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。また、図4(B)においては、図4(A)の白抜きの矢印から観察した際の、偏光膜18の吸収軸と、第2光学異方性層14aの面内遅相軸と、第1光学異方性層12aの面内遅相軸との角度の関係を示す。
なお、図4(B)において面内遅相軸の回転角度は、図4(A)の白抜きの矢印から観察した際、偏光膜18の吸収軸を基準に反時計回り方向に正の値、時計回りに負の値をもって表す。
また、第2光学異方性層14aは、上述したように、ホモジニアス配向した液晶化合物を含んでいる。そのため、第2光学異方性層14aの偏光膜18側の表面141aにおける面内遅相軸と、第1光学異方性層12a側の表面142aにおける面内遅相軸とは、偏光膜18の吸収軸に対して略同じ角度をなす。つまり、第2光学異方性層14aの表面141aにおける面内遅相軸と、第1光学異方性層12a側の表面142aにおける面内遅相軸とは、平行である。
なお、図4においては、第1光学異方性層12aの表面122aでの面内遅相軸が第1光学異方性層12aの表面121aでの面内遅相軸に対して−81°回転した態様を示すが、この態様に限定されず、その回転角度は−81±10°の範囲であればよい。
また、図4においては、第1光学異方性層12aの表面122aでの面内遅相軸が−94°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、−94±20°の範囲にあればよい。
図4(A)においては、第2光学異方性層14aの面内遅相軸と第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ方向とが時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、反時計回りの態様であってもよい。より具体的には、偏光膜18の吸収軸を基準に、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が反時計回りに13°の位置にあり、第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ方向は反時計回り(左捩れ)である態様であってもよい。
これらの態様をまとめると、偏光膜18から円偏光板用位相差板10aを観察し、反時計まわりを正の角度値で表す場合、偏光膜18の吸収軸を基準(0°)として、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が13±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12aの捩れ方向が反時計回りである、または、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が−13±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12aの捩れ方向が時計回りであればよい。
図5(A)においては、図3に示す円偏光板100aから透明支持体16を除いた構成を示す。図5(A)中の偏光膜18中の矢印は吸収軸を、第2光学異方性層14aおよび第1光学異方性層12a中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。また、図5(B)においては、図5(A)の白抜きの矢印から観察した際の、偏光膜18の吸収軸と、第2光学異方性層14aの面内遅相軸と、第1光学異方性層12aの面内遅相軸との角度の関係を示す。
なお、図5(B)において面内遅相軸の回転角度は、図5(A)の白抜きの矢印から観察した際、偏光膜18の吸収軸を基準に反時計回り方向に正の値、時計回りに負の値をもって表す。
図5においては、偏光膜18の吸収軸と第2光学異方性層14aの面内遅相軸とのなす角度θ2は、103°である。つまり、第2光学異方性層14aの面内遅相軸は、偏光膜18の吸収軸に対して、−103°(時計回りに103°)回転している。なお、図5においては、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が−103°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、−103±10°の範囲にあればよい。
また、第2光学異方性層14aは、上述したように、ホモジニアス配向した液晶化合物を含んでいる。そのため、第2光学異方性層14aの偏光膜18側の表面141aにおける面内遅相軸と、第1光学異方性層12a側の表面142aにおける面内遅相軸とは、偏光膜18の吸収軸に対して略同じ角度をなす。
なお、図5においては、第1光学異方性層12aの表面122aでの面内遅相軸が第1光学異方性層12aの表面121aでの面内遅相軸に対して−81°回転した態様を示すが、この態様に限定されず、その回転角度は−81±10°の範囲であればよい。
また、図5においては、第1光学異方性層12aの表面122aでの面内遅相軸が偏光膜18の吸収軸に対して−184°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、−184±20°の範囲にあればよい。
図4(A)においては、第2光学異方性層14aの面内遅相軸と第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ方向とが時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、反時計回りの態様であってもよい。より具体的には、偏光膜18の吸収軸を基準に、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が103°の位置にあり、第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ方向は反時計回り(左捩れ)である態様であってもよい。
これらの態様をまとめると、偏光膜18から円偏光板用位相差板10aを観察し、反時計まわりを正の角度値で表す場合、偏光膜18の吸収軸を基準(0°)として、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が103±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12aの捩れ方向が反時計回りである、または、第2光学異方性層14aの面内遅相軸が−103±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12aの捩れ方向が時計回りであればよい。
円偏光板の第2の実施形態としては、図6に示すように、透明支持体16と、第1光学異方性層12aと、第2光学異方性層14aと、偏光膜18とをこの順で有する円偏光板100bが挙げられる。
