JP2015145437A - Urethane resin for display buffer layer and resin composition for display buffer layer containing the urethane resin - Google Patents

Urethane resin for display buffer layer and resin composition for display buffer layer containing the urethane resin Download PDF

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JP2015145437A JP2014017663A JP2014017663A JP2015145437A JP 2015145437 A JP2015145437 A JP 2015145437A JP 2014017663 A JP2014017663 A JP 2014017663A JP 2014017663 A JP2014017663 A JP 2014017663A JP 2015145437 A JP2015145437 A JP 2015145437A
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梓平 元藤
Azusahei Motofuji
梓平 元藤
雅司 鳴瀧
Masashi Narutaki
雅司 鳴瀧
卓也 細木
Takuya Hosoki
卓也 細木
真吾 磯部
Shingo Isobe
真吾 磯部
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active energy ray-curable urethane resin for an OCR (optically clear resin), which achieves all of excellent fast curability, storage stability, and application suitability, and an active energy ray-curable resin composition containing the above urethane resin.SOLUTION: A urethane resin (E) for a display buffer layer is obtained by the reaction of the following components and has a number average molecular weight of 3000 to 120000. The components are: (A) a polyether diol having a number average molecular weight of 200 to 10000 and prepared by copolymerizing tetrahydrofuran (a1) and at least one compound (a2) selected from a group consisting of neopentyl glycol, tetrahydrofuran having a specific substituent, oxetane, and oxetane having a specific substituent; (B) a dicarboxylic acid having 2 to 20 carbon atoms; (C) an organic diisocyanate and/or a modified product thereof; and (D) a (meth)acrylate having 4 to 100 carbon atoms and an active hydrogen-containing group.

Description

本発明は、活性エネルギー線照射で硬化し、画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層用として用いられる活性エネルギー線硬化性のウレタン樹脂及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性の樹脂組成物に関する。   The present invention relates to an active energy ray-curable urethane resin that is cured by irradiation with an active energy ray and used as a buffer layer between an image display unit of an image display and a front plate, and an active energy ray curable containing the same. It relates to the resin composition.

現在、液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイ(PDP)等に代表される画像表示ディスプレイは、パソコンやテレビ、タブレット端末、携帯電話まで多くの電子機器に不可欠なものとなっており、画像表示ディスプレイを構成する数多くの光学用材料の需要も大きく伸びている。また、近年パネルサイズの大型化が進み、コントラスト、輝度、高耐熱性、高密着性及び高透明性の更なる向上が望まれている。   Currently, image display displays such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma displays (PDPs) are indispensable for many electronic devices such as personal computers, televisions, tablet terminals, and mobile phones. The demand for a large number of constituent optical materials is also growing significantly. In recent years, the panel size has been increased, and further improvements in contrast, brightness, high heat resistance, high adhesion and high transparency are desired.

一般に、コントラストや輝度の更なる向上の為に、画像表示ユニットと前面板との間を感光性樹脂{OCR:Optically Clear Resin(光学透明樹脂)}で充填し緩衝層とする事が提案されている(例えば特許文献1)。   In general, in order to further improve the contrast and brightness, it is proposed to fill the space between the image display unit and the front plate with a photosensitive resin {OCR: Optically Clear Resin} to form a buffer layer. (For example, Patent Document 1).

該特許文献1では、OCR向けの樹脂として、ポリイソプレン無水マレイン酸付加物の2−ヒドロキシエチルメタクリレートハーフエステル化物(UC−203:クラレ製)等が使用されているが、速硬化性と貯蔵安定性の両立に課題がある。具体的には、反応速度の観点でメタクリレート基よりもアクリレート基の方が好ましいが、このハーフエステル化物中に存在するCOOH基とアクリレート基がマイケル付加を起こしゲル化してしまうため、メタクリレート基を使用せざるを得ない。しかし、メタクリレート基を使用しているためにしばしば硬化不良が発生し、画像表示ディスプレイの作製工程における歩留まり低下が問題となる。一方、アクリレート基を有するウレタン樹脂とする事で、速硬化性と貯蔵安定性の両立が提案されているが(例えば特許文献2)、ウレタン樹脂は一般的にチクソトロピー性が発現するために中・小型ディスプレイ向けには塗工適性が悪化する。   In Patent Document 1, 2-hydroxyethyl methacrylate half esterified product of polyisoprene maleic anhydride adduct (UC-203: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) is used as a resin for OCR. There is a problem in coexistence of sex. Specifically, the acrylate group is preferable to the methacrylate group from the viewpoint of the reaction rate, but the methacrylate group is used because the COOH group and the acrylate group present in the half-esterified product cause Michael addition and gelation occurs. I have to. However, since a methacrylate group is used, poor curing often occurs, resulting in a problem of yield reduction in the image display display manufacturing process. On the other hand, it has been proposed to achieve both fast curability and storage stability by using a urethane resin having an acrylate group (for example, Patent Document 2). However, a urethane resin generally exhibits thixotropic properties. For small displays, the coating suitability deteriorates.

特開2009−186957号公報JP 2009-186957 A 特開2007−182557号公報JP 2007-182557 A

本発明の目的は、優れた速硬化性、貯蔵安定性及び塗工適性の両立が可能なOCR向けの活性エネルギー線硬化性のウレタン樹脂及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性の樹脂組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an active energy ray-curable urethane resin for OCR and an active energy ray-curable resin composition containing the same, which can achieve both excellent quick-curing property, storage stability, and coating suitability. It is to provide.

本発明者らは、上記の目的を達成するべく検討を行った結果、本発明に到達した。即ち本発明は、下記3発明である。
(I) テトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物(a2)とが共重合されてなる数平均分子量が200〜10000であるポリエーテルジオール(A)、炭素数が2〜20であるジカルボン酸(B)、有機ジイソシアネート及び/又はその変性物(C)並びに炭素数が4〜100である活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(D)が反応されてなり、数平均分子量が3000〜120000であるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)。
(II) 上記(I)のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)及び重合開始剤(F)を含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
(III) 上記(I)のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)、又は上記(II)のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化されてなる画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層。
The inventors of the present invention have reached the present invention as a result of studies to achieve the above object. That is, the present invention is the following three inventions.
(I) Tetrahydrofuran (a1), neopentyl glycol, tetrahydrofuran having at least one substituent selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl ether group, oxetane, and hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms A polyether diol having a number average molecular weight of 200 to 10,000 obtained by copolymerization with at least one compound (a2) selected from the group consisting of oxetane having at least one substituent selected from a group and an alkyl ether group (A), a dicarboxylic acid (B) having 2 to 20 carbon atoms, an organic diisocyanate and / or a modified product thereof (C), and a (meth) acrylate having an active hydrogen-containing group having 4 to 100 carbon atoms (D) ) Is reacted, and the display buffer having a number average molecular weight of 3000 to 120,000 Layer urethane resin (E).
(II) The resin composition for display buffer layers containing the urethane resin (E) for display buffer layers of the said (I), and a polymerization initiator (F).
(III) Image display unit and front plate of image display, wherein urethane resin (E) for display buffer layer of (I) or resin composition for display buffer layer of (II) is cured by active energy rays Buffer layer between.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、以下の効果を奏する。
(1)活性エネルギー線の照射による硬化時に、速硬化性を発現する。
(2)貯蔵安定性が良好である。
(3)塗工適性が良好である。
The urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer of the present invention have the following effects.
(1) Expresses fast curability when cured by irradiation with active energy rays.
(2) Storage stability is good.
(3) The coating suitability is good.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂は、テトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物(a2)とが共重合されてなる数平均分子量が200〜10000であるポリエーテルジオール(A)、炭素数が2〜20であるジカルボン酸(B)、有機ジイソシアネート及び/又はその変性物(C)並びに炭素数が4〜100である活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(D)が反応されてなる、数平均分子量が3000〜120000であるウレタン樹脂(E)である。   The urethane resin for display buffer layer of the present invention includes tetrahydrofuran (a1), neopentyl glycol, tetrahydrofuran having at least one substituent selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl ether group, oxetane, and The number average molecular weight formed by copolymerization with at least one compound (a2) selected from the group consisting of oxetane having at least one substituent selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl ether group Polyether diol (A) having 200 to 10,000, dicarboxylic acid (B) having 2 to 20 carbon atoms, organic diisocyanate and / or a modified product thereof (C), and active hydrogen-containing group having 4 to 100 carbon atoms The number average molecular weight obtained by reacting (meth) acrylate (D) having It is a ~120000 is a urethane resin (E).

尚、上記及び以下において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「(メタ)アクリル」と、それぞれ記載することがある。   In the above and the following, when referring to both and / or “acrylate” and “methacrylate”, when referring to “(meth) acrylate” and “acryl” and / or “methacryl”, “(meth) acryl” May be described respectively.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いるポリエーテルジオール(A)は、テトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物(a2)から共重合によって得られるポリエーテルジオールである。   The polyether diol (A) used for the urethane resin for display buffer layer of the present invention is at least one substitution selected from tetrahydrofuran (a1), neopentyl glycol, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl ether group. Copolymerized from at least one compound (a2) selected from the group consisting of tetrahydrofuran having a group, oxetane, and oxetane having at least one substituent selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl ether group Is a polyether diol obtained by

ポリエーテルジオール(A)の数平均分子量は200〜10000であり、好ましくは、1000〜8000である。
本発明における数平均分子量とは、下記条件にて測定されるものである。
装置 : ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒 : テトラヒドロフラン
基準物質 : ポリスチレン
サンプル濃度 : 3mg/ml
カラム固定相 : PLgel MIXED−B
カラム温度 : 40℃
The number average molecular weight of the polyether diol (A) is 200 to 10,000, preferably 1000 to 8,000.
The number average molecular weight in the present invention is measured under the following conditions.
Apparatus: Gel permeation chromatography Solvent: Tetrahydrofuran Reference substance: Polystyrene Sample concentration: 3mg / ml
Column stationary phase: PLgel MIXED-B
Column temperature: 40 ° C

