JP2014509677A - 潤滑性組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
分野
本開示は、所望のトライボロジー特性と、より低いヘッド媒体間隔(HMS)を達成する能力と、ヘッド媒体インターフェースの望ましい熱ロバスト性を与える組成物に関する。
新たな記録技術の開発にともない、現在使用されている媒体潤滑剤は、これらの進歩した記録技術を成功させるために不可欠な独自の要件を満たすことができない。ディスク表面が比較的高温に加熱されるエネルギアシスト磁気記録(EAMR)の場合、現在の最先端の媒体潤滑剤は、加熱による蒸発および分解によって材料が熱的に損失するため、不適切である。提案されたEAMR用の潤滑性組成物は、高分子量(MW)のポリパーフルオロトリメチレン酸化物などの非機能的に終端された線状パーフルオロポリエーテル(PFPE)潤滑剤を含む。しかしながら、このような高MW潤滑剤は、分子の厚さが大きくかつ炭素保護膜との相互作用が弱いため、一般的に信頼性性能が良くない。
本開示の一局面において、組成物は、環状基を有する中核と、中核から延在する1つ以上のアームとを含む。1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルの誘導体を有する。中核から延在するアームの数は、2以上である。中核から延在するアームの数は、1〜6である。中核は、シクロトリホスファゼン、トリアジン、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリフェニルエーテル、環状炭化水素またはそれらの誘導体である。1つ以上のアームは、潤滑性バックボーンを有する。潤滑性バックボーンは、分子式1に相当しまたは分子式1の誘導体であり、
−(CmF2mO)s(CnF2nO)t− 分子式1
式中、mは2以上の整数、nは1以上の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である。mは2〜7の整数であり、nは1〜7の整数である。1つ以上のアームはさらに、1つ以上の末端官能基を有し、1つ以上の末端官能基は、−CH2OH、−OCH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH2OH、−C6H5、−CF2CF3、−CH2CH(OH)CH3、−CF3、−OCH2CH2OCH2CH2OH、ピペロニル、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である。1つ以上のアームはさらに、1つ以上の非末端官能基を有し、1つ以上の非末端官能基は、−C6H4−、−CH2C6H4CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH2CH(OH)CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH(C6H5)−、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である。
−(CmF2mO)s(CnF2nO)t− 分子式1
式中、mは2以上の整数、nは1以上の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である。mは2〜7の整数であり、nは1〜7の整数である。1つ以上のアームはさらに、1つ以上の末端官能基を有し、1つ以上の末端官能基は、−CH2OH、−OCH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH2OH、−C6H5、−CF2CF3、−CH2CH(OH)CH3、−CF3、−OCH2CH2OCH2CH2OH、ピペロニル、トリアジン、シクロトリホスファゼン基またはそれらの誘導体である。1つ以上のアームはさらに、1つ以上の非末端官能基を有し、1つ以上の非末端官能基は、−C6H4−、−CH2C6H4CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH2CH(OH)CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH(C6H5)−、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはその誘導体である。
以下、さまざまな組成物が示される添付の図面を参照して、本発明をより詳細に説明する。添付の図面は、さまざまな局面の組成物を示している。しかしながら、この組成物は、多くの異なる形で具体化することができ、本開示により示された本発明の組成物のさまざまな局面に限定して構築されなくてもよい。むしろ、これらの局面は、この開示が徹底的かつ完全になり、本発明の組成物の範囲を当業者に十分に伝えるために提供される。図面に示された本発明の組成物のさまざまな局面は、一定の縮尺で描かれていないことがある。むしろ、明確にするために、さまざまな特徴の寸法を拡大または減少してもよい。さらに、明確にするために、図面のいくつかを簡略化してもよい。
特に指定がない限り、本明細書で使用されるすべての科学用語および技術用語は、当技術分野で一般に使用される意味を持つ。本明細書で使用されるように、以下の語彙または表現は、指定された意味を有する。
本発明の一局面において、組成物は、環状基を有する少なくとも1つの中核と、中核から延在する1つ以上のアームとを含む。1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルまたはポリフルオロポリエーテル誘導体を含む。図1に示す実施形態において、組成物10は、複数の中核12と、複数の中核の各々から延在する複数のアーム14とを備え、少なくとも1つのアーム16は、中核のうち2つの間に延在している。図1に示す実施形態において、中核は2つであって、3つのアームが中核の各々から延在し、1本のアームが2つの中核の間に延在している。
式中、mは約2〜約7の整数、nは約1〜約7の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である。いくつかの実施形態において、m≧3および/またはn≧2である場合、潤滑性組成物のイオンは、熱分解、酸化分解またはルイス酸触媒による分解に耐えるようになる。
潤滑性組成物を組込んだ装置、たとえば記録媒体は、組成物から形成される潤滑層を含む。記録媒体のような装置を潤滑する方法は、組成物を組込むことができる。一般に、方法は、装置が形成されるときに、組成物を装置に塗布するステップを含む。
Claims (43)
- トリアジン、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリフェニルエーテル、環状炭化水素またはそれらの誘導体からなる群より選択される中核と、
前記中核から延在する1つ以上のアームとを含み、
前記1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルの誘導体を有する、組成物。 - 前記中核から延在するアームの数は、2以上である、請求項1に記載の組成物。