図6に示す円偏光板100bと、図3に示す円偏光板100aとは、透明支持体16の位置が異なるのみで、他の構成は同一である。
円偏光板100bにおいて、上記円偏光板100aと同様に、偏光膜18の吸収軸と、第1光学異方性層12aおよび第2光学異方性層14aの面内遅相軸との関係が、上記(X)または(Y)の要件を満たす。
なお、上述したように、第1光学異方性層12aの第2光学異方性層14a側の表面(表面121a)における面内遅相軸と、第2光学異方性層14aの面内遅相軸とは平行である。また、第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ角は81±10°である。
円偏光板の第3の実施形態としては、図7に示すように、第2光学異方性層14bと、第1光学異方性層12bと、透明支持体16と、偏光膜18とをこの順で有する円偏光板100cが挙げられる。
円偏光板100cにおいて、偏光膜18の吸収軸と、第1光学異方性層12bおよび第2光学異方性層14bの面内遅相軸との関係は、以下の(Z)または(W)の要件を満たす。
(Z)第1光学異方性層12bの偏光膜18がある側の表面での面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度が123±10°の範囲にあり、かつ、第2光学異方性層14bの面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度が26±20°の範囲内にある。
(W)第1光学異方性層12bの偏光膜18がある側の表面での面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度が33±10°の範囲内にあり、かつ、第2光学異方性層14bの面内遅相軸と偏光膜18の吸収軸とのなす角度が116±20°の範囲にある。
なお、上述したように、第1光学異方性層12bの第2光学異方性層14b側の表面(表面122b)における面内遅相軸と、第2光学異方性層14bの面内遅相軸とのなす角度は直交である。また、第1光学異方性層12b中の液晶化合物の捩れ角は59±10°である。
図8(A)においては、図7に示す円偏光板100cから透明支持体16を除いた構成を示す。図8(A)中の偏光膜18中の矢印は吸収軸を、第2光学異方性層14bおよび第1光学異方性層12b中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。また、図8(B)においては、図8(A)の白抜きの矢印から観察した際の、偏光膜18の吸収軸と、第2光学異方性層14bの面内遅相軸と、第1光学異方性層12bの面内遅相軸との角度の関係を示す。
なお、図8(B)においては、図8(A)の白抜きの矢印から観察した際、面内遅相軸の回転角度は、偏光膜18の吸収軸を基準に反時計回り方向に正の値、時計回りに負の値をもって表す。
なお、図8においては、第1光学異方性層12bの表面122bでの面内遅相軸が第1光学異方性層12bの表面121bでの面内遅相軸に対して−59°回転した態様を示すが、この態様に限定されず、その回転角度は−59±10°の範囲であればよい。
また、図8においては、第1光学異方性層12bの表面122bでの面内遅相軸が偏光膜18の吸収軸に対して64°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、64±20°の範囲にあればよい。
なお、図8においては、第2光学異方性層14bの表面141bで面内遅相軸が偏光膜18の吸収軸に対して−26°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、−26±20°の範囲にあればよい。
第2光学異方性層14bは、上述したように、ホモジニアス配向した液晶化合物を含んでいる。そのため、第2光学異方性層14bの第1光学異方性層12b側の表面141bにおける面内遅相軸と、第1光学異方性層12b側とは反対側の表面142bにおける面内遅相軸とは、偏光膜18の吸収軸に対して略同じ角度をなす。つまり、第2光学異方性層14bの表面141bにおける面内遅相軸と、第2光学異方性層14bの表面142bにおける面内遅相軸とは、平行である。
図8(A)においては、液晶化合物の捩れ方向が時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、その関係が逆の態様であってもよい。より具体的には、偏光膜18の吸収軸を基準に、第1光学異方性層12bの表面121bでの面内遅相軸が−123°の位置であり、第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ方向は反時計回り(左捩れ)を示す態様であってもよい。
これらの態様をまとめると、偏光膜18から円偏光板用位相差板10bを観察し、反時計まわりを正の角度値で表す場合、偏光膜18の吸収軸を基準(0°)として、第1光学異方性層12bの表面121b側での面内遅相軸が123±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12aの捩れ方向が時計回りである、または、第1光学異方性層12bの表面121b側での面内遅相軸が−123±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12bの捩れ方向が反時計回りであればよい。
図9(A)においては、図7に示す円偏光板100cから透明支持体16を除いた構成を示す。図9(A)中の偏光膜18中の矢印は吸収軸を、第2光学異方性層14bおよび第1光学異方性層12b中の矢印はそれぞれの層中の面内遅相軸を表す。また、図9(B)においては、図9(A)の白抜きの矢印から観察した際の、偏光膜18の吸収軸と、第2光学異方性層14bの面内遅相軸と、第1光学異方性層12bの面内遅相軸との角度の関係を示す。
なお、図9(B)において面内遅相軸の回転角度は、図9(A)の白抜きの矢印から観察した際、偏光膜18の吸収軸を基準に反時計回り方向に正の値、時計回りに負の値をもって表す。
図9においては、偏光膜18の吸収軸と第1光学異方性層12bの偏光膜18側の表面121bでの面内遅相軸とのなす角θ1Bは、33°である。つまり、第1光学異方性層12bの表面121bでの面内遅相軸は、偏光膜18の吸収軸に対して、33°(反時計回りに33°)回転している。なお、図8においては、第1光学異方性層12bの表面121bでの面内遅相軸が33°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、33±10°の範囲にあればよい。
なお、図9においては、第1光学異方性層12bの表面122bでの面内遅相軸が第1光学異方性層12bの表面121bでの面内遅相軸に対して−59°回転した態様を示すが、この態様に限定されず、その回転角度は−59±10°の範囲であればよい。