ポリエーテルジオール(A)としては、例えばテトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン、2−メチルオキセタン、2,2−ジメチルオキセタン、2−エチルオキセタン、2,2−ジエチルオキセタン、2−エチルヘキシルオキセタン及び3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシ)エチルオキセタンから選ばれる少なくとも1種の化合物との共重合体等が挙げられる。
これらの中で、破断伸び、貯蔵弾性率及び塗工適性の観点から好ましいものは、テトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、3−メチルテトラヒドロフラン及び2,2−ジメチルオキセタンから選ばれる少なくとも1種との共重合体であり、更に好ましくはテトラヒドロフランとネオペンチルグリコールとの共重合体である。(A)はそれぞれ1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Examples of the polyether diol (A) include tetrahydrofuran (a1), neopentyl glycol, 2-methyltetrahydrofuran, 3-methyltetrahydrofuran, 2,5-dimethyltetrahydrofuran, 2,5-dimethoxytetrahydrofuran, 2-methyloxetane, 2 , 2-dimethyloxetane, 2-ethyloxetane, 2,2-diethyloxetane, 2-ethylhexyloxetane and 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy) ethyloxetane Examples include coalescence.
Among these, preferred from the viewpoint of elongation at break, storage elastic modulus and coating suitability are tetrahydrofuran (a1) and at least one selected from neopentyl glycol, 3-methyltetrahydrofuran and 2,2-dimethyloxetane. More preferably, it is a copolymer of tetrahydrofuran and neopentyl glycol. (A) may be used individually by 1 type, respectively, and may use 2 or more types together.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いる炭素数が2〜20であるジカルボン酸(B)としては、例えばシュウ酸、マロン酸、ジプロピルマロン酸、コハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、アジピン酸、3−メチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2,6,6−テトラメチルピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ペンタデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸及びテレフタル酸等が挙げられる。破断伸び、貯蔵弾性率及び塗工適性の観点から好ましいものは、脂肪族ジカルボン酸であり、更に好ましくはジプロピルマロン酸、2,2−ジメチルコハク酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、3−メチルアジピン酸、ピメリン酸及び2,2,6,6−テトラメチルピメリン酸である。(B)はそれぞれ1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the dicarboxylic acid (B) having 2 to 20 carbon atoms used in the urethane resin for display buffer layer of the present invention include oxalic acid, malonic acid, dipropylmalonic acid, succinic acid, and 2,2-dimethylsuccinic acid, Glutaric acid, 2-methylglutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 3-ethyl-3-methylglutaric acid, adipine Acid, 3-methyladipic acid, pimelic acid, 2,2,6,6-tetramethylpimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, pentadecanedioic acid, tetradecanedioic acid, heptadecanedioic acid , Octadecanedioic acid, nonadecanedioic acid, eicosanedioic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and terephthalic acid. Preferred from the viewpoint of elongation at break, storage elastic modulus and coating suitability are aliphatic dicarboxylic acids, more preferably dipropylmalonic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, glutaric acid, 2-methylglutaric acid, 2 2,2-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 3-ethyl-3-methylglutaric acid, 3-methyladipic acid, pimelic acid and 2, 2,6,6-tetramethylpimelic acid. (B) may be used individually by 1 type, respectively, and may use 2 or more types together.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いる有機ジイソシアネート(C)としては、炭素数が4〜50である化合物が好ましく、脂肪族ジイソシアネート(C1)、炭素数4〜50の脂環式ジイソシアネート(C2)及びこれらの変性物(ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビウレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物)(C3)等が挙げられる。脂肪族ジイソシアネート(C1)としては、例えば1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート及びリジンジイソシアネート等が挙げられ、脂環式ジイソシアネート(C2)としては、例えばイソホロンジイソシアネート、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びノルボルナンジイソシアネート等が挙げられ、(C1)または(C2)の変性物(ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビウレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物)(C3)としては、例えばビウレット変性1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。これらの中で、破断伸び及び貯蔵弾性率の観点からより好ましいものは、炭素数4〜30の脂肪族ジイソシアネート(C1)であり、更に好ましくは2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートである。(C)はそれぞれ1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   As the organic diisocyanate (C) used for the urethane resin for display buffer layer of the present invention, a compound having 4 to 50 carbon atoms is preferred, and aliphatic diisocyanate (C1) and alicyclic diisocyanate (C2) having 4 to 50 carbon atoms. ) And modified products thereof (urethane group, carbodiimide group, allophanate group, urea group, biuret group, isocyanurate group and oxazolidone group-containing modified product) (C3) and the like. Examples of the aliphatic diisocyanate (C1) include 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate, and alicyclic diisocyanate (C2). ), For example, isophorone diisocyanate, 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanate methyl) Cyclohexane, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, norbornane diisocyanate, etc., and modified products of (C1) or (C2) (urethane group, carbodiimi Group, allophanate group, urea group, biuret group, isocyanurate group and oxazolidone group-containing modified product (C3), for example, biuret-modified 1,6-hexamethylene diisocyanate, isocyanurate-modified 1,6-hexamethylene diisocyanate, isocyanate Examples thereof include nurate-modified isophorone diisocyanate. Among these, the aliphatic diisocyanate having 4 to 30 carbon atoms (C1) is more preferable from the viewpoint of elongation at break and storage elastic modulus, and 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate is more preferable. (C) may be used individually by 1 type, respectively, and may use 2 or more types together.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いる、炭素数(化合物として)が4〜100である活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(D)としては、炭素数が5〜100である化合物が好ましく、活性水素基を有する(メタ)アクリレート(D)の活性水素含有基としては、ヒドロキシル基、アミノ基等が挙げられる。
ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート(D1)としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−1−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、炭素数(アルキルアルコール)が1〜24のアルキルアルコールのグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸が反応したエポキシアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリルアミド、2−アクリロキシ−2−ヒドロキシエチルテレフタレート、2−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルテレフタレート、並びにこれらの(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリル酸に炭素数2〜100のアルキレンオキサイドを付加した(メタ)アクリレート等が挙げられる。
アミノ基を有する(メタ)アクリレート(D2)としては、例えばテトラメチルピペリジニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
これらの中で、破断伸び及び貯蔵弾性率の観点からより好ましいものは、炭素数5〜50のヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート(D1)であり、更に好ましくは2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートである。(D)はそれぞれ1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
As the (meth) acrylate (D) having an active hydrogen-containing group having 4 to 100 carbon atoms (as a compound) used in the urethane resin for display buffer layer of the present invention, a compound having 5 to 100 carbon atoms is used. Preferably, examples of the active hydrogen-containing group of the (meth) acrylate (D) having an active hydrogen group include a hydroxyl group and an amino group.
Examples of the (meth) acrylate (D1) having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-1-adamantyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, glycidyl ether of alkyl alcohol having 1 to 24 carbon atoms (alkyl alcohol) and (meth) acrylic acid react Epoxy acrylates, 2-hydroxyethyl acrylamide, 2-acryloxy-2-hydroxyethyl terephthalate, 2-acryloxy-2-hydroxypropyl terephthalate, and their (meth) acrylates and ( Data) obtained by adding an alkylene oxide of 2 to 100 carbon atoms in the acrylic acid (meth) acrylate.
Examples of the (meth) acrylate (D2) having an amino group include tetramethylpiperidinyl (meth) acrylate.
Of these, (meth) acrylate (D1) having a hydroxyl group having 5 to 50 carbon atoms, more preferably 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, is more preferable from the viewpoint of elongation at break and storage modulus. It is. (D) may be used individually by 1 type, respectively, and may use 2 or more types together.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)は、例えば上記ポリエーテルジオール(A)と上記ジカルボン酸(B)を反応させた末端水酸基のポリエステル樹脂を作製した後、有機ジイソシアネート(C)を反応させたプレポリマーを作製し、更に活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(D)を反応させることで製造でき、製造方法は限定されない。必要により、エステル化触媒及びウレタン化触媒等の触媒を用いてもよい。   The urethane resin (E) for display buffer layer of the present invention is prepared by, for example, producing a polyester resin having a terminal hydroxyl group obtained by reacting the polyether diol (A) and the dicarboxylic acid (B), and then reacting the organic diisocyanate (C). It can manufacture by making the prepolymer made to make it react, and also (meth) acrylate (D) which has an active hydrogen containing group, and a manufacturing method is not limited. If necessary, a catalyst such as an esterification catalyst and a urethanization catalyst may be used.

上記ウレタン樹脂(E)の数平均分子量としては3000〜120000である事が好ましく、より好ましくは4000〜50000である。   The number average molecular weight of the urethane resin (E) is preferably 3000 to 120,000, more preferably 4000 to 50000.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、上記ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)と重合開始剤(F)を含有する。(F)を含有すると、活性エネルギー線による硬化性が、より良好となる。   The resin composition for display buffer layer of the present invention contains the urethane resin (E) for display buffer layer and a polymerization initiator (F). When (F) is contained, the curability by an active energy ray becomes better.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物に用いるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)は、破断伸び及び貯蔵弾性率の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは1〜90重量%、更に好ましくは2〜80重量%である。
また、ウレタン樹脂(E)と重合開始剤(F)の合計重量に対する(E)の含有量は、好ましくは70〜99.9重量%、好ましくは80〜99.5重量%である。
The urethane resin (E) for display buffer layer used in the resin composition for display buffer layer of the present invention is preferably 1 to 4 based on the weight of the resin composition for display buffer layer from the viewpoint of elongation at break and storage elastic modulus. 90% by weight, more preferably 2 to 80% by weight.
Moreover, content of (E) with respect to the total weight of a urethane resin (E) and a polymerization initiator (F) becomes like this. Preferably it is 70-99.9 weight%, Preferably it is 80-99.5 weight%.

(E)のウレタン基濃度としてはチクソトロピックインデックスの観点から、0.004mmol/g〜0.30mmol/gが好ましく、より好ましくは0.005mmol/g〜0.20mmol/gであり、更に好ましくは0.008mmol/g〜0.15mmol/gである。更に、保存安定性の観点から(E)の含水率は、0.10重量%以下が好ましく、より好ましくは0.05重量%以下である。
尚、本発明におけるウレタン基濃度は、(E)の元素分析値から下記算出式にて算出した値である。
[活性水素基を有する(メタ)アクリレート(D)がヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート(D1)の場合]
ウレタン基濃度[mmol/g]=(試料1gに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のmmol数)
[活性水素基を有する(メタ)アクリレート(D)がアミノ基を有する(メタ)アクリレート(D2)の場合]
ウレタン基濃度[mmol/g]=(試料1gに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のmmol数)*{IR測定によるウレタン基のC=O伸縮(1690cm-1)ピーク面積/(IR測定によるウレタン基のC=O伸縮(1690cm-1)ピーク面積+IR測定によるアミド基のC=O伸縮(1650cm-1)ピーク面積)}
The urethane group concentration of (E) is preferably 0.004 mmol / g to 0.30 mmol / g, more preferably 0.005 mmol / g to 0.20 mmol / g, and still more preferably from the viewpoint of a thixotropic index. 0.008 mmol / g to 0.15 mmol / g. Furthermore, from the viewpoint of storage stability, the water content of (E) is preferably 0.10% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less.
In addition, the urethane group density | concentration in this invention is the value computed by the following formula from the elemental analysis value of (E).
[When (Meth) acrylate (D) having an active hydrogen group is (Meth) acrylate (D1) having a hydroxyl group]
Urethane group concentration [mmol / g] = (mmol number of ammonia molecules generated when sodium hydroxide was added to 1 g of sample and heated)
[When (meth) acrylate (D) having an active hydrogen group is (meth) acrylate (D2) having an amino group]
Urethane group concentration [mmol / g] = (mmol number of ammonia molecules generated when sodium hydroxide was added to 1 g of sample and heated) * {C = O stretch (1690 cm −1 ) peak area / urethane group by IR measurement / (C = O stretching (1690 cm −1 ) peak area of urethane group by IR measurement + C═O stretching (1650 cm −1 ) peak area of amide group by IR measurement)}

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物に用いる、重合開始剤(F)としては、例えばアシルホスフィンオキサイド骨格を有する重合開始剤(F1)、α−アミノアセトフェノン骨格を有する重合開始剤(F2)、ベンジルケタール骨格を有する重合開始剤(F3)、α−ヒドロキシアセトフェノン骨格を有する重合開始剤(F4)、ベンゾイン骨格を有する重合開始剤(F5)、オキシムエステル骨格を有する重合開始剤(F6)、チタノセン骨格を有する重合開始剤(F7)及びその他のラジカル開始剤(F8)が挙げられる。(F)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the polymerization initiator (F) used in the display buffer layer resin composition of the present invention include a polymerization initiator (F1) having an acylphosphine oxide skeleton, a polymerization initiator (F2) having an α-aminoacetophenone skeleton, Polymerization initiator (F3) having a benzyl ketal skeleton, polymerization initiator (F4) having an α-hydroxyacetophenone skeleton, polymerization initiator (F5) having a benzoin skeleton, polymerization initiator (F6) having an oxime ester skeleton, titanocene Examples thereof include a polymerization initiator (F7) having a skeleton and other radical initiators (F8). (F) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

アシルホスフィンオキサイド骨格を有する重合開始剤(F1)としては、例えば2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド[BASF社製(ルシリン TPO)]及びビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド[BASF社製(イルガキュア 819)]が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator (F1) having an acylphosphine oxide skeleton include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide [manufactured by BASF (Lucirin TPO)] and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl). -Phenylphosphine oxide [manufactured by BASF (Irgacure 819)].

α−アミノアセトフェノン骨格を有する重合開始剤(F2)としては、例えば2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン[BASF社製(イルガキュア 907)]、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン[BASF社製(イルガキュア 369)]及び1,2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン[BASF社製(イルガキュア 379)]が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator (F2) having an α-aminoacetophenone skeleton include 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one [manufactured by BASF (Irgacure 907)], 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone [manufactured by BASF (Irgacure 369)] and 1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1 -[4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone [manufactured by BASF (Irgacure 379)].

ベンジルケタール骨格を有する重合開始剤(F3)としては、例えば2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン[BASF社製(イルガキュア 651)]が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator (F3) having a benzyl ketal skeleton include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one [manufactured by BASF (Irgacure 651)].

α−ヒドロキシアセトフェノン骨格を有する重合開始剤(F4)としては、例えば1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン[BASF社製(イルガキュア 184)]、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン[BASF社製(ダロキュア 1173)]、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン[BASF社製(イルガキュア 2959)]及び2−ヒロドキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン[BASF社製(イルガキュア 127)]が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator (F4) having an α-hydroxyacetophenone skeleton include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone [manufactured by BASF (Irgacure 184)], 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- 1-one [manufactured by BASF (Darocur 1173)], 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one [manufactured by BASF (Irgacure 2959) )] And 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one [manufactured by BASF (Irgacure 127)] Is mentioned.

ベンゾイン骨格を有する重合開始剤(F5)としては、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。   Examples of the polymerization initiator (F5) having a benzoin skeleton include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether.

オキシムエステル骨格を有する重合開始剤(F6)としては、例えば1,2−オクタンジオン−1−(4−[フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)][BASF社製(イルガキュア OXE 01)]及びエタノン−1−(9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)[BASF社製(イルガキュア OXE 02)]が挙げられる。   As the polymerization initiator (F6) having an oxime ester skeleton, for example, 1,2-octanedione-1- (4- [phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)] [manufactured by BASF (Irgacure OXE 01)] And ethanone-1- (9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) [manufactured by BASF (Irgacure OXE 02)].

チタノセン骨格を有する重合開始剤(F7)としては、例えばビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム[BASF社製(イルガキュア 784)]が挙げられる。   As the polymerization initiator (F7) having a titanocene skeleton, for example, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl)- Phenyl) titanium [manufactured by BASF (Irgacure 784)].

その他の重合開始剤(F8)としては、例えば2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタンが挙げられる。   Examples of the other polymerization initiator (F8) include 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane.

上記重合開始剤(F)の中で、速硬化性の観点から好ましいのは、アシルホスフィンオキサイド骨格を有する重合開始剤(F1)及びα−ヒドロキシアセトフェノン骨格を有する重合開始剤(F4)である。   Among the polymerization initiators (F), the polymerization initiator (F1) having an acylphosphine oxide skeleton and the polymerization initiator (F4) having an α-hydroxyacetophenone skeleton are preferable from the viewpoint of fast curability.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中の重合開始剤(F)の含有量は、速硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは0.05〜30重量%、更に好ましくは0.1〜10重量%である。   The content of the polymerization initiator (F) in the display buffer layer resin composition of the present invention is preferably 0.05 to 30 based on the weight of the display buffer layer resin composition from the viewpoint of fast curing. % By weight, more preferably 0.1 to 10% by weight.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要により酸発生剤(G)を含有することができる。 酸発生剤(G)としては、例えば活性エネルギー線により酸を発生させる活性エネルギー線酸発生剤(G1)及び熱により酸を発生させる熱酸発生剤(G2)が挙げられる。(G)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   The display buffer layer resin composition of the present invention may contain an acid generator (G) as necessary. Examples of the acid generator (G) include an active energy ray acid generator (G1) that generates an acid by active energy rays and a thermal acid generator (G2) that generates an acid by heat. (G) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

活性エネルギー線により酸を発生する活性エネルギー線酸発生剤(G1)としては、例えばスルホニウム塩(G11)及びヨードニウム塩(G12)が挙げられる。   Examples of the active energy ray acid generator (G1) that generates an acid by active energy rays include a sulfonium salt (G11) and an iodonium salt (G12).