- 前記中核から延在するアームの数は、1〜6である、請求項1に記載の組成物。
- 前記1つ以上のアームは、潤滑性バックボーンを有する、請求項1に記載の組成物。
- 前記潤滑性バックボーンは、分子式1に相当しまたは分子式1の誘導体であり、
−(CmF2mO)s(CnF2nO)t− 分子式1
式中、mは2以上の整数、nは1以上の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である、請求項4に記載の組成物。 - mは2〜7の整数であり、nは1〜7の整数である、請求項5に記載の組成物。
- 前記1つ以上のアームはさらに、1つ以上の末端官能基を有し、
前記1つ以上の末端官能基は、−CH2OH、−OCH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH2OH、−C6H5、−CF2CF3、−CH2CH(OH)CH3、−CF3、−OCH2CH2OCH2CH2OH、ピペロニル、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である、請求項1に記載の組成物。 - 前記1つ以上のアームはさらに、1つ以上の非末端官能基を有し、
前記1つ以上の非末端官能基は、−C6H4−、−CH2C6H4CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH2CH(OH)CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH(C6H5)−、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である、請求項1に記載の組成物。 - 複数の中核と、
前記複数の中核の各々から延在する1つ以上のアームとを含み、
前記1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルの誘導体を有し、
前記アームのうち少なくとも1つは、前記中核のうち2つの間に延在する、組成物。 - 前記中核の数は、2または3である、請求項9に記載の組成物。
- 前記中核から延在するアームの数は、2以上である、請求項9に記載の組成物。
- 前記複数の中核の各々から延在するアームの数は、1〜6である、請求項9に記載の組成物。
- 前記複数の中核の各々から延在するアームの数は、2である、請求項9に記載の組成物。
- 前記複数の中核のうち少なくとも1つは、シクロトリホスファゼン、トリアジン、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリフェニルエーテル、環状炭化水素またはそれらの誘導体である、請求項9に記載の組成物。
- 前記1つ以上のアームは、潤滑性バックボーンを有する、請求項9に記載の組成物。
- 前記潤滑性バックボーンは、分子式1に相当しまたは分子式1の誘導体であり、
−(CmF2mO)s(CnF2nO)t− 分子式1
式中、mは2以上の整数、nは1以上の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である、請求項9に記載の組成物。 - mは2〜7の整数であり、nは1〜7の整数である、請求項16に記載の組成物。
- 前記1つ以上のアームはさらに、1つ以上の末端官能基を有し、
前記1つ以上の末端官能基は、−CH2OH、−OCH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH2OH、−C6H5、−CF2CF3、−CH2CH(OH)CH3、−CF3、−OCH2CH2OCH2CH2OH、ピペロニル、トリアジン、シクロトリホスファゼン基またはそれらの誘導体である、請求項9に記載の組成物。 - 前記1つ以上のアームはさらに、1つ以上の非末端官能基を有し、
前記1つ以上の非末端官能基は、−C6H4−、−CH2C6H4CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH2CH(OH)CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH(C6H5)−、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはその誘導体である、請求項9に記載の組成物。 - 基板と、
前記基板に設けられ、情報を記録するための磁性層と、
前記磁性層を保護するための保護膜と、
潤滑性組成物とを含み、
前記潤滑性組成物は、
トリアジン、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリフェニルエーテル、環状炭化水素またはそれらの誘導体からなる群より選択される中核と、
前記中核から延在する1つ以上のアームとを含む組成物を有する化合物を含み、
前記1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルを有する、装置。 - 前記潤滑性組成物は、約3Å〜約50Åの厚さを有する、請求項20に記載の装置。
- 前記潤滑性組成物は、約0.5nm〜約2nmの厚さを有する、請求項20に記載の装置。
- 前記潤滑性組成物は、約10Å〜約20Åの厚さを有する、請求項20に記載の装置。
- 基板と、
前記基板に設けられ、情報を記録するための磁性層と、
前記磁性層を保護するための保護膜と、
潤滑性組成物とを含み、
前記潤滑性組成物は、
複数の核と、
前記複数の核の各々から延在する1つ以上のアームとを含む組成物を有する化合物を含み、
前記1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルを有し、
前記アームのうち少なくとも1つは、前記核のうち2つの間に延在する、装置。 - 前記潤滑性組成物は、約3Å〜約50Åの厚さを有する、請求項24に記載の装置。
- 前記潤滑性組成物は、約8Å〜約40Åの厚さを有する、請求項24に記載の装置。
- 前記潤滑性組成物は、約10Å〜約20Åの厚さを有する、請求項24に記載の装置。
- トリアジン核と、
前記トリアジン核から延在する1つ以上のアームとを含み、
前記1つ以上のアームは、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルの誘導体を有する、組成物。 - 前記トリアジン核から延在するアームの数は、2以上である、請求項28に記載の組成物。
- 前記中核から延在するアームの数は、1〜6である、請求項28に記載の組成物。
- 前記1つ以上のアームは、潤滑性バックボーンを有する、請求項28に記載の組成物。
- 前記潤滑性バックボーンは、分子式1に相当しまたは分子式1の誘導体であり、
−(CmF2mO)s(CnF2nO)t− 分子式1
式中、mは2以上の整数、nは1以上の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である、請求項31に記載の組成物。 - mは2〜7の整数であり、nは1〜7の整数である、請求項32に記載の組成物。