また、図9においては、第1光学異方性層12bの表面122bでの面内遅相軸が偏光膜18の吸収軸に対して−26°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、−26±20°の範囲であればよい。
なお、図9においては、第2光学異方性層14bの表面141bでの面内遅相軸が偏光膜18の吸収軸に対して−116°の位置にある態様を示すが、この態様に限定されず、−116±20°の範囲にあればよい。
第2光学異方性層14bは、上述したように、ホモジニアス配向した液晶化合物を含んでいる。そのため、第2光学異方性層14bの第1光学異方性層12b側の表面141bにおける面内遅相軸と、第1光学異方性層12b側とは反対側の表面142bにおける面内遅相軸とは、偏光膜18の吸収軸に対して略同じ角度をなす。
図9(A)においては、液晶化合物の捩れ方向が時計回りの態様について詳述したが、所定の角度の関係を満たせば、その関係が逆の態様であってもよい。より具体的には、偏光膜18の吸収軸を基準に、第1光学異方性層12bの表面121bでの面内遅相軸が−33°の位置にあり、第1光学異方性層12a中の液晶化合物の捩れ方向は反時計回り(左捩れ)を示す態様であってもよい。
これらの態様をまとめると、偏光膜18から円偏光板用位相差板10bを観察し、反時計まわりを正の角度値で表す場合、偏光膜18の吸収軸を基準(0°)として、第1光学異方性層12bの表面121b側での面内遅相軸が33±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12aの捩れ方向が時計回りである、または、第1光学異方性層12bの表面121b側での面内遅相軸が−33±10°の範囲にあり、かつ、第1光学異方性層12bの捩れ方向が反時計回りであればよい。
円偏光板の第4の実施形態としては、図10に示すように、透明支持体16と、第2光学異方性層14bと、第1光学異方性層12bと、偏光膜18とをこの順で有する円偏光板100dが挙げられる。
図10に示す円偏光板100dと、図7に示す円偏光板100cとは、透明支持体16の位置が異なるのみで、他の構成は同一である。
円偏光板100dにおいて、上記円偏光板100cと同様に、偏光膜18の吸収軸と、第1光学異方性層12bおよび第2光学異方性層14bの面内遅相軸との関係が、上記(Z)または(W)の要件を満たす。
なお、上述したように、第1光学異方性層12bの第2光学異方性層14b側の表面(表面122b)における面内遅相軸と、第2光学異方性層14bの面内遅相軸とのなす角度は直交である。また、第1光学異方性層12b中の液晶化合物の捩れ角は59±10°である。
本発明の有機EL表示装置は、上述した位相差板(または円偏光板)を有する。通常、円偏光板は、有機EL表示装置の有機ELパネル上に設けられる。より具体的には、図11(A)に示すように、有機EL表示装置200は、少なくとも、有機ELパネル20と、位相差板10aまたは10bと、偏光膜18とを有する。
なお、有機EL表示装置は図11(A)の態様に限定されず、図11(B)に示すように、有機EL表示装置210は、偏光膜18上にさらに保護膜22を有していてもよい。
《Rthが−80nm〜−30nmのセルロースアシレートフィルムの作製》
(セルロースアシレートの調製)
全置換度2.97(内訳:アセチル置換度0.45、プロピオニル置換度2.52)のセルロースアシレートを調製した。触媒として硫酸(セルロース100質量部に対し7.8質量部)とカルボン酸無水物との混合物を−20℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、40℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類およびその量を調整することで、アシル基の種類およびその置換比を調整した。またアシル化後に40℃で熟成を行って全置換度を調整した。
1)セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを120℃に加熱して乾燥し、含水率を0.5質量%以下とした後、30質量部を溶媒と混合させた。
2)溶媒
ジクロロメタン/メタノール/ブタノール(81/15/4質量部)を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも0.2質量%以下であった。
3)添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート0.9質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子(粒径20nm、モース硬度 約7)0.25質量部を添加した。
4)膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する400リットルのステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤を投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて2時間撹拌し、3時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、15m/sec(剪断応力5×104kgf/m/sec2)の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および中心軸にアンカー翼を有して周速1m/sec(剪断応力1×104kgf/m/sec2)で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を0.5m/secとして実施した。
5)ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度0.01mmの濾紙(#63、東洋濾紙(株)製)で濾過し、さらに絶対濾過精度2.5μmの濾紙(FH025、ポール社製)にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。
上記セルロースアシレート溶液を30℃に加温し、流延ギーサー(特開平11−314233号公報に記載)を通して15℃に設定したバンド長60mの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは15m/分、塗布幅は200cmとした。流延部全体の空間温度は、15℃に設定した。そして、流延部から50cm手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、45℃の乾燥風を送風した。次に110℃で5分、さらに140℃で10分乾燥して、セルロースアシレートフィルムを得た。膜厚が30μm〜100μmになるように調整し、Re(550)が5nm以下、Rth(550)が−80nm〜−30nmの種々のセルロースアシレートフィルムを得た。