スルホニウム塩(G11)としては、例えば、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ−p−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート[和光純薬工業(株)製「WPAG−281H]、トリ−p−トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、[p−(フェニルメルカプト)フェニル]ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート[サンアプロ(株)製「CPI−100P]及び[p−(フェニルメルカプト)フェニル]ジフェニルスルホニウム[トリ(パーフルオロエチル)]トリフルオロホスフェート等が挙げられる。   Examples of the sulfonium salt (G11) include triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium bromide, tri-p-tolylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate [manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. WPAG-281H], tri-p-tolylsulfonium trifluoromethanesulfonate, [p- (phenylmercapto) phenyl] diphenylsulfonium hexafluorophosphate ["CPI-100P" and [p- (phenylmercapto) phenyl manufactured by San Apro Co., Ltd.] ] Diphenylsulfonium [tri (perfluoroethyl)] trifluorophosphate and the like.

ヨードニウム塩(G12)としては、例えば、ヨードニウム(4−メチルフェニル){4−(2−メチルプロピル)フェニル}−ヘキサフルオロホスフェート[BASF社製(IRGACURE 250)]、ヨードニウム[ビス(4−t−ブチルフェニル)]ヘキサフルオロホスフェート、ヨードニウム[ビス(4−t−ブチルフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート、ヨードニウム[ビス(4−メトキシフェニル)]トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート、ヨードニウム[ビス(4−メトキシフェニル)][テトラキス(パーフルフェニル)]ボレート及び下記化学式(1)で表される化合物等が挙げられる。   Examples of the iodonium salt (G12) include iodonium (4-methylphenyl) {4- (2-methylpropyl) phenyl} -hexafluorophosphate [manufactured by BASF (IRGACURE 250)], iodonium [bis (4-t- Butylphenyl)] hexafluorophosphate, iodonium [bis (4-t-butylphenyl)] trifluoro [tris (perfluoroethyl)] phosphate, iodonium [bis (4-methoxyphenyl)] trifluoro [tris (perfluoroethyl) )] Phosphate, iodonium [bis (4-methoxyphenyl)] [tetrakis (perfulphenyl)] borate, and a compound represented by the following chemical formula (1).

Figure 2015145437
Figure 2015145437

これらの内、速硬化性の観点からヨードニウム塩(G12)が好ましく、化学式(3)で表される化合物がより好ましい。   Among these, an iodonium salt (G12) is preferable from the viewpoint of fast curability, and a compound represented by the chemical formula (3) is more preferable.

熱により酸を発生させる熱酸発生剤(G2)としては、例えば、スルホニウム塩(G21)、ヨードニウム塩(G22)、ベンゾチアゾニウム塩(G23)、アンモニウム塩(G24)、ホスホニウム塩(G25)等のオニウム塩等が挙げられる。ただし、(G1)で挙げられた化合物は除外する。   Examples of the thermal acid generator (G2) that generates an acid by heat include a sulfonium salt (G21), an iodonium salt (G22), a benzothiazonium salt (G23), an ammonium salt (G24), and a phosphonium salt (G25). And onium salts. However, the compounds mentioned in (G1) are excluded.

スルホニウム塩(G21)としては、例えば、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、(4−ヒドロキシフェニル)(2−メチルベンジル)メチルスルホニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、(4−ヒドロキシフェニル)ベンジルメチルスルホニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、(4−ヒドロキシフェニル)(2−メチルベンジル)メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、(4−ヒドロキシフェニル)ベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、(4−ヒドロキシフェニル)(4−メチルベンジル)メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、(4−ヒドロキシフェニル)(2−メチルベンジル)メチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、(4−ヒドロキシフェニル)ベンジルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、(4−ヒドロキシフェニル)(4−メチルベンジル)メチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、(4−アセトフェニル)ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、(4−ベンジルオキシカルボニルオキシフェニル)ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、(4−ベンゾイルオキシフェニル)ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、(4−アセトキシフェニル)ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート及び(4−ベンゾイルオキシフェニル)ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート等が挙げられる。   Examples of the sulfonium salt (G21) include (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, (4-hydroxyphenyl) (2-methylbenzyl) methylsulfonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, (4 -Hydroxyphenyl) benzylmethylsulfonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium hexafluorophosphate, (4-hydroxyphenyl) (2-methylbenzyl) methylsulfonium hexafluorophosphate, (4-hydroxyphenyl) ) Benzylmethylsulfonium hexafluorophosphate, (4-hydroxyphenyl) (4-methylbenzyl) methylsulfonium hexafur Orophosphate, (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, (4-hydroxyphenyl) (2-methylbenzyl) methylsulfonium trifluoromethanesulfonate, (4-hydroxyphenyl) benzylmethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, ( 4-hydroxyphenyl) (4-methylbenzyl) methylsulfonium trifluoromethanesulfonate, (4-acetophenyl) dimethylsulfonium hexafluoroantimonate, (4-benzyloxycarbonyloxyphenyl) dimethylsulfonium hexafluoroantimonate, (4- Benzoyloxyphenyl) dimethylsulfonium hexafluoroantimonate, (4-acetoxyphenyl) dimethyls Examples include rufonium hexafluoroarsenate and (4-benzoyloxyphenyl) dimethylsulfonium hexafluoroarsenate.

ヨードニウム塩(G22)としては、例えば、ジフェニルヨードニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド及び(p−ニトロフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。   Examples of the iodonium salt (G22) include diphenyliodonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide and (p-nitrophenyl) phenyliodonium hexafluorophosphate.

ベンゾチアゾニウム塩(G23)としては、例えば、3−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、3−(4−メトキシベンジル)ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、2−メチルスルファニル−3−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、5−クロロ−3−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート;3−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート;3−ベンジルベンゾチアゾニウム テトラフルオロボレート等が挙げられる。   Examples of the benzothiazonium salt (G23) include 3-benzylbenzothiazonium hexafluoroantimonate, 3- (4-methoxybenzyl) benzothiazonium hexafluoroantimonate, 2-methylsulfanyl-3-benzyl. Benzothiazonium hexafluoroantimonate, 5-chloro-3-benzylbenzothiazonium hexafluoroantimonate; 3-benzylbenzothiazonium hexafluorophosphate; 3-benzylbenzothiazonium tetrafluoroborate .

アンモニウム塩(G24)としては、例えば、テトラメチルアンモニウムブチルトリス(2,6−ジフルオロフェニル)ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス(p−クロロフェニル)ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス(3−トリフルオロメチルフェニル)ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス(2,6−ジフルオロフェニル)ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス(p−クロロフェニル)ボレート及びベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス(3−トリフルオロメチルフェニル)ボレート等が挙げられる。   Examples of the ammonium salt (G24) include tetramethylammonium butyltris (2,6-difluorophenyl) borate, tetramethylammonium hexyltris (p-chlorophenyl) borate, tetramethylammonium hexyltris (3-trifluoromethylphenyl) Examples include borate, benzyldimethylphenylammonium butyltris (2,6-difluorophenyl) borate, benzyldimethylphenylammonium hexyltris (p-chlorophenyl) borate, and benzyldimethylphenylammonium hexyltris (3-trifluoromethylphenyl) borate. .

ホスホニウム塩(G25)としては、例えば、(4−メチルフェニル)ジフェニルホスホニウムトリフレート等が挙げられる。   Examples of the phosphonium salt (G25) include (4-methylphenyl) diphenylphosphonium triflate.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中の酸発生剤(G)の含有量は、速硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは0〜30重量%、更に好ましくは0.05〜25重量%、特に好ましくは0.1〜20重量%である。   The content of the acid generator (G) in the display buffer layer resin composition of the present invention is preferably 0 to 30% by weight, based on the weight of the display buffer layer resin composition, from the viewpoint of fast curing. More preferably, it is 0.05 to 25% by weight, and particularly preferably 0.1 to 20% by weight.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要により熱ラジカル開始剤(H)を含有することができる。熱ラジカル開始剤(H)としては、例えば有機過酸化物重合開始剤(H1)及びアゾ化合物重合開始剤(H2)が挙げられる。(H)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   The display buffer layer resin composition of the present invention may contain a thermal radical initiator (H) if necessary. Examples of the thermal radical initiator (H) include an organic peroxide polymerization initiator (H1) and an azo compound polymerization initiator (H2). (H) may be used alone or in combination of two or more.

有機過酸化物重合開始剤(H1)としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、2,2−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ−(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、2,5,−ジメチル−2,5,−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3,−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド及びt−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドが挙げられる。   Examples of the organic peroxide polymerization initiator (H1) include benzoyl peroxide, t-butyl peroxyacetate, 2,2-di- (t-butylperoxy) butane, t-butyl peroxybenzoate, and n-butyl. 4,4-di- (t-butylperoxy) valerate, di- (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5, -dimethyl-2 , 5, -di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, 1,1,3,3 -Tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butylhydride Peroxide and t- butyl trimethylsilyl peroxide.

アゾ化合物重合開始剤(H2)としては、例えばアゾビスイソブチロニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)及び2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)が挙げられる。   Examples of the azo compound polymerization initiator (H2) include azobisisobutyronitrile, 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 2,2′-azobis (N-butyl-2-methyl). Propionamide), 2,2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide) and 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane).

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中の重合開始剤(H)の含有量は、熱硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは0〜20重量%、更に好ましくは0.05〜10重量%である。   The content of the polymerization initiator (H) in the display buffer layer resin composition of the present invention is preferably 0 to 20% by weight based on the weight of the display buffer layer resin composition from the viewpoint of thermosetting. More preferably, it is 0.05 to 10% by weight.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要によりラジカル重合性化合物(I)を含有することができ、ラジカル重合性化合物(I)として例えば、炭素数3〜35の(メタ)アクリルアミド化合物(I1)、炭素数4〜35の(メタ)アクリレート化合物(I2)、炭素数6〜35の芳香族ビニル化合物(I3)、炭素数3〜35のビニルエーテル化合物(I4)及びその他のラジカル重合性化合物(I5)が挙げられる。(I)は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   The display buffer layer resin composition of the present invention can contain a radically polymerizable compound (I) as necessary, and examples of the radically polymerizable compound (I) include (meth) acrylamide compounds having 3 to 35 carbon atoms ( I1), C4-C35 (meth) acrylate compound (I2), C6-C35 aromatic vinyl compound (I3), C3-C35 vinyl ether compound (I4), and other radical polymerizable compounds (I5). (I) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

炭素数3〜35の(メタ)アクリルアミド化合物(I1)としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド及びN,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリロイルモルフォリン以外のものなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylamide compound (I1) having 3 to 35 carbon atoms include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N- n-butyl (meth) acrylamide, Nt-butyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) ) Other than (meth) acryloylmorpholine such as acrylamide and N, N-diethyl (meth) acrylamide.

炭素数4〜35の(メタ)アクリレート化合物(I2)としては、例えば以下の単官能〜六官能の(メタ)アクリレートが挙げられる。
尚、上記「単官能〜六官能の(メタ)アクリレート」とは、(メタ)アクリロイル基の数が1〜6個の(メタ)アクリレートを意味し、以下同様の記載法を用いる。
単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、tert−オクチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−n−ブチルシクロへキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルジグリコール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−クロロエチル(メタ)アクリレート、4−ブロモブチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、ブトキシメチル(メタ)アクリレート、メトキシプロピレンモノ(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、アルコキシメチル(メタ)アクリレート、2−エチルへキシルカルビトール(メタ)アクリレート、アルコキシエチル(メタ)アクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、2,2,2−テトラフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシル(メタ)アクリレート、4−ブチルフェニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2,4,5−テトラメチルフェニル(メタ)アクリレート、4−クロロフェニル(メタ)アクリレート、フェノキシメチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジロキシブチル(メタ)アクリレート、グリシジロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジロキシプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、トリメトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、トリメトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、トリメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイド(メタ)アクリレート、オリゴエチレンオキサイド(メタ)アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、オリゴプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル(メタ)アクリレート、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート、パーフロロオクチルエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド(以下、EOと記載)変性フェノール(メタ)アクリレート、EO変性クレゾール(メタ)アクリレート、EO変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド(以下、POと記載)変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート及びEO変性−2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等のビニルエーテル基及び/又はアリルエーテル基を有しないものなどが挙げられる。
Examples of the (meth) acrylate compound (I2) having 4 to 35 carbon atoms include the following monofunctional to hexafunctional (meth) acrylates.
The “monofunctional to hexafunctional (meth) acrylate” means a (meth) acrylate having 1 to 6 (meth) acryloyl groups, and the same description method is used hereinafter.
Examples of the monofunctional (meth) acrylate include ethyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, tert-octyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, and decyl (meth) acrylate. , Isodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 4-n-butylcyclohexyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, Benzyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl diglycol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, 4-bromobutyl ( ) Acrylate, cyanoethyl (meth) acrylate, butoxymethyl (meth) acrylate, methoxypropylene mono (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, alkoxymethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth) ) Acrylate, alkoxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2,2,2-tetrafluoroethyl (meth) Acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyl (meth) acrylate, 4-butylphenyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2,4,5-tetramethylphenyl (meth) acrylate, 4-chloro Enyl (meth) acrylate, phenoxymethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, glycidyloxybutyl (meth) acrylate, glycidyloxyethyl (meth) acrylate, glycidyloxypropyl (meth) ) Acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminopropylene (Meth) acrylate, diethylaminopropyl (meth) acrylate, trimethoxysilylpropyl (meth) acrylate, trimethoxysilylpropyl (meth) acrylate, trimethylsilylpropyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, polyethylene oxide Monomethyl ether (meth) acrylate, oligoethylene oxide monomethyl ether (meth) acrylate, polyethylene oxide (meth) acrylate, oligoethylene oxide (meth) acrylate, oligoethylene oxide monoalkyl ether (meth) acrylate, polyethylene oxide monoalkyl ether (meta ) Acrylate, dipropylene glycol (meth) acrylate, polypropylene Xoxide monoalkyl ether (meth) acrylate, oligopropylene oxide monoalkyl ether (meth) acrylate, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyhexahydrophthalic acid, butoxydiethylene glycol (meth) acrylate, trifluoroethyl (Meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, ethylene oxide (hereinafter referred to as EO) modified phenol (meth) acrylate, EO modified cresol (meth) acrylate , EO-modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide (hereinafter referred to as PO) modified nonylphenol (meth) acrylate and EO-modified-2-ethylhexyl (Meth) which does not have vinyl ether groups and / or allyl ether groups, such as acrylate.