- 前記1つ以上のアームはさらに、1つ以上の末端官能基を有し、
前記1つ以上の末端官能基は、−CH2OH、−OCH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH2OH、−C6H5、−CF2CF3、−CH2CH(OH)CH3、−CF3、−OCH2CH2OCH2CH2OH、ピペロニル、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である、請求項28に記載の組成物。 - 前記1つ以上のアームはさらに、1つ以上の非末端官能基を有し、
前記1つ以上の非末端官能基は、−C6H4−、−CH2C6H4CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH2CH(OH)CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH(C6H5)−、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である、請求項28に記載の組成物。 - 前記中核は、シクロトリホスファゼン、トリアジン、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリフェニルエーテル、環状炭化水素またはそれらの誘導体である、請求項28に記載の組成物。
- 環状基を有する中核と、
前記中核から延在する6つのアームとを含み、
各アームは、パーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロポリエーテルの誘導体を有する、組成物。 - 少なくとも1つのアームは、潤滑性バックボーンを有する、請求項37に記載の組成物。
- 前記潤滑性バックボーンは、分子式1に相当しまたは分子式1の誘導体であり、
−(CmF2mO)s(CnF2nO)t− 分子式1
式中、mは2以上の整数、nは1以上の整数、sは約1〜約1000の整数、tは0〜約1000の整数である、請求項38に記載の組成物。 - mは2〜7の整数であり、nは1〜7の整数である、請求項39に記載の組成物。
- 少なくとも1つのアームはさらに、1つ以上の末端官能基を有し、
前記1つ以上の末端官能基は、−CH2OH、−OCH2CH2OH、−CH2CH(OH)CH2OH、−C6H5、−CF2CF3、−CH2CH(OH)CH3、−CF3、−OCH2CH2OCH2CH2OH、ピペロニル、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である、請求項37に記載の組成物。 - 少なくとも1つのアームはさらに、1つ以上の非末端官能基を有し、
前記1つ以上の非末端官能基は、−C6H4−、−CH2C6H4CH2−、−CH2CH(OH)CH2−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH2CH(OH)CH2CH(OH)CH2−、−CH(CH2OH)−、−CH(OH)CH(OH)CH2−、−CH(C6H5)−、トリアジン、シクロトリホスファゼンまたはそれらの誘導体である、請求項37に記載の組成物。 - 前記中核は、シクロトリホスファゼン、トリアジン、ベンゼン、ジフェニルエーテル、ポリフェニルエーテル、環状炭化水素またはそれらの誘導体である、請求項37に記載の組成物。
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2011136379A1 (ja) * | 2010-04-26 | 2013-07-22 | 株式会社Moresco | シクロホスファゼン化合物、及びこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク |
| WO2016084781A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社Moresco | フルオロポリエーテル化合物、潤滑剤、磁気ディスクならびにその製造方法 |
| JP2017521478A (ja) * | 2014-05-16 | 2017-08-03 | ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス.ピー.エー. | ヒドロキシル置換(パー)フルオロポリエーテル鎖を有する芳香族化合物 |
| WO2017145995A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
| JP2021046424A (ja) * | 2020-12-02 | 2021-03-25 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
| WO2021251335A1 (ja) * | 2020-06-11 | 2021-12-16 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
| JP2023509289A (ja) * | 2020-11-18 | 2023-03-08 | ウェスタン デジタル テクノロジーズ インコーポレーテッド | 高熱安定性潤滑剤 |
| US11767483B2 (en) | 2018-09-12 | 2023-09-26 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
| US11820953B2 (en) | 2019-03-12 | 2023-11-21 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium |
| US11879109B2 (en) | 2019-09-18 | 2024-01-23 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
| US11905365B2 (en) | 2019-12-26 | 2024-02-20 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
| US12057151B2 (en) | 2019-12-23 | 2024-08-06 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
| US12100434B2 (en) | 2020-02-07 | 2024-09-24 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
| US12338407B2 (en) | 2019-11-07 | 2025-06-24 | Resonac Corporation | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011021165A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-03 | Wd Media Singapore Pte Ltd | 磁気ディスク用潤滑剤及び磁気ディスク |