(セルロースアシレート溶液の調製)
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
セルロースアシレート溶液 組成
酢化度2.86のセルロースアシレート 100.0質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 402.0質量部
メタノール(第2溶媒) 60.0質量部
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。光学異方性を低下させる化合物(光学異方性低下剤)および波長分散調整剤については下記に示すものを用いた。
化合物A−19(レタデーション低減剤) 49.3質量部
UV−102(波長分散調整剤) 7.6質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 58.4質量部
メタノール(第2溶媒) 8.7質量部
セルロースアシレート溶液 12.8質量部
上記セルロースアシレート溶液94.6質量部、添加剤溶液4.1質量部を、それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。なお、添加化合物(化合物A−19およびUV−102)の総量は、セルロースアシレートの量に対して、13.6質量%であった。
残留溶剤量30%でフィルムをバンドから剥離し、140℃で40分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルムを得た。膜厚が30μm〜100μmになるように調整し、Re(550)が5nm以下、Rth(550)が−30nm〜5nmの種々のセルロースアシレートフィルムを得た。
(セルロースアシレート溶液の調製)
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
セルロースアシレート溶液組成
酢化度2.86のセルロースアシレート 100.0質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド 435質量部
メタノール 65質量部
上記方法で作製したセルロースアシレート溶液をステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量30質量%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド上から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦(MD)延伸倍率が1.02倍となるように延伸し、ついで、乾燥ゾーンで搬送しながら140℃40分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルムを得た。膜厚が30μm〜100μmになるように調整し、Re(550)が5nm以下、Rth(550)が5nm〜45nmの種々のセルロースアシレートフィルムを得た。
(セルロースアシレート溶液の調製)
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
(セルロースアシレート溶液組成)
酢化度60.7〜61.1%のセルロースアシレート 100質量部
トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 336質量部
メタノール(第2溶媒) 29質量部
1−ブタノール(第3溶媒) 11質量部
特開2006−265309号の実施例15において延伸を行わなかった以外は、同様の手順に従って、セルロースアシレートフィルムを製造した。Re、Rthを測定したところ、Re(550)=0nm、Rth(550)=−100nmであった。
(アルカリ鹸化処理)
支持体5を温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を40℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量14ml/m2で塗布し、110℃に加熱した(株)ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、10秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を3ml/m2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後に、70℃の乾燥ゾーンに10秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。
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アルカリ溶液組成(質量部)
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水酸化カリウム 4.7質量部
水 15.8質量部
イソプロパノール 63.7質量部
界面活性剤
SF−1:C14H29O(CH2CH2O)20H 1.0質量部
プロピレングリコール 14.8質量部
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上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアシレートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を#8のワイヤーバーで連続的に塗布した。100℃の温風で2分間乾燥し、厚み0.6μmの配向膜を得た。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が4wt%となるように配向膜塗布液中に加えた。
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下記の変性ポリビニルアルコール
水 70質量部
メタノール 30質量部
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上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対するラビング方向が13°になるように調節した。
なお、ラビング方向の角度は、後述する光学異方性層が積層される面側から支持体を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正の角度値、時計回りに負の角度値をもって表してある。