二官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、1,4−ブタンジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2,4−ジメチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、EO変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFポリエトキシジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート及びトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the bifunctional (meth) acrylate include 1,4-butanedi (meth) acrylate, 1,6-hexanedi (meth) acrylate, polypropylene di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, neopentyl di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2,4-dimethyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, butylethylpropanediol di (Meth) acrylate, ethoxylated cyclohexanemethanol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, oligoethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-ethyl-2- Cyl-butanediol di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, EO-modified bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol F polyethoxydi (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, oligopropylene Glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 2-ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonane (meth) acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, etc. are mentioned.

三官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ((メタ)アクリロイルオキシプロピル)エーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリ((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数2〜4のアルキレンオキサイド1〜30モル付加物のトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the trifunctional (meth) acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane alkylene oxide-modified tri (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate. , Dipentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ((meth) acryloyloxypropyl) ether, isocyanuric acid alkylene oxide modified tri (meth) acrylate, propionate dipentaerythritol tri (meth) acrylate, tri ( (Meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, hydroxypivalaldehyde-modified dimethylolpropane tri (meth) acrylate, sorbitol tri (meth) a Relate, tri (meth) having 2 to 4 alkylene oxide 30-mole adduct of carbon atoms of the pentaerythritol acrylate, ethoxylated glycerin tri (meth) acrylate.

四官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート及びペンタエリスリトールの炭素数2〜4のアルキレンオキサイド1〜30モル付加物のテトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of tetrafunctional (meth) acrylates include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol propionate. Examples include tetra (meth) acrylates and tetra (meth) acrylates of 1 to 30 mol adducts of alkylene oxides having 2 to 4 carbon atoms of pentaerythritol and pentaerythritol.

五官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of pentafunctional (meth) acrylates include sorbitol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate.

六官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ(メタ)アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of hexafunctional (meth) acrylates include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, sorbitol hexa (meth) acrylate, phosphazene alkylene oxide-modified hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Is mentioned.

炭素数6〜35の芳香族ビニル化合物(I3)としては、例えば、ビニルチオフェン、ビニルフラン、ビニルピリジン、スチレン、メチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、3−エチルスチレン、4−エチルスチレン、3−プロピルスチレン、4−プロピルスチレン、3−ブチルスチレン、4−ブチルスチレン、3−ヘキシルスチレン、4−ヘキシルスチレン、3−オクチルスチレン、4−オクチルスチレン、3−(2−エチルヘキシル)スチレン、4−(2−エチルヘキシル)スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、4−t−ブトキシカルボニルスチレン、4−メトキシスチレン及び4−t−ブトキシスチレン等が挙げられる。   Examples of the aromatic vinyl compound (I3) having 6 to 35 carbon atoms include vinyl thiophene, vinyl furan, vinyl pyridine, styrene, methyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, and acetoxy styrene. , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, vinyl benzoic acid methyl ester, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 3-ethylstyrene, 4-ethylstyrene, 3-propylstyrene, 4-propylstyrene, 3-butyl Styrene, 4-butylstyrene, 3-hexylstyrene, 4-hexylstyrene, 3-octylstyrene, 4-octylstyrene, 3- (2-ethylhexyl) styrene, 4- (2-ethylhexyl) styrene, allyl styrene Emissions, isopropenyl styrene, butenylstyrene, octenyl styrene, 4-t-butoxycarbonyl styrene, 4-methoxystyrene and 4-t-butoxystyrene, and the like.

炭素数3〜35のビニルエーテル化合物(I4)としては、例えば以下の単官能又は多官能ビニルエーテルが挙げられる。
尚、上記「単官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が1個の、「多官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が2個以上の、それぞれビニルエーテル化合物を意味する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、n−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテルが挙げられる。
As a C3-C35 vinyl ether compound (I4), the following monofunctional or polyfunctional vinyl ether is mentioned, for example.
The “monofunctional vinyl ether” means a vinyl ether compound having one vinyl group, and the “polyfunctional vinyl ether” means two or more vinyl groups.
Examples of the monofunctional vinyl ether include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4-methyl Cyclohexylmethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl ether , Tetrahydrofurfuryl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexyl methyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloroethoxy Examples include ethyl vinyl ether, phenyl ethyl vinyl ether, and phenoxy polyethylene glycol vinyl ether.

多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイドジビニルエーテル等のジビニルエーテル類;トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、EO付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、PO付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、EO付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、PO付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、EO付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、PO付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、EO付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びPO付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルが挙げられる。   Examples of the polyfunctional vinyl ether include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, butylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, bisphenol F alkylene oxide divinyl ether. Divinyl ethers such as: trimethylolethane trivinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl Ether, EO-added trimethylolpropane trivinyl ether, PO-added trimethylolpropane trivinyl ether, EO-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, PO-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, EO-added pentaerythritol tetravinyl ether, PO-added pentaerythritol tetravinyl ether, EO addition Examples thereof include dipentaerythritol hexavinyl ether and PO-added dipentaerythritol hexavinyl ether.

その他のラジカル重合性化合物(I5)としては、例えば、アクリロニトリル、脂肪族ビニルエステル化合物(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及びバーサチック酸ビニル等)、脂肪族アリルエステル化合物(酢酸アリル等)、ハロゲン含有単量体(塩化ビニリデン及び塩化ビニル等)及びオレフィン化合物(エチレン及びプロピレン等)等の芳香族エステル化合物以外のものなどが挙げられる。   Other radical polymerizable compounds (I5) include, for example, acrylonitrile, aliphatic vinyl ester compounds (such as vinyl acetate, vinyl propionate and vinyl versatate), aliphatic allyl ester compounds (such as allyl acetate), and halogen-containing single quantities. Other than aromatic ester compounds such as isomers (vinylidene chloride, vinyl chloride, etc.) and olefin compounds (ethylene, propylene, etc.).

これらの内、速硬化性の観点から好ましいのは、炭素数3〜35の(メタ)アクリルアミド化合物(I1)、炭素数4〜35の(メタ)アクリレート化合物(I2)、炭素数6〜35の芳香族ビニル化合物(I3)及び炭素数3〜35のビニルエーテル化合物(I4)であり、更に好ましいのは炭素数3〜35の(メタ)アクリルアミド化合物(I1)及び炭素数4〜35の(メタ)アクリレート化合物(I2)である。   Among these, from the viewpoint of fast curability, (meth) acrylamide compound (I1) having 3 to 35 carbon atoms, (meth) acrylate compound (I2) having 4 to 35 carbon atoms, and 6 to 35 carbon atoms are preferable. The aromatic vinyl compound (I3) and the vinyl ether compound (I4) having 3 to 35 carbon atoms, more preferably the (meth) acrylamide compound (I1) having 3 to 35 carbon atoms and the (meth) having 4 to 35 carbon atoms. Acrylate compound (I2).

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中のラジカル重合性化合物(I)の含有量は、速硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは0〜80重量%、更に好ましくは1〜50重量%である。   The content of the radical polymerizable compound (I) in the resin composition for a display buffer layer according to the present invention is preferably 0 to 80 weight based on the weight of the resin composition for a display buffer layer from the viewpoint of fast curing. %, More preferably 1 to 50% by weight.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要により溶剤、増感剤、密着性付与剤(シランカップリング剤等)、レベリング剤及び重合禁止剤等を含有することができる。   The resin composition for a display buffer layer of the present invention can contain a solvent, a sensitizer, an adhesion-imparting agent (such as a silane coupling agent), a leveling agent, a polymerization inhibitor, and the like as necessary.

溶剤としては、例えば、グリコールエーテル(エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等)、エステル(エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等)、芳香族炭化水素(トルエン、キシレン、メシチレン及びリモネン等)、アルコール(メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等)及びエーテル(テトラヒドロフラン及び1,8−シネオール等)等が挙げられる。これらは、1種を単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
溶剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として0〜96重量%であることが好ましく、更に好ましくは3〜95重量%、特に好ましくは5〜90重量%である。
Examples of the solvent include glycol ether (ethylene glycol monoalkyl ether and propylene glycol monoalkyl ether), ketone (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ester (ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol alkyl ether acetate). And propylene glycol alkyl ether acetate), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, mesitylene, limonene, etc.), alcohols (methanol, ethanol, normal propanol, isopropanol, butanol, geraniol, linalool, citronellol, etc.) and ethers (tetrahydrofuran and 1 , 8-cineole, etc.). These may be used alone or in combination of two or more.
The content of the solvent is preferably 0 to 96% by weight, more preferably 3 to 95% by weight, and particularly preferably 5 to 90% by weight based on the weight of the display buffer layer resin composition.

増感剤としては、例えば、ケトクマリン、フルオレン、チオキサントン、アントラキノン、ナフチアゾリン、ビアセチル、ベンジル及びこれらの誘導体、ペリレン並びに置換アントラセン等が挙げられる。増感剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として0〜20重量%が好ましく、更に好ましくは1〜15重量%、特に好ましくは5〜10重量%である。   Examples of the sensitizer include ketocoumarin, fluorene, thioxanthone, anthraquinone, naphthiazoline, biacetyl, benzyl and derivatives thereof, perylene, and substituted anthracene. The content of the sensitizer is preferably 0 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight, and particularly preferably 5 to 10% by weight based on the weight of the resin composition for display buffer layer.

密着性付与剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス(アセチルアセトネート)アルミニウム及びアセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、テルペン系樹脂、水素添加テルペン樹脂等が挙げられる。密着性付与剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として0〜50重量%が好ましく、更に好ましくは1〜40重量%、特に好ましくは5〜25重量%である。   Examples of the adhesion-imparting agent include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, urea Examples thereof include propyltriethoxysilane, tris (acetylacetonate) aluminum and acetylacetate aluminum diisopropylate, terpene resin, and hydrogenated terpene resin. The content of the adhesion-imparting agent is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight, and particularly preferably 5 to 25% by weight, based on the weight of the display buffer layer resin composition.

レベリング剤としては、例えば、フッ素系のレベリング剤(パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等)、シリコーン系のレベリング剤(アミノポリエーテル変性シリコーン、メトキシ変性シリコーン及びポリエーテル変性シリコーン等)が挙げられる。レベリング剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、添加効果及び透明性の観点から好ましくは2重量%以下、更に好ましくは0.05〜1重量%、特に好ましくは0.1〜0.5重量%である。   Examples of the leveling agent include fluorine-based leveling agents (perfluoroalkylethylene oxide adducts, etc.) and silicone-based leveling agents (amino polyether-modified silicone, methoxy-modified silicone, polyether-modified silicone, etc.). The content of the leveling agent is preferably 2% by weight or less, more preferably 0.05 to 1% by weight, particularly preferably 0 based on the weight of the resin composition for display buffer layer, from the viewpoint of the effect of addition and transparency. .1 to 0.5% by weight.

重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン及びメチルエーテルハイドロキノン類等が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として0〜1重量%が好ましく、更に好ましくは0〜0.1重量%である。   Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone and methyl ether hydroquinone. The content of the polymerization inhibitor is preferably 0 to 1% by weight, more preferably 0 to 0.1% by weight, based on the weight of the display buffer layer resin composition.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、更に、使用目的に合わせて、無機微粒子、分散剤、消泡剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤、可塑剤(ポリブタジエン等)及び紫外線吸収剤等を含有することができる。   The resin composition for a display buffer layer of the present invention further comprises inorganic fine particles, a dispersant, an antifoaming agent, a thixotropic agent, a slip agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antioxidant, a plastic, depending on the purpose of use. An agent (such as polybutadiene) and an ultraviolet absorber can be contained.

本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、数平均分子量が3000〜120000のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)、及び重合開始剤(F)、並びに必要により酸発生剤(G)、熱ラジカル開始剤(H)、他のラジカル重合性化合物(I)、及び溶剤その他の成分等をディスパーサー等で混合攪拌することで得られる。混合攪拌温度は、通常10℃〜40℃、好ましくは20℃〜30℃である。   The resin composition for a display buffer layer of the present invention comprises a urethane resin (E) for a display buffer layer having a number average molecular weight of 3000 to 120,000, a polymerization initiator (F), and an acid generator (G) and a thermal radical as necessary. It can be obtained by mixing and stirring the initiator (H), other radically polymerizable compound (I), solvent and other components with a disperser or the like. The mixing and stirring temperature is usually 10 ° C to 40 ° C, preferably 20 ° C to 30 ° C.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布も適用できる。
塗工膜厚は、硬化乾燥後の膜厚として、通常0.5〜300μmである。乾燥性、硬化性の観点から好ましい上限は250μmであり、耐摩耗性、耐溶剤性、耐汚染性の観点から好ましい下限は1μmである。
Examples of the method of applying the urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer of the present invention to the substrate include known coating methods such as spin coating, roll coating and spray coating, and lithographic printing, carton printing, and metal printing. In addition, known printing methods such as offset printing, screen printing, and gravure printing can be applied. In addition, ink-jet coating that continuously discharges fine droplets can also be applied.
A coating film thickness is 0.5-300 micrometers normally as a film thickness after hardening drying. The upper limit is preferably 250 μm from the viewpoints of drying properties and curability, and the lower limit is preferably 1 μm from the viewpoints of wear resistance, solvent resistance, and contamination resistance.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を溶剤で希釈して使用する場合は、塗工後に乾燥するのが好ましい。乾燥方法としては、例えば熱風乾燥(ドライヤー等)が挙げられる。乾燥温度は、通常10〜200℃、塗膜の平滑性及び外観の観点から好ましい上限は150℃、乾燥速度の観点から好ましい下限は30℃である。   When the urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer of the present invention are diluted with a solvent, it is preferably dried after coating. Examples of the drying method include hot air drying (such as a dryer). The drying temperature is usually 10 to 200 ° C, the upper limit is preferably 150 ° C from the viewpoint of the smoothness and appearance of the coating film, and the lower limit is preferably 30 ° C from the viewpoint of the drying speed.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を活性光線照射で硬化させる際のエネルギー源としては、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等(UV・EB硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、138頁、2006)が使用できる。また、LED光源を使用した照射装置も好適に使用できる。活性光線の照射時及び/又は照射後に光酸発生剤から発生した酸を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、通常、30℃〜200℃であり、好ましくは35℃〜150℃、更に好ましくは40℃〜120℃である。   As an energy source when curing the urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer of the present invention by irradiation with actinic rays, in addition to a commonly used high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, High power metal halide lamps and the like (the latest trend of UV / EB curing technology, edited by Radtech Institute, CM Publishing, page 138, 2006) can be used. Moreover, the irradiation apparatus using an LED light source can also be used conveniently. Heating may be performed for the purpose of diffusing the acid generated from the photoacid generator during and / or after irradiation with actinic rays. The heating temperature is usually 30 ° C to 200 ° C, preferably 35 ° C to 150 ° C, more preferably 40 ° C to 120 ° C.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を電子線照射で硬化させる際のエネルギー源としては、一般的に使用されている電子線照射装置を使用することができる。
電子線の照射量(Mrad)は、通常0.5〜20、ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の硬化性及び硬化物の可撓性、硬化膜及び基材の損傷を避けるとの観点から好ましくは1〜15である。
As an energy source for curing the urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer of the present invention by electron beam irradiation, a commonly used electron beam irradiation device can be used.
The irradiation amount (Mrad) of electron beam is usually 0.5 to 20, curable urethane resin for display buffer layer and resin composition for display buffer layer and flexibility of cured product, damage to cured film and substrate. From the viewpoint of avoidance, it is preferably 1-15.