| JP5743438B2 (ja) * | 2010-06-22 | 2015-07-01 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気ディスク用潤滑剤、磁気ディスク及びその製造方法 |
| US8841008B2 (en) * | 2011-02-28 | 2014-09-23 | Seagate Technology Llc | Lubricant for heat assisted magnetic recording |
| GB2489489B (en) * | 2011-03-30 | 2013-08-21 | Toshiba Res Europ Ltd | A speech processing system and method |
| WO2012170010A1 (en) * | 2011-06-07 | 2012-12-13 | Seagate Technology Llc | Lubricant compositions |
| US8668995B2 (en) * | 2011-06-13 | 2014-03-11 | Moresco Corporation | Fluoropolyether compound, lubricant and magnetic disk each containing the same |
| JP2014047190A (ja) * | 2012-09-03 | 2014-03-17 | Moresco Corp | シクロホスファゼン化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
| US9017834B2 (en) * | 2012-10-05 | 2015-04-28 | Seagate Technology Llc | Lubricants for data storage |
| WO2014126107A1 (ja) * | 2013-02-13 | 2014-08-21 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル組成物、表面改質剤、界面活性剤、液状組成物、物品 |
| US9153268B1 (en) | 2013-02-19 | 2015-10-06 | WD Media, LLC | Lubricants comprising fluorinated graphene nanoribbons for magnetic recording media structure |
| TWI654199B (zh) * | 2013-06-06 | 2019-03-21 | 首威專業聚合物義大利公司 | 製造環磷腈衍生物之方法 |
| US9245565B2 (en) * | 2013-06-14 | 2016-01-26 | HGST Netherlands B.V. | Magnetic recording medium lubricant mixture and systems thereof |
| US9384771B2 (en) * | 2013-12-20 | 2016-07-05 | HGST Netherlands B.V. | Lubricants providing magnetic head wear reduction and magnetic spacing improvement |
| JP6644774B2 (ja) | 2014-09-10 | 2020-02-12 | ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス.ピー.エー. | シクロホスファゼン誘導体 |
| JP7574083B2 (ja) * | 2018-06-20 | 2024-10-28 | ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス.ピー.エー. | ポリマーの混合物の製造方法 |
| US11414617B2 (en) | 2021-01-13 | 2022-08-16 | Western Digital Technologies, Inc. | Lubricants and methods to determine dewetting thickness thereof |
| US11572520B2 (en) | 2021-03-05 | 2023-02-07 | Western Digital Technologies, Inc. | Low profile lubricants for data storage devices |
| US11572519B2 (en) | 2021-03-05 | 2023-02-07 | Western Digital Technologies, Inc. | High temperature lubricants for magnetic media |
| US12415964B2 (en) | 2024-01-19 | 2025-09-16 | Western Digital Technologies, Inc. | High temperature lubricants for magnetic media having aromatic linker moiety |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63258992A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜潤滑用合成潤滑剤及び磁気記録媒体 |
| JPH0249094A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-19 | Kawasaki Steel Corp | 乾式消火装置を備えたコークス炉の制御方法 |
| JPH02101626A (ja) * | 1988-10-08 | 1990-04-13 | Maruwa Bussan Kk | 磁気記録媒体用潤滑剤 |
| JPH0512655A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Konica Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH08138235A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-05-31 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 |
| JPH08319491A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-03 | Sony Corp | 潤滑剤及び磁気記録媒体 |