上記で作製した光学異方性層Aにラビング処理を施すことなく、表2に示すディスコティック液晶化合物を含む塗布液(DLC(4))を、上記作製した光学異方性層A上に#3のワイヤーバーで塗布した。フィルムの搬送速度(V)は5m/minとした。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、110℃の温風で2分間加熱した。続いて、窒素環境下にて、80℃にてUV照射(500mJ/cm2)を行い、液晶化合物の配向を固定化した。光学異方性層Bの厚さは、1.19μmであった。また、550nmにおけるΔndは172nmであった。
なお、光学異方性層Bの光学異方性層A側表面の面内遅相軸は、光学異方性層Aの面内遅相軸と平行であった。また、光学異方性層B中のディスコティック液晶化合物の捩れ角は81°であり、支持体の長手方向を基準の0°とすると、光学異方性層Bの光学異方性層A側とは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は94°であった。つまり、ディスコティック液晶化合物は右回りに捩れ構造を形成する。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、支持体の長手方向を基準の0°として、光学異方性層が積層される面側から支持体を観察し、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
また、ここでディスコティック液晶化合物の捩れ構造は、光学異方性層が積層される面側から支持体を観察して、光学異方性層Bの光学異方性層A側とは反対側の表面の面内遅相軸を基準に、面内遅相軸が右回りか左回りかを判断する。
厚さ80μmのポリビニルアルコール(PVA)フィルムを、ヨウ素濃度0.05質量%のヨウ素水溶液中に30℃で60秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度4質量%濃度のホウ酸水溶液中に60秒浸漬している間に元の長さの5倍に縦延伸した後、50℃で4分間乾燥させて、厚さ20μmの偏光膜を得た。
市販のセルロースアシレート系フィルム「TD80UL」(富士フイルム社製)を準備し、1.5モル/リットルで55℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、0.005モル/リットルで35℃の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
上記で作製された支持体と光学異方性層Aと光学異方性層Bとを備える位相差板の支持体の露出表面上に、前述の偏光膜および前述の偏光膜保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板(P−1)を作製した。つまり、円偏光板(P−1)は、偏光膜保護フィルム、偏光膜、透明支持体、光学異方性層A(上記第2光学異方性層に該当)、光学異方性層B(上記第1光学異方性層に該当)をこの順で有し、偏光膜、透明支持体、光学異方性層A、および光学異方性層Bの順番は上述した図3の態様に該当する。
なお、偏光膜の吸収軸は円偏光板の長手方向と一致しており、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Aの面内遅相軸の回転角度は−13°であり、光学異方性層Bの光学異方性層Aとは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は−94°であった。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、偏光膜側から位相差板を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
支持体5の代わりに支持体2を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(1)の代わりにRLC(1)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(4)の代わりにDLC(3)を使用し、(光学異方性層Aの形成)と(光学異方性層Bの形成)との間に以下の配向膜形成工程を設けて、配向膜上に光学異方性層Bを形成した以外は、実施例1と同様の手順に従って円偏光板(P−2)を製造した。
なお、円偏光板(P−2)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−1)と同様であった。
光学異方性層A上に、下記の組成の配向膜塗布液を#8のワイヤーバーで連続的に塗布した。100℃の温風で2分間乾燥し、厚み0.6μmの配向膜1を得た。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が4wt%となるように配向膜塗布液中に加えた。
下記の変性ポリビニルアルコール
水 70質量部
メタノール 30質量部
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支持体5の代わりに支持体7を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(4)の代わりにRLC(2)を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って円偏光板(P−3)を製造した。
なお、円偏光板(P−3)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−1)と同様であった。
光学異方性層Aの製造の際にDLC(1)の代わりにRLC(1)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(4)の代わりにRLC(2)を使用した以外は、実施例1と同様の手順に従って円偏光板(P−4)を製造した。
なお、円偏光板(P−4)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−1)と同様であった。
(光学異方性層Aの形成)の際のフィルム長手方向に対するラビング方向を13°から−94°に変更し、支持体5の代わりに支持体8を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(1)の代わりにDLC(3)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(4)の代わりにDLC(2)を使用した以外は、実施例1の(アルカリ鹸化処理)、(配向膜の形成)、(光学異方性層Aの形成)、および(光学異方性層Bの形成)を実施し、位相差板を製造した。
次に、得られた位相差板の光学異方性層Bの露出表面上に、前述の偏光膜および前述の偏光膜保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板(P−5)を作製した。つまり、円偏光板(P−5)は、偏光膜保護フィルム、偏光膜、光学異方性層B(上記第2光学異方性層に該当)、光学異方性層A(上記第1光学異方性層に該当)、透明支持体をこの順で有し、偏光膜、光学異方性層B、光学異方性層A、および透明支持体の順番は上述した図6の態様に該当する。