以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、部は重量部を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to these. Hereinafter, unless otherwise specified, parts are parts by weight.

製造例1
[テトラヒドロフランと3,3−ジメチルオキセタンの共重合体(A−3)の合成]
攪拌機、コンデンサー、温度計、滴下ポンプを備えた耐圧反応容器に、1,4−ブタンジオール(分子量90.12)90部、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの25%水溶液3部を仕込み、混合後、60℃で減圧下(2kPa)に脱水した。次いで、トリイソブチルアルミニウムの25%トルエン溶液12部を投入し、撹拌下に70℃でテトラヒドロフラン(分子量72.11)1510部と3,3−ジメチルオキセタン(分子量86.13)(Alfa Aesar社製)200部の混合溶液を4時間かけて連続的に導入した後、同温度で4時間熟成させた。水を30部投入した後、吸着剤としてのキョーワード600(協和化学工業製)を5部混合して30分攪拌した後、濾去した。次いで、130℃で2時間、減圧下(3kPa)に揮発成分を留去して、目的とする(A−3)(無色液体)1800部を得た。数平均分子量は1800であった。
Production Example 1
[Synthesis of copolymer of tetrahydrofuran and 3,3-dimethyloxetane (A-3)]
A pressure-resistant reaction vessel equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping pump was charged with 90 parts of 1,4-butanediol (molecular weight 90.12) and 3 parts of a 25% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide. It dehydrated under reduced pressure (2 kPa) at ° C. Next, 12 parts of a 25% toluene solution of triisobutylaluminum was added, and 1510 parts of tetrahydrofuran (molecular weight 72.11) and 3,3-dimethyloxetane (molecular weight 86.13) (manufactured by Alfa Aesar) at 70 ° C. with stirring. After 200 parts of the mixed solution was continuously introduced over 4 hours, the mixture was aged at the same temperature for 4 hours. After adding 30 parts of water, 5 parts of Kyoward 600 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) as an adsorbent was mixed and stirred for 30 minutes, and then filtered off. Subsequently, the volatile component was distilled off under reduced pressure (3 kPa) at 130 ° C. for 2 hours to obtain 1800 parts of the intended (A-3) (colorless liquid). The number average molecular weight was 1800.

製造例2
[テトラヒドロフランと2,5−ジメチルテトラヒドロフランの共重合体(A−6)の合成]
テトラヒドロフランを1510部から182部に、3,3−ジメチルオキセタン200部を2,5−ジメチルテトラヒドロフラン(分子量100.16)(東京化成製)28部に変更する以外は、製造例1と同様にして目的とする(A−6)(無色液体)300部を得た。数平均分子量は300であった。
Production Example 2
[Synthesis of copolymer of tetrahydrofuran and 2,5-dimethyltetrahydrofuran (A-6)]
Except for changing tetrahydrofuran from 1510 parts to 182 parts and 200 parts of 3,3-dimethyloxetane to 28 parts of 2,5-dimethyltetrahydrofuran (molecular weight 100.16) (manufactured by Tokyo Chemical Industry), the same as in Production Example 1. 300 parts of the intended (A-6) (colorless liquid) were obtained. The number average molecular weight was 300.

製造例3
[テトラヒドロフランと3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシ)エチルオキセタンの共重合体(A−7)の合成]
テトラヒドロフランを1510部から5850部に、3,3−ジメチルオキセタン200部を3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシ)エチルオキセタン(分子量228.4)(東亞合成製「OXT−212(EHOX)」)2060部に変更する以外は、製造例1と同様にして目的とする(A−7)(無色粘調液体)8000部を得た。数平均分子量は8000であった。
Production Example 3
[Synthesis of copolymer of tetrahydrofuran and 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy) ethyloxetane (A-7)]
From 1510 parts to 5850 parts of tetrahydrofuran, 200 parts of 3,3-dimethyloxetane were added to 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy) ethyloxetane (molecular weight 228.4) (“OXT-212 (EHOX) manufactured by Toagosei Co., Ltd.) ) Except for changing to 2060 parts, 8000 parts of the intended (A-7) (colorless viscous liquid) were obtained in the same manner as in Production Example 1. The number average molecular weight was 8,000.

製造例4
[酸発生剤(G2−1){化学式(1)で表される化合物}の合成]
Production Example 4
[Synthesis of Acid Generator (G2-1) {Compound Represented by Chemical Formula (1)}]

Figure 2015145437
Figure 2015145437

攪拌機、コンデンサー、温度計、滴下ポンプを備えたフラスコに、トルエン6.5部、イソプロピルベンゼン8.1部、ヨウ化カリウム5.35部及び無水酢酸20部を酢酸70部に溶解させ、10℃まで冷却し、温度を10±2℃に保ちながら、濃硫酸12部と酢酸15部の混合溶液を1時間かけて滴下した。25℃まで昇温し、24時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル50部を加え、水で3回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム{トリフルオロ[トリス(パーフルオロエチル)]ホスフェート}118部を水100部に溶解させた水溶液を加え、25℃で20時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル500部を加え、水で3回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤(G2−1)(淡黄色固体)5.0部を得た。   In a flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping pump, 6.5 parts of toluene, 8.1 parts of isopropylbenzene, 5.35 parts of potassium iodide, and 20 parts of acetic anhydride are dissolved in 70 parts of acetic acid. Then, a mixed solution of 12 parts of concentrated sulfuric acid and 15 parts of acetic acid was added dropwise over 1 hour while maintaining the temperature at 10 ± 2 ° C. It heated up to 25 degreeC and stirred for 24 hours. Thereafter, 50 parts of diethyl ether was added to the reaction solution, washed with water three times, and diethyl ether was distilled off under reduced pressure. An aqueous solution in which 118 parts of potassium {trifluoro [tris (perfluoroethyl)] phosphate} was dissolved in 100 parts of water was added to the residue, followed by stirring at 25 ° C. for 20 hours. Thereafter, 500 parts of ethyl acetate was added to the reaction solution, washed three times with water, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 5.0 parts of the desired acid generator (G2-1) (pale yellow solid). It was.

比較製造例1:(A)の数平均分子量が200未満の例
[テトラヒドロフランと3,3−ジメチルオキセタンの共重合体(A’−3)の合成]
テトラヒドロフランを1510部から90部に、3,3−ジメチルオキセタンを200部から10部に変更する以外は、製造例1と同様にして比較用の(A’−3)(無色液体)11部を得た。数平均分子量は190であった。
Comparative Production Example 1: Example in which the number average molecular weight of (A) is less than 200 [Synthesis of copolymer of tetrahydrofuran and 3,3-dimethyloxetane (A′-3)]
11 parts for comparison (A′-3) (colorless liquid) were prepared in the same manner as in Production Example 1 except that tetrahydrofuran was changed from 1510 parts to 90 parts and 3,3-dimethyloxetane was changed from 200 parts to 10 parts. Obtained. The number average molecular weight was 190.

比較製造例2:(A)の数平均分子量が10000よりも大きい例
[テトラヒドロフランと3,3−ジメチルオキセタンの共重合体(A’−4)の合成]
テトラヒドロフランを1510部から10515部に、3,3−ジメチルオキセタンを200部から1395部に変更する以外は、製造例1と同様にして比較用の(A’−4)(無色高粘調液体)12000部を得た。数平均分子量は12000であった。
Comparative production example 2: Example in which the number average molecular weight of (A) is larger than 10,000 [Synthesis of copolymer of tetrahydrofuran and 3,3-dimethyloxetane (A′-4)]
(A′-4) (colorless high viscosity liquid) for comparison in the same manner as in Production Example 1, except that tetrahydrofuran is changed from 1510 parts to 10515 parts and 3,3-dimethyloxetane is changed from 200 parts to 1395 parts. 12000 parts were obtained. The number average molecular weight was 12000.

比較製造例3:テトラヒドロフラン(a1)と共重合されるモノマーが、化合物(a2)以外の例
[テトラヒドロフランとプロピレンオキシドの共重合体(A’−5)の合成]
テトラヒドロフランを1510部から2670部に、3,3−ジメチルオキセタン200部をプロピレンオキシド(分子量58)240部に変更する以外は、製造例1と同様にして比較用の(A’−5)(無色粘調液体)3000部を得た。数平均分子量は3000であった。
Comparative Production Example 3: Example in which monomer copolymerized with tetrahydrofuran (a1) is other than compound (a2) [Synthesis of copolymer of tetrahydrofuran and propylene oxide (A′-5)]
Comparative (A′-5) (colorless) in the same manner as in Production Example 1, except that tetrahydrofuran is changed from 1510 parts to 2670 parts and 200 parts of 3,3-dimethyloxetane are changed to 240 parts of propylene oxide (molecular weight 58). (Viscous liquid) 3000 parts were obtained. The number average molecular weight was 3000.

比較製造例4:(A)がテトラヒドロフラン(a1)を含まない例
[3,3−ジメチルオキセタンの単重合体(A’−6)の合成]
テトラヒドロフラン1510部を使用せず、3,3−ジメチルオキセタンを200部から2910部に変更する以外は、製造例1と同様にして比較用の(A’−6)(無色粘調液体)3000部を得た。数平均分子量は3000であった。
Comparative Production Example 4: Example where (A) does not contain tetrahydrofuran (a1) [Synthesis of 3,3-dimethyloxetane homopolymer (A′-6)]
3000 parts for comparison (A′-6) (colorless viscous liquid) in the same manner as in Production Example 1 except that 1510 parts of tetrahydrofuran are not used and 3,3-dimethyloxetane is changed from 200 parts to 2910 parts. Got. The number average molecular weight was 3000.

比較製造例5:(B)の炭素数が20よりも大きい例
[ポリブタジエンジカルボン酸(B’−1)の合成]
攪拌機、コンデンサー、温度計、滴下ポンプを備えたフラスコに、ポリブタジエンジオール(日本曹達製「NISSO−PB G−1000(数平均分子量1000:炭素数70)」)100部を仕込み、80℃まで加熱し、温度を80±10℃に保ちながら、30%過酸化水素水20部を5時間かけて滴下した後、24時間攪拌した。その後を水で3回洗浄し、目的とする酸発生剤(B’−1)(無色粘調液体)102部を得た。
Comparative Production Example 5: Example in which (B) has more than 20 carbon atoms [Synthesis of polybutadiene dicarboxylic acid (B′-1)]
A flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping pump was charged with 100 parts of polybutadiene diol (“NISSO-PB G-1000 (number average molecular weight 1000: carbon number 70)” manufactured by Nippon Soda) and heated to 80 ° C. While maintaining the temperature at 80 ± 10 ° C., 20 parts of 30% hydrogen peroxide water was added dropwise over 5 hours, followed by stirring for 24 hours. Thereafter, it was washed with water three times to obtain 102 parts of the target acid generator (B′-1) (colorless viscous liquid).

比較製造例6:(D)の炭素数が100よりも大きい例
攪拌機、コンデンサー、温度計、脱水用ディーンスターク管を備えたフラスコに、アクリル酸10部、両末端水酸基のポリエチレングリコール(三洋化成製「PEG4500」重量平均分子量4500:炭素数102個)230部、トルエン300部及び硫酸5部及びハイドロキノン1部を仕込み、110℃に昇温して、12時間反応させた。
トリエチルアミン10部を投入して、反応触媒を中和した後、反応溶剤及び過剰のトリエチルアミンを留去し、比較用の(D’−1)(白色固体)240部を得た。数平均分子量は4600であった。
Comparative Production Example 6: Example in which carbon number of (D) is larger than 100 A flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a Dean-Stark tube for dehydration, 10 parts of acrylic acid, polyethylene glycol having hydroxyl groups at both ends (manufactured by Sanyo Chemical) 230 parts of “PEG4500” weight average molecular weight 4500: 102 carbon atoms), 300 parts of toluene, 5 parts of sulfuric acid and 1 part of hydroquinone were charged, heated to 110 ° C., and reacted for 12 hours.
10 parts of triethylamine was added to neutralize the reaction catalyst, and then the reaction solvent and excess triethylamine were distilled off to obtain 240 parts of (D′-1) (white solid) for comparison. The number average molecular weight was 4600.