| WO1998055464A1 (en) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolyethers and use thereof |
| JP2003217110A (ja) * | 2002-01-22 | 2003-07-31 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクおよび磁気ディスク装置 |
| JP2010248463A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-11-04 | Fujifilm Corp | 潤滑剤組成物、及びその用途 |
| JP2010282707A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Showa Denko HD Singapore Pte Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法、並びに磁気記録再生装置 |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1350806A (en) | 1971-12-03 | 1974-04-24 | Pcr | Trisubstituted triazines |
| US4671999A (en) * | 1983-09-19 | 1987-06-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording media having perfluoropolyether coating |
| US5225549A (en) | 1988-10-08 | 1993-07-06 | Takateru Dekura | Perfluoropolyether lubricants for electromagnetic recording media |
| EP0432273B1 (en) | 1989-06-05 | 1993-12-22 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Refrigerant composition |
| EP0451768A3 (en) * | 1990-04-10 | 1992-01-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic tape |
| JPH06248281A (ja) * | 1993-03-01 | 1994-09-06 | Hitachi Ltd | 潤滑剤とそれを用いた磁気記録媒体 |
| JP3392213B2 (ja) * | 1994-04-19 | 2003-03-31 | 日本メクトロン株式会社 | パーフルオロアルキレンエーテルトリアジンオリゴマーおよびその製造法 |
| EP0786451A4 (en) * | 1994-10-13 | 1998-12-30 | Daikin Ind Ltd | FLUORINATED COMPOUND AND ITS USE |
| KR960019113A (ko) * | 1994-11-07 | 1996-06-17 | 가나이 쯔도무 | 자기 디스크 및 자기 디스크 장치 |
| JPH1027336A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Kubota Corp | 磁気記録媒体 |
| JP4137447B2 (ja) | 1999-09-21 | 2008-08-20 | 株式会社松村石油研究所 | ホスファゼン化合物およびこれを含有する潤滑剤 |
| EP1295934B1 (en) * | 2001-09-25 | 2006-04-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heterocyclic ring-containing compound and a lubricant composition using the same |
| US20030138670A1 (en) * | 2002-01-09 | 2003-07-24 | Seagate Technology Llc | Lubricant for thin film storage media |
| ITMI20020281A1 (it) | 2002-02-14 | 2003-08-14 | Ausimont Spa | Composti fosfazenici ciclici e loro uso come addittivi di oli perfluoropolieterei |
| ITMI20042238A1 (it) | 2004-11-19 | 2005-02-19 | Solvay Solexis Spa | Composti per fluoropolirterei |
| ITMI20050646A1 (it) | 2005-04-14 | 2006-10-15 | Solvay Solexis Spa | Additivi per oli fluorurati |
| US7405296B2 (en) * | 2005-04-14 | 2008-07-29 | Solvay Solexis S.P.A. | Additives for fluorinated oils |
| EP1873162A1 (en) | 2006-06-29 | 2008-01-02 | Solvay Solexis S.p.A. | Cyclic phosphazene compounds |
| US7956020B2 (en) * | 2007-03-29 | 2011-06-07 | Fujifilm Corporation | Lubricant composition, mechanical element, and method for producing triazine derivatives |
| EP2157117B1 (en) * | 2007-05-15 | 2012-04-04 | MORESCO Corporation | Perfluoropolyether compound, and lubricant and magnetic disk each using the same |
| CN101868521A (zh) | 2007-11-19 | 2010-10-20 | 株式会社Moresco | 润滑剂和磁盘 |
| WO2009122988A1 (ja) | 2008-04-02 | 2009-10-08 | 株式会社松村石油研究所 | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク |
| WO2010027096A1 (ja) | 2008-09-05 | 2010-03-11 | 株式会社Moresco | 潤滑剤及び磁気ディスク |