なお、偏光膜の吸収軸は円偏光板の長手方向と一致しており、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Bの面内遅相軸の回転角度は−13°で、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Aの光学異方性層Bとは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は−94°であった。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、偏光膜側から位相差板を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
支持体8の代わりに支持体7を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(2)の代わりにRLC(1)を使用した以外は、実施例5と同様の手順に従って円偏光板(P−6)を製造した。
なお、円偏光板(P−6)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−5)と同様であった。
支持体8の代わりに支持体4を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(3)の代わりにRLC(2)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(2)の代わりにDLC(1)を使用し、(光学異方性層Aの形成)と(光学異方性層Bの形成)との間に上記配向膜形成工程を設けて、フィルム長手方向に対するラビング方向を13°から−13°に変更し、配向膜上に光学異方性層Bを形成した以外は、実施例5と同様の手順に従って円偏光板(P−7)を製造した。
なお、円偏光板(P−7)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−5)と同様であった。
支持体8の代わりに支持体3を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(3)の代わりにRLC(2)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(2)の代わりにRLC(1)を使用した以外は、実施例5と同様の手順に従って円偏光板(P−8)を製造した。
なお、円偏光板(P−8)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−5)と同様であった。
(光学異方性層Aの形成)の際のフィルム長手方向に対するラビング方向を13°から−123°に変更し、支持体5の代わりに支持体8を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(1)の代わりにDLC(5)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(4)の代わりにDLC(6)を使用し、(光学異方性層Aの形成)と(光学異方性層Bの形成)との間に上記配向膜形成工程を設けて、フィルム長手方向に対するラビング方向を13°から26°に変更し、配向膜上に光学異方性層Bを形成した以外は、実施例1と同様の手順に従って円偏光板(P−9)を製造した。つまり、円偏光板(P−9)は、偏光膜保護フィルム、偏光膜、透明支持体、光学異方性層A(上記第1光学異方性層に該当)、光学異方性層B(上記第2光学異方性層に該当)をこの順で有し、偏光膜、透明支持体、光学異方性層A、および光学異方性層Bの順番は上述した図7の態様に該当する。
なお、偏光膜の吸収軸は、円偏光板の長手方向と一致しており、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Bの面内遅相軸の回転角度は−26°で、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Aの光学異方性層Bとは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は123°であった。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、偏光膜側から位相差板を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
支持体8の代わりに支持体4を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(5)の代わりにRLC(3)を使用した以外は、実施例9と同様の手順に従って円偏光板(P−10)を製造した。
なお、円偏光板(P−10)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−9)と同様であった。
支持体8の代わりに支持体7を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(6)の代わりにRLC(4)を使用した以外は、実施例9と同様の手順に従って円偏光板(P−11)を製造した。
なお、円偏光板(P−11)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−9)と同様であった。
支持体8の代わりに支持体3を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(5)の代わりにRLC(3)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(6)の代わりにRLC(4)を使用した以外は、実施例9と同様の手順に従って円偏光板(P−12)を製造した。
なお、円偏光板(P−12)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−9)と同様であった。
(光学異方性層Aの形成)の際のフィルム長手方向に対するラビング方向を13°から−26°に変更し、支持体5の代わりに支持体6を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(1)の代わりにDLC(6)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(4)の代わりにDLC(5)を使用し、(光学異方性層Aの形成)と(光学異方性層Bの形成)との間に上記配向膜形成工程を設けて、フィルム長手方向に対するラビング方向を13°から64°に変更し、配向膜上に光学異方性層Bを形成した以外は、実施例1の(アルカリ鹸化処理)、(配向膜の形成)、(光学異方性層Aの形成)、および(光学異方性層Bの形成)を実施し、位相差板を製造した。