実施例1〜16、比較例2〜14
[ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)の合成、基礎物性評価]
攪拌機、コンデンサー、温度計、エアーコンプレッサーを備えたフラスコに、エステル化触媒(日東化成製「ネオスタンU−600」)0.03部と、表1及び表2に記載の配合部数の(A)及び(B)を一括で投入し、温度を230±5℃に保ちながら、24時間攪拌した。100℃まで降温させ、エチルメチルケトン1000部と、表1及び表2に記載の配合部数の(C)を一括で投入し、温度を100±5℃に保ちながら、24時間攪拌した。70℃まで降温させ、エアーコンプレッサーを始動させ、フラスコ内の溶液中へのエアレーションを開始した後、表1及び表2に記載の配合部数の(D)を一括で投入し、温度を70±5℃に保ちながら、10時間攪拌した。有機溶剤を40℃で減圧留去することで目的とするディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E−1)〜(E−16)、及び比較用のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E’−2)〜(E’−14)を得た。
Examples 1-16, Comparative Examples 2-14
[Synthesis and evaluation of basic physical properties of urethane resin (E) for display buffer layer]
In a flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and an air compressor, 0.03 part of an esterification catalyst (“Neostan U-600” manufactured by Nitto Kasei), and (A) of the number of blending parts shown in Tables 1 and 2 and (B) was added all at once and stirred for 24 hours while maintaining the temperature at 230 ± 5 ° C. The temperature was lowered to 100 ° C., 1000 parts of ethyl methyl ketone and (C) of the blending parts shown in Tables 1 and 2 were added all at once, and the mixture was stirred for 24 hours while maintaining the temperature at 100 ± 5 ° C. The temperature was lowered to 70 ° C., the air compressor was started, and aeration into the solution in the flask was started. Then, (D) in the number of blending parts shown in Tables 1 and 2 was added all at once, and the temperature was adjusted to 70 ± 5. The mixture was stirred for 10 hours while maintaining the temperature. The target display buffer layer urethane resins (E-1) to (E-16) by distilling off the organic solvent under reduced pressure at 40 ° C., and the comparative display buffer layer urethane resins (E′-2) to (E'-14) was obtained.

実施例17〜32、比較例15〜28:(E)及び(E’)の硬化前の物性評価
本発明のウレタン樹脂(E−1)〜(E−16)及び比較用のウレタン樹脂(E’−1)〜(E’−14)について、以下の方法で性能評価を行った結果を表3に示す。
Examples 17 to 32, Comparative Examples 15 to 28: Evaluation of physical properties before curing of (E) and (E ′) Urethane resins (E-1) to (E-16) of the present invention and a comparative urethane resin (E Table 3 shows the results of performance evaluation of “-1) to (E′-14) by the following method.

[硬化前樹脂の性能評価法]
(1)数平均分子量
装置 : ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒 : テトラヒドロフラン
基準物質 : ポリスチレン
サンプル濃度 : 3mg/ml
カラム固定相 : PLgel MIXED−B
カラム温度 : 40℃
[Performance evaluation method of resin before curing]
(1) Number average molecular weight Apparatus: Gel permeation chromatography Solvent: Tetrahydrofuran Reference substance: Polystyrene Sample concentration: 3 mg / ml
Column stationary phase: PLgel MIXED-B
Column temperature: 40 ° C

(2)ウレタン基濃度
各(E)及び(E’)各々1gに水酸化ナトリウム1gを加え、元素分析装置[LECO製「TruSpec Micro CHNS」]を用いて、測定し、下記算出式にて、ウレタン基濃度を算出した。
[(E−1)〜(E−14)、(E−16)及び(E’−1)〜(E’−14)]
ウレタン基濃度[mmol/g]=(試料1gに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のmmol数)
[(E−15)]
ウレタン基濃度[mmol/g]=(試料1gに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のmmol数)*{IR測定によるウレタン基のC=O伸縮(1690cm-1)ピーク面積/(IR測定によるウレタン基のC=O伸縮(1690cm-1)ピーク面積+IR測定によるアミド基のC=O伸縮(1650cm-1)ピーク面積)}
尚、IR測定には[日立ハイテク製「フーリエ変換赤外分光装置Nicolet iS50 FT−IR」]を用いた。
(2) Urethane group concentration 1 g of sodium hydroxide is added to 1 g of each of (E) and (E ′), and measured using an elemental analyzer [“TruSpec Micro CHNS” manufactured by LECO]. The urethane group concentration was calculated.
[(E-1) to (E-14), (E-16) and (E'-1) to (E'-14)]
Urethane group concentration [mmol / g] = (mmol number of ammonia molecules generated when sodium hydroxide was added to 1 g of sample and heated)
[(E-15)]
Urethane group concentration [mmol / g] = (mmol number of ammonia molecules generated when sodium hydroxide was added to 1 g of sample and heated) * {C = O stretch (1690 cm −1 ) peak area / urethane group by IR measurement / (C = O stretching (1690 cm −1 ) peak area of urethane group by IR measurement + C═O stretching (1650 cm −1 ) peak area of amide group by IR measurement)}
In addition, [Hitachi High-Tech "Fourier transform infrared spectrometer Nicolet iS50 FT-IR"] was used for IR measurement.

(3)粘度
JIS−K7117に準拠し、B型粘度計を用いて38℃での粘度を測定した。塗工適正の観点から好ましい領域は100〜3000Pa・sであり、より好ましくは150〜2000Pa・sである。
(3) Viscosity Based on JIS-K7117, the viscosity at 38 ° C. was measured using a B-type viscometer. A preferable area | region from a viewpoint of coating appropriateness is 100-3000 Pa * s, More preferably, it is 150-2000 Pa * s.

(4)チクソトロピックインデックス
レオメーター[TA Instruments製「AR−2000」]を用いて38℃にてせん断速度0.01s−1〜10s−1の粘度を測定し、下記算出式にて、チクソトロピックインデックスを算出した。
チクソトロピックインデックス=
{(せん断速度10s−1の粘度)−(せん断速度0.01s−1の粘度)}
/(せん断速度10s−1の粘度)
塗工適正の観点から好ましい領域は±1.0以下であり、より好ましくは±0.5以下である。
(4) Thixotropic Index Viscosity at a shear rate of 0.01 s- 1 to 10 s- 1 was measured at 38 ° C using a rheometer [TA Instruments "AR-2000"]. An index was calculated.
Thixotropic index =
{(Viscosity at a shear rate of 10 s- 1 )-(Viscosity at a shear rate of 0.01 s- 1 )}
/ (Viscosity of shear rate 10s- 1 )
From the viewpoint of proper coating, the preferred region is ± 1.0 or less, more preferably ± 0.5 or less.

(5)耐水性
各(E)及び(E’)を30℃の水に24時間浸漬し、下記の基準にて判定した。 ○判定:数平均分子量変化が10%未満
×判定:数平均分子量変化が10%以上。
(5) Water resistance Each (E) and (E ′) was immersed in water at 30 ° C. for 24 hours, and judged according to the following criteria. ○ Judgment: Change in number average molecular weight is less than 10% x Judgment: Change in number average molecular weight is 10% or more.

(6)全光線透過率
JIS−K7136に準拠し、全光線透過率測定装置[BYK gardner製「haze−garddual」]を用いて測定した。透明性の観点から好ましい領域は91%以上であり、より好ましくは92%以上である。
(6) Total light transmittance Based on JIS-K7136, it measured using the total light transmittance measuring apparatus ["haze-garddual" made by BYK gardner]. A preferable region from the viewpoint of transparency is 91% or more, and more preferably 92% or more.

(7)貯蔵安定性
窒素雰囲気に置換した密閉容器中で100℃にて保管し、粘度が8000Pa・s(38℃)となった時点をゲル化したと判断した。
(7) Storage stability It stored at 100 degreeC in the airtight container substituted by nitrogen atmosphere, and judged that it gelatinized when the viscosity became 8000 Pa.s (38 degreeC).

Figure 2015145437
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Figure 2015145437
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表1及び表2に記載の(A)、(B)、(C)、(D)、(A’)、(B’)、(C’)及び(D’)は以下を使用した。
テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Mn=1800)(A−1):旭化成せんい製「PTX−G 1800」
テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Mn=1000)(A−2):旭化成せんい製「PTX−G 1000」
テトラヒドロフランと3,3−ジメチルオキセタンの共重合体(Mn=1800)(A−3):製造例1の化合物
テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合体(Mn=3000)(A−4):保土ヶ谷化学製「PTG−L 3000」
テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合体(Mn=1000)(A−5):保土ヶ谷化学製「PTG−L 1000」
テトラヒドロフランと2,5−ジメチルテトラヒドロフランの共重合体(A−6):製造例2の化合物
テトラヒドロフランと3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシ)エチルオキセタンの共重合体(A−7):製造例3の化合物
The following were used for (A), (B), (C), (D), (A ′), (B ′), (C ′), and (D ′) described in Tables 1 and 2.
Tetrahydrofuran and neopentyl glycol copolymer (Mn = 1800) (A-1): “PTX-G 1800” manufactured by Asahi Kasei Fibers
Tetrahydrofuran and neopentyl glycol copolymer (Mn = 1000) (A-2): “PTX-G 1000” manufactured by Asahi Kasei Fibers
Tetrahydrofuran and 3,3-dimethyloxetane copolymer (Mn = 1800) (A-3): Compound of Production Example 1 Tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran copolymer (Mn = 3000) (A-4): Hodogaya Chemical "PTG-L 3000"
Copolymer of tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran (Mn = 1000) (A-5): “PTG-L 1000” manufactured by Hodogaya Chemical
Copolymer of tetrahydrofuran and 2,5-dimethyltetrahydrofuran (A-6): Compound of Production Example 2 Copolymer of tetrahydrofuran and 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy) ethyloxetane (A-7): Compound of Production Example 3

ジカルボン酸(B):全て東京化成製   Dicarboxylic acid (B): All made by Tokyo Chemical Industry

2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(C1−1):エボニック製「TMDI」
1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(C1−2):住友バイエルウレタン製「デスモジュールH」
イソホロンジイソシアネート(C2−1):住友バイエルウレタン製「デスモジュールI」
1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン(C2−2):三井化学製「タケネート600」
4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(C2−3):住友バイエルウレタン製「デスモジュールW」
ノルボルナンジイソシアネート(C2−4):三井化学ファイン製「NBDI」
ビウレット変性−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(C3−1):旭化成製「デュラネート24A−100」
イソシアヌレート変性−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(C3−2):旭化成製「デュラネートTPA−100」
イソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネート(C3−3):エボニック・デグサ・ジャパン製「VESTANAT 1890/100」
2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate (C1-1): “TMDI” manufactured by Evonik
1,6-hexamethylene diisocyanate (C1-2): “Desmodur H” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane
Isophorone diisocyanate (C2-1): "Desmodur I" made by Sumitomo Bayer Urethane
1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane (C2-2): “Takenate 600” manufactured by Mitsui Chemicals
4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate (C2-3): “Desmodur W” manufactured by Sumitomo Bayer Urethane
Norbornane diisocyanate (C2-4): “NBDI” manufactured by Mitsui Chemicals Fine
Biuret-modified 1,6-hexamethylene diisocyanate (C3-1): “Duranate 24A-100” manufactured by Asahi Kasei
Isocyanurate-modified-1,6-hexamethylene diisocyanate (C3-2): “Duranate TPA-100” manufactured by Asahi Kasei
Isocyanurate-modified isophorone diisocyanate (C3-3): “VESTANAT 1890/100” manufactured by Evonik Degussa Japan

2−ヒドロキシエチルアクリレート(D1−1):日本触媒製「BHEA」
2−ヒドロキシプロピルアクリレート(D1−2): 日本触媒製「HPA」
4−ヒドロキシブチルアクリレート(D1−3): 大阪有機化学工業製「4HBA」
2−ヒドロキシエチルアクリルアミド(D1−4):興人製「HEAA」
2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸(D1−5):共栄社化学製「ライトアクリレートHOA−MPE」
水酸基末端デカエチレングリコールアクリレート(D1−6):日油製「ブレンマーAE−400」(炭素数10)
2−ヒドロキシエチルメタクリレート(D1−7):日本触媒製「HEMA」
グリセリンジメタクリレート(D1−8): 日油製「ブレンマーGMR−H」(炭素数11)
水酸基末端トリデカプロピレングリコールメタクリレート(D1−9): 日油製「ブレンマーPP−800」(炭素数43)
水酸基末端(デカエチレングリコール/ペンタプロピレングリコール)メタクリレート(D1−10):日油製「ブレンマー55PET−800」(炭素数44)
テトラメチルピペリジニルメタクリレート(D2−1):日立化成製「ファンクリルFA−712HM」
2-Hydroxyethyl acrylate (D1-1): “BHEA” manufactured by Nippon Shokubai
2-Hydroxypropyl acrylate (D1-2): Nippon Shokubai "HPA"
4-hydroxybutyl acrylate (D1-3): “4HBA” manufactured by Osaka Organic Chemical Industry
2-Hydroxyethylacrylamide (D1-4): “HEAA” manufactured by Kojin
2-acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid (D1-5): “Light acrylate HOA-MPE” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Hydroxyl-terminated decaethylene glycol acrylate (D1-6): NOF "Blemmer AE-400" (10 carbon atoms)
2-Hydroxyethyl methacrylate (D1-7): “HEMA” manufactured by Nippon Shokubai
Glycerin dimethacrylate (D1-8): “Blemmer GMR-H” (11 carbon atoms) manufactured by NOF
Hydroxyl-terminated tridecapropylene glycol methacrylate (D1-9): NOF "Blenmer PP-800" (43 carbon atoms)
Hydroxyl terminal (decaethylene glycol / pentapropylene glycol) methacrylate (D1-10): NOF “Blenmer 55PET-800” (44 carbon atoms)
Tetramethylpiperidinyl methacrylate (D2-1): Hitachi Chemical “Fancryl FA-712HM”