| US8149534B2 (en) * | 2008-11-13 | 2012-04-03 | Seagate Technology Llc | Protective coatings for data storage devices |
| JP2010250929A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-11-04 | Wd Media Singapore Pte Ltd | 磁気ディスク用潤滑剤化合物、磁気ディスク及びその製造方法 |
| JP2011021165A (ja) | 2009-07-21 | 2011-02-03 | Wd Media Singapore Pte Ltd | 磁気ディスク用潤滑剤及び磁気ディスク |
| US8187732B2 (en) | 2009-11-13 | 2012-05-29 | Seagate Technology Llc | Media lubricant for high temperature application |
| US8841008B2 (en) * | 2011-02-28 | 2014-09-23 | Seagate Technology Llc | Lubricant for heat assisted magnetic recording |
-
2011
- 2011-03-31 US US13/077,747 patent/US8685548B2/en active Active
- 2011-06-07 EP EP11867456.3A patent/EP2691499B1/en not_active Not-in-force
- 2011-06-07 WO PCT/US2011/039406 patent/WO2012170009A2/en not_active Ceased
- 2011-06-07 JP JP2014502533A patent/JP5879429B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63258992A (ja) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜潤滑用合成潤滑剤及び磁気記録媒体 |
| JPH0249094A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-19 | Kawasaki Steel Corp | 乾式消火装置を備えたコークス炉の制御方法 |
| JPH02101626A (ja) * | 1988-10-08 | 1990-04-13 | Maruwa Bussan Kk | 磁気記録媒体用潤滑剤 |
| JPH0512655A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Konica Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH08138235A (ja) * | 1994-11-07 | 1996-05-31 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及び磁気ディスク装置 |
| JPH08319491A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-03 | Sony Corp | 潤滑剤及び磁気記録媒体 |
| WO1998055464A1 (en) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolyethers and use thereof |
| JP2003217110A (ja) * | 2002-01-22 | 2003-07-31 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクおよび磁気ディスク装置 |
| JP2010248463A (ja) * | 2009-03-25 | 2010-11-04 | Fujifilm Corp | 潤滑剤組成物、及びその用途 |
| JP2010282707A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Showa Denko HD Singapore Pte Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法、並びに磁気記録再生装置 |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2011136379A1 (ja) * | 2010-04-26 | 2013-07-22 | 株式会社Moresco | シクロホスファゼン化合物、及びこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク |
| JP2017521478A (ja) * | 2014-05-16 | 2017-08-03 | ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ イタリー エス.ピー.エー. | ヒドロキシル置換(パー)フルオロポリエーテル鎖を有する芳香族化合物 |
| US10047317B2 (en) | 2014-11-28 | 2018-08-14 | Moresco Corporation | Fluoropolyether compound, lubricant, magnetic disk, and method for producing same |
| WO2016084781A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 株式会社Moresco | フルオロポリエーテル化合物、潤滑剤、磁気ディスクならびにその製造方法 |
| JPWO2016084781A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2017-09-21 | 株式会社Moresco | フルオロポリエーテル化合物、潤滑剤、磁気ディスクならびにその製造方法 |
| US11292979B2 (en) | 2016-02-22 | 2022-04-05 | Showa Denko K.K. | Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium |
| WO2017145995A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 昭和電工株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 |
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