次に、得られた位相差板の光学異方性層Bの露出表面上に、前述の偏光膜および前述の偏光膜保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤を用いて連続的に貼り合せ、長尺状の円偏光板(P−13)を作製した。つまり、円偏光板(P−13)は、偏光膜保護フィルム、偏光膜、光学異方性層B(上記第1光学異方性層に該当)、光学異方性層A(上記第2光学異方性層に該当)、透明支持体をこの順で有し、偏光膜、光学異方性層B、光学異方性層A、および透明支持体の順番は上述した図10の態様に該当する。
なお、偏光膜の吸収軸は、円偏光板の長手方向と一致しており、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Aの面内遅相軸の回転角度は−26°で、偏光膜の吸収軸に対する光学異方性層Bの光学異方性層Aとは反対側の表面の面内遅相軸の回転角度は123°であった。
なお、上記面内遅相軸の回転角度は、偏光膜側から位相差板を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
支持体6の代わりに支持体4を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(5)の代わりにRLC(3)を使用した以外は、実施例13と同様の手順に従って円偏光板(P−14)を製造した。
なお、円偏光板(P−14)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−13)と同様であった。
支持体6の代わりに支持体4を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(6)の代わりにRLC(4)を使用した以外は、実施例13と同様の手順に従って円偏光板(P−15)を製造した。
なお、円偏光板(P−15)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−13)と同様であった。
支持体6の代わりに支持体1を使用し、光学異方性層Aの製造の際にDLC(6)の代わりにRLC(4)を使用し、光学異方性層Bの製造の際にDLC(5)の代わりにRLC(3)を使用した以外は、実施例13と同様の手順に従って円偏光板(P−16)を製造した。
なお、円偏光板(P−16)での偏光膜の吸収軸と、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸とのなす角度の関係は、円偏光板(P−13)と同様であった。
なお、DLC(1)〜(6)、または、RLC(1)〜(4)のいずれかを用いて光学異方性層を作製する場合、配向温度、配向時間、重合温度は、表2の条件に従った。
なお、上述した実施例1〜8における偏光膜の吸収軸と第1光学異方性層および第2光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係は、上述した図4の態様に該当する。
また、上述した実施例9〜16における偏光膜の吸収軸と第1光学異方性層および第2光学異方性層のそれぞれの面内遅相軸との関係は、上述した図8の態様に該当する。
なお、実施例1〜16における光学異方性層Aおよび光学異方性層BのΔndおよびレタデーション、偏光膜の吸収軸との角度はAxometics社のAxoscanを用いて測定を行った。
また、表3〜6中のラビング方向の角度は、光学異方性層が積層される面側から支持体を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
一方、偏光膜の吸収軸に対する、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bの面内遅相軸の回転角度は、偏光膜側から位相差板を観察して、支持体の長手方向を基準の0°とし、反時計回り方向に正、時計回りに負の角度値をもって表してある。
重量平均分子量10万のポリカーボネートを塩化メチレンに溶解して、18質量%溶液を得た。この溶液をガラス板上に、乾燥膜厚が80μmになるように流涎し、室温で30分乾燥後、70℃で1時間乾燥した。このポリカーボネートフィルムをガラス板から剥離して、10cm×20cmのサイズに裁断し、160℃で長手方向に4%延伸し位相差板であるλ/4板を得た。また160℃で8%延伸する以外は同様の手順で位相差板であるλ/2板を得た。それぞれの面内遅相軸はフィルムの長手方向に平行であり、波長550nmでの位相差はλ/4板が137.5nm、λ/2板が275nmであった。
上記で作製されたλ/4板位相差板上に、前述の偏光膜および前述の偏光膜保護フィルムを位相差板の面内遅相軸と偏光膜の吸収軸の交差角度が45度になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ、円偏光板(比較例1)を作製した。つまり、円偏光板は、偏光膜保護フィルム、偏光膜、λ/4板をこの順で有する。
また、上記で作製されたλ/4板上にλ/2板を粘着剤を用いて、各々の面内遅相軸が60度で交差するように貼り合わせた。さらにλ/2板位相差板上に、前述の偏光膜および前述の偏光膜保護フィルムをλ/2板位相差板の面内遅相軸と偏光膜の吸収軸の交差角度が15度になるようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ、円偏光板(比較例2)を作製した。つまり、円偏光板(比較例2)は、偏光膜保護フィルム、偏光膜、λ/2板、λ/4板をこの順で有する。
なお、偏光膜の吸収軸とλ/2板の面内遅相軸とのなす角度が15°で、偏光膜の吸収軸とλ/4板の面内遅相軸とのなす角度は75°であった。
(表示装置への実装)
有機ELパネル搭載のSAMSUNG社製GALAXY SIIを分解し、円偏光板を剥離して、そこに実施例1〜16および比較例1,2で作製した円偏光板を、偏光膜保護フィルムが外側に配置されるように、表示装置に貼り合せた。
(色味づき評価)
作製した有機EL表示装置について、黒色の色味づきを評価した。表示装置に黒表示をして、正面より観察し、下記の基準で評価した。結果は表7および8にまとめて示す。
4:色味づきが全く視認されない。(許容)
3:色味づきが視認されるものの、ごくわずか。(許容)
2:色味づきがやや視認され、反射光もややあり、許容できない。
1:色味づきが視認され、反射光も多く、許容できない。
作製した有機EL表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、正面および極角45度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察した。正面と比較して、極角45度の表示品位を下記の基準で評価した。結果は表7および8にまとめて示す。
4:色味付きが全く視認されない。(許容)