ポリプロピレン無水マレイン酸付加物と2−ヒドロキシエチルメタクリレートの反応物(E’−1):クラレ製「UC−203(数平均分子量35,000)」
ポリテトラメチレングリコール(A’−2):三菱化学製「PTMG−3000」
テトラヒドロフランと3,3−ジメチルオキセタンの共重合体(Mn=190)(A’−3):比較製造例1の化合物
テトラヒドロフランと3,3−ジメチルオキセタンの共重合体(Mn=12000)(A’−4):比較製造例2の化合物
テトラヒドロフランとプロピレンオキシドの共重合体(A’−5):比較製造例3の化合物
3,3−ジメチルオキセタンの単重合体(A’−6):比較製造例4の化合物
ポリブタジエンジカルボン酸(B’−1):比較製造例5の化合物
1,3,5−ペンタントリカルボン酸(B’−2):東京化成製
4,4’,4’’−メチリジントリス(イソシアネートベンゼン)(C’−1):BCO Sciences社製
水酸基末端ポリエチレングリコールメタクリレート(D’−1):比較製造例6の化合物
ペンタエリスリトールジ/トリアクリレート(D’−2):共栄社化学製「ライトアクリレートPE3A」
Reaction product of polypropylene maleic anhydride adduct and 2-hydroxyethyl methacrylate (E′-1): “UC-203 (number average molecular weight 35,000)” manufactured by Kuraray
Polytetramethylene glycol (A'-2): "PTMG-3000" manufactured by Mitsubishi Chemical
Tetrahydrofuran and 3,3-dimethyloxetane copolymer (Mn = 190) (A′-3): compound of Comparative Production Example 1 Tetrahydrofuran and 3,3-dimethyloxetane copolymer (Mn = 12000) (A ′ -4): Compound of Comparative Production Example 2 Tetrahydrofuran and propylene oxide copolymer (A′-5): Compound of Comparative Production Example 3 3,3-dimethyloxetane homopolymer (A′-6): Comparative production Compound of Example 4 Polybutadienedicarboxylic acid (B′-1): Compound of Comparative Production Example 5, 1,3,5-pentanetricarboxylic acid (B′-2): 4,4 ′, 4 ″ -methylidyne manufactured by Tokyo Chemical Industry Tris (isocyanate benzene) (C′-1): hydroxyl group-terminated polyethylene glycol methacrylate (D′-1) manufactured by BCO Sciences: Compound of Comparative Production Example 6 Suritoruji / triacrylate (D'-2): Kyoeisha Chemical Co., Ltd. "Light Acrylate PE3A"

Figure 2015145437
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比較例1において、COOH基が残存しているため、貯蔵安定性試験にてゲル化する。比較例2において、テトラヒドロフランが単重合されてなる(A)は38℃にて固体なため、(E)も固体であり、塗工できない。比較例3において、(A)の数平均分子量が200未満の場合、低粘度過ぎて液ダレに課題あり、更にウレタン基濃度が高いため、チクソトロピックインデックスにも課題がある。一方、比較例4において、(A)の数平均分子量が200未満を用いた場合でも、工夫すれば適切な粘度に調整可能だが、エステル基濃度が上がるため、耐加水分解性に課題がある。比較例5において、(A)の数平均分子量が10000よりも大きい場合、(E)は固体となり、塗工できない。比較例6において、(A)が(a2)を含まない場合、高分子鎖間の相互作用が強まり、非常に高粘度となり、塗工できない。逆に、比較例7において、(A)がテトラヒドロフラン(a1)を含まない場合、高分子鎖間の相互作用が弱すぎ、液ダレに課題がある。比較例8〜10において、(B)又は(C)として、2官能よりも多い官能基を有する化合物を使用した場合、ゲル化又は固体となってしまうため、塗工できない。比較例11において、(D)の炭素数が100よりも大きい場合、非常に高粘度となり、塗工できない。比較例12において、(D)として、2官能よりも多い官能基を有する化合物を使用した場合、貯蔵安定性に課題がある。比較例13において、(E)の数平均分子量が3000未満の場合、非常に低粘度なため、液ダレに課題がある。比較例14において、(E)の数平均分子量が120000よりも大きい場合、非常に低粘度なため、液ダレに課題がある。また、比較例2〜14において、全光線透過率が低い。
以上の比較例と対比して、本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)は粘度、チクソトロピックインデックス、耐水性、透明性、貯蔵安定性いずれも良好であることが分かる。
In Comparative Example 1, since COOH groups remain, gelation occurs in a storage stability test. In Comparative Example 2, since (A) obtained by monopolymerization of tetrahydrofuran is solid at 38 ° C., (E) is also solid and cannot be applied. In Comparative Example 3, when the number average molecular weight of (A) is less than 200, the viscosity is too low, there is a problem with liquid dripping, and the urethane group concentration is also high, so there is a problem with the thixotropic index. On the other hand, in Comparative Example 4, even when the number average molecular weight of (A) is less than 200, it can be adjusted to an appropriate viscosity if devised, but there is a problem in hydrolysis resistance because the ester group concentration increases. In Comparative Example 5, when the number average molecular weight of (A) is larger than 10,000, (E) becomes a solid and cannot be applied. In Comparative Example 6, when (A) does not contain (a2), the interaction between the polymer chains becomes strong, the viscosity becomes very high, and coating cannot be performed. On the other hand, in Comparative Example 7, when (A) does not contain tetrahydrofuran (a1), the interaction between the polymer chains is too weak, and there is a problem with dripping. In Comparative Examples 8 to 10, when a compound having more than two functional groups is used as (B) or (C), it cannot be applied because it becomes gelled or solid. In Comparative Example 11, when the carbon number of (D) is larger than 100, the viscosity becomes very high and coating is impossible. In Comparative Example 12, when a compound having more than two functional groups is used as (D), there is a problem in storage stability. In Comparative Example 13, when the number average molecular weight of (E) is less than 3000, there is a problem in dripping because the viscosity is very low. In Comparative Example 14, when the number average molecular weight of (E) is larger than 120,000, there is a problem in dripping because the viscosity is very low. Moreover, in Comparative Examples 2-14, the total light transmittance is low.
In contrast to the above comparative examples, it can be seen that the urethane resin (E) for display buffer layer of the present invention has good viscosity, thixotropic index, water resistance, transparency, and storage stability.

実施例33〜48、比較例29〜42:(E)及び(E’)の硬化後の物性評価
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E−1)〜(E−16)及び比較用のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E’−1)〜(E’−14)各95部とイルガキュア184(E4−1)(BASF製)5部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物(Q−1)〜(Q−16)、比較用のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物(Q’−1)〜(Q’−14)を得た。尚、性状が固体の(E)については、60℃まで加温し、溶融させた状態で配合した。
Examples 33 to 48, Comparative Examples 29 to 42: Evaluation of physical properties after curing of (E) and (E ′) Urethane resins (E-1) to (E-16) for display buffer layer of the present invention and for comparison Display buffer layer urethane resins (E'-1) to (E'-14) 95 parts each and Irgacure 184 (E4-1) (BASF) 5 parts are mixed together, and mixed and stirred uniformly with a disperser. The display buffer layer resin compositions (Q-1) to (Q-16) and comparative display buffer layer resin compositions (Q′-1) to (Q′-14) of the present invention were obtained. In addition, about (E) whose property is solid, it heated up to 60 degreeC and mix | blended in the melted state.

[硬化速度の評価]
(Q−1)〜(Q−16)及び(Q’−1)〜(Q’−14)を、表面処理を施した厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[東洋紡(株)製コスモシャインA4300]に、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布して、ベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス株式会社「ECS−151U」)を使用して露光を行った。露光量を365nmとして100、300、500及び1000mJ/cm2と振り、透過IR(日本文高株式会社製「FT/IR−460Plus」)にて、露光前後での、1600cm−1における不飽和結合の消失度合いから、下記計算式にて反応率(%)を計算した。
反応率(%)の算出式=100×(露光前の吸光度−露光後の吸光度)/露光前の吸光度
[Evaluation of curing speed]
(Q-1) to (Q-16) and (Q′-1) to (Q′-14) were subjected to surface treatment and a PET (polyethylene terephthalate) film having a thickness of 100 μm [Cosmo Shine manufactured by Toyobo Co., Ltd. A4300] was applied using an applicator so as to have a film thickness of 20 μm, and was exposed using a belt conveyor type UV irradiation apparatus (Egraphics Corporation “ECS-151U”). Unsaturation bond at 1600 cm- 1 before and after exposure with a transmission IR ("FT / IR-460Plus" manufactured by Nihon Bunko Co., Ltd.) with an exposure dose of 365 nm and shaking with 100, 300, 500 and 1000 mJ / cm 2 From the disappearance degree of the reaction rate, the reaction rate (%) was calculated by the following formula.
Calculation formula of reaction rate (%) = 100 × (absorbance before exposure−absorbance after exposure) / absorbance before exposure

[硬化後樹脂の性能評価]
実施例33〜48及び比較例29〜42で得た各ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を、表面に離型性処理を施した厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[リンテック製「PET−38C」]に、アプリケーターを用いて膜厚200μmとなるように塗布して、ベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス株式会社「ECS−151U」)を使用して露光を行った。露光量は365nmとして1000mJ/cm2であった。尚、性状が固体の(E)については、60まで加温し、溶融させた状態で塗工した。露光後、硬化塗膜を離型性処理PETフィルムから剥がし、評価用試験片とした。
硬化後の塗膜について以下の方法で性能評価を行った結果を表4に示す。
[Performance evaluation of cured resin]
Each of the resin compositions for display buffer layers obtained in Examples 33 to 48 and Comparative Examples 29 to 42 was subjected to a release treatment on the surface, and a 100 μm thick PET (polyethylene terephthalate) film ["PET-38C manufactured by Lintec". ]] Was applied using an applicator so as to have a film thickness of 200 μm, and was exposed using a belt conveyor type UV irradiation apparatus (“Egraphics Co., Ltd.“ ECS-151U ”). The exposure amount was 1000 mJ / cm 2 at 365 nm. In addition, about (E) whose property is solid, it heated to 60 and applied in the state melted. After the exposure, the cured coating film was peeled off from the releasable treated PET film to obtain a test piece for evaluation.
Table 4 shows the results of performance evaluation of the cured coating film by the following method.

[硬化後塗膜の性能評価方法]
(1)破断伸び
各試験片について、引っ張り試験機(オリエンテック社「テンシロン」)で、温度25℃、加重5kgf、引っ張り速度5mm/分にて測定した。基材追従性の観点から好ましくは、500%以上である。
(2)貯蔵弾性率
各試験片について、粘弾性測定装置(セイコーインスツルメンツ製「DMS6100」)を用い、測定周波数1Hzで貯蔵弾性率(Pa)(25℃)を測定した。耐衝撃性の観点から好ましくは104〜107Paでる。
(3)全光線透過率
JIS−K7136に準拠し、全光線透過率測定装置[BYK gardner製「haze−garddual」]で測定した。透明性の観点から好ましい領域は91%以上であり、より好ましくは92%以上である。
(4)硬化収縮率
硬化前の樹脂液と硬化後の固体の比重を電子比重計(MIRAGE社製SD−120L)で測定した。
[Performance evaluation method for cured film]
(1) Elongation at break Each test piece was measured with a tensile tester (Orientec “Tensilon”) at a temperature of 25 ° C., a load of 5 kgf, and a pulling speed of 5 mm / min. From the viewpoint of substrate followability, it is preferably 500% or more.
(2) Storage elastic modulus About each test piece, the storage elastic modulus (Pa) (25 degreeC) was measured with the measurement frequency of 1 Hz using the viscoelasticity measuring apparatus ("DMS6100" by Seiko Instruments). From the viewpoint of impact resistance, the pressure is preferably 10 4 to 10 7 Pa.
(3) Total light transmittance Based on JIS-K7136, it measured with the total light transmittance measuring apparatus ["haze-garddual" made by BYK gardner]. A preferable region from the viewpoint of transparency is 91% or more, and more preferably 92% or more.
(4) Curing Shrinkage The specific gravity of the resin liquid before curing and the solid after curing was measured with an electronic hydrometer (SD-120L manufactured by MIRAGE).

Figure 2015145437
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実施例33〜36の比較から、破断伸び、硬化収縮率は分子量10000前後の時に最良値となる。また、本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物以外は、破断伸び、貯蔵弾性率、透明性、硬化収縮率に課題があることが比較例から分かる。   From the comparison of Examples 33 to 36, the elongation at break and cure shrinkage are the best values when the molecular weight is around 10,000. Moreover, it turns out from a comparative example that there exists a subject in breaking elongation, storage elastic modulus, transparency, and cure shrinkage other than the resin composition for display buffer layers of this invention.

実施例49:OCRとしての評価
(E−3)30部、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート[日立化成製「FA−512M」](I2−1)15部、2−ヒドロキシブチルメタクリレート[共栄社化学製「ライトエステルHOB」](I2−2)5部、水素添加テルペン系樹脂[ヤスハラケミカル「クリアロンP85」]10部、ポリブタジエン[Evonik製「PolyOil 110」]33部、重合開始剤としてルシリンTPO(F1−1)[BASF製]2部、イルガキュア184(F4−1)(BASF製)5部、酸化防止剤としてイルガノックス1010[BASF製]0.1部及びイルガノックス1520L(BAFS製)0.1部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物(Q−17)を得た。
Example 49: Evaluation as OCR (E-3) 30 parts, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate [Hitachi Chemical "FA-512M"] (I2-1) 15 parts, 2-hydroxybutyl methacrylate [manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.] Light ester HOB "] (I2-2) 5 parts, hydrogenated terpene resin [Yasuhara Chemical" Clearon P85 "] 10 parts, polybutadiene [Evonik" PolyOil 110 "] 33 parts, Lucirin TPO (F1-1 as a polymerization initiator) ) 2 parts [made by BASF], 5 parts Irgacure 184 (F4-1) (made by BASF), 0.1 part Irganox 1010 [made by BASF] and 0.1 part Irganox 1520L (made by BAFS) Mix in a lump, and mix and stir uniformly with a disperser. To give a layer resin composition (Q-17).