3:色味差が視認されるものの、ごくわずか。(許容)
2:色味差が視認されるが反射光は小さく、使用上問題はない。(許容)
1:色味差が視認され、反射光も多く、許容できない。
ごみによる表示品位の良し悪しを下記の基準で評価した。結果は表7および8にまとめて示す。
4:ごみによる表示品位の悪さが全くない。(許容)
3:ごみによる表示品位の悪さがあるものの、ごくわずか。(許容)
2:ごみによる表示品位の悪さがあるが、使用上問題はない。(許容)
1:ごみによる表示品位の悪さが目立ち、許容できない。
また、光学異方性層Aおよび光学異方性層Bとの間に配向膜を設けなかった場合、ごみ輝点による表示品位がより向上することが確認された。
なお、λ/4板を用いた比較例1、λ/4板とλ/2板とを用いた比較例2では、色づき評価が劣っていた。
上記のような偏光膜の吸収軸と支持体の長手方向とのなす角度が90°となる場合、偏光膜の吸収軸と第1光学異方性層および第2光学異方性層の面内遅相軸とのなす角度の関係は、上述した(Y)または(W)の関係を満たす。つまり、偏光膜の吸収軸と支持体の長手方向とのなす角度が90°となるように偏光膜を位相差板に貼り合せた態様は、上述した図5および図9の態様に該当する。
なお、上記実施例では、右捩れ構造を形成する液晶化合物を用いて第1光学異方性層を製造したが、左捩れ構造を形成する液晶化合物を用いた場合も、上述したように偏光膜の吸収軸、第1光学異方性層の面内遅相軸、および、第2光学異方性層の面内遅相軸との関係を調整することにより、所望の特性を示す円偏光板を形成することができた。
12a,12b 第1光学異方性層
14a,14b 第2光学異方性層
16 透明支持体
18 偏光膜
20 表示ELパネル
22 保護膜
100a,100b,100c,100d 円偏光板
200,210 有機EL表示装置
Claims (11)
- 第1光学異方性層および第2光学異方性層を備える円偏光板用位相差板であって、
前記第1光学異方性層は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を含み、
前記第1光学異方性層中の前記液晶化合物の捩れ角が81±10°であり、
前記第1光学異方性層の前記第2光学異方性層側の表面での面内遅相軸と、前記第2光学異方性層の面内遅相軸とは平行であり、
波長550nmで測定した前記第1光学異方性層の屈折率異方性Δnと前記第1光学異方性層の厚みdとの積Δndの値と、波長550nmで測定した前記第2光学異方性層のレタデーション値であるReB(550)とが、それぞれ下記式(1)および式(2)を満足する、円偏光板用位相差板。
式(1) 142nm≦Δnd≦202nm
式(2) 151nm≦ReB(550)≦211nm - 前記第2光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を含有する、請求項1に記載の円偏光板用位相差板。
- 前記液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である、請求項1または2に記載の円偏光板用位相差板。
- 前記第1光学異方性層と前記第2光学異方性層との間に実質的に配向膜がない、請求項1〜3のいずれか1項に記載の円偏光板用位相差板。
- 偏光膜と、請求項1〜4のいずれか1項に記載の円偏光板用位相差板とを少なくとも含む円偏光板であって、
前記偏光膜と、前記第2光学異方性層と、前記第1光学異方性層とをこの順で有し、
前記第2光学異方性層の面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が13±10°の範囲内にあり、かつ、前記第1光学異方性層の前記第2光学異方性層がある側とは反対側の表面での面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が94±20°の範囲にある、または、
前記第2光学異方性層の面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が103±10°の範囲内にあり、かつ、前記第1光学異方性層の前記第2光学異方性層がある側とは反対側の表面での面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が184±20°の範囲にある、円偏光板。 - 第1光学異方性層および第2光学異方性層を備える円偏光板用位相差板であって、
前記第1光学異方性層は、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した液晶化合物を含み、
前記第1光学異方性層中の前記液晶化合物の捩れ角が59±10°であり、
前記第1光学異方性層の前記第2光学異方性層側の表面での面内遅相軸と、前記第2光学異方性層の面内遅相軸とのなす角が直交であり、
波長550nmで測定した前記第1光学異方性層の屈折率異方性Δnと前記第1光学異方性層の厚みdとの積Δndの値と、波長550nmで測定した前記第2光学異方性層のレタデーション値であるReB(550)とが、それぞれ下記式(3)および式(4)を満足する、円偏光板用位相差板。
式(3) 203nm≦Δnd≦263nm
式(4) 158nm≦ReB(550)≦218nm - 前記第2光学異方性層がホモジニアス配向した液晶化合物を含有する、請求項6に記載の円偏光板用位相差板。
- 前記液晶化合物が、ディスコティック液晶化合物または棒状液晶化合物である、請求項6または7に記載の円偏光板用位相差板。
- 前記第1光学異方性層と前記第2光学異方性層の間に実質的に配向膜がない、請求項6〜8のいずれか1項に記載の円偏光板用位相差板。
- 偏光膜と、請求項6〜9のいずれか1項に記載の円偏光板用位相差板とを少なくとも含む円偏光板であって、
前記偏光膜と、前記第1光学異方性層と、前記第2光学異方性層とをこの順で有し、
前記第1光学異方性層の前記偏光膜がある側の表面での面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が123±10°の範囲にあり、かつ、前記第2光学異方性層の面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が26±20°の範囲内にある、または、
前記第1光学異方性層の前記偏光膜がある側の表面での面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が33±10°の範囲内にあり、かつ、前記第2光学異方性層の面内遅相軸と前記偏光膜の吸収軸とのなす角度が116±20°の範囲にある、円偏光板。 - 請求項1〜4、6〜9のいずれか1項に記載の位相差板、または、請求項5若しくは10に記載の円偏光板を含む有機EL表示装置。
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