実施例50:OCRとしての評価
酸発生剤(G2−1)0.5部を新たに追加する以外は、実施例49と同様にして本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物(Q−18)を得た。
Example 50: Evaluation as OCR Resin composition for display buffer layer of the present invention (Q-18) in the same manner as in Example 49 except that 0.5 part of acid generator (G2-1) was newly added. Got.

比較例43:OCRとしての評価
(E−3)を(E’−1)に変更する以外は、実施例64と同様にして比較用のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物(Q’−15)を得た。
Comparative Example 43: Evaluation as OCR A comparative display buffer layer resin composition (Q′-15) was prepared in the same manner as in Example 64 except that (E-3) was changed to (E′-1). Obtained.

[硬化速度の評価]
実施例49、50及び比較例43で得た各ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を、表面処理を施した厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[東洋紡(株)製コスモシャインA4300]に、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布して、ベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス株式会社「ECS−151U」)を使用して露光を行った。露光量を365nmとして100、300、500及び1000mJ/cm2と振り、透過IR(日本文高株式会社製「FT/IR−460Plus」)にて、露光前後での、1600cm-1における不飽和結合の消失度合いから、下記計算式にて反応率(%)を計算した。
反応率(%)の算出式=100×(露光前の吸光度−露光後の吸光度)/露光前の吸光度
[Evaluation of curing speed]
Each resin composition for display buffer layer obtained in Examples 49 and 50 and Comparative Example 43 was applied to a 100 μm thick PET (polyethylene terephthalate) film [Cosmo Shine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.]. The film was applied to a film thickness of 20 μm and exposed using a belt conveyor type UV irradiation apparatus (“EICS-151U”, iGraphics Co., Ltd.). Unsaturation bond at 1600 cm −1 before and after exposure with a transmission IR (“FT / IR-460 Plus” manufactured by Nihon Bunko Co., Ltd.) with an exposure dose of 365 nm and shaking with 100, 300, 500 and 1000 mJ / cm 2 From the disappearance degree of the reaction rate, the reaction rate (%) was calculated by the following formula.
Calculation formula of reaction rate (%) = 100 × (absorbance before exposure−absorbance after exposure) / absorbance before exposure

[硬化後樹脂の性能評価]
実施例33〜48及び比較例29〜42と同様にして、実施例49、50及び比較例43の硬化後樹脂の性能評価、及び下記の遮蔽部硬化性の評価を行った結果を表5に示す。
[Performance evaluation of cured resin]
Table 5 shows the results of the performance evaluation of the cured resins of Examples 49 and 50 and Comparative Example 43 and the evaluation of the following shielding part curability in the same manner as in Examples 33 to 48 and Comparative Examples 29 to 42. Show.

[遮蔽部硬化性の評価]
実施例49、50及び比較例43で得た各ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を、表面処理を施した厚さ100μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム[東洋紡(株)製コスモシャインA4300]に、アプリケーターを用いて膜厚20μmとなるように塗布して、黒色のポリカーボネート板を塗工した塗膜上に載置し、ベルトコンベア式UV照射装置(アイグラフィックス株式会社「ECS−151U」)を使用して露光を行った。露光量は365nmとして1000mJ/cm2であった。
露光後、黒色のポリカーボネート板を外し、透過IR(日本文高株式会社製「FT/IR−460Plus」)にて、露光部・露光部から遮蔽部へ2cm奥の地点それぞれにおいて、1600cm-1における不飽和結合の消失度合いから、下記計算式にて反応率(%)を計算した。
反応率(%)の算出式=100×(露光前の吸光度−露光後の吸光度)/露光前の吸光度
[Evaluation of curability of shielding part]
Each resin composition for display buffer layer obtained in Examples 49 and 50 and Comparative Example 43 was applied to a 100 μm thick PET (polyethylene terephthalate) film [Cosmo Shine A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.]. The film is applied to a film thickness of 20 μm, placed on the coated film coated with a black polycarbonate plate, and using a belt conveyor type UV irradiation device (“Egraphics Co., Ltd.“ ECS-151U ”). Then, exposure was performed. The exposure amount was 1000 mJ / cm 2 at 365 nm.
After the exposure, the black polycarbonate plate is removed, and transmission IR (“FT / IR-460Plus” manufactured by Nihon Bunko Co., Ltd.) is used at 1600 cm −1 at each point 2 cm from the exposed / exposed part to the shielding part. From the disappearance degree of the unsaturated bond, the reaction rate (%) was calculated by the following formula.
Calculation formula of reaction rate (%) = 100 × (absorbance before exposure−absorbance after exposure) / absorbance before exposure

Figure 2015145437
Figure 2015145437

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びそれを含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、OCR用の組成とした場合でも、速硬化性、破断伸び、貯蔵弾性率透明性、低硬化収縮性及び遮蔽部硬化性の全てを満足することが可能である。   The urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer containing the same of the present invention, even when it is a composition for OCR, fast curing, elongation at break, transparency of storage elastic modulus, low curing shrinkage and It is possible to satisfy all of the shielding part curability.

本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びそれを含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、硬化前の塗工適正(粘度、チクソトロピックインデックス)、硬化後の硬化膜の高透明性、貯蔵安定性、基材追従性(破断伸び)、低硬化収縮性及び遮蔽部硬化性に優れている為、画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層用として有用である。   The urethane resin for display buffer layer and the resin composition for display buffer layer containing the same of the present invention are suitable for coating before curing (viscosity, thixotropic index), high transparency of cured film after curing, and storage stability. Since it is excellent in substrate followability (elongation at break), low curing shrinkage and shielding part curability, it is useful as a buffer layer between the image display unit of the image display and the front plate.

Claims (13)

テトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数1〜10の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも1個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物(a2)とが共重合されてなる数平均分子量が200〜10000であるポリエーテルジオール(A)、炭素数が2〜20であるジカルボン酸(B)、有機ジイソシアネート及び/又はその変性物(C)並びに炭素数が4〜100である活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(D)が反応されてなり、数平均分子量が3000〜120000であるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)。   Tetrahydrofuran (a1), neopentyl glycol, tetrahydrofuran having at least one substituent selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl ether group, oxetane, and a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and an alkyl A polyether diol (A) having a number average molecular weight of 200 to 10,000 obtained by copolymerization with at least one compound (a2) selected from the group consisting of oxetane having at least one substituent selected from ether groups , A dicarboxylic acid (B) having 2 to 20 carbon atoms, an organic diisocyanate and / or a modified product thereof (C), and a (meth) acrylate (D) having an active hydrogen-containing group having 4 to 100 carbon atoms. Display buffer layer window having a number average molecular weight of 3000 to 120,000. Tan resin (E). ポリエーテルジオール(A)が、テトラヒドロフラン(a1)と、ネオペンチルグリコール、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、2,5−ジメトキシテトラヒドロフラン、2−メチルオキセタン、2,2−ジメチルオキセタン、2−エチルオキセタン、2,2−ジエチルオキセタン、2−エチルヘキシルオキセタン及び3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシ)エチルオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物との共重合体である請求項1記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。   The polyether diol (A) is tetrahydrofuran (a1), neopentyl glycol, 2-methyltetrahydrofuran, 3-methyltetrahydrofuran, 2,5-dimethyltetrahydrofuran, 2,5-dimethoxytetrahydrofuran, 2-methyloxetane, 2,2 -Coordination with at least one compound selected from the group consisting of dimethyloxetane, 2-ethyloxetane, 2,2-diethyloxetane, 2-ethylhexyloxetane and 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxy) ethyloxetane. The urethane resin for a display buffer layer according to claim 1, which is a polymer. 炭素数が2〜20であるジカルボン酸(B)が、シュウ酸、マロン酸、ジプロピルマロン酸、コハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、アジピン酸、3−メチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2,6,6−テトラメチルピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ペンタデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸及びテレフタル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。   The dicarboxylic acid (B) having 2 to 20 carbon atoms is oxalic acid, malonic acid, dipropylmalonic acid, succinic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, glutaric acid, 2-methylglutaric acid, 2,2- Dimethyl glutaric acid, 2,4-dimethyl glutaric acid, 3-methyl glutaric acid, 3,3-dimethyl glutaric acid, 3-ethyl-3-methyl glutaric acid, adipic acid, 3-methyl adipic acid, pimelic acid, 2, 2,6,6-tetramethylpimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, pentadecanedioic acid, tetradecanedioic acid, heptadecanedioic acid, octadecanedioic acid, nonadecanedioic acid, eicosanedioic acid, The display buffer layer according to claim 1 or 2, which is at least one selected from the group consisting of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and terephthalic acid. Urethane resin. 有機ジイソシアネート及び/又はその変性物(C)が、炭素数4〜50の脂肪族ジイソシアネート(C1)、炭素数4〜50の脂環式ジイソシアネート(C2)及びこれらの変性物(ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビウレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物)(C3)からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。   The organic diisocyanate and / or its modified product (C) is an aliphatic diisocyanate (C1) having 4 to 50 carbon atoms, an alicyclic diisocyanate (C2) having 4 to 50 carbon atoms and a modified product thereof (urethane group, carbodiimide group). The urethane resin for a display buffer layer according to any one of claims 1 to 3, which is at least one selected from the group consisting of (C3), an allophanate group, a urea group, a biuret group, an isocyanurate group and an oxazolidone group-containing modified product). . 脂肪族ジイソシアネート(C1)が、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート及びリジンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、脂環式ジイソシアネート(C2)が、イソホロンジイソシアネート、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びノルボルナンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、変性物(C3)がビウレット変性1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート及びイソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項4記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。   The aliphatic diisocyanate (C1) is at least one selected from the group consisting of 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate, Cyclic diisocyanate (C2) is isophorone diisocyanate, 1,3-cyclopentane diisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 1,3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane, 1,4-bis ( Isocyanate methyl) cyclohexane, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, and norbornane diisocyanate, and the modified product (C3) is bisulfur. Tsu DOO modified 1,6-hexamethylene diisocyanate, isocyanurate-modified 1,6-hexamethylene diisocyanate and at least one kind of claim 4, wherein the display buffer layer urethane resin selected from the group consisting of isocyanurate-modified isophorone diisocyanate. 炭素数が4〜100である活性水素含有基を有する(メタ)アクリレート(D)が、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート(D1)及び/又はアミノ基を有する(メタ)アクリレート(D2)である請求項1〜5のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。   The (meth) acrylate (D) having an active hydrogen-containing group having 4 to 100 carbon atoms is a (meth) acrylate (D1) having a hydroxyl group and / or a (meth) acrylate (D2) having an amino group. The urethane resin for display buffer layers according to claim 1. ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート(D1)が、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−1−アダマンチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、炭素数1〜24のアルキルアルコールのグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸が反応したエポキシアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリルアミド、2−アクリロキシ−2−ヒドロキシエチルテレフタレート、2−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルテレフタレート、並びにこれらの(メタ)アクリレート及び(メタ)アクリル酸に炭素数2〜100のアルキレンオキサイドを付加した(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、アミノ基を有する(メタ)アクリレート(D2)が、テトラメチルピペリジニル(メタ)アクリレートである請求項6記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。   (Meth) acrylate (D1) having a hydroxyl group is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-1-adamantyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) Acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, epoxy acrylate in which glycidyl ether of alkyl alcohol having 1 to 24 carbon atoms and (meth) acrylic acid are reacted, 2-hydroxy Ethyl acrylamide, 2-acryloxy-2-hydroxyethyl terephthalate, 2-acryloxy-2-hydroxypropyl terephthalate, and these (meth) acrylates and (meth) acrylic acids have 2 to 100 carbon atoms 7. The (meth) acrylate (D2) having at least one selected from the group consisting of (meth) acrylates to which ruxylene oxide is added and having an amino group is tetramethylpiperidinyl (meth) acrylate. Urethane resin for display buffer layer. 請求項1〜7いずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)及び重合開始剤(F)を含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。   The resin composition for display buffer layers containing the urethane resin (E) for display buffer layers in any one of Claims 1-7, and a polymerization initiator (F). 重合開始剤(F)が、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤(F1)、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤(F2)、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤(F3)、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤(F4)、ベンゾイン誘導体系重合開始剤(F5)、オキシムエステル誘導体系重合開始剤(F6)及びチタノセン誘導体系重合開始剤(F7)からなる群から選ばれる少なくとも1種のラジカル重合開始剤である請求項8記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。   Polymerization initiator (F) is acylphosphine oxide derivative polymerization initiator (F1), α-aminoacetophenone derivative polymerization initiator (F2), benzyl ketal derivative polymerization initiator (F3), α-hydroxyacetophenone derivative. At least one radical polymerization initiation selected from the group consisting of a polymerization initiator (F4), a benzoin derivative polymerization initiator (F5), an oxime ester derivative polymerization initiator (F6) and a titanocene derivative polymerization initiator (F7). The resin composition for a display buffer layer according to claim 8, which is an agent. ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂(E)の含有量が1〜90重量%であり、重合開始剤(F)の含有量が0.05〜30重量%である請求項8又は9記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。   The display buffer layer according to claim 8 or 9, wherein the content of the urethane resin (E) for the display buffer layer is 1 to 90% by weight, and the content of the polymerization initiator (F) is 0.05 to 30% by weight. Resin composition. 更に活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤(G)を含有する請求項8〜10のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。   The resin composition for a display buffer layer according to any one of claims 8 to 10, further comprising an acid generator (G) that generates an acid by active energy rays. 活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤(G)が、スルホニウム塩及び/又はヨードニウム塩である請求項11記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。   The resin composition for a display buffer layer according to claim 11, wherein the acid generator (G) that generates an acid by active energy rays is a sulfonium salt and / or an iodonium salt. 請求項1〜7のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂、又は請求項8〜12のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化されてなる画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層。   The urethane resin for display buffer layers according to any one of claims 1 to 7 or the resin composition for display buffer layers according to any one of claims 8 to 12 that is cured by active energy rays. A buffer layer between the unit and the front plate.
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